JPS5950971B2 - curable composition - Google Patents

curable composition

Info

Publication number
JPS5950971B2
JPS5950971B2 JP53100996A JP10099678A JPS5950971B2 JP S5950971 B2 JPS5950971 B2 JP S5950971B2 JP 53100996 A JP53100996 A JP 53100996A JP 10099678 A JP10099678 A JP 10099678A JP S5950971 B2 JPS5950971 B2 JP S5950971B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
composition
weight
amount
thiol
composition according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53100996A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5463903A (en
Inventor
ポ−ル・リチヤ−ド・ヘイン
マイケル・ダブリユ−・ヤング
ロバ−ト・エイ・ア−ヴイン
ジエ−ムス・エイ・エヴアンス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WR Grace and Co
Original Assignee
WR Grace and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US05/827,002 external-priority patent/US4179531A/en
Priority claimed from US05/871,931 external-priority patent/US4234676A/en
Application filed by WR Grace and Co filed Critical WR Grace and Co
Publication of JPS5463903A publication Critical patent/JPS5463903A/en
Publication of JPS5950971B2 publication Critical patent/JPS5950971B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F291/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
    • C08F291/18Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to irradiated or oxidised macromolecules
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/36Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
    • C08K5/37Thiols
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/0275Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with dithiol or polysulfide compounds

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、硬化性組成物、とくに適当な硬化剤を使用す
ることにより硬化を調節できる硬化性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to curable compositions, particularly curable compositions whose curing can be controlled by the use of suitable curing agents.

印刷版は感光剤を存在で化学線の作用により橋.かけか
つ不溶化するエチレン性不飽和化合物を硬化することに
よつて製作できることは知られている。
Printing plates contain photosensitizers and are cross-linked by the action of actinic radiation. It is known that they can be produced by curing ethylenically unsaturated compounds which are dried and insolubilized.

このような組成物を室温で化学線の作用化に印刷版を形
成するとき、化合物中の重合性二重結合の付加重合は空
気によつて抑制される。この抑j制は非常に薄い液状フ
イルムを表面上に存在させて粘着性とする。結局、感光
性表面における酸素を不活性ガスで置換し、酸素を吸収
または不活性とする化学添加剤で表面を処理するか、あ
るいは文字通り酸素を燃焼し去る非常に強い光源を使用
4することが、一般に望ましいと考えられている。本発
明の主目的は、次のことを実質的に満足するレリーフ印
刷版の製造用液状または固体の光源化性組成物を提供す
ることである:1.空気の存在下でさえ、組成物の像方
法の暴露は粘着性ではない表面を与え、これによつてレ
リーフ像を形成する橋かけ領域の継続処理の必要性また
は酸素の不存在下の暴露を行うための高価な装置の必要
性を排除すること。
When such a composition is formed into a printing plate under the action of actinic radiation at room temperature, addition polymerization of the polymerizable double bonds in the compound is inhibited by the air. This suppression causes a very thin liquid film to be present on the surface, making it sticky. Eventually, it is possible to replace the oxygen at the photosensitive surface with an inert gas, treat the surface with chemical additives that absorb or inert the oxygen, or use very intense light sources that literally burn off the oxygen4. , is generally considered desirable. The main object of the present invention is to provide a liquid or solid illuminable composition for producing relief printing plates that substantially satisfies the following:1. Imagewise exposure of the composition, even in the presence of air, gives a surface that is not tacky, thereby eliminating the need for continued processing of the crosslinked areas to form a relief image or exposure in the absence of oxygen. Eliminating the need for expensive equipment to perform.

2.必要な組成物の暴露時間はできるだけ短かくて、新
聞工業において要求されるような仕上げ印刷版の製作の
ためのサイクル時間を短縮できること。
2. The exposure time of the composition required is as short as possible, reducing cycle times for the production of finished printing plates as required in the newspaper industry.

本発明の支持体上へ被膜を形成する組成物、方法および
印刷版を形成する方法は、本質的に非粘着性の表面を形
成する。
The compositions, methods of forming coatings on supports and methods of forming printing plates of the present invention form essentially non-tacky surfaces.

本発明によれば、(1)組成物の約10〜約97重量%
の、モノアルケニル芳香族ジエン共重合体、ブタジエン
重合体、門 アクリロニトリル樹脂およびそれらの混合
物から選ばれるC−C不飽和重合体樹脂、C−C飽和重
合体結合剤またはそれらの混合物;(2)材料(1)の
少なくとも約1重量%の少なくとも1つの橋かけ可能な
不飽和結合を有する少なくとも1種のモノマー;および
(3)材料(1)の約0.1〜約35重量%のチオール
、からなり、チオールの濃度は好ましくはチオールを含
有しない同じ組成物に関して組成物の酸化性質を有意に
変化させないように選ぶ、組成物が提供される。
According to the invention, (1) about 10 to about 97% by weight of the composition;
(2) a C-C unsaturated polymeric resin selected from monoalkenyl aromatic diene copolymers, butadiene polymers, acrylonitrile resins and mixtures thereof, a C-C saturated polymeric binder or mixtures thereof; at least about 1% by weight of material (1) at least one monomer having at least one crosslinkable unsaturated bond; and (3) from about 0.1 to about 35% by weight of material (1) thiol; A composition is provided, wherein the concentration of thiol is preferably chosen so as not to significantly change the oxidative properties of the composition with respect to the same composition without thiol.

この組成物は放射線硬化した組成物がチオールを省略し
たとき、粘着性の表面をもつようなものであり、すなわ
ち、十分な量のチオールが組成物中に存在して表面上の
粘着性を実質的に減少するか、または非粘着性の表面を
形成する。好ましくはモノマーは少なくとも2つの橋か
け可能なC−C二重結合を含有する;それは1分子当り
2以上のアクリレートまたはメタクリレート基を含有す
る付加重合可能なエチレン性不飽和アクリルまたはメタ
クリル酸エステルであることができ、そして一般に材料
1の少なくとも5重量%または10重量%、とくに樹脂
がモノアルケニル芳香族ジエンであるとき、たとえば5
〜60重量%の量で存在し、そしてある態様においてい
つそう好ましくは15〜30重量%であるが、樹脂がハ
ロゲン置換ブタジエン樹脂であるとき10重量%以下で
ある。
This composition is such that the radiation-cured composition has a tacky surface when the thiol is omitted, i.e., a sufficient amount of thiol is present in the composition to substantially eliminate tackiness on the surface. or create a non-stick surface. Preferably the monomer contains at least two crosslinkable C-C double bonds; it is an addition polymerizable ethylenically unsaturated acrylic or methacrylic ester containing two or more acrylate or methacrylate groups per molecule. and generally at least 5% or 10% by weight of material 1, especially when the resin is a monoalkenyl aromatic diene, e.g.
Present in an amount of ˜60% by weight, and in some embodiments more preferably from 15 to 30% by weight, but not more than 10% by weight when the resin is a halogen-substituted butadiene resin.

チオールは好ましくはポリチオールであり、そして好ま
しくは材料1の0.1〜10重量%、たとえば0.5〜
10重量%の量で存在する。C−C飽和重合体バインダ
ーまたはC−C不飽和重合体樹脂(材料(1))は、適
当には材料(1)の10〜80重量%、一般に少なくと
も20重量%、好ましくは少なくとも約40重量%、い
つそう好ましくは少なくとも約60重量%、ことに樹脂
がポリエンであるとき、たとえば40〜60重量%、ま
たは、とくにハロゲン置換ブタジエン樹脂のとき、少な
くとも80重量%である。
The thiol is preferably a polythiol and preferably comprises from 0.1 to 10% by weight of material 1, such as from 0.5 to 10% by weight of material 1.
Present in an amount of 10% by weight. The C-C saturated polymeric binder or C-C unsaturated polymeric resin (Material (1)) suitably comprises 10 to 80% by weight of Material (1), generally at least 20%, preferably at least about 40% by weight. %, so preferably at least about 60% by weight, especially when the resin is a polyene, such as from 40 to 60% by weight, or especially when a halogen-substituted butadiene resin, at least 80% by weight.

材料(1)は95%以下、いつそう好ましくは50〜9
0%の量で存在する。
Material (1) is less than 95%, preferably 50-9
Present in an amount of 0%.

ノ本発明は、また、支持体の表面上へ、モノマーが放
射線橋かけ性である、本発明の組成物の層を施こすこと
からなる、支持体上へ被膜を形成する方法を提供する。
The present invention also provides a method of forming a coating on a support, comprising applying onto the surface of the support a layer of the composition of the invention, in which the monomer is radiation crosslinkable.

施こした後、組成物を化学線または高エネルギーイオン
化輻射またはそれらの組.み合わせに暴露する。好まし
くは光開始剤は、組成物の材料(1)の約0.01〜約
10重量%、いつそう好ましくは0.2〜 5重量%の
量で含有される。
After application, the composition is exposed to actinic radiation or high energy ionizing radiation or combinations thereof. Exposure at random. Preferably the photoinitiator is contained in an amount of about 0.01 to about 10%, most preferably 0.2 to 5% by weight of the material (1) of the composition.

被膜を形成するこの方法は、印刷版の製造に使用でき、
この場合この方.法は像を支持する透明体を通して投射
された化学線に被膜を暴露し、これによつてその選定部
分を硬化することからなる。次の説明は主として印刷版
の製造に関するものである。C−C不飽和重合体樹脂〔
成分(1)〕は、モノア.ルケニル芳香族ジエン共重合
体、ブタジエン重合体、アクリロニトリル樹脂およびそ
れらの混合物である。
This method of forming a coating can be used in the production of printing plates,
In this case, this person. The method consists of exposing the coating to actinic radiation projected through an image-bearing transparency, thereby curing selected portions thereof. The following description relates primarily to the production of printing plates. C-C unsaturated polymer resin [
Component (1)] is monoa. alkenyl aromatic diene copolymers, butadiene polymers, acrylonitrile resins and mixtures thereof.

