JPS60223025A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

Info

Publication number
JPS60223025A
JPS60223025A JP7758384A JP7758384A JPS60223025A JP S60223025 A JPS60223025 A JP S60223025A JP 7758384 A JP7758384 A JP 7758384A JP 7758384 A JP7758384 A JP 7758384A JP S60223025 A JPS60223025 A JP S60223025A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic recording
top coat
acid
recording medium
coat layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7758384A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Ishizaki
石崎 秀樹
Toshiaki Ide
井出 敏秋
Masaharu Nishimatsu
西松 正治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP7758384A priority Critical patent/JPS60223025A/en
Publication of JPS60223025A publication Critical patent/JPS60223025A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic recording medium which is free from a decrease in the electromagnetic conversion characteristic, has small friction and obviates chipping by forming a top coat layer having 20-200Angstrom surface roughness Rmax to the surface of the thin ferromagnetic film of the magnetic recording medium which is provided with the thin ferromagnetic film on a non-magnetic substrate material. CONSTITUTION:The magnetic recording medium which has excellent rust preventiveness, corrosion resistance, durability and running stability and is free from clogging is obtd. when the top coat layer is provided on the thin ferromagnetic film. The magnetic recording layer which lesses the decrease in the electromagnetic conversion characteristic, has a good envelope, a substantially low noise level and low friction and decreases chipping is obtd. by forming the top coat layer having 20-200Angstrom surface roughness. A method of applying the top coat on the magnetic substrate, passing the substrate through a drying furnace and curing the coating by electron rays or UV rays is adopted to obtain 20- 200Angstrom surface roughness.

Description

【発明の詳細な説明】 m侠亙公見 この発明は磁気記録媒体&;関し、特に走行安定性、耐
久性及び電磁変化特性の低下のないすぐれた強磁性薄膜
を磁気記録層とする磁気記録媒体に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] This invention relates to magnetic recording media and, in particular, magnetic recording in which a magnetic recording layer is an excellent ferromagnetic thin film that does not deteriorate running stability, durability, or electromagnetic change characteristics. It's about the medium.

口 びその司 、 現在、磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピュ
ーター、磁気ディスク等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、それに伴い、磁気記録媒体に記録する
情報量も年々増加の一途をたどり、そのため磁気記録媒
体に対しては記録密度の向上が益々要求されるようにな
ってきている。
Currently, magnetic recording media are being widely used in fields such as audio, video, computers, and magnetic disks, and the amount of information recorded on magnetic recording media is increasing year by year. As a result, magnetic recording media are increasingly required to have higher recording densities.

塗布型の磁気記録媒体より薄型化が容易で飽和磁化も大
きい非バインダー型磁気記録媒体、即ち強磁性薄膜から
なる磁気記録媒体は、腐食、衝撃及び摩擦強度に問題が
あり、磁気信号の記録、再生及び消去の過程で磁気ヘッ
ドとの高速相対運動により摩擦もしくは破壊が生ずるこ
とがある。すなわち電気メッキ、無電解メッキ、スパッ
タリング、真空蒸着、イオンブレーティング等の方法に
よる強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体はバインダーを含
まないため、磁気ヘッドとの接触摺動時に摩擦のため磁
気記録層が削りとられるか、破壊され易いものであった
Non-binder type magnetic recording media, which are easier to make thinner than coating-type magnetic recording media and have higher saturation magnetization, that is, magnetic recording media made of ferromagnetic thin films, have problems with corrosion, impact, and friction strength, and are difficult to record magnetic signals. Friction or destruction may occur due to high-speed relative movement with the magnetic head during the reproducing and erasing processes. In other words, magnetic recording media on which a ferromagnetic thin film is formed by methods such as electroplating, electroless plating, sputtering, vacuum deposition, and ion blating do not contain a binder, so the magnetic recording layer is damaged due to friction when sliding in contact with a magnetic head. were likely to be scraped off or destroyed.

又1強磁性薄膜からなる磁気記録媒体はその表面が腐食
し易いが、腐食が進行すると、ヘッドタッチ、耐摩耗性
等の実用特性が劣化し、電磁変換特性にも悪影響を及ぼ
す。
Furthermore, the surface of a magnetic recording medium made of a ferromagnetic thin film is easily corroded, and as corrosion progresses, practical characteristics such as head touch and wear resistance deteriorate, and the electromagnetic conversion characteristics are also adversely affected.

そのため磁気金属薄膜表面上に潤滑剤を塗布する方法(
特公昭39−25246号公報)があるが、そのような
方法では磁気ヘッド等で潤滑剤が拭きとられる等して潤
滑作用が永続的でなく、勿論この方法では防錆効果、耐
久性等の効果は期待すべくもなかった。
Therefore, a method of applying lubricant on the surface of the magnetic metal thin film (
(Japanese Patent Publication No. 39-25246), however, in such a method, the lubricant is wiped off by a magnetic head, etc., and the lubricating effect is not permanent. The effect was not as expected.

又、潤滑作用を継続的に磁気記録層上に供給する手段と
して磁気記録層の反対側の面に液状又は半固体状の潤滑
剤及び有機バインダーを主成分とする潤滑層(バックコ
ート層)を設ける方法(特公昭57−29769号公報
)も提案され、この方法では磁気記録層の裏面ににじみ
出た潤滑剤がロール状に巻かれた際磁気記録層に移り、
磁気記。
In addition, as a means of continuously supplying a lubricating effect to the magnetic recording layer, a lubricating layer (back coat layer) containing a liquid or semi-solid lubricant and an organic binder as main components is provided on the opposite surface of the magnetic recording layer. A method (Japanese Patent Publication No. 57-29769) has also been proposed, in which the lubricant oozing on the back side of the magnetic recording layer is transferred to the magnetic recording layer when it is rolled into a roll.
Magnetic record.

録層の表面に常に潤滑剤を供給でき、磁気記録層の耐久
性(スリキズやハガレの程度)や動摩擦係数の変化にお
いて、すぐれた効果が奏せられるとするものであるが、
この方法のように強磁性薄膜にトップコート層を設けな
いでバックコート層のみに潤滑剤を含有させたものでは
磁気薄膜と磁気ヘッドとの摩擦レベルは依然として高く
、走行不良をもたらし、又耐腐食、防錆効果においても
未だ充分なものとは言えないものであった。
It is said that lubricant can be constantly supplied to the surface of the recording layer, and that it has excellent effects on the durability of the magnetic recording layer (extent of scratches and peeling) and changes in the coefficient of dynamic friction.
In this method, in which the ferromagnetic thin film is not provided with a top coat layer and only the back coat layer contains a lubricant, the level of friction between the magnetic thin film and the magnetic head is still high, resulting in poor running, and corrosion resistance. However, the antirust effect was still not sufficient.

ハ 。 を ゛ るための 本発明者等はそれらの欠点を改善すべく、鋭意研究の結
果、非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体に
おいて、薄膜表面上に特定成分のトップコート層を設け
ることにより、前記欠点とされていた走行性、耐久性等
の改善されたすぐれた磁気記録媒体が得られることを見
出し先に提案しているが(特願昭59−15258号、
特願昭59−15259号)9本発明者等が更に研究を
進めた結果、上記トップコート層の表面粗度をRmax
で20乃至20〇八としたときに、型持低下がなく、摩
擦が小さく、削れのない磁気記録媒体が得られることを
見出し1本発明に到達したものである。
Ha. In order to improve these shortcomings, the inventors of the present invention have conducted extensive research and found that in magnetic recording media in which a ferromagnetic thin film is provided on a non-magnetic base material, a top coat layer of a specific component is formed on the surface of the thin film. It is proposed in the heading that an excellent magnetic recording medium with improved runnability, durability, etc., which were considered to be disadvantageous as described above, can be obtained by providing a
(Japanese Patent Application No. 59-15259) 9 As a result of further research by the present inventors, the surface roughness of the top coat layer was reduced to Rmax.
The inventors have arrived at the present invention by discovering that a magnetic recording medium with no deterioration in mold retention, low friction, and no abrasion can be obtained when the thickness is 20 to 2008.

即ち、本発明は非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気
記録媒体において、該強磁性薄膜の表面上のトップコー
ト層の表面粗度がR+++aスで20乃至20〇八であ
ることを特徴とする磁気記録媒体に関するものである。
That is, the present invention provides a magnetic recording medium in which a ferromagnetic thin film is provided on a non-magnetic base material, in which the surface roughness of the top coat layer on the surface of the ferromagnetic thin film is 20 to 2008 in terms of R+++a. The present invention relates to a characteristic magnetic recording medium.

