JPS601304B2 - 新規光学活性アミン誘導体 - Google Patents
新規光学活性アミン誘導体Info
- Publication number
- JPS601304B2 JPS601304B2 JP19932282A JP19932282A JPS601304B2 JP S601304 B2 JPS601304 B2 JP S601304B2 JP 19932282 A JP19932282 A JP 19932282A JP 19932282 A JP19932282 A JP 19932282A JP S601304 B2 JPS601304 B2 JP S601304B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optically active
- reaction
- amine derivative
- group
- active amine
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規光学活性環状アミン誘導体に関する。
さらに詳しくは、本発明は医薬上および化学合成上有用
な光学活性アルコール類の不斉合成の原料として有用な
一般式〔式中、nは3の整数を、Rはシクロアルキル基
またはアリール基を示す〕で表わされる新規な光学活性
環状アミン誘導体に関する。
な光学活性アルコール類の不斉合成の原料として有用な
一般式〔式中、nは3の整数を、Rはシクロアルキル基
またはアリール基を示す〕で表わされる新規な光学活性
環状アミン誘導体に関する。
上記一般式(1)において、nは3の整数を示す。
Rで示されるシクロアルキル基としては、炭素数5〜7
程度のシクロアルキル基(例:シクロベンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル基)が好ましい。アリール基
としては、たとえばフェニル基、ナフチル基、トリール
基、キシリル基などがあげられる。これらのシクロアル
キル基、アリール基は、光学活性アルコール類を合成す
る反応に支障のない限り適宜の置換基(例:アルコキシ
、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミ
ノ、置換アミノ、ハイドロキシ、メルカプト基など)を
有していてもよい。本発明の環状アミン誘導体(1)は
、たとえば下記の合成経路またはこれに準じた方法によ
って製造することができる。
程度のシクロアルキル基(例:シクロベンチル、シクロ
ヘキシル、シクロヘプチル基)が好ましい。アリール基
としては、たとえばフェニル基、ナフチル基、トリール
基、キシリル基などがあげられる。これらのシクロアル
キル基、アリール基は、光学活性アルコール類を合成す
る反応に支障のない限り適宜の置換基(例:アルコキシ
、アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオ、アミ
ノ、置換アミノ、ハイドロキシ、メルカプト基など)を
有していてもよい。本発明の環状アミン誘導体(1)は
、たとえば下記の合成経路またはこれに準じた方法によ
って製造することができる。
〔各式中、nおよびRは前記と同意義。
〕上言己反応に用いられる光学活性アミノカルボン酸は
合成品のDL一体を公知の分割方法により分割して用い
てもよく、また容易に入手できる天然の光学活性環状ア
ミノ酸(例:L−プロリンなど)を用いてもよい。
合成品のDL一体を公知の分割方法により分割して用い
てもよく、また容易に入手できる天然の光学活性環状ア
ミノ酸(例:L−プロリンなど)を用いてもよい。
この新規光学活性環状アミン誘導体(1)は、医薬(た
とえばステロイド類など)上または化学合成上重要な光
学活性アルコール類を高収率で不斉合成するための反応
試薬(合成原料)として極めて有用である。
とえばステロイド類など)上または化学合成上重要な光
学活性アルコール類を高収率で不斉合成するための反応
試薬(合成原料)として極めて有用である。
また誘導体(1)は不斉合成の反応工程中においてもラ
セミ化せず、高収率で回収、再利用することが出来るの
で工業的、経済的見地からも非常に有利である。本発明
の光学活性環状アミン誘導体(1)は、たとえばこれと
金属ハイドライドを反応させて生成する複合体により、
一般式〔式中、RIおよびR2は互に異って、アルキル
基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基
を示すか、或いは、RIおよびR2が結合した非対称的
環状構造を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。
セミ化せず、高収率で回収、再利用することが出来るの
で工業的、経済的見地からも非常に有利である。本発明