樹脂は一般に高分子構造をもち、そして平均分子量が少
なくとも約5,000であるポリエンである。好ましい
モノアルケニル芳香族−ジエン共重合体樹脂は一般式:
A− B −Aをもち、式中Aは同一であるかまたは異
なることができ、平均分子量が2000〜100,00
0であり、かつガラス転移温度が25℃以上であるモノ
アルケニル芳香族重合体プロツクであり、合計のプロツ
クAの含量は共重合体の10〜50重量%であり、そし
てBは平均分子量が25,000〜1,000,000
であり、かつガラス転移温度が10℃以下であるエラス
トマージニン重合体プロツクである。これらの末端プロ
ツク (A)は典型的には一般式:をもつモノアルケニ
ル芳香族化合物から誘導され、式中Xは水素または炭素
数1または2のアルキル基(メ.チルまたはエチル)で
あり;Yは水素または炭素数1〜4のアルキル基(メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル
、Sec−ブチルまたはTert−ブチル)であり;そ
してnは1〜5の整数である。
The resin is generally a polyene having a polymeric structure and an average molecular weight of at least about 5,000. Preferred monoalkenyl aromatic-diene copolymer resins have the general formula:
A-B-A, where A can be the same or different, and have an average molecular weight of 2000 to 100,00
0 and a glass transition temperature of 25°C or higher, the total content of Block A is 10 to 50% by weight of the copolymer, and B has an average molecular weight of 25°C. ,000~1,000,000
It is an elastomerginin polymer block having a glass transition temperature of 10° C. or less. These terminal blocks (A) are typically derived from monoalkenyl aromatic compounds having the general formula: where X is hydrogen or a C1 or C2 alkyl group (methyl or ethyl); Y is hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, Sec-butyl or tert-butyl); and n is an integer of 1 to 5.

例は、スチレン、α−メチルスチレン、Tert−ブチ
ルスチレン、ビニルトルエン、o−およびm−メチルス
チレン、o−およびP−メチル−α−メチルスチレン、
およびo−およびP−エチルスチレンである。弾性プロ
ツク(B)は好ましくは一般式:をもつ共役ジエン炭化
水素化合物から誘導されたジエン重合体プロツクであり
、式中各Rは個々に水素または炭素数1または2のアル
キル基(メチルまたはエチル)である。
Examples are styrene, α-methylstyrene, tert-butylstyrene, vinyltoluene, o- and m-methylstyrene, o- and P-methyl-α-methylstyrene,
and o- and P-ethylstyrene. The elastic block (B) is preferably a diene polymer block derived from a conjugated diene hydrocarbon compound having the general formula: where each R is individually hydrogen or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms (methyl or ethyl). ).

例は1,3−ブタジエンおよび2−メチル−1,3−ブ
タジエンである。有用なこのようなモノアルケニル芳香
族プロツク共重合体は米国特許第3,265,765号
に記載されている。
Examples are 1,3-butadiene and 2-methyl-1,3-butadiene. Useful such monoalkenyl aromatic block copolymers are described in US Pat. No. 3,265,765.

別の一般に好ましさに劣るモノアルケニル芳香族ジエン
共重合体樹脂は一般式:A−B をもち、式中AおよびBは上に定義したとおりである。
Another generally less preferred monoalkenyl aromatic diene copolymer resin has the general formula: A-B, where A and B are as defined above.

これは鋭いまたは不明確な、すなわち「流れる」転移を
、ジエンー炭化水素またはスチレン−モノマーからのみ
形成された共重合体の2つのプロツクセグメントの間に
有することができる。この2プロツク共重合体は一般に
5 〜70重量%、好ましくは10〜40重量%のスチ
レン型単位を含有し、結局30〜95重量%、好ましく
は60〜90重量%の重合したジエン炭化水素の末端単
位を含有する。このような2プロツク共重合体は、たと
えば、米国特許第3,149,182号、LRunty
.J.POlymerSci.工(1961)、569
−586およびY.U.SpirinetalJ.PO
lymerSci.58(1962)1181−118
9に記載されているようにして製造できる。
This can have a sharp or undefined or "flowing" transition between two block segments of a copolymer formed solely from diene-hydrocarbon or styrene-monomers. The two-block copolymers generally contain 5 to 70% by weight, preferably 10 to 40%, of styrenic type units, resulting in 30 to 95%, preferably 60 to 90%, of polymerized diene hydrocarbons. Contains terminal units. Such two-block copolymers are described, for example, in U.S. Pat. No. 3,149,182, LRunty
.. J. POlymerSci. Engineering (1961), 569
-586 and Y. U. Spirinetal J. P.O.
lymerSci. 58 (1962) 1181-118
It can be manufactured as described in 9.

共重合体は連続的にまたは不連続的に製造できる。鋭く
分離したプロツクセグメントを有する共重合体を段階的
重合によつて製造するとき、定量的に優位を占めるモノ
マーの重合から開始することが有利である。有利には2
−プロツク共重合体は溶液重合によつて製造する;適当
な溶媒はとくに炭化水素類またはそれらの混合物、これ
らが好ましく、ならびにテトラヒドロフランのような極
性溶媒である。溶媒の種類は2プロツク共重合体の微細
構造、たとえば、ジエン重合体セグメントの形状に影響
を及ぼす。溶液重合によつて製造されたプロツタ共重合
体の溶液を直接にまたは濃縮した状態で使用すること、
そして光橋かけ性層を注形により製造するため他の被覆
用構成分を加えることはとくに有利である。示した型の
適当な2プロツク共重合体は、トルリエン中の0.5重
量%の溶液として測定して、ほぼ60〜350m1/g
、とくに90〜250m1/gの粘度数をもち、これは
ほぼ75,000〜200,000の分子量範囲Mυに
相当する。
Copolymers can be produced continuously or discontinuously. When producing copolymers with sharply separated block segments by stepwise polymerization, it is advantageous to start with the polymerization of monomers that predominate quantitatively. Advantageously 2
-Protect copolymers are prepared by solution polymerization; suitable solvents are in particular hydrocarbons or mixtures thereof, which are preferred, as well as polar solvents such as tetrahydrofuran. The type of solvent affects the microstructure of the two-block copolymer, such as the shape of the diene polymer segments. using a solution of a PROTSTA copolymer produced by solution polymerization directly or in a concentrated state;
It is then particularly advantageous to add other coating components to produce the photocrosslinkable layer by casting. Suitable 2-block copolymers of the type shown have approximately 60 to 350 ml/g, measured as a 0.5% by weight solution in toluene.
, in particular a viscosity number of 90 to 250 m1/g, which corresponds approximately to a molecular weight range Mυ of 75,000 to 200,000.

好ましいブタジエン樹脂は、ブタジエン、いつ2そう好
ましくは1,3−ブタジエン型のハロゲン置換ブタジエ
ン、最も好ましくは2−クロロ−1,3−ブタジエン、
2−フルオロ−1,8−ブタジエンおよび2,3−ジク
ロロ−1,3−ブタジエンから誘導される。
Preferred butadiene resins include butadiene, most preferably halogen-substituted butadiene of the 1,3-butadiene type, most preferably 2-chloro-1,3-butadiene,
Derived from 2-fluoro-1,8-butadiene and 2,3-dichloro-1,3-butadiene.

最も好ましくは2−タロSロー1,3−ブタジエン(ク
ロロブレン)である。好ましいアクリロニトリル樹脂は
ブタジエンとアクリロニトリルとの共重合体であり、こ
こでアクリロニトリルは共重合体の重量の一般には22
〜532%を構成する。
Most preferred is 2-taloS-rho-1,3-butadiene (chlorobrene). A preferred acrylonitrile resin is a copolymer of butadiene and acrylonitrile, where the acrylonitrile is generally 22% by weight of the copolymer.
~532%.

成分(1)のC−C飽和重合体のバインダーは、たとえ
ば、ポリビニルピロリドン、セルロースアセテートブチ
レートまたはセルロースアセテートスタンネートである
ことができる。
The C-C saturated polymeric binder of component (1) can be, for example, polyvinylpyrrolidone, cellulose acetate butyrate or cellulose acetate stannate.

これらのバイン4ダ一および/またはこのようなバイン
ダーの混合物を使用することもでき、好ましくはそれら
の高分子構造は平均分子量が少なくとも約5,000で
ある。C−C不飽和重合体樹脂およびC−C飽和バイン
ダーの混合物を使用することも当然可能である。
These binders and/or mixtures of such binders may also be used, and preferably their polymeric structures have an average molecular weight of at least about 5,000. It is of course also possible to use mixtures of C--C unsaturated polymer resins and C--C saturated binders.

ある特別な用途に対して、少量の他の相溶性重合体と特
定のエラストマーを成分(1)と組み合わせることがで
きる。成分(2)は非ガス状付加重合性エチレン性不飽
和化合物であり、一般に大気圧において100℃以上の
沸点、約100〜1500の分子量をもち、高分子量の
付加重合体を容易に形成できる。
For certain special applications, component (1) can be combined with small amounts of other compatible polymers and certain elastomers. Component (2) is a non-gaseous addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, which generally has a boiling point of 100° C. or more at atmospheric pressure and a molecular weight of about 100 to 1,500, and can easily form a high-molecular-weight addition polymer.

好ましくは付加重合は付加重合開始剤の存在下の光開始
付加重合である。すぐれた印刷版製品に対して、モノマ
ーは好ましくは1分子当り2以上のアクリレートまたは
メタクリレート基を含有する付加光重合性ポリエチレン
性不飽和アクリルまたはメタタリル酸エステルまたはこ
れらの混合物である。このような多官能性アクリレート
の例はエチレングリコールジアクリレート、エチレング
リコールジメタクリレート、トリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラ−アクリレートま
たはペンタエリスリトールーテトラメタクリレート、ヘ
キサンジオール−1,6−ジメタクリレート、およびジ
エチレン−グリコールジメタクリレートである。ある特
別の場合に有用なものはモノアクリレート、たとえば、
n−ブチル−アクリレート、nブチル−メタクリレート
、2−エチルヘキシル−アクリレート、ラウリル−アク
リレートおよび2ヒドロキシプロピル−アクリレートで
ある。
Preferably the addition polymerization is a photoinitiated addition polymerization in the presence of an addition initiator. For superior printing plate products, the monomers are preferably addition photopolymerizable polyethylenically unsaturated acrylic or methacrylate esters or mixtures thereof containing two or more acrylate or methacrylate groups per molecule. Examples of such polyfunctional acrylates are ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetra-acrylate or pentaerythritol-tetramethacrylate, hexanediol-1,6 - dimethacrylate, and diethylene glycol dimethacrylate. Those that are useful in certain special cases are monoacrylates, e.g.
n-butyl-acrylate, n-butyl-methacrylate, 2-ethylhexyl-acrylate, lauryl-acrylate and 2-hydroxypropyl-acrylate.

