JPS60204507A - モジユール処理機械に使用するカセツトエレベータ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は、一般的Ｃ二は処理される物品をカセットから
受けとパう・処理した物品をカセット番＝戻す自動化物
品処理機械Ｃ：関する。更Ｃ二詳しく云うと、本発明は
そのような物品処理機械Ｃ二用いる改良されたカセット
エレベータに関する。このカセットエレベータは半導体
デバイス製造嘔二用いるクエハ処理機械Ｃ二使用するの
Ｃ二特（二連している。

発明の背景 製造−′般、特に半導体デバイスの製造１：おける歩留
りおよびスループットを高める必要性は、より高度６二
自動化した物品処理機械の開発および使用を推してきた
。この傾向の１例は半導体デバイス製造におけるカセッ
トーカセットクエへ処ｍｓ械の使用の増加である。その
ような機械は複数の半導体クエへを含むカセットを受け
とり、それらのクエハをカセットから取り除いである程
度自動化された方法で処理し、それらのツエへ質もとの
カセット又は第２のカセット４二戻す。

どのカセットーカセットワエハ処理機械の重要な部分は
カセットエレベータである。カセットエレベータはカセ
ットを保持する台および垂直方向Ｃ二台を動かす何らか
の手段を一般に含む。半導体ワエへはカセット内で上下
Ｃ二重ねられて保持されているので、カセットエレベー
タの正確に制御された垂庫運動＆二より各クエへｌ二個
々に接近できる。

換言すると、エレベータは連続的１ニインデツクス（ｌ
ｎｄ＠ｘ）されるので、カセット内の各ワエハは、主と
して水平（＝動作する何らかのワエハ輸送機構Ｃ二よっ
てそのクエへをカセットから除去したりカセット内弧二
挿入できる位置Ｃ二もってこられる。

カセットエレベータとともｌ：動作するクエハ輸送機構
の１例はスパチュラ転送機構である。スパチュラ輸送機
構ははｙ水平面で動作し、クエへを保持できるスパチュ
ラをカセットの開いた前面Ｃ二挿入する。カセットエレ
ベータをスバ’ｒｊｌ＆”７エハのすぐ下Ｃ：挿入でき
る位置（ニインデックスすることζ二よ−って、ワエハ
はカセットから取り除かれる°。スパチュラが挿入され
、カセットエレベータが少しの距離だけ下方にインデッ
クスされてクエハはカセット支持物の上Ｃ；ではなくス
パナニラの上Ｃ二のせられる。次Ｃニワエハを保持して
いるスパチュラが除去される。

ｊｌＥのカセットエレベータの主な短所ハ、システムの
”足跡（ｆｏｏｔｐｒｌｎｔ）”および複雑さを大幅１
：増大させることなしＣ二はエレベータが１個又は多数
あるシステムＣ：おいて構成できないことである。

換言すると、先行技術のカセットエレベータは各エレベ
ータ用の個々のスパチュラとともに並列≦二ならべる°
ことができるＣ二すぎない。多数のカセットエレベータ
を前後６二ならべて置いてそれらを１個のスパチュラで
役Ｃ二立てることができなかった。

現在のカセットエレベータのもう１つの目的は、カセッ
トをエレベータ台（ニロードしたり、カセットをエレベ
ータ台からアンロードする方法６二関する。一般Ｃ二は
、この動作は水平位置−あるカセット台響二よ−って行
われ、このことはローディングおよびアンローディング
動作の期間中６二カセットの開いている前面からクエへ
を押し出すことを比較的容易にする。

発明の要約 従って、本発明の目的は、モジュール物品処理機械用の
改良されたカセットエレベータを提供することである。

本発明のもう１・りの目的は、エレベータが多数ある前
後（ｚステム（ｆｒｏｎｔ−ｔｏ−ｂａｃｋ　ｓｙｓｔ
ｅｍ　）において配置することができ１個のスパチュラ
ζ：よって使用できる自動化半導体クエハ処理機械に用
いるためのカセットエレベータを提供することである。

本発明の更６；もう１つの目的は、カセットローディン
グおよびアンローディング動作の期間中にクエへが破損
する可能性を大幅に少なくする自動化半導体クエへ処理
機械嘔二用いるためのカセットエレベータを提供するこ
とである。

本発明の特定の実施例はモジュール自動化半導体クエへ
処理機械１；用いるカセットエレベータを含む。標準多
重クエへカセットを保持するように適合されているカセ
ット台は、親ねじおよびレール配置ζ：よ・りて片持式
で保持されている。−０親ねじはその角度位置を正確鑑
二決めることができるモータ６二よって躯動される。こ
れζ二よりカセットの必要な垂直位置決めが行われる。

カセット台とエレベータの親ねじ部分との間の片持配置
（二よって、スパチュラはエレベータが最も高い位置に
ある時に妨げられずＣ二台の下を通ることができる。従
って、第１エレベータのうしろＣ二ある第２エレヘータ
は同じスパチュラによって使用できる。このことミニよ
り一般−二送出し／受入れ装置（ｓ＠ｎｄｓｒ／ｒ＠ｓ
＠ｌｖ＠ｒ）と云われるエレベータおよびスパチュラシ
ステムは、クエ°ハ処理機械の全体的幅な広くせずにカ
セットが１個又は多数のシステム１二おいて容易に構成
することができる。ワエハ処理機械が一般一二動作する
きわめて清潔なりエバ製作区域の床面積はきわめ・Ｃ高
価であるので、はソ同じ足跡（ｆｏｏｔｐｒｉｎｔ）内
でこのようＣ二容易に再構成できることは大きな利点で
ある。

本発明のこの特定の実施例のもう１つの特徴は、エレベ
ータがその完全（二上昇した位置６二ある時Ｃ二はカセ
ット台を自動的Ｃ二後方へ傾斜させることである。即ち
ロードされたカセットがカセット台６二置かれカセット
台から取り除かれる位ｆｔにエレヘ−タがある時Ｃ二は
、クエへをカセットの開い゛（いるｙ７ｔＪ閾から押し
出す可能性がきわめて少ない方法でオペレータはロード
されたカセット４Ｉ：傾斜させることを強いられる。ク
エへがスパチュラによ・りてロードされたりアンロード
されたりする位置にまでエレベータが下げられると、カ
セット台は自動的嘔；その水平位置（二戻る。

