JPS60106335U - プラズマcvd装置 - Google Patents

プラズマcvd装置

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Publication number
JPS60106335U
JPS60106335U JP20023083U JP20023083U JPS60106335U JP S60106335 U JPS60106335 U JP S60106335U JP 20023083 U JP20023083 U JP 20023083U JP 20023083 U JP20023083 U JP 20023083U JP S60106335 U JPS60106335 U JP S60106335U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compartment
discharge chamber
plasma discharge
plasma cvd
plasma
Prior art date
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Pending
Application number
JP20023083U
Other languages
English (en)
Inventor
川上 伸男
Original Assignee
株式会社島津製作所
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Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社島津製作所 filed Critical 株式会社島津製作所
Priority to JP20023083U priority Critical patent/JPS60106335U/ja
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  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図面は本考案のプラズマCVD装置の一実施例を概略的
に示す断面図である。 1・・・減圧容器、2,12・・・パイプ、3・・・供
給パイプ、4・・・電極、6・・・区画容器、6F・・
・フランジ部、6B・・・区画容器底部、7・・・0リ
ング、8・・・基板、9・・・高周波電源、10・・・
蓋、11・・・赤外線ヒータ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. プラズマ放電室に原料ガスを連続的に供給しプラズマC
    VD反応を生じさせ、加熱された基板上に成膜させるC
    VD装置において、前記プラズマ放電室に面しかつプラ
    ズマ放電室と区画された区画室を設けるとともに、この
    区画室内を加熱する加熱手段と、前記区画室内を真空に
    排気する排気手段とを設け、前記区画室のプラズマ放電
    室面に付設された基板を前記加熱手段により輻射加熱す
    るようにしたことを特徴とするプラズマCVD装置。
JP20023083U 1983-12-24 1983-12-24 プラズマcvd装置 Pending JPS60106335U (ja)

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JP20023083U JPS60106335U (ja) 1983-12-24 1983-12-24 プラズマcvd装置

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JP20023083U JPS60106335U (ja) 1983-12-24 1983-12-24 プラズマcvd装置

Publications (1)

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JPS60106335U true JPS60106335U (ja) 1985-07-19

Family

ID=30760884

Family Applications (1)

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JP20023083U Pending JPS60106335U (ja) 1983-12-24 1983-12-24 プラズマcvd装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63213672A (ja) * 1987-01-15 1988-09-06 バリアン・アソシエイツ・インコーポレイテッド 急速加熱cvd装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56161832A (en) * 1980-05-10 1981-12-12 Sony Corp Gaseous phase treatment device
JPS5810818A (ja) * 1981-07-14 1983-01-21 Shimadzu Corp プラズマcvd装置

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