少量の(メタ)アクリル酸のアミド、たとえばNメチロ
ールメタクリルアミドーブチルーエーテルも適当である
。N−ビニル−化合物、たとえば、N−ビニル−ピロリ
ドン、脂肪族モノカルボン酸のビニルエステル、たとえ
ば、オレイン酸ビニル、ジオールのビニルエステル、た
とえば、ブタンジオール−1,4−ビニルエーテルおよ
びアリルエーテルおよび゛アリルエステルも適当で゛あ
る。有機ポリイソシアネートのイソシアネート遊離反応
生成物、たとえば、ヘキサメチレン−ジイソシアネート
、イソホロンージイソシアネートまたはトリレンージイ
ソシアネートとヒドロキシル基含有(メタ)アクリレー
ト、たとえば、グリコールモノアクリレート、ヒドロキ
シプロピルメタクリレートまたは1,4−ブタンジオー
ルーモノアクリレートとの反応生成物は、これらが樹脂
と適度に相溶性であるかぎり、また適当である。同じこ
とがジ一またはポリエポキシド、たとえば、ブタン−ジ
オール−1,4−ジグリシジル−エーテルまたはビスフ
エノール一A−ジグリシジルーニーテルと (メタ)ア
クリル酸との反応生成物に当てはまる。光重合性層の特
性は、特定の目的に対してモノマーまたはそれらの混合
物を適当に選ぶことによつて変えることができる。チオ
ール(成分3))は好ましくはポリチオールであり、こ
れは平均1分子当り複数の側基のまたは末端の−SH官
能基をもつ簡単なまたは複雑な有機化合物である。
Small amounts of amides of (meth)acrylic acid, such as N-methylol methacrylamide butyl ether, are also suitable. N-vinyl compounds, such as N-vinyl-pyrrolidone, vinyl esters of aliphatic monocarboxylic acids, such as vinyl oleate, vinyl esters of diols, such as butanediol-1,4-vinyl ether and allyl ether and allyl Esters are also suitable. Isocyanate-liberating reaction products of organic polyisocyanates, such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate or tolylene diisocyanate, with (meth)acrylates containing hydroxyl groups, such as glycol monoacrylate, hydroxypropyl methacrylate or 1,4-butanediol-diisocyanate. Reaction products with monoacrylates are also suitable as long as they are reasonably compatible with the resin. The same applies to the reaction products of di- or polyepoxides, such as butane-diol-1,4-diglycidyl-ether or bisphenol-A-diglycidyl-niter, with (meth)acrylic acid. The properties of the photopolymerizable layer can be varied by appropriate selection of monomers or mixtures thereof for the particular purpose. The thiol (component 3)) is preferably a polythiol, which is a simple or complex organic compound with an average of several pendant or terminal --SH functions per molecule.

それらは、ブルツクフイールト粘度計で測定して、70
℃においてoより多少大から約20ミリオンセンチボア
ズ(Cps)までの粘度範囲を通常もつ。ここで使用す
る「ポリチオール」には、反応性可塑剤、たとえば、ジ
アリルフタレートの存在で70℃において前記の粘度範
囲にはいる粘度をもつ材料が包含される。適当なポリチ
オールは約95〜約20,000以上、好ましくは約1
00〜約10,000の分子量を有する。粘着性をもた
ない表面を与える好ましいポリチオールは一般式:R6
−←SH)nによつて例示され、式中nは少なくとも2
であり、そしてR8は「反応性の」炭素対炭素不飽和を
含まない多価の有機部分である。すなわち、R。は環式
基と少量の異種原子、たとえば、N、S,.PまたはO
を含有できるが、主として「反応性の」炭素対炭素不飽
和を含まない炭素−水素、炭素−酸素またはケイ素−酸
素含有鎖結合を含有する。本質的ににおいのない硬化し
たポリチオール被膜とレリーフ像を提供するポリチオー
ルの1つのクラスは、一般式:HS−R9−COOHの
チオール含有酸と一般構造:R,。
They are 70
It typically has a viscosity ranging from slightly greater than o to about 20 million centiboads (Cps) at °C. As used herein, "polythiol" includes materials having viscosities in the above viscosity range at 70°C in the presence of reactive plasticizers, such as diallyl phthalate. Suitable polythiols have polythiols ranging from about 95 to about 20,000 or more, preferably about 1
00 to about 10,000. A preferred polythiol that provides a non-tacky surface has the general formula: R6
−←SH)n, where n is at least 2
and R8 is a polyvalent organic moiety that does not contain "reactive" carbon-to-carbon unsaturation. That is, R. is a cyclic group and a small amount of foreign atoms, e.g., N, S, . P or O
but primarily contain carbon-hydrogen, carbon-oxygen, or silicon-oxygen-containing chain linkages without "reactive" carbon-to-carbon unsaturation. One class of polythiols that provides cured polythiol coatings and relief images that are essentially odorless include thiol-containing acids of the general formula: HS-R9-COOH and the general structure: R,.

=(−0H)nのポリヒドロキシ化合物とのエステルで
あり、式中R,は「反応性の」炭素対炭素不飽和を含ま
ない有機部分であり、R,。は「反応性の」炭素対炭素
不飽和を含まない有機部分であり、そしてnは2以上で
ある。これらの成分は適当な条件下で反応して一般構造
:を有するポリチオールを与える。
=(-0H)n with a polyhydroxy compound, where R, is an organic moiety free of "reactive" carbon-to-carbon unsaturation, and R,. is an organic moiety that does not contain "reactive" carbon-to-carbon unsaturation, and n is 2 or more. These components react under appropriate conditions to provide a polythiol having the general structure:

ある種のチオール、たとえば、脂肪族モノマーのポリチ
オール(たとえば、エタンジチオール、ヘキサメチレン
ジチオーノレ、デカメチレンジチオールおよびトリレン
一2,4−ジチオール)およびいくつかの重合体のポリ
チオール、たとえば、チオール末端エチルシクロヘキシ
ルジメルカブタン重合体は、商業的規模で便利にかつ通
常合成され、いやなにおいをもつが、使用することもで
きる。
Certain thiols, such as aliphatic monomeric polythiols (e.g. ethanedithiol, hexamethylene dithiol, decamethylene dithiol and tolylene-2,4-dithiol) and some polymeric polythiols, e.g. thiol-terminated ethyl Cyclohexyl dimerkabutane polymers are conveniently and commonly synthesized on a commercial scale and can also be used, although they have an unpleasant odor.

においが比較的少なくかつ硬化速度がはやいため好まし
いポリチオール化合物の列は、チオグリコール酸(HS
−CH2−COOH)、α−メルカプトプロピオン酸(
HS−CH(CH3)−COOH)およびβ−メルカプ
トプロピオン酸(HS一CH。
A preferred series of polythiol compounds due to their relatively low odor and rapid curing rate is thioglycolic acid (HS
-CH2-COOH), α-mercaptopropionic acid (
HS-CH(CH3)-COOH) and β-mercaptopropionic acid (HS-CH.

CH。COOH)とポリヒドロキシ化合物、たとえば、
グリコール、トリオール、テトラオール、ペンタオール
およびへキサオールのエステルである。特定の列は次の
とおりである:エチレングリコールビス(チオグリコレ
ート)、エチレングリコールビス (β−メルカプトプ
ロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(チオ
グリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキズ(チ
オグリコレート)および最も好ましいペンタエリスリト
ールテトラキズ (β−メノレカプトプロピオネート)
およびトリメチロールプロパントリス (β−メルカプ
トプロピオネート)、およびそれらの混合物:これらの
すべては商業的に入手できる。モノチオール、たとえば
、β−メルカプトプカピオン酸をある場合に使用できる
。モノチオールは粘着性を有意に減少するが、一般に粘
着性を一般使用に望ましい程度に排除しない。本発明の
組成物は一般に硬化剤を使用して硬化され、硬化剤は調
節された。
CH. COOH) and polyhydroxy compounds, e.g.
Esters of glycols, triols, tetraols, pentaols and hexaols. The specific columns are: Ethylene Glycol Bis (Thioglycolate), Ethylene Glycol Bis (β-Mercaptopropionate), Trimethylol Propane Tris (Thioglycolate), Pentaerythritol Tetrakis (Thioglycolate) and the most preferred pentaerythritol tetrakis (β-menolecaptopropionate)
and trimethylolpropane tris (β-mercaptopropionate), and mixtures thereof: all of these are commercially available. Monothiols such as β-mercaptopcapionic acid can be used in some cases. Although monothiols significantly reduce tackiness, they generally do not eliminate tackiness to the extent desired for general use. The compositions of the present invention were generally cured using a curing agent, and the curing agent was controlled.

急速なかつ測定可能なまたは予測可能な硬化性能を促進
する。硬化剤は一般に遊離基発生剤として作用する。好
ましくは遊離基発生剤は、輻射、すなわち化学線または
高エネルギーのイオン化輻射による開始を含む。最も好
ましくは化学線は紫外線である。組成物は紫外線硬化に
おいてレリーフ像の形成、ことに印印表示の製造にとく
に有利に使用される。紫外線はl点源から、または平行
な光線の形で放射されることが好ましいが、発散ビーム
を使用することもできる。
Promotes rapid and measurable or predictable curing performance. Curing agents generally act as free radical generators. Preferably, the free radical generator includes initiation by radiation, ie actinic radiation or high energy ionizing radiation. Most preferably the actinic radiation is ultraviolet radiation. The compositions are used with particular advantage in UV curing for the formation of relief images, in particular for the production of indicia. Preferably, the ultraviolet radiation is emitted from a point source or in the form of parallel beams, but diverging beams can also be used.

実際には任意の高強度紫外線源、たとえば、炭素アーク
、水銀アーク、特別の紫外線放射リン光物質を有するけ
い光ランプ、キセノンアーク、太陽光、ハロゲン化タン
グステンランプ、アルゴン流ランプ、写真用フラットラ
ップおよびレーザー光線を使用できる。化学線を硬化に
使用するとき、光開始剤または.触媒を通常組成物に加
えて、反応速度を増加させ、光重合を開始する。
Practically any high-intensity UV source can be used, for example carbon arc, mercury arc, fluorescent lamps with special UV-emitting phosphors, xenon arc, sunlight, tungsten halide lamps, argon flow lamps, photographic flat wraps. and can use laser beams. When actinic radiation is used for curing, a photoinitiator or . A catalyst is typically added to the composition to increase the reaction rate and initiate photopolymerization.

好ましい触媒または開始剤は光硬化性組成物中で実質的
に安定であり、そして組成物を硬化させる急速重合の促
進に有効である。多くの適当な光重合開始剤または触媒
は、1米国特許第4008341に記載されており、こ
れについては言及するであろう。好ましい光開始剤は、
一o一基に直接に結合する少なくとも1つの芳香族核を
有するアルデヒドおよびケトンカルボニル1化合物であ
る。最も好ましい光開始剤はベンゾフエノンおよび2,
2−ジメトキシ−2−フエニルアセトフエノンである。
本発明の組成物は、前述の米国特許4008341号に
記載されているように、高いエネルギーのイオiン輻射
または衝撃によつても硬化できる。
Preferred catalysts or initiators are substantially stable in the photocurable composition and are effective in promoting rapid polymerization to cure the composition. A number of suitable photoinitiators or catalysts are described in 1 US Pat. No. 4,008,341, to which reference will be made. Preferred photoinitiators are
1 o Aldehyde and ketone carbonyl 1 compounds having at least one aromatic nucleus directly bonded to the 1 o group. The most preferred photoinitiators are benzophenone and 2,
2-dimethoxy-2-phenylacetophenone.
The compositions of the present invention can also be cured by high energy ionic radiation or bombardment, as described in the aforementioned US Pat. No. 4,008,341.