本発明のこれらの、およびその他の目的は図面とともに
詳細な説明から当業者には明らかになるであろう。

３、発明の詳細な説明 半導体デバイスの製造は通常はクエへレベルで行われる
。即ち、比較的多数の個々のデバイスを含む半導体材料
のディスク状りエハは、マイクロプロセッサなどの単一
のデバイスなそれぞれ含む個々のダイ６二分嶋される前
に全体とし°Ｃいろいろな製造工程を通・りて処理が進
められる。歩留りがより高い製造工程４二対する必要性
から、毎時、より多数のクエハな処理できる一層高度に
自動化されたワエへ処理機械およびより清浄な環境でク
エへを処理する機械が作られるようζ：なる。第１図は
先行技術以上６二多数の改良ｔ−４体化したそのような
りエバ処理機械の詳細な斜視図である。第１図に示され
Ｃいるこの特定の機械はヘッド（ｈ軸ｄ）が２つあるプ
ラズマ処理装置である。即ち、この機械は２・つのプラ
ズマ処理ステーション（ｓｔａｔｉｏｎ）を有する。実
際の２エバ処理は第１および第２プラズマ反応装置（ｒ
＠ａｃｔｏｒ　）　１１および１２において行なわｒる
′。反応装置１１および１２にはＲＦ電源（Ｒ）’ｐｏ
ｗａｒ　ｍｕｐｐｔｙ）　ｌ二よりＲＦ電力（ＲＦｐｏ
ｗｅｒ）が供給され、真空マニホルドによつ′Ｃ排気さ
れる。この図では見えない追加のシステムが反応性ガス
を反応装置１１および１２に与える。処理されるワエへ
はエレベータ１５上−二ロードされＣいる多重クエハカ
セット区＝よ・りて機械内６ニロードされる。そζ応為
らワエハは真空ロードロック１６内の内部多重クエハカ
セツ）ｌ二転送される。真空輸送システム１７は処理の
ためクエへをロードロック１６から反応装置１１および
１２内へ移動させる。処理が完了すると、真空輸送シス
テム１７はワエハを第２０−ドロック１８に移動させ、
ワエハは最終的には取り除かれてエレベータ１９上の多
重ワエへカセット内鑑：入れられる。クエへ処理機械の
残りの部分は、反応性ガスの流ｔ′ＬＩＬ−監視し変え
るための複数の電子モジュール２０および制御装置２１
を含む。

更６二、表示装置２２が一般題；備えられているので、
オペレータは機械の全体的状態な監視できる。技術上予
想されるようζ：、このような複雑な機械は、固定論璃
鑑二よ・りＣではなく、表示装置２２ＩＬ−容易１ｕｌ
１節する１つ又は複数のマイクロプロセラｆＩ＝よって
一般４＝制御される。

下記の図面の各々に関連して詳細（二説明されているよ
うζ：、第１図６；示されているクエへ処理機械の全体
的設計思想はモジュール方式である。例えば、この機械
は全体的レイアクト又畔ワエハ輸送方法を著しく変更せ
ずに１つ、２・り又はそれ以上のプラズマ反応装置を用
い゛Ｃ構成できる。更に１、エレベータ１５および１９
およびそれに関連したワエハ転送装置は、機械の入力端
と出力端の両方が１つ又は２つのエレベータを有スるよ
うに設計される。第１図６二示しＣあるクエへ処理機械
の種々のその他の側面および改良は図面および説明の残
９０部分から明らかであろう。

さて第２図を参照すると、全体的ワエハ輸送システムが
簡易平面図で示されている。多重クエハカセットがエレ
ベータ１５上でシステム内に入れられ′る。多重クエへ
カセットは技術上よく知られており、一般屯二６側面は
閉じられており、４番目の側面が開いている。ワエへは
開いている側面を介して除去され交換され、３つの閉じ
た側面上で支持される。スパチュラ２４はエレベータ１
５上のカセットから個々のクエへを除去し、それらのワ
エハなロードロック１６内の内部カセットニ入れる。技
術上よく知られているよう６二、スパチュラ２４は水平
方向６二のみ移動し、ワエへはエレベータ１５および内
部カセットの重置運動によってスパチュラ２４上１：Ｉ
ｔいたりスパチュラ２４から除去する。

例えば、内部カセットが垂直幅装置かれるので、ワエハ
を運ぶスパチュラ２４ハ適当７’Ｊ：ワエハスロツト内
に移動する。ひとたびスパチュラ２４が七のような位置
ａ二くると、内部カセットは少し上方へ位置合せされ（
ｌｎｄ＠ｘ）、スパチュラ２４からクエハな拾い上げる
。次Ｃニスパッ・ニラ２４が除去され、クエへが内部カ
セット内に残される。ひとたび内部カセットがロードさ
れると、ロードロック装置１６が微積する。即ち、ロー
ドロック１６は閉じられ密封され、そこから空気が除去
され、次１ニロードロツク１６が真空輸送システム１７
との接続部１二対し°Ｃ開かれる。

真空輸送システム１７は案内レール２７上を水平方向に
移動する第１および第２シャトル板２５および２６、お
よびそれぞれワエハ収扱構成Ｃ：おける役目とプラズマ
反応装置１１および１２１＝おける下部電極としての役
目をするチャック２８および２９ヲ含む。動作すると、
シャトル板２５はその最左端の位置シー移動し、ロード
ロック１６内の内部カセットからのワエハはタイン（ｔ
ｌｎ＠ｓ）　５０上６二置かれる。機械的カブラアーム
３１の故に、シャトル板、２６も同時にその最左端の位
置６二まで移動し、チャック２８上感＝置かれたクエへ
があるとそれをタイン３２上にのせる。同様−二、ｔキ
ック２９上−二りエへが置かれていると、そのクエハは
タイン３３上にのせられる。次の動作段階では、レヤト
ル板２５および２６がその最右端の位置−二移動し、そ
れ６二よ・りてタイン３２上のクエハはｔキック２９の
上６二置かオｔ１タイン３５上のクエへは出ｖ−−ドロ
ック（ｏｕｔｇｏｉｎｇ’　ｔｏａｄ　ｔｏｏｋ　）　
１８内Ｃ二人れられる。次区二シャトル板２５および２
６がｆｓ１図６＝りす位置−二移動させられ′る。次に
チャック２Ｂおよび２９が持ちあげられてそれぞれのワ
エハをプラズマ反応室内へ運び込み、プラズマ処理が行
われる。最後蚤；、チャック２８および２９は下げられ
、真空輸送システム１７は新たなりエバを処理される位
置６二まで移動させる。すべてのワエハが出ロード四ツ
ク１８に転送されると、そのロードロックは循濃し、ス
パチュラ３４はクエへを出エレベータ１９上のｔ重りエ
へカセットへ除去する。

クエへ処理機構をベッド１個の機械として構成した場合
には、第２図の装置は破線の右側の全部とカプラアーム
６１ヲ除去する以外は全く同じものとなる。そのような
システム櫨二おいては、クエハ輸送方法は比較的簡単で
ある。ひとたびクエへかり一ド四ツク１６１＝入ると、
それらのワエハは連続的−二シヤトル板２５によ・りて
除去され、処理され、ｐ−ドロック１６に戻される。従
ってこの構成を二ｍいては、ロードロック１６およびエ
レベータ１５は入力機能と出力機能の両方をはたす。