強磁性薄膜上にトップコート層が設けられると。When a top coat layer is provided on the ferromagnetic thin film.

防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安定性の優れた。Excellent rust prevention, corrosion resistance, durability, and running stability.

目づまりの発生のない磁気記録媒体が得られるが。However, a magnetic recording medium without clogging can be obtained.

トップコート層の表面粗度(TAYLOR−HOBSO
N社製タリス社製プリステップ法におけるRrnax値
、カットオフ0.17+nm、針圧2mg、針Q、IX
2.5.”を用いた。以下同じ)を20乃至200Aと
することにより、上記の特性の外に更に型持の低下が少
なく、エンベロープが良く、ノイズレベルが充分に低く
、又摩擦が低く、削れの少ないものが得られる。
Surface roughness of top coat layer (TAYLOR-HOBSO
Rrnax value in pre-step method manufactured by N company, Tallis company, cutoff 0.17+nm, needle pressure 2 mg, needle Q, IX
2.5. " (hereinafter the same applies) is set to 20 to 200A, in addition to the above characteristics, there is less deterioration in mold retention, a good envelope, a sufficiently low noise level, low friction, and less scraping. You can get something.

表面粗度が200八を超えると型持低下(−2dB)が
あり、出力が低下する。又表面粗度が20A未満となる
と表面粗度が良となり摩擦が高く、削れ易くなる。
When the surface roughness exceeds 2008, there is a reduction in mold retention (-2 dB) and the output is reduced. If the surface roughness is less than 20A, the surface roughness will be good and the friction will be high, making it easy to scrape.

表面粗度を20乃至200Aとするには次のような方法
を採用することができる。
In order to obtain a surface roughness of 20 to 200A, the following method can be adopted.

1、トップコートを塗布し、乾燥炉を通し、電子線又は
紫外線硬化させる。
1. Apply a top coat, pass through a drying oven, and cure with electron beam or ultraviolet rays.

゛2.トップコートを塗布し、乾燥炉を通さず、電子線
又は紫外線硬化させる。
゛2. A top coat is applied and cured with electron beam or ultraviolet light without passing through a drying oven.

3、トップコートの塗布時加熱させながら、粘度の高い
まま塗布する。
3. When applying the top coat, apply the top coat while keeping it highly viscous.

4、上記1,2の過程において、乾燥炉を通しく又は通
さず)、未硬化のままカレンダーをかけ、その後、電子
線又は紫外線硬化させる。
4. In the steps 1 and 2 above, the material is calendered in an uncured state (with or without passing through a drying oven), and then cured with an electron beam or ultraviolet rays.

5、上記4の過程で乾燥炉を通しく又は通さず)、その
後わずかに低線量(0,’01〜2Mrad)の条件で
半硬化し、その後カレンダーをかけ、その後電子線又は
紫外線硬化させる。
5. In step 4 above, the material is passed through a drying oven or not), then semi-cured under slightly low dose conditions (0,01~2 Mrad), then calendered, and then electron beam or ultraviolet curing is performed.

6、上記1〜5の工程において最終段階にカレンダ一工
程を加えてもよい。
6. In steps 1 to 5 above, a calendering step may be added as the final step.

本発明の強磁性薄膜に用いられる強磁性金属あるいは強
磁性合金としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強
磁性金属あるいはFe−Go、Fe −N i、 Co
 −N i、 F e−Rh、 F e−Cu、Fe−
Au、Co−Cu、Co−Au、Go−Y、Co−La
、Co−Pr、Co−Gd、Co−8m、Co−Pt、
N 1−Cu、Fa−Co−Nd、Mn−B1.Mn−
8b、Mn−Alのような磁性合金を挙げることができ
る。
The ferromagnetic metal or ferromagnetic alloy used in the ferromagnetic thin film of the present invention includes iron, cobalt, nickel and other ferromagnetic metals, or Fe-Go, Fe-Ni, Co.
-N i, Fe-Rh, Fe-Cu, Fe-
Au, Co-Cu, Co-Au, Go-Y, Co-La
, Co-Pr, Co-Gd, Co-8m, Co-Pt,
N1-Cu, Fa-Co-Nd, Mn-B1. Mn-
8b, magnetic alloys such as Mn-Al.

強磁性薄膜は非磁性基材、即ちポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルム等のプラスチックフィルム、アルミ
板、ステンレス板等の金属板、ガラス板のような無機質
の板等の公知の基材の上に直接あるいは非磁性薄膜層を
介して、上記金属又は合金を真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、メッキその他の方法で形成さ
れ得る。
The ferromagnetic thin film is made of a non-magnetic substrate, i.e. a polyester film,
The above-mentioned metal or alloy is deposited directly or through a non-magnetic thin film layer on a known substrate such as a plastic film such as a polyamide film, a metal plate such as an aluminum plate or a stainless steel plate, or an inorganic plate such as a glass plate. It can be formed by vapor deposition, sputtering, ion blating, plating, or other methods.

本発明の強磁性薄膜は前記どのような方法によって製造
されたものでも勿論用いることができるが、前記特公昭
57−29769号公報実施例5に記載のような真空度
5.0XIO”6Torrの真空中で、その幅方向が蒸
発源に対して50°傾斜して蒸着するもの(1)よりも
、現在一般に行なわれているところの、蒸着方向が長手
方向に傾斜(90°〜30°)し、幅方向には傾斜して
いないもので、雰囲気として、02又は0□とArを導
入しながら、〜l X 10−To r rで蒸着した
もの(2)が好ましく用いられる。
The ferromagnetic thin film of the present invention can be manufactured by any of the above-mentioned methods, but the ferromagnetic thin film of the present invention may be manufactured using a vacuum of 5.0XIO''6 Torr as described in Example 5 of Japanese Patent Publication No. 57-29769. Among them, the method (1) in which the width direction is inclined at an angle of 50 degrees with respect to the evaporation source is compared to the method (1) in which the direction of vapor deposition is inclined in the longitudinal direction (90 degrees to 30 degrees), which is currently generally performed. , which is not inclined in the width direction, and which is vapor-deposited at ~1×10-Torr while introducing 02 or 0□ and Ar as the atmosphere (2) is preferably used.

前記の(1)の方法で製造された蒸着膜は全面金属状態
(空気中に取り出した後に自然酸化された表面を除けば
)であるのに対して、(2)の方法の微量の酸素ガスの
存在する真空中で金属又は合金を蒸着するものでは磁性
金属は酸素を含有し、その酸素は金属と固溶せず、酸化
物の状態で存在する。そして、この酸化物の存在が磁気
記録媒体にとっては好ましく、特にベースとの界面及び
ベースと反対側め表面に酸化物が多く存在する場合に、
本発明において良好な特性が得られることが判明した。
The vapor deposited film produced by method (1) above is completely metallic (except for the surface that is naturally oxidized after being taken out into the air), whereas the film produced by method (2) has a trace amount of oxygen gas. In the case where a metal or alloy is deposited in a vacuum where . The presence of this oxide is favorable for magnetic recording media, especially when there is a large amount of oxide at the interface with the base and on the surface opposite to the base.
It has been found that good characteristics can be obtained in the present invention.

又、強磁性金属薄膜への酸素導入法としては前記の酸素
の存在下での蒸着のほかに、酸素の存在しない真空蒸着
での蒸着膜を、例えば90℃、20%RH等の雰囲気中
で強制酸化し、そのベース、と反対側の表面を酸化物の
みとすることもできる。
In addition to the method of introducing oxygen into the ferromagnetic metal thin film, in addition to the above-mentioned method of vapor deposition in the presence of oxygen, the method of introducing oxygen into the ferromagnetic metal thin film is to deposit the film by vacuum vapor deposition in the absence of oxygen in an atmosphere such as 90° C. and 20% RH. It is also possible to perform forced oxidation and make the base and the opposite surface only oxide.

酸素を含有する強磁性薄膜の酸素の含有量はO・ ×1
00で3〜60%である。
The oxygen content of the ferromagnetic thin film containing oxygen is O・×1
00 is 3-60%.