本発明の別の好ましい形において、低分子量の液体のゴ
ム状重合体を、たとえば、製造したレリーフ版の軟らか
さを増加するため、組成物中に混入する。
In another preferred form of the invention, low molecular weight liquid rubbery polymers are incorporated into the composition, for example to increase the softness of the relief plates produced.

適当な液状ゴム重合体は分子量が750〜43000で
あり、ブタジエンのホモポリマーおよび共重合体からな
り、共重合体は共重合体の少なくとも30重量%、さら
に好ましくは少なくとも60重量%のブタジエンと残部
のスチレンまたはアタリロニトリルを含有する。このよ
うな液状ゴム重合体の添加は全組成物の50重量%以下
、好ましくは0.1〜50重量%、さらに好ましくは5
〜30重量%を構成すべきである。 「液状」ゴム重合
体とは23℃以下で液体であることを意味する。本発明
の組成物は、添加剤、たとえば、酸化防止剤、禁止剤、
活性化剤、充てん剤、顔料、染料、静電防止剤、粘度変
性剤および可塑剤を、硬化性組成物100重量部当り一
般に500重量部まで、好ましくは0.0005〜30
0重量部の量で含有する。
Suitable liquid rubber polymers have a molecular weight of 750 to 43,000 and are comprised of homopolymers and copolymers of butadiene, where the copolymers contain at least 30% by weight of the copolymer, more preferably at least 60% by weight of butadiene and the balance. of styrene or atarylonitrile. The addition of such liquid rubber polymer is not more than 50% by weight of the total composition, preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 5% by weight.
It should constitute ~30% by weight. A "liquid" rubber polymer means that it is liquid at temperatures below 23°C. The compositions of the invention include additives such as antioxidants, inhibitors,
Activators, fillers, pigments, dyes, antistatic agents, viscosity modifiers and plasticizers are generally present up to 500 parts by weight, preferably from 0.0005 to 30 parts by weight, per 100 parts by weight of the curable composition.
It is contained in an amount of 0 parts by weight.

添加剤の種類または濃度は、好ましい態様において最終
組成物が暴露条件下で放射硬化性でかつ適当に使用でき
るように、注意して選定しなければならない。硬化期間
は、たとえば1分以下から、たとえば30日以上に遅延
または促進できる。
The type or concentration of additives must be carefully selected so that, in a preferred embodiment, the final composition is radiation curable under the exposure conditions and suitable for use. The curing period can be delayed or accelerated from, for example, 1 minute or less to, for example, 30 days or more.

成分または硬化性組成物を安定化して早期の硬化を防ぐ
ために使用できる、ふつうの硬化抑制剤または遅延剤の
Vl旧ま、ヒドロキノン;p−t−ブチノレカテコール
;2,6−ジ一t−ブチル−P−メチルフエノール;フ
エノチアジン;N−フエニル一2−ナフチルアミン;亜
リン酸およびピロガロールである。硬化反応速度をはや
めかつ使用可能な光波長の範囲を広げる、ふつうの反応
促進剤の例は、トリメチルホスフアイト、トリエチルホ
スフアイト、トリフエニルホスフアイト、ローズベンガ
ルおよびアセトンである。本発明の感光性組成物の各成
分の混合法は臨界的ではない。
Common cure inhibitors or retarders that can be used to stabilize components or curable compositions to prevent premature curing include hydroquinone; pt-butynolecatechol; 2,6-di-t- Butyl-P-methylphenol; phenothiazine; N-phenyl-2-naphthylamine; phosphorous acid and pyrogallol. Examples of common reaction accelerators which speed up the curing reaction rate and extend the range of usable light wavelengths are trimethylphosphite, triethylphosphite, triphenylphosphite, rose bengal and acetone. The method of mixing the components of the photosensitive composition of the present invention is not critical.

光重合性組成物の溶液および分散液は、溶媒、たとえば
、芳香族炭化水素、たとえば、ベンゼン、トルヱンおよ
びキシレン;塩素化炭化水素、たとえば、クロロホルム
、四塩化炭素、トリクロロエチレンおよびクロロトルエ
ン;ケトン、たとえば、メチルエチルケトン、ジエチル
ケトンおよびメチルイソブチルケトンおよびこのような
溶媒のブレンドを用いて調製できる。他方において、固
体混合物は、各成分をミルまたは内部ミキサー、たとえ
ばパンフリーミキサーで混合することによつてつくるこ
とができる。生じた重合性組成物は液体溶液、液体分散
液、または固体混合物の形であることができる。液体溶
液または液体分散液は、支持体上へ直接に注形でき、あ
るいは適当なホイールまたはベルト上にまず注形し、は
がし、次いで支持体表面上へ固定できる。固体混合物は
支持体上へ直接に、あるいは自己支持性シートとして押
出すかカレンダーし、次いで支持体表面へ固定できる。
印刷版を形成する便利な方法は、像を支持する、線また
はハーフトーンのステンシルまたはポジまたはネガの透
明体を、支持体へまたは支持体上の光吸収層へ固定され
た光硬化性組成物の表面に平行に置くことである。
Solutions and dispersions of photopolymerizable compositions may be prepared in solvents such as aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; chlorinated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride, trichloroethylene and chlorotoluene; ketones such as , methyl ethyl ketone, diethyl ketone and methyl isobutyl ketone and blends of such solvents. On the other hand, solid mixtures can be made by mixing the components in a mill or internal mixer, such as a pan-free mixer. The resulting polymerizable composition can be in the form of a liquid solution, liquid dispersion, or solid mixture. The liquid solution or liquid dispersion can be cast directly onto the support, or it can be first cast onto a suitable wheel or belt, peeled off and then fixed onto the support surface. The solid mixture can be extruded or calendered directly onto the support or as a self-supporting sheet and then fixed to the surface of the support.
A convenient method of forming a printing plate involves fixing an image-bearing line or halftone stencil or positive or negative transparency to a support or to a light-absorbing layer on a photocurable composition. parallel to the surface of the

像支持透明体と光硬化性組成物の表面は好ましくは接触
すべきである。像支持透明体と印刷版との光重合後の分
離を容易にするため、印刷版を「分離」層またはスリツ
プコートで被覆することが望ましい。適当な被膜はふつ
うのアクリルラテツクス被膜、シリコーングリースなど
である。光硬化性層は透明体を通して化学線源に、光硬
化性層が暴露領域において不溶性の段階にまで硬化する
まで、暴露する。このような方法における究極レリーフ
厚さは、光硬化性組成物の層の厚さおよび/または暴露
時間を変化させることによつて調節できる。現像はふつ
うの手段によつて実施できる。
The surfaces of the image-bearing transparency and the photocurable composition should preferably be in contact. To facilitate separation of the image-bearing transparency and printing plate after photopolymerization, it is desirable to coat the printing plate with a "separation" layer or slip coat. Suitable coatings include common acrylic latex coatings, silicone grease, and the like. The photocurable layer is exposed through the transparency to a source of actinic radiation until the photocurable layer is cured to the point that it is insoluble in the exposed areas. The ultimate relief thickness in such methods can be adjusted by varying the layer thickness and/or exposure time of the photocurable composition. Development can be carried out by conventional means.

一般に版の暴露後、未暴露領域を適当な手段によつて除
去する。適当な手段は、未暴露の放射線硬化性組成物に
対してはすぐれた溶媒作用をもち、そして硬化した光重
合像に対して、または支持体、ハレーシヨン防止被膜、
またはアンカー層に対して、重合しなかつた部分を除去
するのに要する期間において、比較的作用をほとんどお
よぼさない適当な液体を用いることである。未暴露の放
射線硬化性組成物のほとんどに対して適当な有機溶媒の
例は、脂肪族炭化水素、たとえば、ヘキサン、オクタン
、鉱油およびナフサ、芳香族溶媒、たとえば、トルエン
およびキシレン、ハロゲン化有機溶媒、たとえば、塩化
メチレン、トリクロロエタン、フレオンD(FreOn
D)など、およびこのような溶媒のブレンドである。使
用する最良の溶媒は、放射線硬化性組成物の正確な組成
に依存する。レリーフを形成する現像工程において、溶
媒は便利な方法、たとえば、注入、浸漬または吹付けに
よつて施こすことができる。ブラツシングまたはかきま
ぜは組成物の重合しなかつた部分の除.去を促進する。
超音波洗浄技術の使用は、レリーフ印刷版の重合しなか
つた領域の除去の便利な手段である。液体系の場合にお
いて、空気ナイフストリツピングを用いて、未暴露領域
を除去できる。本発明の好ましいレリーフ版は、好まし
くは柔軟な支持体へ接着した、典型的には2 〜200
ミル(0.051〜5.1mm)または250ミル(6
.35mm)の厚さの、光重合性組成物の層を用いて形
成する。
Generally, after exposure of the plate, the unexposed areas are removed by suitable means. Suitable means have good solvent action on the unexposed radiation-curable composition and on the cured photopolymerized image or on the support, antihalation coating,
Another option is to use a suitable liquid that has relatively little effect on the anchor layer during the period required to remove the unpolymerized portion. Examples of suitable organic solvents for most of the unexposed radiation curable compositions are aliphatic hydrocarbons such as hexane, octane, mineral oil and naphtha, aromatic solvents such as toluene and xylene, halogenated organic solvents. , for example, methylene chloride, trichloroethane, Freon D (FreOn
D), and blends of such solvents. The best solvent to use depends on the exact composition of the radiation curable composition. In the development step to form the relief, the solvent can be applied in any convenient manner, for example by pouring, dipping or spraying. Brushing or stirring removes the unpolymerized portion of the composition. Promote leaving.
The use of ultrasonic cleaning techniques is a convenient means of removing unpolymerized areas of relief printing plates. In the case of liquid systems, air knife stripping can be used to remove unexposed areas. Preferred relief plates of the present invention preferably have a 2 to 200
mil (0.051-5.1mm) or 250 mil (6
.. 35 mm) thick layer of the photopolymerizable composition.

3〜60ミル(0.076〜1.524mm)の厚さの
層は、レター.プレス印刷版のほとんどに対して使用す
る。
A layer of 3 to 60 mils (0.076 to 1.524 mm) thick can be used for letter. Used for most press printing plates.