第２図６＝示しであるヘッドが２つある構成６二おいて
は、最も右方のＶヤトル板２６は２セツトのメイン３２
および５５　ｋ保持し・〔いるが、最も左側のシャトル
板２５は１セツトのクイーン５０シか保持していない。

この関係は全体的輸送構成檻二影響を与えずに逆Ｃ：す
ることができる。

第３図Ａ〜第３図Ｈは第１図および第２図６＝示し“〔
ある２ヘッド構成鑑二用いＰ）れるワエへ輸送方法を概
略的６：示す。最初に、処理される６枚のクエへがエレ
ベータ１５上の多重クエへカセット内纏二人れられる（
第６・図ム）。ワエへ転送およびロードロック循環ステ
ップの後−二、ワエハ１〜６はロードロック１６内の内
部カセット−二人り、真空輸送Ｖステム１二よって処理
可能となる。真空輸送システムが１回循環する（即ち完
全に左方へ移動しその後完全Ｃ二右方へ移動する）と、
クエへ／１６１はチャック２８上に移動し、クエハ／Ｊ
６２〜／Ｉ６６をロードロック１６４二残す（第３図Ｃ
）。真空輸送システムがもう１回循環すると、ワエハ／
ｆ６１はチャック２９上に移動し、ワエへ／ｇ６２はチ
ャック２８上（二移動する。この時点において、チャッ
ク２８および２９はプラズマ反応装置近く一二持ち上げ
られ、プラズマ処理が行われる（第３図Ｄ）。次ｄ；チ
ャック２８および２９が下方へ下げられ、真空輸送シス
テムが１回循環させられる。この結果ワエへ腐１はロー
ドロック１８へ転送され、ワエハ腐２はチャック２９へ
転送され、クエハ／１６６はチャック２８へ転送され、
クエハ雇４〜／１６６はロードロック１６に残る（第６
図Ｅ）。真空輸送システムがもう１回循環すると、ワエ
ハ鷹２はロードロック１８：二人り、ワエへ／Ｉ６６は
チャック２９上に置かれ、ヮエハ／Ｆ６４はチャック２
８上直二置かれる。再びチャック２８および２９が持ち
上げられ、プラズマ処理が行われる（第６図Ｆ）。第３
図６二示されていないステップζ；おいて、ワエ八属３
および／Ｉ６４は筒−ドロック１８内に移動し、ワエハ
准５および／ｉ６６はｔキック２８および２９上に移動
して処理され、その後ロード−ツク１８内に移動する。

このことは６枚のワエへ全部をロードルック１８毫；残
すことになり（第３図Ｇ）、これはワエハ肩１〜属６を
出力カセット１９へ除去する前Ｃ二循環される（第６′
図Ｈ）。

上述したワエハ輸送構成は、モジュールワエハ処理機械
６二特弧二役立つものである。各チャックを輸送動作中
４二ワ工ハ保持台として用いることができるので、各チ
ャンバ６二おける部分的ワエへ処理を更に複雑化せずに
ラインシステム仁おいて多重ヘッドを使用できる。この
構成な３へッドワエハ処理機械に拡張することは容易で
ある。主な差違は、真空輸送システムの３循漆が各処理
ステップの間４二割り込むという点である。

こふ（二説明しているような複雑な電気機械的機械一二
おいては、機械が動作している最中のある時点における
電源故障又は同様な事故から回復する困難が生じること
がある。即ち、システムの輸送モータ、空気圧弁および
その他のデバイスの各々の機能を制御するマイクロプロ
セッサは、これらの各デバイスが処理の途中で再び動作
を始める時に各デバイスの状態を知らねばならない。こ
の問題は、種々の電気機械的、気圧式およびその他のシ
ステムが機械的シニ相互接続していない、即ち次の機械
状態へ簡単ζ：進むことができないという事実によ・つ
゛Ｃ複雑なもの：二なる。第４図は必要な情報を与える
方法の概略図である。主マイクロプルセッサ４０がエレ
ベータな移動させたりチャックを持ち上げるような１つ
の動作な完了させる度毎Ｉ：、力クンタ４２ｔｌ′１だ
け増分させる信号がモータ４１へ送られる。従って、カ
ワンタ４２によ・りで示される数字は、機械が誤動作の
前６；最後のステップを完了させた時６：機械がおかれ
ていた状態な゛　独自６二識別する。電力が回復すると
、機械のオペレータがカワフタ４２屯二表〜示された数
字をキーで打ち込むと、その数字はマイクロプロセッサ
４０が七の状態を測定し処理を続行するの６二用いられ
る。機械の状態を測定する問題に対するこの見かけ籠二
よらない簡単な解決法は、移動可能な各成分ごと一二１
個又は複数のセンサを必要とするシステムよりはるか６
二優れている。カワフタ４２ｆ＠械で読取ることができ
るよう（二することも勿論可能であるので、パワーアッ
プ時籠二機械の状態ｆ：ｌｌｌ別するためζニオペレー
タが介入する必要はない。

さて第５図を参照すると、装置のエレベータ−四−ドロ
ック部分がその分解斜視図で説明されている。自動化ワ
エハ処理機械６二おいては、機械のこの部分は一般６；
送出し／受入れ装置（ｍａｎ４ｅｒ　／ｒ＠ｏ・ｉｖ＠
ｒ　ｕｎｉｔ）と云われる。第５図に示す構成は２・り
のエレベータ４５および４６ヲ有スる。エレベータ４５
および４６は第６図においては簡略感ニされた形で示さ
れており、第６図Ａおよび第６図８４二東ｄ；詳゛細に
示されている。一般６二各エレベータはフレーム４７．
１対の案内レール４８、親ねじ４９、親ねじ４９４二結
合したモータ５０、案内レール４８１二支えられていて
親ねじ４９４：よ・りて動くキャリヤ５１およびカセッ
ト台５２を含む。モータ５０は正確墨；予め決められた
ヌテツプで回転できる型のものである。従って、カセッ
ト台５２の垂直位置はきわめＣＪＩ：、確（二制御でき
る。これは多重クエへカセットとスパチュラ２４０間の
クエへ転送を行つのに必要である。キャリヤ５１は片持
式（ｏａｎｔｌｔ＠ｖ＠ｒｆａｓｈｉｏｎ　）　Ｉニカ
セット台５２を支えるので、エレベータ４５が完全に上
昇した位置１；ある時には、それはスパチュラ装置５３
を妨害しない。この特徴により、前後４二（ｆｒｏｎｔ
−ｔｏ−ｂａｃｋ）　（二装置され１個のスパチュラに
よつ°Ｃ補助される多数のエレベータを用いることがで
きるよう１；なる。第５図６；は示されていないが、カ
セット台は多重カセットの位置決めを助け°【正確なｐ
−ディングおよびアンーーデイングを確実に行うためビ
ン、溝および／又はレールを含む。