磁性金属 前述の通り磁気記録層が強磁性薄膜のみからなり、トッ
プコート層のないものでは、バックコート層に潤滑剤が
含有されたものであっても、摩擦レベルが高く、走行安
定性がなく、又耐久性においても劣り、トップコート層
のない蒸着膜において、現在行なわれている蒸着法で製
造される蒸着膜は酸素を含有するものであるが、これは
酸素を含有しない蒸着膜に比して耐食性、抗磁力、電磁
変換特性等の点ですぐれているけれども、磁気ヘッド等
との摩擦抵抗が未だ大きく不十分で、走行安定性、耐久
性の点で実用レベルの特性が得られない。そして、バッ
クコート層の潤滑剤が蒸着膜に裏型転写し、膜をいため
、出力が不安定な状態となり、出力ダウン、目づまりを
したり、画像が出ないか、或いは摩擦レベルが不安定と
なり、時には膜がとれたり、或いはこわれたりする。特
にスチール時の測定において、膜がつきぬけてとれてし
まい、目づまりを発生し問題となる。したがってバック
コート層に潤滑剤を含有させるだけでは、満足できる磁
気記録媒体は得られず、又、トップコート層に潤滑剤の
みを塗布するものでは一時的摩擦の低下しか得られず、
防錆性、耐腐食性、耐久性の点でも著しく劣る故にそれ
らを解決する技術手段として、本発明では厚さ200八
以下のトップコート層を設けるものである。
Magnetic metals As mentioned above, if the magnetic recording layer is made of only a ferromagnetic thin film and does not have a top coat layer, the friction level will be high and the running stability will be poor, even if the back coat layer contains a lubricant. Also, the durability is poor, and the vapor deposited film without a top coat layer contains oxygen, but this is compared to the vapor deposited film that does not contain oxygen. Although it has excellent corrosion resistance, coercive force, electromagnetic conversion characteristics, etc., the frictional resistance with magnetic heads etc. is still large and insufficient, making it impossible to achieve practical level characteristics in terms of running stability and durability. . Then, the lubricant in the backcoat layer transfers to the deposited film and damages the film, resulting in unstable output, resulting in decreased output, clogging, no images, or unstable friction level. , sometimes the membrane comes off or breaks. Particularly when measuring steel, the film penetrates through and comes off, causing clogging, which poses a problem. Therefore, it is not possible to obtain a satisfactory magnetic recording medium by simply incorporating a lubricant into the back coat layer, and by applying only a lubricant to the top coat layer, only a temporary reduction in friction can be obtained.
Since rust prevention, corrosion resistance, and durability are also significantly inferior, as a technical means to solve these problems, the present invention provides a top coat layer with a thickness of 200 mm or less.

本発明のトップコート層の成分は特に制限されないが、
潤滑剤、酸化防止剤、有機バインダー等を含むことがで
きる。
Although the components of the top coat layer of the present invention are not particularly limited,
It can contain lubricants, antioxidants, organic binders, and the like.

潤滑剤としては従来この種磁気記録媒体に用いられる潤
滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂肪
酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性剤
等を用いることができるが、脂肪酸および/又は脂肪酸
エステルを用いるのが好ましい。
As the lubricant, silicone oil, fluorine oil, fatty acid, fatty acid ester, paraffin, liquid paraffin, surfactant, etc. can be used as the lubricant conventionally used in this type of magnetic recording medium. It is preferable to use

脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数12以上の脂肪酸(RCOO
H,Rは炭素数11以上のアルキル基)であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数12〜16個の一塩基性脂肪
酸と炭素数3〜12個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数17個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が21〜23個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
される。
Fatty acids include caprylic acid, capric acid, lauric acid,
myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid, elaidic acid, linoleic acid, linuric acid,
Fatty acids with 12 or more carbon atoms such as stearolic acid (RCOO)
H and R are alkyl groups having 11 or more carbon atoms), and fatty acid esters include fatty acid esters consisting of monobasic fatty acids having 12 to 16 carbon atoms and monohydric alcohols having 3 to 12 carbon atoms; A fatty acid ester or the like is used, which is composed of a monobasic fatty acid having 17 or more monobasic fatty acids and a monohydric alcohol having 21 to 23 carbon atoms in total.

シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーシ目ン、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。
As the silicone, those made of fatty acid-modified silicones and those partially fluorine-modified are used. The alcohol used is one made of higher alcohol, and the fluorine used is one obtained by electrolytic substitution, telomerization, oligomerization, etc.

潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。これらは強磁性薄膜への裏型転写を抑えるため、
ドロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外
径の個所による出力差の減少の他、オンライン上での製
造が可能である等の利点を持つ。
Among the lubricants, radiation-curable ones are also advantageously used. These are used to suppress back-type transfer to the ferromagnetic thin film.
It has the advantages of preventing dropouts, reducing the difference in output depending on the inner and outer diameters when wound into a roll, and being able to be manufactured online.

放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 CH3 CH2=CHC0OR,CH2=C−C00RCH2:
CH−CH2C0OR、 CH2=CHC0NHCH20COR、CH20COR
RCOOC= CH2、RCOOCH2−CH=CH2
等で、ここでRは直鎖又は分枝状の飽和もしくは不飽和
炭化水素基で、炭素数は7以上、好ましくは12以上2
3以下であり、これらは弗素置換体とすることもできる
。弗素置換体としては Cn F 2n+1−1Cn F 2n<+ (CH2
)n+ −(但し、m=1〜5)、 R CnF2n+lSO2NC82CH2−1等がある。
Radiation-curable lubricants include compounds that have a molecular chain exhibiting lubricity and an acrylic double bond in their molecules, such as acrylic esters, methacrylic esters, vinyl acetate esters, acrylic amide compounds, and vinyl alcohol esters. , methyl vinyl alcohol ester, allyl alcohol ester, glyceride, etc. These lubricants are represented by the structural formula: CH3 CH2=CHC0OR, CH2=C-C00RCH2:
CH-CH2C0OR, CH2=CHC0NHCH20COR, CH20COR
RCOOC=CH2, RCOOCH2-CH=CH2
etc., where R is a straight chain or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group, and the number of carbon atoms is 7 or more, preferably 12 or more and 2
3 or less, and these can also be fluorine-substituted products. As a fluorine substituted product, Cn F 2n+1-1Cn F 2n<+ (CH2
) n+ - (however, m=1 to 5), R CnF2n+lSO2NC82CH2-1, etc.

これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート(アクリレート)、ステア
リルアルコールのメタクリレート(アクリレート)、グ
リセリンのメタクリレート(アクリレート)、グリコー
ルのメタクリレ−1〜(アクリレート)、シリコーンの
メタクリレート(アクリレート)等が挙げられる。
Preferred specific examples of these radiation-curing lubricants include:
Examples include stearic acid methacrylate (acrylate), stearyl alcohol methacrylate (acrylate), glycerin methacrylate (acrylate), glycol methacrylate-1 (acrylate), silicone methacrylate (acrylate), and the like.

酸化防止剤は金属の酸化を防止するものであれば、いず
れのものでも良いが、次のような通常の酸化防止剤が用
いられる。これらはl)フェノール系酸化防止剤、2)
アミン系酸化防止剤、3)リン系酸化防止剤、4)硫黄
系酸化防止剤、5)有機酸、アルコール、エステル系酸
化防止剤、6)キノン系酸化防止剤、7)無機酸、無機
塩系酸化防止剤のように構造的に大別される。
Any antioxidant may be used as long as it prevents the oxidation of metals, but the following common antioxidants are used. These are l) phenolic antioxidants, 2)
Amine antioxidant, 3) Phosphorus antioxidant, 4) Sulfur antioxidant, 5) Organic acid, alcohol, ester antioxidant, 6) Quinone antioxidant, 7) Inorganic acid, inorganic salt They are roughly divided into structural types such as antioxidants.

上記各種酸化防止剤の具体例を挙げると、′1)フェノ
ール系酸化防止剤としては、2,6−ジー第三ブチル−
P−クレゾール、2,6−ジー第三ブチル−フェノール
、2,4−ジ−メチル−6−第三ブチル−フェノール、
ブチルヒドロキシアニソール、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)、4.4’
−ブチリデンビス(3−メチル−6−第三ブチルフェノ
ール)、4.4″−チオビス(3−メチル−6−第三ブ
チルフェノール)、テトラキス〔メチレン−3(3,5
−ジー第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネートコメタン、■、l。
Specific examples of the above-mentioned various antioxidants include: '1) As a phenolic antioxidant, 2,6-di-tert-butyl-
P-cresol, 2,6-di-tert-butyl-phenol, 2,4-di-methyl-6-tert-butyl-phenol,
Butylhydroxyanisole, 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol), 4.4'
-butylidenebis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 4.4″-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), tetrakis[methylene-3(3,5
-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate comethane, ■, l.