50〜60ミル(1.27〜1.524mm)の厚さの
層は、レタープレス印刷版において比較的大きい面積お
よびデザインの印刷に使用できる。
Layers 50 to 60 mils (1.27 to 1.524 mm) thick can be used to print relatively large areas and designs in letterpress printing plates.

一般に、光硬化性層のレリーフ高さを形成する層は本質
的に非光散乱・性でなくてはならない。最終の感光性組
成物は十分な透明度をもつていて、付加重合を行なうの
に十分な量の光を通すことが重要である。印刷版の製作
において、暴露は光硬化性組成物を暴露された像領域に
おいて硬化させるのに十分であり、そして像でない領域
を有意に硬化してはならないことが重要である。
Generally, the layer forming the relief height of the photocurable layer must be essentially non-light scattering. It is important that the final photosensitive composition has sufficient transparency to transmit a sufficient amount of light to effect addition polymerization. In making printing plates, it is important that the exposure be sufficient to harden the photocurable composition in the exposed image areas and not significantly harden the non-image areas.

暴露時間および光の強度のほかに、暴露の程度は光硬化
性層の厚さ、硬化温度、使用する重合体、使用するモノ
マー、使用するチオール、光開始剤、希釈剤、光硬化性
組成物中の光吸収性顔料または染料の存在および再現す
べき層の特性に依存する。一般に、硬化すべき層が厚く
なればなるほど、暴露時間は長くなる。硬化は一般に光
源に最も近い光硬化性層の表面で開始し、支持体へ向か
つて進行する。暴露が不十分であると、層は表面でかた
く硬化するが、全体を通じた硬化に欠け、レリーフは未
暴露領域の除去のとき除去されるであろう。硬化速度は
温度が高くなれば通常増加するので、室温より高い温度
では暴露は少なくてすむ。したがつて、熱を放射する紫
外線源は、冷たい紫外線源よりいつそう効率がよい。し
かしながら、温度が高過ぎると光硬化性組成物が熱膨張
して像のゆがみを生ずることがあるので、光硬化中この
ような温度に到達させないように注意しなくてはならな
い。したがつて、光硬化は約20〜約70℃の範囲の温
度で実施することが好ましい。暴露時間に影響をおよぼ
す変数が多数存在するため、最適な結果は、たとえば各
暴露後の特性付けを用いる段階的暴露によつて、実験的
に最もよく決定される。支持体材料は、一般的に寸法安
定性かつ柔軟な、フイルムまたはシートの形で存在でき
る天然または合成の製品を実際に使用できる。
In addition to exposure time and light intensity, the degree of exposure depends on the thickness of the photocurable layer, the curing temperature, the polymer used, the monomer used, the thiol used, the photoinitiator, the diluent, and the photocurable composition. It depends on the presence of light-absorbing pigments or dyes therein and on the properties of the layer to be reproduced. Generally, the thicker the layer to be cured, the longer the exposure time. Curing generally begins at the surface of the photocurable layer closest to the light source and progresses toward the support. If the exposure is insufficient, the layer will harden hard at the surface but will lack hardening throughout and the relief will be removed upon removal of the unexposed areas. Cure rate typically increases with higher temperatures, so less exposure is required at temperatures above room temperature. Therefore, a UV source that emits heat is always more efficient than a cold UV source. However, if the temperature is too high, the photocurable composition may thermally expand and distort the image, so care must be taken not to reach such a temperature during photocuring. Therefore, photocuring is preferably carried out at a temperature in the range of about 20 to about 70<0>C. Because there are many variables that affect exposure time, optimal results are best determined experimentally, for example, by stepwise exposure using characterization after each exposure. The support material can actually be a natural or synthetic product, which is generally dimensionally stable and flexible and can be present in the form of a film or sheet.

シート状金属、たとえば、アルミニウムまたは鋼、また
はプラスチツク、たとえば、ポリエステルまたはポリア
ミドのフイルムを支持体として典型的に使用する。好ま
しい支持体はポリエステルフイルムである。このような
材料は、必要な場合、ハレーシヨン防止層の被覆によつ
て、非反射性とすることができる。適当なハレーシヨン
防止被膜は、樹脂または重合体の溶液または水性分散液
中に、化学線を実質的に吸収する微細な染料または顔料
を分散させることによつてつくることができる。ハレー
シヨン防止層は、支持体と感光性組成物との間で結合剤
または接着性層として作用するように配合することもで
きる。ハレーシヨン防止顔料の例は、カーボンブラツク
、二酸化マンガンおよび染料、たとえば、アシツド・ブ
ルー ・ブラツク(CI2O47O)およびアシツド・
マゼンタO(CI42685)である。染料含有金属版
はまた有用である。輪転機版を望む場合、支持体材料は
平担なレリーフ版を形成するのに使用でき、次いでこれ
を所望の形状に成形する。
Sheet metal, such as aluminum or steel, or plastic, such as polyester or polyamide films, are typically used as supports. A preferred support is polyester film. Such materials can be made non-reflective by coating with an antihalation layer, if desired. Suitable antihalation coatings can be made by dispersing finely divided dyes or pigments that substantially absorb actinic radiation in solutions or aqueous dispersions of resins or polymers. Antihalation layers can also be formulated to act as a binder or adhesive layer between the support and the photosensitive composition. Examples of antihalation pigments are carbon black, manganese dioxide and dyes such as acid blue black (CI2O47O) and acid blue black.
It is magenta O (CI42685). Dye-containing metal plates are also useful. If a rotary press plate is desired, the support material can be used to form a flat relief plate, which is then formed into the desired shape.

また、このような輪転機版は、硬化性組成物を支持する
種々の型の円筒形の支持体版を使用し、これを同心的に
配置された像支持透明体を通して化学線に直接に暴露す
ることによつて、操作できる。本発明において、チオー
ルは何らかの方法で組成物の他の構成成分の重合を調整
しかついつそう有効にする作用をするように思われる。
Additionally, such rotary press plates use various types of cylindrical support plates carrying a curable composition that is exposed directly to actinic radiation through a concentrically arranged image-supporting transparency. It can be operated by In the present invention, the thiol appears to act in some way to modulate and facilitate the polymerization of the other components of the composition.

樹脂がC−C不飽和であり、主要な特性ずけ反応として
モノマーと橋かけするとき、チオールは実際に酸素を締
出すスカベンジヤ一にほとんど似たように作用し、系の
他の基本的性質を変えない。C−C飽和バインダーは同
じ方法でチオール機能をもつが、それ自体橋かけして格
子を形成するのはモノマーであり、そしてバインダーは
橋かけした鎖の間の空間を満たし、これによつて結合を
形成する。バインダーは橋かけするモノマーを所定位置
に保持するマトリツタスとして作用して、適切な生成物
を形成する。次の説明は本発明の有効性の多くに関する
もの.であると信じられるにれは本発明の一部分を形成
しないが)。
When the resin is C-C unsaturated and cross-links with the monomer as a major property-giving reaction, the thiols actually act much like scavengers that scavenge oxygen and inhibit other fundamental properties of the system. do not change. C-C saturated binders have a thiol function in the same way, but it is the monomer that bridges itself to form a lattice, and the binder fills the space between the bridged chains, thereby allowing the bond to form. The binder acts as a matrices to hold the crosslinking monomers in place to form the appropriate product. The following discussion relates to many of the advantages of the present invention. (although it is believed that this does not form part of this invention).

本発明の組成物を硬化するとき、末端ビニル基は、不飽
和重合体または反応性モノマーの中に存在しても、付加
反応を行なう。同時に、チオール基は遊離基のために分
子状酸素と競争し、チオール基は遊離基をよりはやく形
成し(活性化エネルギーが低い)、このようにして粘着
性を起こす部分であるヒドロパーオキシド基の形成を最
小にする。ベンゾインエーテル開始剤を含む次の反応式
は、ポリチオールの使用が粘着性をどのようにして最小
にするかを暗示する。
When curing the compositions of the present invention, the terminal vinyl groups, even if present in unsaturated polymers or reactive monomers, undergo addition reactions. At the same time, thiol groups compete with molecular oxygen for free radicals, and thiol groups form free radicals faster (lower activation energy), thus forming hydroperoxide groups, which are the moieties that cause stickiness. minimize the formation of The following reaction equation involving a benzoin ether initiator hints at how the use of polythiol minimizes tackiness.

ベンゾインとベンゾインエーテノレはラジカノレの対、
ベンゾイルおよびベンジルラジカルに分裂する。
Benzoin and benzoinetherole are a pair of radicals,
Splits into benzoyl and benzyl radicals.

ベンゾイルラジカル Oは非常に反応性であり、主と
して水素の吸引により、たとえば、 のように反応し、このため非常に効率より開始剤である
The benzoyl radical O is very reactive and reacts primarily by suction of hydrogen, e.g., and is therefore a very efficient initiator.

新らしく形成したラジカルM゜は、アクリルまたはビニ
ルの二重結合との反応により重合を開始する゜重合はモ
ノマーを加えるほど段階的に進行して、生長しつつある
連鎖となる。
The newly formed radical M initiates polymerization by reaction with the acrylic or vinyl double bond. Polymerization proceeds step by step as more monomer is added, resulting in a growing chain.

など。Such.

多数のことが生長しつつある連鎖に対して起こる:a、
それは他の分子から水素を引きつけることができる、
たとえば、これは連鎖を停止する。
A number of things happen to a growing chain: a.
it can attract hydrogen from other molecules,
For example, this will stop the chain.

新らしいラジカルA゜は新らしい連鎖を開始できるか、
または開始できなb、 生長しつつある連鎖は他のラジ
カルと出合い、それと反応して共有結合を形成する。口 c、 最も重大な問題:生長しつつある連鎖は酸素分子
によつてしや断されて、、パーオキシラジカルを生成し
、次いでこれは新らしい連鎖を形成せずまたはもとの連
鎖を連続させないで分解することができる。
Can the new radical A゜ start a new chain?
or fails to initiate b, the growing chain encounters other radicals and reacts with them to form covalent bonds. C. The most serious problem: the growing chain is cleaved by oxygen molecules, producing peroxyl radicals, which then do not form a new chain or continue the original chain. It can be disassembled without causing damage.

は重合をそれ以上開始しない。does not initiate further polymerization.

明らかなように酸素は重合を防害するが、排除しなけれ
ばならない、そうでないと酸素のほとんどが見出されう
る表面は粘着性の低分子量の材料の層からなる。
Obviously oxygen prevents polymerization, but must be excluded, otherwise the surface where most of the oxygen can be found consists of a layer of sticky low molecular weight material.