明確にするためその通常の位置から離して示しであるス
パチュラ装置５３はフレーム５５．１対の案内ルー／ｌ
１５６、親ねじ５７、フレーム５５４＝取付けられ親ね
じ５７に結合されたモータ５８、案内レール５６１：よ
って導かれ刹ねじ５７　によって動かされるキャリヤ５
９、およびキャリヤ５９（二取付けられたスパチュラを
含む。スパチュラ装置５６のフレーム５５ハエレベータ
４５およヒ４６のフレーム４７から機械の反対側の壁ζ
＝乗るようにスパチュラ２４とキャリヤ５９との間の片
持式配置は行われている。エレベータが１個又は２個の
構成に対して十分なゆとりがとれるようＩ：するためＣ
二、スパチュラｆＨ１１５５）１エレベータが２個の構
成に使、ｔ６の１二十分な長さ龜；シである。エレベー
タが１個の構成では、スパチュラ装置５３な更に後方の
位置ζ二取付けるだけでよい。エレベータが１個の構成
からエレベータが２個の構成に変える（＝は、第２エレ
ベータをボルトでとめ、スパチュラ装置な前方へ移動さ
せ、マイク賞プロセッサ制御装置のプルグラミングを変
えるだけでよい。

ロードはツク装置１６は隔１１６１、デュアルモーＶヨ
ンの機械的フィードスルー装置６２、筺体６６、密封板
６４、下部ガラス鐘６５、この図では見ることができな
い上部ガラス鐘、およびこれもまた第５図では見えな（
Ｓ内部〕（ススルーカセットな含む。

各隅ｌ１６１のスロットは上部ガラス鐘力電持ち上１デ
βれるとロードロック１６と真空輸送システムとの間の
通Ｉｉ！な提供する。真空ロードロック装置１６はモジ
ュールフェノ１処理機械の入力文を家出尖端で機能する
よう６二設計されてＸ、するので、密封板６４は使用さ
れていないスレッドを密封するの覗；用−１られる。四
−ドロック装［１６の更舊；詳し〜１説明は第７図１−
関連し°℃下紀に述べである。

概略的６二云うと、第５図の装置１京下−己のよう６；
なる。多重ワエ７１カセットカ１各エレベータ台の上Ｃ
二重かれる。エレベータの１つ、例え−ｆエレベータ４
５がスパチュラ２４　ｋ第１ワエノ１の下弧二挿入でき
る位置書＝下げられる。また上部ガラス値力ｌ下（デら
れて真空輸送ＶステＡを封止し、下部ガラス鐘６５カ下
ケられ、内部〕曵ススルーカセットカー下略デられる。

下記の説明から明ら力１なようｌ二、デュアルモーシロ
ンフィードスルー６２カーこれらの各動キｋｇｌｌＪさ
せる。スノζテユラ２４力１カセット内の第一イ・−菖
−ｉ＆Ｊｑ　イレペータ４５がごく僅かな距離だけ下方
へ移動し゛ＣワエノＸをｘノ＼°デュラ２４の上−二置
く。次Ｉニス／寸デュラ２４力虱後方毫二移動してワエ
ハを内部カセット内６二人れる。次に内部カセットはご
く僅かな距離だけ上方へ移動し、クエへをスパチュラ２
４から持ち上げる。このワエハ輸送動作は、内部パスス
ルーカセットの利用可能なスロットの各々が満たされる
まで反復される。次亀二、内部カセットは下部ガラス鐘
６５と同様番＝持ち上げられ、ロードロック装置１６を
完全に密封し、この装置は真空輸送システムと＆ヨ覧同
じ真空レベ泗二までポンブダワン（ｐｕｍｐ　ｄｏｗｎ
）される。次６二、上部ガラス鐘が上昇して真空輸送シ
ステム舊二内部カセットへの通路な与える。この時点に
おいて、処理ヘッドへの転送および処理力１開始できる
。

第６図人および第６図Ｂ゛はそれぞれ特定のエレベータ
装置６８の平面図および側面図である。第６図人および
第６図Ｂのいづれ６二おＸＩＳても、多重クエハカセッ
ト１−保持するカセット台はその下の細部な示すために
取り除かれて（Ｓる。エレベータ装置６８のフレームは
下部取付板６９、第６図ＡＩ；は示されていない上部取
付板７０、第６図８には示されていない覆い板７１．１
対の案内レール７２および親ねじ７５を含む。覆い板７
１は下部取付板６９と上部取付板７００間区二延びてい
°Ｃ，エレベータ６８の粒子産生機構をクエへから隔離
する役目をしている。モータ７４は下部取付板６９α二
取付けられ、親ねじ７３に結合されている。親板（ｏａ
ｒｒｉ・ｒｐムｔ・）７５は案内レール７２の上区二の
っていて親ねじ７３（二よつ°〔駆動される。親板７５
の片持部分７６は覆い板７１の周囲ｌ二延びていて、ピ
ボットビン７７のための取付点を与える。台キャリヤ（
ｐムｔｆｏｒｍ　ｃａｒｒｉ＠ｒ）７８はその前線にお
いてピボットビン７７上１：ピボットで回転するようＩ
：支えられている。即ち親板７Ｂがピボットビン７７６
；取付けられている親板７８の縁はロードロック装置（
二面している縁である。

カム７９カ覆い板７１　に取付けられており、カムフォ
ロア８０が台キャリヤ７８　に取付けｂｒしている。

最後（＝、スプリング８１が親板７８Ｎ−水平位置にバ
イアスさせる。

親板７５がモータ７４および親ねじ７６によってその最
も高い位置に移動されると、カムフォロア８゜がカム７
９−二接触し、台キャリヤ７８す後方僅；傾いた位置（
二する。勿論親板７５がカムフォロア８ｏがカム７９と
接触していない位置Ｃ二ある場合６二は、スプリング８
１は台キャリヤ７８ｆ：水平位置ａ二維持する。エレベ
ータ６８のこの自動傾斜機構はワエハ破損の可能性を著
しく小さくする。多重クエへカセットが従来のエレベ一
一夕一二ロードされ・り・りある時Ｃ二は、クエへをは
ソ垂直なカセットから押し出し゛〔破損するのは比較的
容易である。しかしエレベータ６８を用いた場合１二は
、多重クエへカセットがロードされ・りつある時、即ち
エレベータ６８がその最も高い位置にある時には、カセ
ット台は後方：：傾斜した位置鴫二ある。従って、オペ
レータは多重クエ７１カセットを後方へ傾ｌす、クエへ
がカセットの開いた前面から押し出されないようＣ二し
′なければならない。カセット台は傾斜した位置（：あ
るカセット台上のカセットの安定度を増すための安全装
置を一般一二含んでいる。第６図Ａ＄５よび第６図Ｂｌ
二示しであるエレベータのもう１つの主要な特徴は、駆
動機構とエレベータ台との間の片持関係である。上述し
たように、この特徴によりスパデュラ装置をエレベータ
が２つある配置（二お４ｔ６第１エレベータの下に通す
ことができる。