の光学活性環状アミン誘導体(1)は、たとえばこれと
金属ハイドライドを反応させて生成する複合体により、
一般式〔式中、RIおよびR2は互に異って、アルキル
基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基
を示すか、或いは、RIおよびR2が結合した非対称的
環状構造を示し、Xは酸素原子または硫黄原子を示す。
〕で表わされる化合物を還元させて一般式〔〔式中、R
1,R2および×は前記と同意義〕で表わされる光学活
性アルコール類を製造することができる。
1,R2および×は前記と同意義〕で表わされる光学活
性アルコール類を製造することができる。
上記一股式(0)および(m)において、RIまたはR
2で示されるアルキル基としては直鎖状または分枝状の
炭素数1〜22程度のアルキル基(例:メチル、エチル
、nープロピル、i−プロピル、n−ブチル、iーブチ
ル、t−ブチル、2ーエチルブチル、n−へキシル、オ
クチルドデシル、オクタデシル基など)が好ましい。ア
ラルキル基およびアリール基としてはそれぞれ前記Rと
同様の基があげられる。またRIおよびR2が結合した
非対称環状構造としては、たとえば2−メチルシクロベ
ンタノン、2−メチルシクロヘキサノン、tranS−
8ーデカロン、Q−テトラロン、ケトステロィド(例:
プレグナンジオン、プレドニゾロンなど)があげられる
。これらのアルキル基、アラルキル基、アリール基およ
び非対称環状構造は、前記Rにおける場合と同機の反応
に支障のない置換基を有してもよい。環状アミン誘導体
(1)と金属ハイドラィドとの反応は、適当な溶媒(例
:エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグ
ライム、メタノール、エタノールなど)中で氷冷下また
は還流下に行なうのが好都合である。
2で示されるアルキル基としては直鎖状または分枝状の
炭素数1〜22程度のアルキル基(例:メチル、エチル
、nープロピル、i−プロピル、n−ブチル、iーブチ
ル、t−ブチル、2ーエチルブチル、n−へキシル、オ
クチルドデシル、オクタデシル基など)が好ましい。ア
ラルキル基およびアリール基としてはそれぞれ前記Rと
同様の基があげられる。またRIおよびR2が結合した
非対称環状構造としては、たとえば2−メチルシクロベ
ンタノン、2−メチルシクロヘキサノン、tranS−
8ーデカロン、Q−テトラロン、ケトステロィド(例:
プレグナンジオン、プレドニゾロンなど)があげられる
。これらのアルキル基、アラルキル基、アリール基およ
び非対称環状構造は、前記Rにおける場合と同機の反応
に支障のない置換基を有してもよい。環状アミン誘導体
(1)と金属ハイドラィドとの反応は、適当な溶媒(例
:エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグ
ライム、メタノール、エタノールなど)中で氷冷下また
は還流下に行なうのが好都合である。
用いられる金属ハイドライドとしては、たとえばLiA
I比,KB比,NaB日4などがあげられ、使用量は化
合物(1)モル量に対して約0.5〜2.5モル量程度
が好ましい。上記の反応により下記一般式(W)の複合
体が形成される。〔式中、nおよびRは前記と同意義。
I比,KB比,NaB日4などがあげられ、使用量は化
合物(1)モル量に対して約0.5〜2.5モル量程度
が好ましい。上記の反応により下記一般式(W)の複合
体が形成される。〔式中、nおよびRは前記と同意義。
MおよびAは使用される金属ハイドラィドーこ従って、
通常Mはアルカリ金属原子を、Aはアルミニウム原子ま
たはホウ素原子を示す。〕この様にして生成する複合体
(W)は反応溶媒2中から単離することなく直接に、ま
たは単離後適宜の溶媒中で一般式(0)の化合物を還元
するために使用することが出来る。
通常Mはアルカリ金属原子を、Aはアルミニウム原子ま
たはホウ素原子を示す。〕この様にして生成する複合体
(W)は反応溶媒2中から単離することなく直接に、ま
たは単離後適宜の溶媒中で一般式(0)の化合物を還元
するために使用することが出来る。
化合物(ロ)と複合物(W)との反応は、通常(0)1
モル量に対して(W)約0.5〜1.0モル量程度を反
応温度約一803〜1000C程度で、約10分間〜1
加持間程度反応させ*ることによって行なわれる。本反
応に依り化合物(ロ)は不斉合成的に還元されて、原料
化合物(1)の光学異性に応じた光学活性アルコール類
(m)を極めて良好な反応収率並びに光学収率で製造す
ることができる。生成する光学活性アルコ−ル類(m)
は通常の分離精製手段、たとえば再結晶、蒸留、溶媒抽
出、カラムクロマトグラフィーなどにより反応混合物か
ら容易に単離精製することができる。
モル量に対して(W)約0.5〜1.0モル量程度を反