3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブ
チルフェニル)ブタン、ジブチルヒドロキシトルエン、
没食子酸プロピル、グアヤク脂、ノルジヒドログアヤレ
チン酸等がある。放射線硬化型としてはモノグリコール
サリチレー下、2,5−ジ第三ブチルハイドロキノン、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,4.5−ト
リヒドロキシブチロフェノン、ハイドロキノン等゛のメ
タクリレート、アクリレートタイプが挙げられる。
3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane, dibutylhydroxytoluene,
Examples include propyl gallate, guaiac butter, and nordihydroguaiaretic acid. Radiation-curing types include monoglycol salicylate, 2,5-di-tert-butylhydroquinone,
Examples include methacrylate and acrylate types such as 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,4.5-trihydroxybutyrophenone, and hydroquinone.

2)アミン系酸化防止剤としては、フェニル−β−ナフ
チルアミン、払−ナフチルアミン、N、N’−ジー第ニ
ブチル−p−フェニレンジアミン、フェノチアジン、N
、N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンの他、ア
ルカノールアミン、リン脂質等が挙げられる。アミン系
でもジメチルアミノエチルメタクリレート、アクリレー
ト等の放射線硬化可能のものが放射線硬化型として挙げ
られる。
2) Examples of amine antioxidants include phenyl-β-naphthylamine, naphthylamine, N,N'-di-butyl-p-phenylenediamine, phenothiazine, N
, N'-diphenyl-p-phenylenediamine, alkanolamines, phospholipids, and the like. Among amine-based materials, radiation-curable materials such as dimethylaminoethyl methacrylate and acrylate can be cited as radiation-curable materials.

3)リン系酸化防止剤としては放射線硬化型或いは放射
線硬化型でないものが用いられ、リン酸エステル部分の
Rとしてはアルキル基、アルキルブエニル基、その他酸
化エチレン、酸化プロピレンを含有し、そのRとしてC
が1〜26が好ましく、更に好ましいのは1〜22であ
る。リン酸ステルとしてはモノ、ジ、トリのものが含ま
れ、モノあるいはジの成分が多いものであってもよく、
トリタイプのものはカットされていてもよい。またリン
酸エステルはNH4タイプのもの及びメタクリレートタ
イプ、アクリレートタイプのものも含まれる。具体的に
はトリフェニルホスファイト、トリオクタデシルホスフ
ァイト、トリデシルホスブアイト、トリラウリルトリチ
オホスファイト等の亜リン酸エステルや、ヘキサメチル
ホスホリックトリアミド、ブチルホスフェート、セチル
ホスフェート、ブトキシエチルホスフェート、2−エチ
ルへキシルホスフェート、β−クロロエチルホスフェー
ト、ブトキシエチルホスフェートジエチルアミン塩、ジ
(2−エチルヘキシル)ホスフェート、エチレングリコ
ールアシッドホスフェート、(2−ヒドロキシエチル)
メタクリレート・ホスフェート、ブチルヒドロキシメタ
クリレート・ホスフェート、カプリルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ミリスチルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、ステアリルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、セチルヒドロキシメタクリレ
ート・ホスフェート、ブチルフェニルヒドロキシメタク
リレート・ホスフェート、アミルフェニルヒドロキシメ
タクリレート・ホスフェート、ノニルフェニルヒドロキ
シメタクリレート・ホスフェート、及びこれらのアクリ
レートタイプ、フェニルホスフェート、その他のアルコ
ール、及びノニルフェニル等のフェニルホスフェート、
バナジウム系酸性リン酸エステル等のリン酸エステルが
挙げられる。
3) As the phosphorus antioxidant, a radiation curing type or a non-radiation curing type is used, and R in the phosphoric acid ester moiety contains an alkyl group, an alkylbuenyl group, and other ethylene oxide and propylene oxide. as C
is preferably 1-26, more preferably 1-22. Phosphate ster includes mono-, di-, and tri-components, and may contain many mono- or di-components.
Tri-type ones may be cut. Phosphate esters also include NH4 type, methacrylate type, and acrylate type. Specifically, phosphite esters such as triphenyl phosphite, triotadecyl phosphite, tridecylphosbuite, and trilauryl trithiophosphite, hexamethylphosphoric triamide, butyl phosphate, cetyl phosphate, butoxyethyl phosphate, 2-ethylhexyl phosphate, β-chloroethyl phosphate, butoxyethyl phosphate diethylamine salt, di(2-ethylhexyl) phosphate, ethylene glycol acid phosphate, (2-hydroxyethyl)
Methacrylate phosphate, butyl hydroxy methacrylate phosphate, capryl hydroxy methacrylate phosphate, myristyl hydroxy methacrylate phosphate, stearyl hydroxy methacrylate phosphate, cetyl hydroxy methacrylate phosphate, butylphenyl hydroxy methacrylate phosphate, amyl phenyl hydroxy methacrylate phosphate, nonylphenyl hydroxymethacrylate phosphates and their acrylate types, phenyl phosphates, other alcohols, and phenyl phosphates such as nonylphenyl;
Examples include phosphoric acid esters such as vanadium acidic phosphoric acid esters.

4)硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリルチオジプロ
ピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ラウ
リルステアリルチオジプロピオネート、シミリスチルチ
オジプロピオネート、ジステアリルβ、β′−チオジブ
チレート、2−メルカプトベンゾイミダゾール、ジラウ
リルサルファイドの他、4,4′−チオ−ビス(3−メ
チル−6−第三ブチル−フェノール)、2.2’−チオ
−ビス(4−メチル−6−第三ブチルフェノール)等の
メタクリレート、アクリレート等の放射線硬化型が挙げ
られる。またこれらは酸化エチレン、酸化プロピレンを
含有していてもよい。
4) Sulfur-based antioxidants include dilauryl thiodipropionate, distearyl thiodipropionate, laurylstearyl thiodipropionate, simiristyl thiodipropionate, distearyl β, β'-thiodibutyrate, 2 -mercaptobenzimidazole, dilauryl sulfide, 4,4'-thio-bis(3-methyl-6-tert-butyl-phenol), 2,2'-thio-bis(4-methyl-6-tert-butyl-phenol), Examples include radiation-curing types such as methacrylates such as (butylphenol) and acrylates. Moreover, these may contain ethylene oxide and propylene oxide.

5)有機酸、アルコール、エステル系酸化防止剤として
はソルビトール、グリセリン、プロピレングリコール、
アジピン酸、クエン酸、アスコルビン酸等が挙げられ、
これらの放射線硬化型であってもよい。
5) Examples of organic acid, alcohol, and ester antioxidants include sorbitol, glycerin, propylene glycol,
Examples include adipic acid, citric acid, ascorbic acid, etc.
These radiation-curing types may also be used.

6)キノン系酸化防止剤としてはヒドロキノン、トコフ
ェロール等があり、これらの中で放射線硬化型であって
もよい。
6) Examples of quinone antioxidants include hydroquinone and tocopherol, among which radiation-curing types may be used.

7)無機酸、無機塩系酸化防止剤としてはリン酸がその
代表例として挙げられる。
7) Phosphoric acid is a typical example of the inorganic acid and inorganic salt antioxidant.

上記酸化防止剤の中でも、強磁性薄膜への裏型転写を抑
え得るという点から、分子中にアクリル系二重結合を有
する放射線硬化型のもの、例えばモノグリコールサリチ
レートメタクリレート(アクリレート)、4−第三ブチ
ルカテコールメタクリレート(アクリレート)、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート(アクリレート)、エチ
ルヒドロキシメタクリレート(アクリレート)ホスフェ
ート、セチルヒドロキシホスフェートメタクリレート(
アクリレート)、ステアリルメタクリレート(アクリレ
ート)ホスフェート、及び上記のもののフェニルタイプ
のもの、2,2′チオ−ビス(4−メチル−6−第三ブ
チル−フェノール)メタクリレート(アクリレート)等
が好ましい。リン酸エステルの製法としては公知の方法
で行なわれるが、特公開57−44223号公報記載の
方法も挙げられる。放射線硬化型酸化防止剤では強磁性
薄膜へのオンライン硬化ができるため熱硬化時の巻きし
まりによる裏型転写による表面性の劣化がなく、そのた
め出力の低下がない。そしてドロップアウトの防止、ロ
ール状に巻かれたときの内外径の個所による出力差の減
少といった特性上の効果の他、オンライン上での製造が
可能といった処理上の効果をもあげ得るものである。
Among the above-mentioned antioxidants, radiation-curable ones having an acrylic double bond in the molecule, such as monoglycol salicylate methacrylate (acrylate), 4 - tert-butylcatechol methacrylate (acrylate), dimethylaminoethyl methacrylate (acrylate), ethyl hydroxy methacrylate (acrylate) phosphate, cetyl hydroxyphosphate methacrylate (
acrylate), stearyl methacrylate (acrylate) phosphate, and the phenyl types of those listed above, 2,2'thio-bis(4-methyl-6-tert-butyl-phenol) methacrylate (acrylate), and the like are preferred. The phosphoric acid ester can be produced by any known method, including the method described in Japanese Patent Publication No. 57-44223. Radiation-curable antioxidants can be cured online into ferromagnetic thin films, so there is no deterioration in surface properties due to back mold transfer due to curling during thermal curing, and therefore no reduction in output. In addition to characteristic effects such as preventing dropouts and reducing the difference in output depending on the inner and outer diameter when wound into a roll, it can also have processing effects such as being able to be manufactured online. .