上の反応式において、チオール化合物を位置させると、
次のことが起こりうる:ベンジルラジカルはチオール化
合物から水素を引き付けて(活性化エネルギーの考察)
、チイルラジカルを形成する。
In the above reaction formula, when the thiol compound is positioned,
The following can happen: the benzyl radical attracts hydrogen from the thiol compound (activation energy considerations)
, forming a thiyl radical.

次いでチイルラジカルは鎖の鎖の生長を開始で.きる生
長する連鎖はこんどは次の反応にあずかることができる
:a) 他の重合体分子からの水素の引き取りb)結合
反応の動力学はパーオキシドの生成よりもチイルラジカ
ルの生成に有利である。
The thiyl radical then begins to grow the chain. The growing chain can then participate in the following reactions: a) abstraction of hydrogen from other polymer molecules b) the kinetics of the bonding reaction favor the formation of thiyl radicals over the formation of peroxides.

したがつて、停止反応よりも生長段階が得られる。チイ
ルラジエルを経る生長段階は酸素が重合にはいるのを防
ぎ、このようにして表面の粘着性を最小にする。本発明
の組成物はレタープレス印刷ならびにフレキソグラフ印
刷(固体版)のためのレリーフ版の製作に使用できる。
この組成物は他の印刷版製作用付加重合性系よりもすぐ
れ、鮮明度の高いレリーフ像を短かい暴露時間で製造で
きる。空気が存在してさえ、粘着性をもたない表面の印
刷版を製造できる。さらにこのような版はすぐれたイン
キ転写性を示し、一般に、印刷インキによつてわずかに
膨潤するだけである。これらの性質は、もちろん、使用
する樹脂またはバインダー系の基本的性質によつて影響
を受ける。ここで使用する「硬化」という語は、放射線
硬化性組成物の相対的硬化を意味する。
Therefore, a growth phase is obtained rather than a termination reaction. The growth step through thiylradiel prevents oxygen from entering the polymerization, thus minimizing surface stickiness. The compositions of the invention can be used for making relief plates for letterpress printing as well as flexographic printing (solid plates).
This composition is superior to other addition-polymerizable systems for making printing plates, producing high definition relief images with short exposure times. Even in the presence of air, printing plates with non-tacky surfaces can be produced. Furthermore, such plates exhibit excellent ink transfer properties and generally swell only slightly with printing inks. These properties are, of course, influenced by the basic nature of the resin or binder system used. As used herein, the term "curing" refers to the relative curing of a radiation curable composition.

これは「未暴露の放射線硬化性組成物を除去する」と比
較され、これは比較的未硬化の材料を除去することを意
味する。このように「硬化」または「硬化した」という
語は、硬化がもはや起こることができないことを意味せ
ず、そして「未暴露」は輻射が組成物のその部分に到達
しなかつたことを意味しない。主としてこの語は「硬化
した」部分と未暴露、すなわち未硬化の部分とを分離で
きる状態をいう。「非粘着性」という語は手で触れたと
き粘着しないこと、したがつて一般に粘着性でないこと
を意味する。「粘着性」という語は、手で触れたとき粘
着すること、したがつて一般に粘着性であり、このよう
な表面をその表面に接触させる材料を有する傾向を意味
する。チオールを硬化性を基本的に変化させない量に限
定することは、剛性、かたさ、弾性およびぜい性のよう
な基本的性質が全体的に変化しないこと意味する。
This is compared to "removing unexposed radiation-curable composition," which means removing relatively uncured material. Thus the words "cured" or "hardened" do not mean that curing can no longer occur, and "unexposed" does not mean that radiation has not reached that portion of the composition. . Primarily, the term refers to the condition in which the "hardened" portion can be separated from the unexposed, or uncured, portion. The term "non-stick" means not tacky to the touch, and therefore generally not tacky. The term "tacky" means the tendency of a material to stick to the touch and thus generally be sticky and bring such a surface into contact with that surface. Limiting the thiol to an amount that does not fundamentally change the curability means that fundamental properties such as stiffness, hardness, elasticity, and brittleness are generally unchanged.

明らかなように、表面粘着性は好ましいポリチオールの
場合に排除され、そして他のチオール、たとえばモノチ
オールの場合に実質的に減少する。さらに多少の光重合
速度の増加は、他の性質における多少の変化と同様に、
一般に起こる。本発明を次の実施例によつてさらに説明
する。
As can be seen, surface tackiness is eliminated in the case of the preferred polythiols and substantially reduced in the case of other thiols, such as monothiols. Furthermore, some increase in the rate of photopolymerization, as well as some changes in other properties,
commonly occurs. The invention will be further illustrated by the following examples.

仲に示さないかぎり、配合における部は重量部であると
解すべきである。実施例 1 次の混合物からなる感光性組成物をつくつた:a) 1
00部のスチレン−イソプレン−スチレン(SIS)プ
ロツタ共重合体b) 15部のトリメチロールプロパン
トリメタクリレートC) 2部のペンタエリスリトー
ルテトラキズ(β−メノレカプトプロピオネート)d)
2部の2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセトフ
エノンe) 2部のヒンダードフエノール(IOnO
l8)(硬化抑制剤)。
Unless otherwise indicated, parts in the formulations are to be understood as parts by weight. Example 1 A photosensitive composition was prepared consisting of the following mixture: a) 1
00 parts of styrene-isoprene-styrene (SIS) protuta copolymer b) 15 parts of trimethylolpropane trimethacrylate C) 2 parts of pentaerythritol tetracrystalline (β-menolecaptopropionate) d)
2 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone e) 2 parts of hindered phenol (IOnO
l8) (hardening inhibitor).

粒状のSIS共重合体はシエル・ケミカル社(Shel
lChmicalCOmpany)製のKratOn8
であり、ほぼ14重量%のポリスチレン(2゛つのプロ
ツク端に等しく分布した)、残部のポリイソプレンから
構成されていた。
Granular SIS copolymer was manufactured by Shel Chemical Company (Shel Chemical Company).
KratOn8 manufactured by lChmical Company)
It was composed of approximately 14% by weight polystyrene (distributed equally on the two prong edges) and the remainder polyisoprene.

レリーフ版は組成物をトル・エン中にかきまぜ機付き樹
脂びん内で溶かすことによつてつくつた。成分a)をま
ず入れ、次にb)、d)およびe)を急速に続けて溶か
し、次いで他のものが溶けた後c)を溶かした。次いで
この溶液をポリエステルの支持シート上にほぼ80.ミ
ル(203mm)の厚さに注形した。乾燥した感光性層
を次に標準の市販のアミド基剤スリツプコートで4分の
1ミル(0.0064mm)より小に被覆した。
The relief plates were made by dissolving the composition in toluene in a stirred resin bottle. Component a) was added first, then b), d) and e) were dissolved in rapid succession, then c) after the others had dissolved. This solution was then spread onto a polyester support sheet for approximately 80 minutes. It was cast to a thickness of mill (203 mm). The dried photosensitive layer was then coated with a standard commercially available amide-based slip coat to less than a quarter mil (0.0064 mm).

生じた版の10インチ×12インチ(25.4cm×3
0.5cm)を真空フレーム中に置き、そ,して被覆し
た光重合体表面をラインプロセスのネガと接触させた。
次いで要素を化学線(500μW/CIIl3)に10
分間暴露した。暴露後、ネガを要素からはがし、そして
要素をトリクロロエタンを含有するエツチング浴で処理
して、未暴露の重合体を除去した。ネガの透明領域に相
当するレリーフ像が得られた。光重合したレリーフ版は
きわめてすぐれた柔軟性、弾性、像の鮮明さおよび本質
的に非粘着性の表面によつて特徴づけられた。この版を
フレキソプレスの印刷シリンダー上に位置させ、そして
オリジナル像のきわめてすぐれた印刷がポリエステルフ
イルム上に得られた。レリーフ版はまたきわめてすぐれ
た摩擦抵抗性、耐久性、および耐印刷インキ溶媒性を有
することが、視的観察により、わかつた。実施例1の組
成物は、次の性質を有していた。
The resulting plate is 10 inches x 12 inches (25.4 cm x 3
0.5 cm) was placed in a vacuum frame and the coated photopolymer surface was then brought into contact with the line process negative.
The element was then exposed to actinic radiation (500 μW/CIIl3) for 10
exposed for minutes. After exposure, the negative was stripped from the element and the element was treated with an etching bath containing trichloroethane to remove unexposed polymer. A relief image corresponding to the clear areas of the negative was obtained. The photopolymerized relief plates were characterized by excellent flexibility, elasticity, image sharpness and essentially non-tacky surfaces. This plate was placed on the printing cylinder of a flexo press and an excellent print of the original image was obtained on the polyester film. Visual observation showed that the relief plate also had excellent abrasion resistance, durability, and printing ink solvent resistance. The composition of Example 1 had the following properties.

組成物の82重量%はモノアルケニル芳香族ジエン共重
合体樹脂または材料(1)材料(1)の15重量%のモ
ノマーは実質的に材料1と相溶性であり、そして少なく
とも1つの光橋かけ性C−C二重結合を有する。
82% by weight of the composition is a monoalkenyl aromatic diene copolymer resin or material (1), 15% by weight of the monomers of material (1) are substantially compatible with material 1, and at least one photolinkable It has a C-C double bond.

材料(1)の2重量%の光開始剤。2% photoinitiator by weight of material (1).

実施例 11 印刷版を本質的に実施例1におけるように製造したが、
組成物は次の混合物からなつていた:a) 100部の
同じSIS共重合体b) 20部のトリメチロールプロ
パントリメタクリレートC) 2部のペンタエリスリ
トールテトラキズ(β−メノレカプトフ0ロピオネート
)d) 2部の2,2−ジメトキシ−2−フエニルア
セトフエノンe) 2部のヒンダードフエノール。
Example 11 A printing plate was prepared essentially as in Example 1, but
The composition consisted of a mixture of: a) 100 parts of the same SIS copolymer b) 20 parts of trimethylolpropane trimethacrylate C) 2 parts of pentaerythritol tetrakis (β-menolecaptofropionate) d) 2 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone e) 2 parts of hindered phenol.

結果は、印刷試験の結果を含めて、実施例1記載のもの
と本質的に同一であつた。
The results were essentially the same as those described in Example 1, including the results of the print test.

実施例 111印刷版を実施例1におけるように製造し
たが、組成物は次の混合物からなつていた:a) 10
0部の同じSIS共重合体 b) 15部のトリメチロールプロパントリメタクリレ
ートC) 2部のペンタエリスリトールテトラキズ(
β−メルカプトプロピオネート)d)4部のベンゾフエ
ノン e)2部のヒンダードフエノール。
Example 111 A printing plate was prepared as in Example 1, but the composition consisted of a mixture of: a) 10
0 parts of the same SIS copolymer b) 15 parts of trimethylolpropane trimethacrylate C) 2 parts of pentaerythritol tetra-scratch (
β-mercaptopropionate) d) 4 parts of benzophenone e) 2 parts of hindered phenol.