第７図は第５図Ｃ二示しであるロードロック装置１６の
詳細な断面図である。第５図６：関連し゛〔説明したよ
うに、スロット６６のある隔壁６１は真空輸送システム
６二対する取付および接近な与える。デュアルモーショ
ンの機械的フィードスルー６２はロードロック装置の内
部部品を起動させる一方で、真空封止を行う。ロードロ
ック自体は下部ガラス鐘６５、固定密封板９２および上
部ガラス鐘９３を含む。下部ガラス鐘６５は図示されて
いるような降下した位置から上昇した位置に移動し、そ
の上昇した位置では下部ガラス鐘はアクチュエータ９０
（二よって密封板９２まで封止する。アクチュエータ９
０は例えは空気圧シリンダおよびピストンでもよい。ア
クチュエータ９０を下部ガラス鐘６５　に結合させ−〔
いる取付装置６５は、下部ガラス鐘６５が第７図の平面
Ｉ：対して重置の方向ζ二滑らか蓋二移動できるようζ
：配置されている。この機構５二より破損したクエへの
破片を取り除くために下部ガラス鐘６５　ｋ容易礪；取
りはずすことができる。

長い寿令の間Ｃ二わたって十分な密封を行うためステン
レススチールで作るのが有利である密封板９２は、パス
スルーカセット９４０通過を可能（二するため一般Ｉ：
矩形のアパーチャを有する。複数の穴９７がこのアパー
チャの内周に沿って配置されている。下部ガラス鐘６５
および上部ガラス鐘９３の両方が密封板９２　に密着し
た時Ｃニロードロックなポンプダウンできるようにする
ためζ二、穴９７は真空システムに結合されている。

上昇した位置においＣ示されている上部ガラス鐘９６は
下部ガラス鐘６５とはソ同様である。上部ガラス鐘９３
は密封板９２に密着するため０リング９８を含む。

第８図人および第８図Ｂに関連して下記−二更に祥しく
説明しである内部パススルーカセット９４は、多数の処
理されていないクエへをエレベータ上のカセットから受
けとり、それらのクエへが真空輸送システムによって回
収されるまで保持する役目をする。ワエハ処理機械の出
力端でパススルーカセット９４は、真空輸送システムか
ら処理されたクエハを回収し、それらのワエハが出力カ
セット６二転送されるまで保持する役目をする。

上部ガラス鐘９３およびパススルーカセット９４はいづ
れもデュアルモーションのフィードスルー装置６２（二
よ・つ゛Ｃ垂直方向：二移動させられる。図から明らか
なように、第７図番：示しである下部ガラス鐘６５およ
び上部ガラス鐘９３の位置はロードロック装置の通常の
動作では決して同時６二は発生しない。上部ガラス鐘９
６が図示されているよう１二上昇した位置にある時ｄ二
は、下部ガラス鐘６５は密封板９２に密着しＣいる。こ
のことは真空輸送システムＣ二おける真空状態を維持し
、スＵット６６を介してパススルーカセット９４内のク
エへへの接近を可能にする。他方、下部ガラス鐘６５が
図示されているように下降した位置６二ある時弧二は上
部ガラス鐘９６が密封板９２１；密着し、パススルーカ
セット９４もまた密着板９２より下の位置に下っている
。この位置におい°Ｃは、上部ガラス鐘９３は真空輸送
システムにおける真空状態を維持し°〔おり、パススル
ーカセット９４はスｔｉテユラによってロードおよび／
又はアンロードすることができる。ロードロックの第３
の通常の位置は、上部ガラス鐘９３と下部ガラス鐘６５
の両方が密封板９２檻二密着している場合である。この
位置ζ二おい゛〔は、ｏ−Ｆロックは真空輸送システム
の真空レベルおよび大気圧へ、又はその真空レベルおよ
び大気圧から循環できる。上述したように、密封板９２
の穴はこの循環を行うシステムに結合されている。

当業者Ｉ：は明らかなよ５に、ロードロックが完全６二
閉鎖された状態（二ある場合にいくつかの製造工程をロ
ードロックにおいて行うことも可能である。

換言すると、穴９７は反応性ガスを閉鎖されたロードロ
ック内１：出すことができる。ひとたび所望する工程が
完了したら、穴９７を通じ°Ｃロードロック内のガスは
排出される。この能カシ二より２つ以上の工程を１つの
機械内で行い、それにより全体的なスルーブツトを改善
し製造原価を下げることができる。

さてデュアルモーションの機械的フィードスルー装置６
２についてみると、これは外部アクチュエータ１００お
よび内部アクチュエータ１０１を参照すること６二よっ
て最も容易（二説明される。外部アクチュエータ、１０
０は上部ガラス鐘９６をその上昇した位置と下降した位
置との間で移動させ、また内部アクチュエータ１０１を
支えている。内部アクチュエータ１０１はパススルーカ
セット９４を上下させる。従・り゛Ｃ１Ｃ３Ｉクデュエ
ータ１００が上部ガラス鐘９５　ｉｋ降下させつ・りあ
る時６；は、内部アクチュエータ１０１およびパススル
−カセット９４全体もまた下降し・つつある。

外部アクチュエータ１００は本質的Ｃ二は空気圧シリン
ダおよびピストン配置である。エンドキャップ１０３お
よび１０４を含むシリンダ１０２はピストン１０５ヲ含
む。エンドキャップ１０６および１０４のそれぞれの空
気入口１０６および１０７は、ピストン１０５す動かす
のに必要なピストン１０５４：対する差圧を与える空気
制御システムζ：結合されている。

更に、エンドキャップ１０３および１０４に固定されて
おりその上をピストン１０５が滑る案内ビン１０８はピ
ストン１０５とシリンダ１０２との間の心のずれを回避
する役目をする。エンドキャップ１０３に取付けられ′
Ｃいるストップ１０９はピストン１０５が下方へ動くの
を制限する役目をする。外部スリーブ１１０はピストン
１０５に固定され“Ｃいて、スリーブ１１０がエンドキ
ャップ１０５および１０４ｆ：通過する所でそれぞれ０
リング１１１および１１２４：、よって封止されている
。外部スリーブ１１０はブロック１１３およびカラー１
１４（＝よ・りで上部ガラス鐘９５　に機械的に結合さ
れ゛【いる。従って空気入口１０７１二おける空気圧が
空気入口１０６６二おける空気圧より大である場合６二
は、ピストン１０５は外部スリーブ１１０および上部ガ
ラス鐘９３を運んで下方へ移動する。同様に、空気入口
１０６（＝おける圧力が空気入口１０７１：おける圧力
より大である場合−二は、ピストン１０５は外部スリー
ブ１１０および上部ガラス鐘９３を運んで上方へ移動す
る。内部アクテユエ−タ１０１は外部スリーブ１１０内
におい゛〔運ばれるので、その動きもピストン１０５の
動きに従う。