本発明トップコート層で用いることのできる有機バイン
ダーとしてはポリマー、モノマー、オリゴマーが用いら
れる。
The organic binder that can be used in the top coat layer of the present invention includes polymers, monomers, and oligomers.

ポリマーとしては、従来、磁気記録媒体用に利用されて
いる熱可塑性、熱硬化性又は反応型樹脂やこれらの混合
物が使用されるが、得られる塗膜強度等の点から硬化型
、特に放射線硬化型の樹脂が好ましい。
As the polymer, thermoplastic, thermosetting, or reactive resins, which are conventionally used for magnetic recording media, and mixtures thereof are used; A mold resin is preferred.

熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が10,000〜200,000、重合度が約20
0〜2,000程度のもので、例えば塩化ビニール−酢
酸ビニール共重合体(カルボン酸導入のものも含む)、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
カルボン酸導入のものも含む)、塩化ビニール−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エス
テル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル
−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン
−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース
誘導体(セルロースアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース等)、スチレン−ブタジェン
共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−
アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成
ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用される
6熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態
では200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後
に加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子
量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、
樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが
好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ
樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹
脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹
脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラ
ミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイ
ソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアル
デヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量ジオール/
トリフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリ
アミン樹脂、及びこれらの混合物である。
The thermoplastic resin has a softening temperature of 150°C or less, an average molecular weight of 10,000 to 200,000, and a degree of polymerization of about 20.
0 to 2,000, such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymers (including those with carboxylic acid introduced),
Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer (
(including those with carboxylic acid introduced), vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, acrylic ester-acrylonitrile copolymer, acrylic ester-vinylidene chloride copolymer, acrylic ester-styrene Copolymer, methacrylic acid ester-acrylonitrile copolymer, methacrylic acid ester-vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid ester-styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicon resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyvinyl fluoride , vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer,
Polyamide resin, polyvinyl butyral, cellulose derivatives (cellulose acetate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nitrocellulose, etc.), styrene-butadiene copolymer, polyester resin, chlorovinyl ether
Acrylic acid ester copolymers, amino resins, various synthetic rubber-based thermoplastic resins, and mixtures thereof are used as thermosetting resins or reactive resins that have a molecular weight of 200,000 or less in the coating liquid state. By heating after coating and drying, the molecular weight becomes infinite due to reactions such as condensation and addition. Also, among these resins,
It is preferable that the resin does not soften or melt before it is thermally decomposed. Specifically, examples include phenol resins, epoxy resins, polyurethane curable resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins, silicone resins, acrylic reaction resins, epoxy-polyamide resins, nitrocellulose melamine resins, high molecular weight polyester resins, and isocyanate resins. Mixtures of polymers, mixtures of methacrylate copolymers and diisocyanate prepolymers, mixtures of polyester polyols and polyisocyanates, urea formaldehyde resins, low molecular weight glycols/high molecular weight diols/
A mixture of triphenylmethane triisocyanate, a polyamine resin, and a mixture thereof.

而して好ましいものは、繊維素樹脂(硝化綿等)、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂(硬化剤使用)、或
いは塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合
体(カルボン酸導入のものも含む)、又はアクリル変性
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体(
カルボン酸導入のものも含む)及びウレタンアクリレー
トからなる放射線硬化系樹脂からなるものであり、放射
線硬化系樹脂については前記の好ましい組合せの外に、
ラジカル重合性を有する不飽和二重結合を示すアクリル
酸、メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物の
ようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよう
なアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等
の不飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合
乾燥する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入し
た樹脂等を用いることができる。その他、使用可能なバ
インダー成分としては、単量体としてアクリル酸、メタ
クリル酸、アクリルアミド等がある。二重結合のあるバ
インダーとしては5種々のポリエステル、ポリオール、
ポリウレタン等をアクリル二重結合を有する化合物で変
性することもできる。更に必要に応じて多価アルコール
と多価カルボン酸を配合することによって種々の分子量
のものもできる。放射線感応樹脂として上記のものはそ
の一部であり、これらは混合して用いることもできる。
Among these, preferred are cellulose resins (nitrified cotton, etc.), vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymers, thermosetting resins consisting of a combination of urethane (using a curing agent), or vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymers. Vinyl alcohol copolymers (including those with carboxylic acid introduced), or acrylic modified vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymers (
(including those into which carboxylic acid has been introduced) and urethane acrylate; for radiation curing resins, in addition to the above-mentioned preferred combinations,
Acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or their ester compounds, allylic double bonds such as diallyl phthalate, maleic acid, maleic acid derivatives, etc., which exhibit radically polymerizable unsaturated double bonds. It is possible to use a thermoplastic resin containing or introducing into its molecule a group that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as an unsaturated bond. Other usable binder components include monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, and acrylamide. Binders with double bonds include five types of polyesters, polyols,
Polyurethane and the like can also be modified with a compound having an acrylic double bond. Furthermore, by blending a polyhydric alcohol and a polyhydric carboxylic acid as necessary, products with various molecular weights can be produced. The above-mentioned radiation-sensitive resins are some of them, and these can also be used in combination.

さらに好ましいのは(A)放射線により硬化性をもつ不
飽和二重結合を2個以上有する、分子量5,000〜i
oo、oooのプラスチック状化合物、(B)放射線に
より硬化性をもつ不飽和二重結合を1個以上有するか、
又は放射線硬化性を有しない、分子量3,000−10
0,000のゴム状化合物、および(C)放射線により
硬化性をもつ不飽和二重結合を1個以上有する、分子量
200〜3,000の化合物を、(A)20〜70重量
%、(B)20−80重量%、(C’)10〜40重量
%の割合で用いた組合せである。
More preferred are (A) those having two or more unsaturated double bonds that are curable by radiation and having a molecular weight of 5,000 to i;
oo, ooo plastic-like compound, (B) having one or more unsaturated double bonds that are curable by radiation,
Or non-radiation curable, molecular weight 3,000-10
0,000, and (C) a compound with a molecular weight of 200 to 3,000 having one or more unsaturated double bonds that is curable by radiation, (A) 20 to 70% by weight, (B ) 20-80% by weight, (C') 10-40% by weight.

前記放射線硬化型モノマー、放射線硬化型オリゴマー及
び放射線硬化型ポリマーとしては。
The radiation-curable monomer, radiation-curable oligomer, and radiation-curable polymer include:

イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性を示す不
飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル酸、あるい
はそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結合
、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレ
イン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の、放射線
照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分子中に含有
または導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等を
用いることができる。
Acrylic double bonds such as acrylic acid, methacrylic acid, or their ester compounds, which have unsaturated double bonds that are sensitive to ionization energy and exhibit radical polymerizability; allylic double bonds such as diallyl phthalate; Monomers, oligomers, polymers, etc. containing or introducing into the molecule groups that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, can be used.