結果は、印刷試験の結果を含めて、実施例1記載のもの
と同一で゛あつた。
The results, including the results of the printing test, were identical to those described in Example 1.

実施例 1V 印刷版を本質的に実施例1に記載するように製造したが
、組成物は次の混合物からなつていた:a)100部の
同じSIS共重合体b) 15部のトリメチロールプロ
パントリアセテートC) 2部のペンタエリスリトー
ルテトラキズ(″13−メノレカプトプロピオネート)
d) 2部の2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセ
トフエノンe)2部のヒンダードフエノール。
Example 1V A printing plate was prepared essentially as described in Example 1, but the composition consisted of a mixture of: a) 100 parts of the same SIS copolymer b) 15 parts of trimethylolpropane Triacetate C) 2 parts of pentaerythritol tetra-scratch (″13-menolecaptopropionate)
d) 2 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone e) 2 parts of hindered phenol.

゜結果は、印刷試験の結果を含めて、実施例1記2載の
ものと本質的に同一であつた。
The results, including the results of the printing test, were essentially the same as those described in Examples 1 and 2.

実施例 v 印刷版を本質的に実施例1におけるように製造したが、
組成物は次の混合物からなつていた:a) 100部の
スチレン ブタジエン−スチレン,(SBS)プロツク
共重合体(KratOn8llO2、ジエノレ・ケミカ
ノレ社)b) 15部のトリメチロールプロパントリメ
タクリレートC) 2部のペンタエリスリトールテト
ラキズj(β−メノレカプトプロピオネート)d)
2部の2,2−ジメトキシ−2−フエニル照例の結果と
本質的に同一であつた。
Example v A printing plate was prepared essentially as in Example 1, but
The composition consisted of a mixture of: a) 100 parts of styrene-butadiene-styrene, (SBS) block copolymer (KratOn8llO2, Dienole Chemicanole) b) 15 parts of trimethylolpropane trimethacrylate C) 2 parts pentaerythritol tetra-scratch (β-menolecaptopropionate) d)
The results were essentially identical to those of the 2-part 2,2-dimethoxy-2-phenyl control.

実施例 XIV 印刷版を本質的に実施例1におけるように製造4したが
、組成物は次の混合物からなつていた:a) 100部
の同じSIS共重合体b) 10部のトリメチロールプ
ロパントリメタクリレートアセトフエノン e) 2部のヒンダードフエノール。
Example XIV A printing plate was prepared essentially as in Example 1, but the composition consisted of a mixture of: a) 100 parts of the same SIS copolymer b) 10 parts of trimethylolpropane Methacrylate acetophenone e) 2 parts hindered phenol.

各成分をトルエン中に溶かさないで、その代わり内部せ
ん断ミキサー中で配合し、引き続いてポリエステル支持
体上に圧延した。
The components were not dissolved in toluene, but instead were compounded in an internal shear mixer and subsequently rolled onto a polyester support.

結果は、印刷試験を含めて、実施例1記載のものと本質
的に同一であつた。
The results were essentially the same as those described in Example 1, including the printing test.

実施例 VI 印刷版を本質的に実施例1におけるように製造したが、
組成物は次の混合物からなつていた:a) 100部の
同じSIS共重合体b) 15部のトリメチロールプロ
パントリメタクリレートC) 2部のペンタエリスリ
トールテトラキズ(β−メルカプトプロピオネート)d
) 2部の2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセト
フエノンe) 2部のヒンダードフエノール f) 15部の液状ブタジエンゴム〔アルコ(ArcO
)のPOiybdcs−15〕。
Example VI A printing plate was prepared essentially as in Example 1, but
The composition consisted of a mixture of: a) 100 parts of the same SIS copolymer b) 15 parts of trimethylolpropane trimethacrylate C) 2 parts of pentaerythritol tetrakis (β-mercaptopropionate) d
) 2 parts of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone e) 2 parts of hindered phenol f) 15 parts of liquid butadiene rubber [ArcO
) of POiybdcs-15].

結果は、印刷試験果を含めて、実施例1記載のものと本
質的に同一であつた。実施例 I」 対照例 実施例1−Vの操作を反復したが、それぞれ成分c)、
ペンタエリスリトールテトラキズ(β一メルカプトプロ
ピオネート)を各実施例において排除した。
The results, including print test results, were essentially the same as those described in Example 1. Example I" Comparative Example The procedure of Examples 1-V was repeated, but with components c),
Pentaerythritol tetras (β-mercaptopropionate) was excluded in each example.

版は同様な性質を有したが、それらは手による表面の接
触試験によると、粘着性の表面を有していた。
The plates had similar properties, but they had a sticky surface according to hand surface contact testing.

さらに版は実施例XIVの後の表1に定着的に示されて
いるように、遅い活性化を示した。実施例 XIII対
照例 印刷版を本質的に実施例1におけるように製造したが、
組成物は次の混合物からなつていた:a) 100部の
同じSIS共重合体b) 15部のトリメチロールプロ
パントリメタクリレートc) なし d) 1部の2,2−ジメトキシ−2−フエニルアセ
トフエノンe) 2部のヒンダードフエノール。
Furthermore, the plate showed slow activation, as clearly shown in Table 1 after Example XIV. EXAMPLE XIII CONTROL A printing plate was prepared essentially as in Example 1, but
The composition consisted of a mixture of: a) 100 parts of the same SIS copolymer b) 15 parts of trimethylolpropane trimethacrylate c) None d) 1 part of 2,2-dimethoxy-2-phenylaceto Phenone e) 2 parts hindered phenol.

これらの結果は、実施例1〜に記載の他の対C) 2
部のペンタエリスリトールテトラキズ(β−メルカプト
プロピオネート)d) 1部の2,2−ジメトキシ−
2−フエニルアセトフエノンe) 2部のヒンダート
フエノール。
These results are consistent with other pairs described in Examples 1 to C) 2
1 part of pentaerythritol tetrakid (β-mercaptopropionate) d) 1 part of 2,2-dimethoxy-
2-Phenylacetophenone e) 2 parts of hindered phenol.

結果は、印刷試験の結果を含めて、実施例1記載のもの
と本質的に同一であつた。
The results were essentially the same as those described in Example 1, including the results of the print test.

活性の数が大きくなればなるほど、適切な硬化に要する
期間は長くなる。
The higher the number of activities, the longer the period required for proper curing.

したがつて、一般的命題として、 「活性」の数が低く
なればなるはど、組成物の印刷版形成性はよくなる。活
性の数は、印刷版を形成するための感光性層中において
5%150ラインのハーフトーンの点を安定化するため
に要求される光の単位の最小の数である。感光性層を示
したデータを含む試験用ネガを通して暴露し、次いで感
光性層を実施例に記載するようにエツチングするが、変
化する光の単位を使用する。記録された単位を光調整器
から読み取る。この光調装器は使用する光の単位を調節
する。伸びおよび引張り強さをASTM法D27O7−
72によつて測定した。弾性はASTM法D2632−
74およびシヨア一AはASTM法D224O−75に
よつて測定した。実施例 x 樹脂びんに、362gのトルエンと163gのプラスチ
ツクポリクロロプレン(155g(7)WRT+40g
のAD−40)を加えた。
Therefore, as a general proposition, the lower the number of "activities", the better the plate forming properties of the composition. The number of activations is the minimum number of light units required to stabilize a 5% 150 line halftone spot in the photosensitive layer to form a printing plate. The photosensitive layer is exposed through a test negative containing the data shown and the photosensitive layer is then etched as described in the Examples, but using varying light units. Read the recorded units from the light regulator. This light modulator adjusts the unit of light used. Elongation and tensile strength were determined by ASTM method D27O7-
72. Elasticity is ASTM method D2632-
74 and Shore-A were measured by ASTM method D224O-75. Example x In a resin bottle, 362 g toluene and 163 g plastic polychloroprene (155 g (7) WRT + 40 g
AD-40) was added.

次いで151.1gのトリメチロールプロパントリメタ
クリレート、0.8gの2,6−ジ一t−ブチルクレゾ
ール、1.6gの2.2ジメトキシ−2−フエニルアセ
トフエノンおよび3.3gのペンタエリスリトールテト
ラキズ(βメルカプトプロピオネート)を加えた。溶液
をよく混合した後、8インチ×10インチXO.lイン
チ(20cm×25cm×0.25cm)の型中に注ぎ
入れることによつて注形した。乾燥厚さは100ミル(
4).25cm)であつた。この重合性層をポリエステ
ル支持体へ接着させ、得られた版を真空フレーム中に入
れ、重合体表面を線のネガと接触させ、実施例1におけ
るように暴露するが、暴露の期間は数分であつた。暴露
後、ネガを版からはがし、未暴露の重合体を実施例1に
おけるようにして除去した。ネガの透明領域に対応する
少なくとも30ミル(0.76mm)のレリーフ像が得
られた。光重合体はきわめて弾性であり、もろくなく、
非粘着性でありかつ曲げることができ、180゜曲げて
も悪影響は観察されなかつた。版を実施例1におけるよ
うに印刷シリンダー上に置き、そしてオリジナル像の満
足すべき印刷が得られた。版は手でさわつても非粘着性
であつた。実施例 XVI 実施例xの操作を反復したが、15.1gのトリメチロ
ールプロパントリメタクリレートの代わりに13.0g
のトリメチロールプロパントリアクリレートを使用し、
そして溶液をアルミニウム支持体上に直接に注形した。
Then 151.1 g of trimethylolpropane trimethacrylate, 0.8 g of 2,6-di-t-butylcresol, 1.6 g of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 3.3 g of pentaerythritol tetra Added scratches (β-mercaptopropionate). After mixing the solution well, an 8 inch x 10 inch XO. The molds were cast by pouring into 1 inch (20 cm x 25 cm x 0.25 cm) molds. Dry thickness is 100 mils (
4). 25cm). This polymerizable layer is adhered to a polyester support, the resulting plate is placed in a vacuum frame, the polymer surface is brought into contact with a line negative and exposed as in Example 1, but the duration of exposure is several minutes. It was hot. After exposure, the negative was peeled from the plate and the unexposed polymer was removed as in Example 1. A relief image of at least 30 mils (0.76 mm) was obtained corresponding to the clear areas of the negative. Photopolymers are extremely elastic, not brittle,
It is non-tacky and bendable, with no adverse effects observed when bent 180°. The plate was placed on the printing cylinder as in Example 1 and a satisfactory print of the original image was obtained. The plate remained non-adhesive when touched by hand. Example XVI The procedure of Example x was repeated, but instead of 15.1 g of trimethylolpropane trimethacrylate, 13.0 g
using trimethylolpropane triacrylate,
The solution was then cast directly onto the aluminum support.