応温度約一803〜1000C程度で、約10分間〜1
加持間程度反応させ*ることによって行なわれる。本反
応に依り化合物(ロ)は不斉合成的に還元されて、原料
化合物(1)の光学異性に応じた光学活性アルコール類
(m)を極めて良好な反応収率並びに光学収率で製造す
ることができる。生成する光学活性アルコ−ル類(m)
は通常の分離精製手段、たとえば再結晶、蒸留、溶媒抽
出、カラムクロマトグラフィーなどにより反応混合物か
ら容易に単離精製することができる。
実施例 1Lープロリンアニリド5.71gを15の【
のメチレンクロリド‘こ溶解し、この溶液を、LjAI
伍2.雌を60の‘の乾燥エーテルに溶解した溶液に、
損梓下−20qoで滴下する。
のメチレンクロリド‘こ溶解し、この溶液を、LjAI
伍2.雌を60の‘の乾燥エーテルに溶解した溶液に、
損梓下−20qoで滴下する。
全量滴下後、一20ooに30分間燈群放置し、さらに
徐々に昇溢し、室温に戻して一夜放置する。反応混合物
を冷却し、飽和食塩水を鷹梓下滴下した反応を停止した
後、有機層を分取する。残澄はメチレンクロリドで抽出
し、有機層とあわせて、ボゥ硝で乾燥、濃縮し減圧蒸留
すると4.8礎の目的物2ーフェニルアミノメチルピロ
リジンが得られた。沸点(0.55側Hg)111〜1
1が0〔Q〕客+19.70(C=1.00‐Et〇H
)実施例 2実施例1と同様にして光学活性2−モノ置
換ァミノメチルピロリジン(1)を下表の通り得た。
徐々に昇溢し、室温に戻して一夜放置する。反応混合物
を冷却し、飽和食塩水を鷹梓下滴下した反応を停止した
後、有機層を分取する。残澄はメチレンクロリドで抽出
し、有機層とあわせて、ボゥ硝で乾燥、濃縮し減圧蒸留
すると4.8礎の目的物2ーフェニルアミノメチルピロ
リジンが得られた。沸点(0.55側Hg)111〜1
1が0〔Q〕客+19.70(C=1.00‐Et〇H
)実施例 2実施例1と同様にして光学活性2−モノ置
換ァミノメチルピロリジン(1)を下表の通り得た。
a)2600(Phはフェニル基を、Meはメチル基を
、Etはエチル基を、Prはプロピル基を示す。
、Etはエチル基を、Prはプロピル基を示す。
ただしRが日,n−C6日,3およびi−Prの例は参
考である。)参考例 1 LiAI比のエーテル溶液(1.02M/Z)2.26
汎‘にアルゴン雰囲気中、2ーフェニルアミノメチルピ
ロリジンのエーテル溶液(4総雌/6の‘)を加え、室
温擬梓下、1ひげ間放置する。
考である。)参考例 1 LiAI比のエーテル溶液(1.02M/Z)2.26
汎‘にアルゴン雰囲気中、2ーフェニルアミノメチルピ
ロリジンのエーテル溶液(4総雌/6の‘)を加え、室
温擬梓下、1ひげ間放置する。
この反応混合物を−7が0に冷却し、アセトフェノンの
エーテル溶液(214.8の9/8の‘)を滴下し、一
78℃で2時間縄拝する。飽和硫酸ナトリウム水を加え
て反応を停止し有機層を分取し、残澄はさらに10の‘
のエーテルで抽出する。有機層と抽出液をあわせて、0
.州の塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、ボゥ硝で乾燥す
る。溶媒を留去し、残総をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー(展開溶媒:メチレンクロリド)で分離精製する
と146.6の9の目的物、1ーフェニルェタノールが
得られた。沸点(3柳Hg)120qo(ovente
mp.)〔Q〕背 −32.60 (neat)参考例
2 LiNH4のエーテル溶液(95雌/4.95机)にア
ルゴン雰囲気中、2−フェニルアミノメチルピロリジン
のエーテル溶液(528柵/3の‘)を滴下し、0℃で
1時間燈梓放置する。
エーテル溶液(214.8の9/8の‘)を滴下し、一
78℃で2時間縄拝する。飽和硫酸ナトリウム水を加え
て反応を停止し有機層を分取し、残澄はさらに10の‘
のエーテルで抽出する。有機層と抽出液をあわせて、0
.州の塩酸、水、飽和食塩水で洗浄し、ボゥ硝で乾燥す
る。溶媒を留去し、残総をシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー(展開溶媒:メチレンクロリド)で分離精製する
と146.6の9の目的物、1ーフェニルェタノールが
得られた。沸点(3柳Hg)120qo(ovente
mp.)〔Q〕背 −32.60 (neat)参考例
2 LiNH4のエーテル溶液(95雌/4.95机)にア
ルゴン雰囲気中、2−フェニルアミノメチルピロリジン
のエーテル溶液(528柵/3の‘)を滴下し、0℃で
1時間燈梓放置する。
この反応混合物を一100℃に冷却し、1−アセチルシ
クロヘキセンのエーテル溶液(126の9/3の‘)を
滴下し、一100ooで3時間櫨拝する。水を加えて反
応を停止し、有機層を分取し、残澄はさらにエーテルで