放射線硬化型モノマーとしては分子量2.000未滴の
化合物が、オリゴマーとしては分子量2゜000乃至1
万のものが用いられる。これらはスチレン、エチルアク
リレート、エチレングリコ−゛ルジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、1,6−ヘキサングリコールジアクリレート、1
,6−へキサングリコールジメタクリレート等も挙げら
れるが、特に好ましいものとして、N−ビニルピロリド
ン、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタク
リレート)、ペンタエリスリトールトリアクリレート(
メタクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリ
レート(メタクリレート)、トリメチロールプロパンジ
アクリレート(メタクリレート)、多官能オリゴエステ
ルアクリレート(アロエックスM−7100、M−54
00,5500,5700等、東亜合成)、ウレタンエ
ラストマーにツボラン4040)のアクリル変性体、あ
るいはこれらのものにC0OH等の官能基が導入された
もの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレー
ト(メタクリレート)、下記一般式で示されるペンタエ
リスリトール縮金環にアクリル基(メタクリ基)又はε
−カプロラクトン式中、m=1.a=2、b=4の化合
物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Aという)
、m=1、a=3.b=3の化合物(以下、特殊ペンタ
エリスリトール縮合物Bという)、m=1、a=6、b
=oの化合物(以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物
Cという)、m = 2、a=6、b=oの化合物(以
下、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという)、及び
下記一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられ
る。
The radiation-curable monomer is a compound with a molecular weight of less than 2.000, and the oligomer is a compound with a molecular weight of 2.000 to 1.
Ten thousand things are used. These are styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1
, 6-hexane glycol dimethacrylate, etc., but particularly preferred are N-vinylpyrrolidone, pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol triacrylate (
methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), polyfunctional oligoester acrylate (Aloex M-7100, M-54
00, 5500, 5700, etc., Toagosei), acrylic modified products of Tuborane 4040) in urethane elastomers, or those into which functional groups such as C0OH have been introduced, acrylates (methacrylates) of phenol ethylene oxide adducts, the following general An acrylic group (methacrylic group) or ε in the pentaerythritol fused ring represented by the formula
- caprolactone In the formula, m=1. Compound where a=2, b=4 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate A)
, m=1, a=3. Compound where b=3 (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate B), m=1, a=6, b
= o compound (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate C), m = 2, a = 6, b = o compound (hereinafter referred to as special pentaerythritol condensate C), and special acrylate represented by the following general formula etc.

(1)(C)+2=CHC00CH2)3−CCH20
1((特殊アクリレートA) (2)、(CH7=C)l COOCH2) 3 CC
II 2CH3(特殊アクリレートB) (3) (C112= cllco −+ QCs 1
16 )n −QC)12 ) 3 CCI(2CH3
(特殊アクリレートD) (特殊アクリレートE) (特殊アクリレートF) (7) CI、C00CH= C)12゜(特殊アクリ
レートG) (8) C11,= CHCOO−(CH,CIl□0
)4 C0C)I=C112(特殊アクリレートH) (特殊アクリレートI) (特殊アクリレートJ) Aニアクリル酸、X:多価アルコール、Y:多塩基酸、
(特殊アクリレートK)又、放射線硬化型オリゴマーと
しては、下記一般式で示される多官能オリゴエステルア
クリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体あ
るいはこれらのものにC0OH等の官能基が導入された
もの、等が挙げられる。
(1)(C)+2=CHC00CH2)3-CCH20
1 ((special acrylate A) (2), (CH7=C)l COOCH2) 3 CC
II 2CH3 (Special Acrylate B) (3) (C112= cllco −+ QCs 1
16)n-QC)12)3CCI(2CH3
(Special acrylate D) (Special acrylate E) (Special acrylate F) (7) CI, C00CH= C) 12° (Special acrylate G) (8) C11,= CHCOO-(CH, CIl□0
)4 C0C) I=C112 (Special acrylate H) (Special acrylate I) (Special acrylate J) A Niacrylic acid, X: Polyhydric alcohol, Y: Polybasic acid,
(Special Acrylate K) In addition, radiation-curable oligomers include polyfunctional oligoester acrylates represented by the general formula below, acrylic modified urethane elastomers, or those into which functional groups such as C0OH are introduced. Can be mentioned.

(式中R,,R2:アルキル基、n:整数)有機バイン
ダーを用いることにより、強磁性薄膜との付着性がよく
、トップコート層がバインダーにより補強され、塗膜の
破断強度が上がり、塗膜の強化が為され、トップコート
削れが少なく、かつ高温走行での耐久性が改善できる。
(In the formula, R,, R2: alkyl group, n: integer) By using an organic binder, the adhesion with the ferromagnetic thin film is good, the top coat layer is reinforced by the binder, the breaking strength of the coating film is increased, and The film is strengthened, there is less top coat abrasion, and durability at high temperatures is improved.

そこでドロップアウトの少ない、かつロール状に巻き取
った形での硬化の際の巻きしまりのない、長さ方向で均
一の特性を有する磁気記録媒体が得られる。バインダー
がない場合、高温走行でのストップを生じ、ケズレが大
であり、付着が生じる。又、放射線硬化型バインダーを
用いると、トップコート層の製造上、連続処理が可能で
あり、オンライン上で処理できるので、省エネルギー、
コストの低減に役立つ。
Therefore, it is possible to obtain a magnetic recording medium that has uniform characteristics in the length direction, with little dropout, and no curling during curing when wound into a roll. If there is no binder, there will be a stoppage at high temperatures, severe scratching, and adhesion. In addition, when using a radiation-curable binder, continuous processing is possible in manufacturing the top coat layer, and processing can be performed online, resulting in energy savings and
Helps reduce costs.

強磁性薄膜表面に潤滑剤を含むトップコート層を設ける
方法としては、前記添加剤を溶剤で希釈して強磁性金属
薄膜上に薄く塗布したり、該添加剤を大気中、不活性ガ
ス中、あるいは真空中で気化せしめてその蒸気を強磁性
金属表面に当てるなどの手段、またバインダーと共に混
合、塗布する手段があり、これらを適用することができ
る。
A method for providing a top coat layer containing a lubricant on the surface of a ferromagnetic thin film includes diluting the additive with a solvent and coating it thinly on the ferromagnetic metal thin film, or diluting the additive with a solvent, or applying the additive in the air, in an inert gas, Alternatively, there are methods such as vaporizing it in a vacuum and applying the vapor to the surface of a ferromagnetic metal, and methods of mixing and applying it together with a binder, which can be applied.

また本発明のトップコート層に放射線硬化型添加剤を用
いる場合、その架橋に使用する活性エネルギー線として
は、放射線加速器を線源とした電子線、Co60を線源
としたt−線、5r90を線源としたβ−線、X線発生
器を線源としたX線あるいは紫外線等が使用される。
When using a radiation-curable additive in the top coat layer of the present invention, the active energy rays used for crosslinking include electron beams using a radiation accelerator, t-rays using Co60 as a source, and 5r90. Beta-rays used as a radiation source, X-rays or ultraviolet rays used as a radiation source from an X-ray generator, etc. are used.

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。
In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation heater from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.

本発明においてバックコート層は必要ないが、バックコ
ート層があれば走行性が更に安定し、好。
Although a back coat layer is not necessary in the present invention, it is preferable if there is a back coat layer because running properties will be more stable.

ましい。バックコート層は通常用いられる無機顔料、潤
滑剤、有機バインダー等を含むものである。
Delicious. The back coat layer contains commonly used inorganic pigments, lubricants, organic binders, and the like.

W見皿勿羞釆 以上記載のとおり、本発明にあっては強磁性薄膜上のト
ップコート層の表面粗度をRmaxで20乃至200A
とすることにより、トップコート層を設けることにより
奏せられる(1)防錆性、耐腐食性、耐久性、走行安定
性がすぐれていること、(2)目づまりが発生しないこ
とに加えて、さらに(3)電磁変換特性の低下がないこ
と、(4)エンベロープが良いこと、(5)ノイズレベ
ルが充分に低いこと、(6)摩擦係数が低いこと、及び
(7)削れが少ないこと等のすぐれた効果が奏せられる
ものである。
As described above, in the present invention, the surface roughness of the top coat layer on the ferromagnetic thin film is set to Rmax of 20 to 200A.
In addition to (1) excellent rust prevention, corrosion resistance, durability, and running stability, and (2) no clogging, provided by the top coat layer, Furthermore, (3) no deterioration of electromagnetic conversion characteristics, (4) good envelope, (5) sufficiently low noise level, (6) low coefficient of friction, and (7) little abrasion. It has excellent effects.

ホ l の 1 本発明の磁気記録媒体は、オーディオテープ、ビデオテ
ープ、コンピューター用テープ、エンドレステープ、磁
気ディスク等として利用でき、中でもドロップアウトが
最も重要な特性の1つであるビデオテープ、コンピュー
ター用テープとして用いることができ非常に有用である
Part 1 The magnetic recording medium of the present invention can be used as an audio tape, a video tape, a computer tape, an endless tape, a magnetic disk, etc. Among them, the magnetic recording medium of the present invention can be used as a video tape, a computer tape, etc. in which dropout is one of the most important characteristics. It can be used as a tape and is very useful.