内部アクチュエータ１０１はモータ１１５．親ねじ１１
６、ナツト１１７およびスライダ１１８　、１１９およ
び１２０を含む。モータ１１５は親ねじ１１６　Ｉｋ回
転させ、この親ねじ１１６は線運動をナラ）　１１７　
を二与える。ナツト１１７はスライダ１１８１．機械的
ζ二結合されており、スライダ１１８はスライダ１１９
お工び１２０に結合されている。従って、親ねじ１１６
の回転運動はスライダ１１８　、１１９および１２００
線運動に変えられる。スライダ１２０はパススルーカセ
ット１二機械的（；結合されている。スライダ１１８，
１１９および１２０は外部スリーブ１１０内Ｃ二おいて
運ばれる内部スリーブ１２１内をスライドする。内部ス
リーブ１２１は外部スリーブ１１０と一緒Ｃ二動く。上
述した配置６二よりモータ１１５はワエノ１の輸送１；
必要なようにパススルーカセット９４の位置を正確＆：
きめることができる。

外部アクチュエータ１００および内部アクチュエータ１
０１は上部ガラス鐘９６およびパススルーカセット９４
６二必、要な運動を与えるが、必要な真空封止は密封装
置１２５ζ二よって与えられる。密封装置１２５は主と
し”〔下部の板１２６．カラー１２７およびダイアフラ
ム１２８および１２９な含む。図から明らかなように、
下部の板１２６は筐体６′５および隔壁６１ヲ介し゛Ｃ
真空輸送システムー二密着している。

カラー１２７はその一端が下部の板１２６に密着し、そ
のもう一方の端が外部スリーブ１１０に密着している。

ダイアフラム１２８はその外縁が下部の板１２６とカラ
ー１２７との間長；捕えられＣいる。ダイアプラム１２
８はその内縁がブロック１１′５とカラー１１４の間に
捕えられ°〔いる。従つ°〔、ダイアフラム１２８は上
部ガラス鐘９３を動かす装置を真空密封する。ダイアフ
ラム１２９はその外縁がカラー１１４と内部スリーブ１
２１０間゛に捕えられている。

ダイアフラム１２９はその内縁がスライダ１１９とスラ
イダ１２００間ζ：捕えられている。従・つ°【ダイア
フラム１２９ハパススルー力セツＩ−９４ｔ’１ｊｌｌ
ｌカを装置４Ｉ：真空密封する。空気入口１３０および
ブリード穴１５１は、ダイアフラム１２８および１２９
の上側（二価かな正圧を与えてそれらの形を保つのに用
いられる。

第８図Ａおよび第８図Ｂはそれぞれパススルーカセット
９４の底面図および側面図である。パススルーカセット
９４を以前のワエへカセットから区別する王な特徴は、
パススルーカセット９４ハ垂直方向に動くワエハ輸送機
構楓二接近できなければならないという点である。即ち
、ウェハをエレベータ上のカセットからパススルーカセ
ット９４へ転送するスパチユラは一方向に動作し、真空
輸送システムははソ垂直の方向に動作する。このため（
ニクエハはパススルーカセット９４の四隅からのみ支え
られる必要が生じる。この目的のために、カセット９４
のウェハ運搬段はその各々がアーム１６６を保持する四
隅の柱１５５４Ｉ：含む。アーム１６６は隅柱１３５か
らカセット９４の中心の方向Ｃ二延びている。アーム１
６６はその内側の端の方に向つ・〔段がつけられてい゛
〔カセット９４内のウェハの心が太き（ずれないようＣ
二なっている。各隅柱１６５はその上の隅柱も；結合さ
れており、最終的ζ二はねじ又はその他の適当な手段に
よって上板（ｔｏｐ　ｐ／！ａｔａ）ｉ５７ｃ結合され
ている。この方法ｉ；よりパススルーカセット９４を簡
単な部品で容易Ｃ二組立て、柱１３５およびアーム１３
６の別の層を加えるだけで所望するだけの多数のウェハ
を運ぶことができる。

勿論ロードロック内で利用できる余地によりカセット９
４の大きさの上限が決められる。

第９図はヘッドが１つのウェハ処理機械として構成した
場合の真空輸送ン゛ステムの分解斜視図である。真空輸
送システム１７は３つの主要成分からなる。第１に格納
槽１４０は主要な真空格納容器としＣの役目をする。第
２に、磁気で駆動される輸送システム１４１はウェハを
パススルーカセット９４からデャツク蕃二運ぶ役目をす
る。最後５二、チャック組立体１４２はウェハを輸送シ
ステム１４１から除去しそれらのクエへを処理される位
置（二まで持ちあげる役目をする。更（二、チャック組
立体１４１の一部はプラズマ処理室の下部電極とし゛〔
の役目をする。

格納容器１４０は主として箱１４５および上部板１４６
す含む。箱１４５はその両端に隔９１４７に有し、両端
Ｉ：おい・Ｃ機械の構成要素酸二結合しＣいる。例えは
、ヘッドが１つの構成においては、一番左の隔壁１４７
は四−ドロック１６の隔壁６１に結合され、一番右の隔
壁１４７は密封板１４８によつ°〔封止される。箱１４
５はまた輸送システム１４１０粒子発生部分なりエムか
ら隔離する役目をするバッフル（ｂａｆｆ／ａｍ）１４
９Ｊｋ含む。

ワエハ輸送システム１４１は同じ運動を確実６；行うよ
うにするためζニ一般に機械的（二結合されている１対
の駆動モータ１５０１箱１４５内でバッフル１４９の後
ろＣ二ある１対のレール２７．ルーＡ／２７１：ｌ−乗
っている１対のスライダ１５２．およびスライダ１５２
じ取付けられたシャトル板２５乞含む。第９図から明ら
かなようシニ、レール２７の各々ハ太イレールと細いレ
ールとからなる。しかし、細いレールはシステムの機械
的剛性（ｍａｅｈａｎｉｃａｔｒｉｇｉｄｎｅ＋ｕ　）
を改善する役目をするにすぎず、それ以上の目的のため
６二は無視し°Ｃもよい。下記の第１０図の説明６二よ
り更６二明らか弧二なるように、モータ１５０は外側の
箱１４５１＝取付けられている。シャトル板２５は、パ
ススルーカセット９４内（二人−ってそこからクエへに
運ぶ１対のメイン３０を保持し′Ｃいる。

チャック組立体１４２はデュアルモーションの機械的フ
ィードスルー１５５．取付ベル１５６およびチャック２
８４ｇ：含む。下記の第１１図の説明により明らかにな
るように、デュアルモーションの機械的フィードスルー
１５５はロード四ツク１６に用いられているフィードス
ルー６２とは為同じである。

この同一性は製造原価な大幅Ｃ二低下させ、在庫とし・
〔保有しなければならない部品の数を減少させる。取付
ベル１５６は箱１４５の底−二取付けられており、チャ
ック２８は箱１４５の中≦装置かれている。