抽出し、有機層と抽出液を併せて、希塩酸、重曹水、飽
和食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥する。溶媒を留去し、
残溝をシリカゲルカラムクロマトグラフイーでエーテル
/n−へキサン=1:1を流出溶媒として分離精製する
と90のpの目的物、1−(1ーシクロヘキセニル)エ
タノールが得られた。〔Q〕各‐5−5‐5(C5‐8
6,CH2CI2)参考例 3参考例1と同様にして、
2ーフェニルアミノメチルピロリジン2hM,LiAI
凡1.75hM、を用いて各種ケトン式(ロ)lmMを
還元し、対応する光学活性アルコール〔式(m)〕を下
表の通り得た。
クロヘキセンのエーテル溶液(126の9/3の‘)を
滴下し、一100ooで3時間櫨拝する。水を加えて反
応を停止し、有機層を分取し、残澄はさらにエーテルで
抽出し、有機層と抽出液を併せて、希塩酸、重曹水、飽
和食塩水で洗浄し、ボウ硝で乾燥する。溶媒を留去し、
残溝をシリカゲルカラムクロマトグラフイーでエーテル
/n−へキサン=1:1を流出溶媒として分離精製する
と90のpの目的物、1−(1ーシクロヘキセニル)エ
タノールが得られた。〔Q〕各‐5−5‐5(C5‐8
6,CH2CI2)参考例 3参考例1と同様にして、
2ーフェニルアミノメチルピロリジン2hM,LiAI
凡1.75hM、を用いて各種ケトン式(ロ)lmMを
還元し、対応する光学活性アルコール〔式(m)〕を下
表の通り得た。
(Phはフェニル基を、Etはニチル基を示す)参考例
4実施例2によって製造した光学活性2−モノ置換ァ
ミノメチルピロリジン、式(1)を用いて、アセトフェ
ノンを還元し、光学活性1−フェニルェタノールを下表
の通り得た。
4実施例2によって製造した光学活性2−モノ置換ァ
ミノメチルピロリジン、式(1)を用いて、アセトフェ
ノンを還元し、光学活性1−フェニルェタノールを下表
の通り得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは3を、Rはシクロアルキル基またはアリ
ール基を示す〕で表わされる光学活性環状アミン誘導体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19932282A JPS601304B2 (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 新規光学活性アミン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19932282A JPS601304B2 (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 新規光学活性アミン誘導体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7263077A Division JPS5910647B2 (ja) | 1977-06-17 | 1977-06-17 | 光学活性アルコ−ル類の不斉合成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58103360A JPS58103360A (ja) | 1983-06-20 |
JPS601304B2 true JPS601304B2 (ja) | 1985-01-14 |
Family
ID=16405864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19932282A Expired JPS601304B2 (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 新規光学活性アミン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS601304B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6415504U (ja) * | 1987-07-14 | 1989-01-26 |
-
1982
- 1982-11-12 JP JP19932282A patent/JPS601304B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6415504U (ja) * | 1987-07-14 | 1989-01-26 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58103360A (ja) | 1983-06-20 |
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