近年、特に技術進歩が著しく、しかも市場性の拡大して
いる高バイアスのHiFi用オーディオカセットテープ
、ビデオカセットテープ、ビデオテープ接触転写プリン
ト用マスターテープ等には本発明の20〜20〇への表
面粗度のトップコート層を設けた金属薄膜からなる磁気
記録層を用いることにより、極めて良好な電磁変換特性
と物性信頼性を有する高性能テープを得ることができ、
本発明の磁気記録媒体は有用性の大きいすぐれたもので
あるということができる。
In recent years, the surface of 20 to 200 of the present invention is applied to high bias HiFi audio cassette tapes, video cassette tapes, master tapes for videotape contact transfer printing, etc., which have undergone remarkable technological progress and marketability has expanded. By using a magnetic recording layer made of a thin metal film with a rough top coat layer, it is possible to obtain a high-performance tape with extremely good electromagnetic conversion characteristics and reliable physical properties.
It can be said that the magnetic recording medium of the present invention is highly useful and excellent.

ヘ ロ の 1 以下に本発明の実施例を示す。なお、本発明がこの実施
例に限定されるものでないことは理解されるべきである
Part 1 Examples of the present invention are shown below. Note that it should be understood that the present invention is not limited to this example.

実施例 (1)盗i履立皇處 1盈豊亙鳳工 厚さ12.−mのポリエステルフィルムを円筒状冷却キ
ャンの局面に沿わせて移動させ、02+Ar(容積比1
:1)を毎分800ccの速さで流し真空度を1.0X
IO−’Torrとしたチャンバー内で、Co 80、
Ni2Oよりなる合金を溶融し、入射角90°〜30°
の部分のみ斜め蒸着し膜厚0.15.”mのCo −N
 i −0薄膜を形成した。酸素はベースとの界面およ
びベースと反対側の表面に多く偏在していた。またベー
スと反対側の表面はほぼ酸化物のみで覆われていた。H
e” 10000 e 、膜中の平均酸素量はCOとN
iに対する原子比(0/Co N i X 100)で
40%であった。
Example (1) Thickness 12. -m polyester film was moved along the curve of the cylindrical cooling can, and 02+Ar (volume ratio 1
:1) is flowed at a speed of 800cc per minute and the degree of vacuum is 1.0X.
In a chamber at IO-'Torr, Co 80,
An alloy made of Ni2O is melted and the incident angle is 90° to 30°.
The film thickness is 0.15. ”m of Co-N
An i -0 thin film was formed. A large amount of oxygen was unevenly distributed at the interface with the base and on the surface opposite to the base. Furthermore, the surface opposite to the base was covered almost exclusively with oxide. H
e” 10000 e, the average amount of oxygen in the film is CO and N
The atomic ratio (0/CoN i X 100) to i was 40%.

強AjJO[1 厚さ12Pmのポリエステルフィルムを円筒状冷却キャ
ンの局面に沿わせて移動させ、真空度を5.0XlO−
sTorrとしたチャンバー内で、勇u鼓首]E腺」−
の場合と同様に蒸着した。膜厚は0゜15 Pmで実質
的にCo−Niより成る。
Strong AjJO [1 A polyester film with a thickness of 12 Pm was moved along the surface of a cylindrical cooling can, and the degree of vacuum was set to 5.0XlO-
In a chamber at sTorr, the E gland'-
It was deposited in the same way as in the case of . The film has a thickness of 0°15 Pm and is substantially made of Co--Ni.

このテープを90℃、20%RH雰囲気中で強制酸化し
、そのベースと反対側の表面を酸化物のみとした。HC
=90008.、膜中の平均酸素量はCoとNiに対す
る原子比で45%であった。
This tape was forcibly oxidized in an atmosphere of 90° C. and 20% RH, so that only oxide was formed on the surface opposite to the base. H.C.
=90008. The average amount of oxygen in the film was 45% in atomic ratio to Co and Ni.

(2)トップコート層の形成 Oトップコート組成 トップコート 1 重量部 2.6ジ第三ブチルP−クレゾール 0.8ペンタ工リ
スリトールテトラアクリレート分子量 352 0.8 ステアリン酸 0.2 ミリスチン酸ブチル 0.05 MEK/シクロヘキサノン(1/1) 100トツプコ
ート 2 重量部 モノグリコールサリチレートアクリレート 1N−ビニ
ルピロリドン分子量111 0.3メタクリル酸変性ミ
リスチン酸 0.3ミリスチルアルコールのメタクリレ
ート 1.OMEK/トルエン(1/1) 100 トツプコート 3 メタアクリロキシエチルホスフェート 0.5特殊アク
リレ一トD分子量534 0.2ステアリン酸 0.5 ステアリン酸変性シリコーン 0.5 トルエン 100 トツプコート 4 a、ジメチルアミノエチルメタクリレート IN−ビニ
ルピロリドン 2 MEK/トルエン(1/1) 100 このものを強磁性薄膜(1)上に塗布、加速電圧150
KeV、電極電流10mA、5Mr a d、N2ガス
中で照射を行なった。その上にす、ベヘン酸 0・3 MEK 100 t、楡霜すス− トップコート組成工について、塗布後、乾燥炉を通し、
半乾き状態で ■カレンダーをかけ、加速電圧150KeV、電極電流
6mA、3 M r a dで電子線照射を行なった。
(2) Formation of top coat layer O Top coat composition Top coat 1 Parts by weight 2.6 Ditert-butyl P-cresol 0.8 Pentalythritol tetraacrylate Molecular weight 352 0.8 Stearic acid 0.2 Butyl myristate 0 .05 MEK/cyclohexanone (1/1) 100 top coat 2 parts by weight Monoglycol salicylate acrylate 1N-vinylpyrrolidone molecular weight 111 0.3 Methacrylic acid modified myristic acid 0.3 Methacrylate of myristyl alcohol 1. OMEK/Toluene (1/1) 100 Topcoat 3 Methacryloxyethyl phosphate 0.5 Special acrylate D molecular weight 534 0.2 Stearic acid 0.5 Stearic acid-modified silicone 0.5 Toluene 100 Topcoat 4 a, dimethylaminoethyl Methacrylate IN-Vinylpyrrolidone 2 MEK/Toluene (1/1) 100 Coat this on the ferromagnetic thin film (1), accelerate voltage 150
Irradiation was performed in KeV, electrode current 10 mA, 5 Mr ad, and N2 gas. On top of that, behenic acid 0.3 MEK 100 t, Yushosu top coat composition, after application, pass through a drying oven.
The sample was calendered in a semi-dry state, and irradiated with an electron beam at an acceleration voltage of 150 KeV, an electrode current of 6 mA, and 3 Mrad.

■加速電圧150KeV、電極電流1mA、0゜5 M
 r a dで電子線照射を行ない、その後カレンダー
をかけ、最後に3 M r a dで電子線照射を行な
った。
■Acceleration voltage 150KeV, electrode current 1mA, 0°5M
Electron beam irradiation was performed at rad, then calendering, and finally electron beam irradiation was performed at 3 Mrad.

■加速電圧150KeV、電極電流2 m A、IMr
adで電子線照射を行ない、その後■と同じ工程を繰り
返した。
■Acceleration voltage 150KeV, electrode current 2mA, IMr
Electron beam irradiation was performed in ad, and then the same process as in step 2 was repeated.

■加速電圧150KeV、電極電流4mA、2Mrad
で電子線照射を行ない、その後■と同じ工程を繰り返し
た。
■Acceleration voltage 150KeV, electrode current 4mA, 2Mrad
Electron beam irradiation was performed in Step 1, and then the same process as in Step 2 was repeated.

■3 M r a dで電子線照射を行ない、カレンダ
ー加工を行なわなかった。
(2) Electron beam irradiation was performed at 3 M r a d, and no calendering was performed.

■トップコート組成1より2,6ジ第三ブチルp−クレ
ゾールを除き、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
トを2重量部とした。
(2) 2,6 di-tert-butyl p-cresol was removed from top coat composition 1, and 2 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate was added.