ビン１５７ハテユアルモーシヨンフイードスルー１５５
≦二よってチャック２８の上部表面より高い位置（二ま
で上げることもできるし、その表面より低い位置にまで
下げることもできる。タイン３０Ｉ；よって運ばれるク
エハはビン１５７の上（二置かれるが、それ゛らのビン
はチャック２８の表面より下（二さげられる。次嘔ニビ
ン１５７は上方へあげられてクエハをタイン３０から持
ちあげる。ビン１５７はタイン５０が取り除かれた後６
二一般に下げられて、クエへがチャック２８の上部表面
上感二載っていることができるようにする。この時点で
チャック２８はデュアルモーションフィードスルー１５
５によ・りて持ちあげられて上部仮１４６と密着し、ワ
エへなプラズマ処理室内幅二人れる。全工程が逆に行っ
てクエハを処理室から除去する。勿論多数のヘッドのあ
る構成におい゛〔は、ワエハは処理後メイン６０によっ
て持ち上げ上れず１二、隣接するシャトル板からｌ）［
１４ｂのなか１；達するメインによ・りＣ持ち上げられ
る。

第９図Ａはタイン６０とビン１５７との間のワエハ輸送
機構４Ｉ：更に容易に示す第９図の装置の部分断面図で
ある。第９図Ａの平面はＶヤトル板２５の運動方向−二
対し゛Ｃ直角をなしている。メイン５０はシーＶ　）ル
板２５よりや為低くなっており、ビン１５７によってタ
イン５０から持ち上げられたワエハ１５４がタイン６０
とシャトル板２５との間を過通できるような方法でそこ
かゆ支えられている。換ｔすると、ワエハ１５４がビン
１５７の上Ｃ二叉えられている時６：シヤトル板２５お
よびタイン３０はツエへ１５４の周りを通る。この機構
によ・つてワエハ転送を行うのに必要なシャトル板２５
の水平運動量が最小となる。

第１０図は磁気駆動システム１４１の一部分の詳細な断
面図である。壁１５８は箱１４５の端壁である。

管１５９は一般的には輸送システムの太い方のレールの
うちの１本を含むステンレススプール管である。両方の
太いレールはこの型のものである。管１５９ハ壁１５８
において密封されてい゛Ｃ真空システムの保全状態を保
・りている。従つ°Ｃ管１５９の内部は真空Ｖステムζ
；支障を与えずに大気亀；対して開くことができる。親
ねじ１６０は管１５９と同軸であり、一端（二おい°〔
軸受け１６１に取付けられ“Ｃおり、もう一方の端−二
滑車を有し°Ｃいてそれをモータ１５０の１つ１；結合
させ°Ｃいる。１対の案内ワイヤ１６３が管１５９の内
側に親ねじ１６０の傍に固定され７ている。ナツト１６
４は親ねじ１６０によ・り°ＣＣ励動れ、案内ワイヤ１
６３によって案内される。１対のトロイダル磁石１６５
がナツト１６４によって運ばれる。磁石１６５はナツト
１６７Ｆの両端に配置され゛〔いる。スライダ１５２は
管１５９の外側口乗つ′（おり、即ち真空システムの内
側Ｃ二あり、トロイダル磁石１６６を運ぶ。磁石１６５
および１６６の磁界は、磁石１６６が磁石１６５の間の
はソ中央にとどまるように配置されている。従って親ね
じ１６０が管１５９の長さに沿って１６４を動かすＣ二
つれて、スライダ１５２が管１５９の外側ｄ二沿−りて
移動する。この配置によ−りて超動機構の主要な粒子生
産部分を真空格納容器システムの外側ζ二装置すること
ができる。またこの配ｔｌ二よりサービスを容易にする
ためにモータ１５０を真空格納容器の外側に配置するこ
とができる。

＄１１図はデュアルモーションフィードスルー１５５お
よびチャック２８の詳細な側面図である。

比較してみると明らかなように、フィードスルー１５５
は第７図のフィードスルー６２とはソ同じである。同一
部品を職別するために第１１図と第７図には同じ参照叡
字が用いられている。簡単Ｉ：云うと、外部アクチュエ
ータ１００はエンドキャップ１０３および１０４および
ピストン１０５を有する空気圧シリンダ１０２す含む。

空気人口１Ｄ６および１０７は空気圧制御線をアクチュ
エータ１００１＝結Ｃいる。ピストン１０５１：１−１
ａ械的≦二結合されている外部スリーブ１１０はそれが
エンドキャップ１０３を通過する個所でそれぞれ０リン
グ１１１および１１２弧二よ・りて密封されている。案
内ビン１０８はピストン１０５がシリンダ１０２内でコ
ツキング（ｏｏｃｋｉｎｇ）　Ｌないようζ二する役目
をする。デュアルモーションフィードスルーのこの実施
例（二おい°Ｃは、ピストン１０５の運動を制限するス
トップはない（第７図のストップ１０９す参照）。外部
スリーブ１１０はプルツク１３１およびカラー１６８を
介し゛ＣＣギヤク２８に結合されている。従ってピスト
ン１０５の運動はチャック１２８の運動区二変えられる
。

内部アクチュエータ１０１はモータ１１５，親ねじ１１
６、ナツト１１７およびスライダｉｉａ　、　１１９お
よび１６９を含む。スライダ１６９は板１７２４に：介
してビン１５７１：結合されている。スライダ１１８　
、　１１９および１６９は外側スリーブ１１０ととも（
二運ばれる内部スリーブ内をスライドする。従ってモー
タ１１５ζ二よって駆動される親ねじ１１６の回転運動
はビンの垂直運動に変えられる。上述したようにビン１
５７はクエへをシャトル板２５のタイン３０およびチャ
ック２８へ、またそれらから転送する役目をする。

真空密封装置１２５はカラー１２７，密封ベル１５６の
一部である底Ｖｉ１７０，外部ダイアフラム１２８１内
部ダイアフラム１２９，空気入口１３０およびブリード
穴１５１す含む。外部ダイアフラム１２８および内部ダ
イアフラム１２９はそれぞれ外部アクチュエータ運動１
００および内部アクチュエータ１０１のため１；真空封
止を行う役目をする。空気入口１３０およびブリード穴
１６１はそれぞれダイアフラム１２８および１２９の背
後の正圧な維持する役目をする。

密封ベル１５６の一部であるストップ１７１はチャック
２Ｂは下方への運動を制限し、それによりその完全（二
降下した位置を正確嘔二決める役目をする。

これはシャトル板とビンの間でクエへの転送な行うのに
必要である。

真空封止カップリング１７３はチャック２８　に必要な
ＲＦ／（ワー（ｐｏｗ＠ｒ）　’ｒ：与える。この側面
図では見えない同じような１セツトの真空封止カップラ
がチャック２８に冷却水な与える。