■トップコート組成1におけるMEK/シクロヘキサノ
ンをMEKのみとした(MEK沸点80℃、シクロヘキ
サノン沸点155°C)。カレンダ一温度70℃、圧力
10kg/cm2゜トップコート組成1に関し、上記各
種処理を施した結果を第1表に示す。なおトップコート
膜厚は100Aであった。
(2) MEK/cyclohexanone in top coat composition 1 was replaced with MEK only (MEK boiling point 80°C, cyclohexanone boiling point 155°C). Table 1 shows the results of the various treatments described above for top coat composition 1 with a calendar temperature of 70° C. and a pressure of 10 kg/cm 2°. Note that the top coat film thickness was 100A.

1−■においてカレンダー条件の圧力5〜100kg/
cm2、温度50−110℃の間で種々条件を変えて行
なったところ、Rmax 10 Aのものは表面粗度が
良くなりすぎ、常温摩擦0.50でナキを発生し、摩擦
が高いためにトップコート削れを生じた。また型持測定
時にも摩擦が高いため削れを生じ測定不可能であった。
1-■ Calendar condition pressure 5-100kg/
cm2 and temperature between 50 and 110℃ under various conditions, the surface roughness of the Rmax 10A one was too good, and nakiing occurred at a friction of 0.50 at room temperature. The coat was scratched. Also, during mold holding measurements, high friction caused scraping, making measurements impossible.

■−のはMEKのみにすることにより■−■の条件で乾
燥が速すぎムラを生じた。
(2) By using only MEK, under the conditions (2) and (2), drying was too fast and unevenness occurred.

第1表及び上記のように表面粗度20〜200へのもの
は型持等の特性が良好なことが判る。さらに200A以
内のもので表面粗度の関係を調べたところ、20〜is
oへのものが−1,’5dBであり、更に好ましいこと
がわかった。
As shown in Table 1 and above, it can be seen that those having a surface roughness of 20 to 200 have good properties such as mold retention. Furthermore, when we investigated the relationship between surface roughness within 200A, we found that 20~is
It was found that the value to o was -1,'5 dB, which was even more preferable.

次いでトップコート2,3.4についてl−■と同一条
件で処理を行なった結果を第2表に示す。
Next, Topcoat 2 and 3.4 were treated under the same conditions as 1-■, and the results are shown in Table 2.

第 2 表 第2表において表面粗度200A以内で摩擦、型持とも
良好な結果となり、トップコートの削れもなかった。
Table 2 In Table 2, when the surface roughness was within 200A, good results were obtained in both friction and mold retention, and there was no scraping of the top coat.

なお本発明のオリゴマー及びポリマーの分子量は次の測
定方法による数平均分子量によっている。
The molecular weights of the oligomers and polymers of the present invention are determined by the number average molecular weight determined by the following measuring method.

*GPCによるバインダーの平均分子量測定GPC(G
el Permeat ion Chlomatogr
aphy)とは試料中の分子を移動相中のその大きさに
基いて分離する方法で、分子ふるいの役をする多孔質ゲ
ルをカラムに充填し液体クロマトグラフィーを行なう方
法である。
*Measurement of average molecular weight of binder by GPC
El Permeation Chromatogr
aphy) is a method in which molecules in a sample are separated based on their size in a mobile phase, and liquid chromatography is performed by filling a column with a porous gel that acts as a molecular sieve.

平均分子量を算出するには標準試料として分子量既知の
ポリスチレンを使いその溶出時間から検量線を作成する
。これよりポリスチレン換算の平均分子量を計算する。
To calculate the average molecular weight, use polystyrene of known molecular weight as a standard sample and create a calibration curve from its elution time. From this, calculate the average molecular weight in terms of polystyrene.

与えられた高分子量物質中に分子量Miである分子がN
i個あったとすると 数平均分子量Mn= ΣN i M i で表わせる。
There are molecules with molecular weight Mi in a given high molecular weight substance.
If there are i pieces, the number average molecular weight Mn=ΣN i M i can be expressed.

ΣNi 又上記各種特性の測定方法について以下に記す。ΣNi Also, methods for measuring the various properties mentioned above will be described below.

1、スチール特性 5MHzで記録し、再生出力のスチール特性を測定する
。10分以上をOKレベルとする。
1. Still characteristics Record at 5 MHz and measure the still characteristics of the playback output. 10 minutes or more is considered an OK level.

2、磁性面側摩擦測定 磁気テープの磁性面がシリンダー側に来るように巻きつ
け、一方の端面に20gの負荷をがけ、シリンダーを9
0°回転したときの張力変化を読みとって摩擦測定をす
る。
2. Friction measurement on the magnetic side Wrap the magnetic tape so that the magnetic side is on the cylinder side, apply a load of 20g to one end, and hold the cylinder at 9
Friction is measured by reading the change in tension when rotated by 0°.

3、表面粗度 TAYLOR−H,0BSON社製タリステップによる
測定法におけるRmax値、カットオフ0゜17mm、
針圧2mg、針0.IX2.5Fを用いた。
3. Surface roughness TAYLOR-H, Rmax value measured by Talystep manufactured by 0BSON, cutoff 0° 17mm,
Needle pressure 2mg, needle 0. IX2.5F was used.

代理人 大喜利 明敏 代理人 大喜利 暁子Agent Akitoshi Ogiri Agent Akiko Ogiri

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)非磁性基材上に強磁性薄膜を設けた磁気記録媒体
において、該強磁性薄膜の表面上のトップコート層の表
面粗度がRmaxで20乃至200八であることを特徴
とする磁気記録媒体。
(1) A magnetic recording medium comprising a ferromagnetic thin film provided on a non-magnetic base material, characterized in that a top coat layer on the surface of the ferromagnetic thin film has a surface roughness of 20 to 2008 in terms of Rmax. recoding media.
(2)Rmaxで20乃至200Aの表面粗度が電子線
又は紫外線実射により為されたものである特許請求の範
囲第1項記載の磁気記録媒体。
(2) The magnetic recording medium according to claim 1, wherein a surface roughness of 20 to 200 A at Rmax is achieved by electron beam or UV radiation.
JP7758384A 1984-04-19 1984-04-19 Magnetic recording medium Pending JPS60223025A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7758384A JPS60223025A (en) 1984-04-19 1984-04-19 Magnetic recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7758384A JPS60223025A (en) 1984-04-19 1984-04-19 Magnetic recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60223025A true JPS60223025A (en) 1985-11-07

Family

ID=13638000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7758384A Pending JPS60223025A (en) 1984-04-19 1984-04-19 Magnetic recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60223025A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6361409A (en) * 1986-09-01 1988-03-17 Hitachi Ltd Magnetic recording medium
JPS63121116A (en) * 1986-11-10 1988-05-25 Fuji Electric Co Ltd Thin film magnetic recording medium
JPS6455703A (en) * 1987-08-27 1989-03-02 Tdk Corp Magnetic recording and reproducing device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6361409A (en) * 1986-09-01 1988-03-17 Hitachi Ltd Magnetic recording medium
JPH0833983B2 (en) * 1986-09-01 1996-03-29 株式会社日立製作所 Magnetic recording media
JPS63121116A (en) * 1986-11-10 1988-05-25 Fuji Electric Co Ltd Thin film magnetic recording medium
JPS6455703A (en) * 1987-08-27 1989-03-02 Tdk Corp Magnetic recording and reproducing device
JPH0695363B2 (en) * 1987-08-27 1994-11-24 ティーディーケイ株式会社 Magnetic recording / reproducing device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6113438A (en) Magnetic recording medium
US4666754A (en) Magnetic recording medium
JPS60223024A (en) Magnetic recording medium
JPS60258724A (en) Magnetic recording medium
US4693934A (en) Magnetic recording medium for image recording
JPS6129417A (en) Magnetic video recording medium
JPS6132217A (en) Magnetic recording medium
JPS6142723A (en) Magnetic recording medium and magnetic recording method
JPS60223025A (en) Magnetic recording medium
JPS60226016A (en) Magnetic recording medium
JPS60231909A (en) Magnetic recording medium
JPS61911A (en) Magnetic recording medium
JPS60211629A (en) Magnetic recording medium
JPS60254417A (en) Magnetic recording medium
JPS60209921A (en) Magnetic recording medium
JPS60254418A (en) Magnetic recording medium
JPS60209916A (en) Magnetic recording medium
JPS619820A (en) Magnetic recording medium
JPS6111930A (en) Magnetic recording medium
JPS60253019A (en) Magnetic recording medium
JPH0534724B2 (en)
JPH0610872B2 (en) video tape
JPS6116012A (en) Magnetic recording medium and its method
JPS60209917A (en) Magnetic recording medium
JPS61208621A (en) Magnetic disk