一連の０リング１７４　、　１７５および１７６はチャ
ック装置１４２４二必要な封止を行う。０リング１７４
は密封ベル１５６と真空格納箱１４５との間の封止な行
う。０リング１７５はチャック２８が完全に上昇した位
置にある時にチャック２８と真空格納容器１４０の上部
板１５６との間の封止を行う。ｏリング１７６はチャッ
ク２８の電極部分１７７と第１１図には示され°Ｃいな
いプラズマ反応装置の底との間の封止を行う。これは下
記（；第１２図および第１６図に関連し°Ｃ更亀；詳細
に説明され”Ｃいる。チャックλの電極部分１７７はそ
の周囲の複数のボルト１７８によ・りてチャック２８媚
二固定されている。このことは電極部分１７７の互換性
を可能（ニジ、システムの残りの部分を大幅に変えるこ
となしに特定の工程にとつ°Ｃチャック装置１４２４Ｉ
：より良く構成するととができる、 第１２図はチャック２８．真空格納容器１４０の上部板
１４６およびプラズマ室１８００間の封止配置の１実施
例を示す簡易断面図である。密封弁１５６およヒテュア
ルモーションフイートスル−１５５）！、ｔヤツク装置
が通る真空格納ｆｉ　１４５の底のアパーチャ媚二必要
な封止を行う。ＯＩＪソング７５はチャック２８が完全
６二上昇した位置にある時にチャック２８と上部板１４
６０間の封止を行う。Ｏリング１７６はチャック２８と
反応装置１８０の底板１８２の間の封止を行う。０リン
グ１８１は底板１８２と上部板１４６０間の封止な行う
。反応装置１８０の側壁部分１８６をチャック２８の電
極部分から電気的（二絶縁するために、底板１８２は一
般響二セラミック又はその他の絶縁材料でできている。

チャック２８が第１２図に示すようＣ二完全に上昇した
位置にある時ｄ二はプラズマ反応装置１８０は真空輸送
システムの真空を乱さずに役に立つために上部板１４６
から除去できる。このために真空輸送システムを空気で
汚染することなしに反応装［１８０に対するチービス、
チャック２８の電極部分１７７の交換および同様な措置
をとることができる。０リング１７６はプラズマ反応装
置１８０内の反応性ガスが処理中に真空輸送システム内
に引き込まれるのを防ぐのに必要である。０リング１８
１はワエハを輸送するため６ニテヤツク２８が下げられ
た時にシステム全体の真空を保・りのに必要である。

第１５図は第１２図に関連して説明したサービス密封配
置の代わりの実施例の尺度を拡大した断面図である。こ
の場合（二は、０リング１７５およびそれな保持するの
ζ二必要な段（５ｔｏｐ　）はチャック２８から取り除
かれている。上部板１４６内Ｃ二保持されている膨張式
Ｖ−ル（ｉｎｆムｔａｂｌＡｓｅａｔ）　ｉ８は仮１４
６とチャック２８との間の必要な封止を与える。０リン
グ１７６および１８１および電極１７７は第１２図Ｃ二
示したものとはソ同じである。チービス密封配置のこの
代わりの実施例の主要な目的は、チャック２８の総体的
直径を維持する一方でより大きな電極を備えることであ
る。

喘←ｆ呻づか明−ｅ−＊→１の１１様４←呻記−一番。

【図面の簡単な説明】

第１図は、モジュールフェノ１処理機械の斜視図である
。 第２図は、第１図嘔二示したような機械酸二用いるため
のワエハ輸送システムの簡易平曲図である。 第６図Ａ−第３図Ｈは、第１図および第２図（二示した
ような機械（二おけるワエハ輸送方法を示す一連の概略
図である。 第４図は、′＄１図に示したような機械酸二用いるため
の機械状態力ワンタの概略図である。 第５図は、第１図舊二示したような機械Ｃ二用いるため
のエレベータおよびロードロックシステムの分解斜視図
である。 第６図Ａおよび第６図Ｂは、それぞれ第１図区＝示した
ような機械１：用いるためのカセットエレベータの平面
図および側面図である。 第７図は、′ｓ４１図に示したような機械に用いるため
のロードロック装置の断面図である。 第８図Ａおよび第８図Ｂは、それぞれ第７図Ｃ示したロ
ードロック装置４二用いるためのパススルーカセットの
平面図および側面図である。 第９図は、＄−１図（＝示したような機械の真空輸送部
分の分解斜視図である。 Ｍ９図Ａは、′Ｉｓ９図の真空輸送システムの部分断面
図である。 第１０図は、第９図ｄ二示したような真空輸送Ｖステム
に用いるための磁気駆動装置の断面図である。 第１１図は、第９図ζ：示したような真空輸送システム
に用いるための組合せられたクエへ段および反応装置電
極の断面図である。 第１２図は、第１図（二示したような機械に用いるため
の夛−ビスシール配置の簡易断面図である。 第１６図は、代わりのサービスシール配置の拡大した簡
易断面図である。 特許出願人　チーガル・コーポレーション代理人　弁理
士玉蟲久五部 Ｆ’Ｉに：、　１ ７７″Ｇ、　２ Ｆ’ｌに、４ Ｆ’ｌＧ：！、５ 〆９４ ７７″に！、８１） ＦＩ６．９Ａ Ｆ’ｌＧ、　１０

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　ワエへ処理機械（：おいて、 多重クエへカセットを保持するよう５二連合したカセッ
   ト台と、 キャリヤ板とを含み、前記カセット台は枢軸的４：前記
   キャリヤ板に回転するように結合されており、 前記キャリヤ板！＝結合されて前記キャリヤ板およびカ
   セット台を垂直（二位置決めし、前記カセット台が完全
   に上昇した位置Ｃ二ある時ｌ：は前記カセット台の下を
   スパチュラが通過できるよう４二配置された駆動手段と
   を含む カセットエレベータ。 ２、　カセット台がその完、全（二上昇した位置にある
   時鑑二は前記カセット台を後方ベニ傾斜させ、前記カセ
   ット台が降下した位置Ｃ二ある時には前記カセット台を
   はソ水平の方向Ｃ二復元する手段を更Ｃ：含む特許請求
   の範囲第１項（二よるカセットエレベータ。 ３、駆動手段を多重クエハカセットからはソ隔離するカ
   バ一手段と、 キャリヤ板Ｃ：よ・りて保持されたピボットピンと、そ
   の前縁Ｃ：おいて前記ピボットビン番：よって回転する
   よう痕：保持され、前記カセット台を保持する台キ￥リ
   ヤと、 前記カバ一手段上に保持されたカムと、前記台キャリヤ
   上区二保持されたカムフォロアとを更Ｃ：具え、 前記カムおよびカムフォロアは、前記ピボットビンの周
   りに前記台キャリヤを回転させ、それ（二よって前記カ
   セット台がその完全（＝上昇した位置６二移動すると前
   記カセット台を後方へ傾斜させるよう（二装置され°Ｃ
   いる前記特許請求の範囲第２項６：よるカセットエレベ
   ータ。