印刷の結果は実施例xにおけるのと実質的に同一であり
、そして版手で触れたとき非粘着性であつた。本発明は
、安価な材料を使用しかつ最小の労働条件で、簡単な有
効なレリーフ印刷版を提供する。
The printing results were substantially the same as in Example x, and the plate was non-tacky to the touch. The present invention provides a simple and effective relief printing plate using inexpensive materials and with minimal labor requirements.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 (1)組成物の10〜97重量%の、モノアルケニ
ル芳香族ジエン共重合体、ブタジエン重合体、アクリロ
ニトリル樹脂およびそれらの混合物から選ばれるC−C
不飽和重合体樹脂、C−C飽和重合体バインダーまたは
それらの混合物、(2)材料(1)の少なくとも1重量
%の少なくとも1つの橋かけ性C−C不飽和結合をもつ
1種のモノマー、(3)材料(1)の0.1〜35重量
%のチオールからなる組成物。 2 チオールの量はチオールを省略した該組成物の硬化
性を基本的に変化させない量に限定される特許請求の範
囲第1項記載の組成物。 3 該モノマーは1分子当り2以上のアクリレートまた
はメタクリレート基を含有する付加重合性ポリエチレン
性不飽和アクリルまたはメタクリル酸エステル、または
それらの混合物であり、そして材料(1)の少なくとも
5重量%の量で存在する特許請求の範囲第1または2項
記載の組成物。 4 該モノマーはジエチレングリコールジメタクリレー
トまたはジアクリレートまたはトリメチロールプロパン
トリメタクリレートである特許請求の範囲第3項記載の
組成物。 5 該モノマーは材料(1)の15〜30重量%の量で
存在する特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の
組成物。 6 該材料はモノアルケニル芳香族ジエン共重合体、ハ
ロゲン置換ブタジエン樹脂、アクリロニトリル樹脂、ま
たはそれらの混合物である特許請求の範囲第1〜5項の
いずれかに記載の組成物。 7 該材料(1)は高分子構造をもちかつ平均分子量が
少なくとも約5,000であるポリエンのC−C不飽和
重合体樹脂であり、そして該組成物の少なくとも約60
%の量で存在する特許請求の範囲第1〜5項のいずれか
に記載の組成物。 8 該材料(1)はC−C飽和重合体バインダーであり
、そして該組成物の少なくとも40重量%の量で存在す
る特許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の組成物
。 9 該材料(1)はポリビニルピロリドン、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアセテートスクシネ
ートおよびそれらの混合物である特許請求の範囲第8項
記載の組成物。 10 該材料(1)は高分子構造をもち、かつ平均分子
量が少なくとも約5,000であるC−C飽和重合体樹
脂であり、そして該組成物の少なくとも約60%の量で
存在する特許請求の範囲第8項記載の組成物。 11 該チオールはペンタエリスリトールテトラキス(
β−メルカプトプロピオネー)、トリメチロールプロパ
ントリス(β−メルカプトプロピオネート)またはそれ
らの混合物であり、そして材料(1)の0.5〜10重
量%の量で存在する特許請求の範囲第1〜10項のいず
れかに記載の組成物。 12 0.2〜5%の量で光開始剤をさらに含む特許請
求の範囲第1〜11項のいずれかに記載の組成物。 13 組成物はチオールを省略したとき硬化のさい粘着
性の表面を有するようなものであり、そして該チオール
は組成物を硬化したとき、非粘着性表面を形成するのに
十分な量で含有されるポリチオールである特許請求の範
囲第1〜12項のいずれかに記載の組成物。
[Scope of Claims] 1 (1) 10 to 97% by weight of the composition of C-C selected from monoalkenyl aromatic diene copolymers, butadiene polymers, acrylonitrile resins, and mixtures thereof.
an unsaturated polymeric resin, a C-C saturated polymeric binder or a mixture thereof; (2) one monomer with at least one crosslinkable C-C unsaturated bond in at least 1% by weight of the material (1); (3) A composition consisting of thiol in an amount of 0.1 to 35% by weight of material (1). 2. The composition of claim 1, wherein the amount of thiol is limited to an amount that does not essentially change the curability of the composition in which the thiol is omitted. 3. The monomer is an addition-polymerizable polyethylenically unsaturated acrylic or methacrylic ester containing two or more acrylate or methacrylate groups per molecule, or a mixture thereof, and in an amount of at least 5% by weight of material (1). A composition according to claim 1 or 2, as present. 4. The composition of claim 3, wherein the monomer is diethylene glycol dimethacrylate or diacrylate or trimethylolpropane trimethacrylate. 5. A composition according to any of claims 1 to 4, wherein the monomer is present in an amount of 15 to 30% by weight of material (1). 6. The composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the material is a monoalkenyl aromatic diene copolymer, a halogen-substituted butadiene resin, an acrylonitrile resin, or a mixture thereof. 7. The material (1) is a polyene C-C unsaturated polymer resin having a polymeric structure and an average molecular weight of at least about 5,000;
A composition according to any of claims 1 to 5, wherein the composition is present in an amount of %. 8. A composition according to any of claims 1 to 5, wherein the material (1) is a C-C saturated polymeric binder and is present in an amount of at least 40% by weight of the composition. 9. The composition of claim 8, wherein said material (1) is polyvinylpyrrolidone, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate succinate and mixtures thereof. 10 Claims in which the material (1) is a C-C saturated polymeric resin having a polymeric structure and an average molecular weight of at least about 5,000, and is present in an amount of at least about 60% of the composition. The composition according to item 8. 11 The thiol is pentaerythritol tetrakis (
(β-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (β-mercaptopropionate) or mixtures thereof and is present in an amount of 0.5 to 10% by weight of material (1). The composition according to any one of items 1 to 10. 12. A composition according to any of claims 1 to 11, further comprising a photoinitiator in an amount of 0.2 to 5%. 13 The composition is such that it has a tacky surface upon curing when the thiol is omitted, and the thiol is present in an amount sufficient to form a non-tacky surface when the composition is cured. The composition according to any one of claims 1 to 12, which is a polythiol.
JP53100996A 1977-08-23 1978-08-21 curable composition Expired JPS5950971B2 (en)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/827,002 US4179531A (en) 1977-08-23 1977-08-23 Polythiol effect, curable monoalkenyl aromatic-diene and ene composition
US000000827002 1977-08-23
US87194978A 1978-01-23 1978-01-23
US000000871931 1978-01-23
US05/871,931 US4234676A (en) 1978-01-23 1978-01-23 Polythiol effect curable polymeric composition
US000000871949 1978-01-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5463903A JPS5463903A (en) 1979-05-23
JPS5950971B2 true JPS5950971B2 (en) 1984-12-11

Family

ID=27420189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP53100996A Expired JPS5950971B2 (en) 1977-08-23 1978-08-21 curable composition

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPS5950971B2 (en)
AU (1) AU531102B2 (en)
DE (1) DE2834768A1 (en)
FR (1) FR2401444A1 (en)
GB (1) GB2003494B (en)
NL (1) NL7808653A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0215907Y2 (en) * 1984-08-10 1990-04-27

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2030584B (en) 1978-10-03 1983-03-23 Lankro Chem Ltd Photopolymerisable solder resist compositions
CA1172112A (en) * 1980-12-12 1984-08-07 Richard P. Plunkett Process for making conductive coatings
GB8515475D0 (en) * 1985-06-19 1985-07-24 Ciba Geigy Ag Forming images
CA2041023C (en) * 1990-04-26 2002-03-12 William K. Goss Photocurable elements and flexographic printing plates prepared therefrom
US7521015B2 (en) * 2005-07-22 2009-04-21 3M Innovative Properties Company Curable thiol-ene compositions for optical articles
JP4805068B2 (en) 2006-08-31 2011-11-02 富士フイルム株式会社 Method for producing dye-containing negative curable composition, color filter and method for producing the same
JP4837603B2 (en) 2007-03-14 2011-12-14 富士フイルム株式会社 Negative curable composition, color filter and method for producing the same
JP5393092B2 (en) 2008-09-30 2014-01-22 富士フイルム株式会社 Dye-containing negative curable composition, color filter using the same, method for producing the same, and solid-state imaging device
AT516559B1 (en) * 2014-12-10 2017-12-15 Joanneum Res Forschungsgmbh A prepolymer composition comprising such composition and use thereof
AT516558B1 (en) * 2014-12-10 2018-02-15 Joanneum Res Forschungsgmbh Embossing lacquer, embossing method and substrate surface coated with the embossing lacquer
TW202342622A (en) * 2022-03-24 2023-11-01 日商納美仕有限公司 Resin composition, adhesive ,sealing material, cured product, semiconductor device and electronic component

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1251232A (en) * 1967-10-12 1971-10-27
US3850770A (en) * 1969-10-24 1974-11-26 Kansai Paint Co Ltd Radiation curable compositions from acrylurethane resins
GB1312492A (en) * 1969-12-19 1973-04-04 Mccall Corp Crosslinked polymers and process therefor
FR2234322A1 (en) * 1972-05-05 1975-01-17 Grace W R Ltd
DE2456439A1 (en) * 1974-11-29 1976-08-12 Basf Ag MULTI-LAYER COMPOSITE PANELS FOR THE MANUFACTURE OF FLEXO PRINTING FORMS
US4045231A (en) * 1975-03-15 1977-08-30 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition for flexographic printing plates
US4120721A (en) * 1977-06-02 1978-10-17 W. R. Grace & Co. Radiation curable compositions for coating and imaging processes and method of use

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0215907Y2 (en) * 1984-08-10 1990-04-27

Also Published As

Publication number Publication date
GB2003494A (en) 1979-03-14
AU531102B2 (en) 1983-08-11
NL7808653A (en) 1979-02-27
GB2003494B (en) 1982-03-24
DE2834768A1 (en) 1979-03-08
AU3898478A (en) 1980-02-21
FR2401444B1 (en) 1983-10-14
JPS5463903A (en) 1979-05-23
FR2401444A1 (en) 1979-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4234676A (en) Polythiol effect curable polymeric composition
US4320188A (en) Photopolymerizable compositions containing elastomers and photo-curable elements made therefrom
JP4519129B2 (en) Photocurable composition and flexographic printing plate containing photocurable composition
US4272608A (en) Photosensitive compositions containing thermoplastic ionomeric elastomers useful in flexographic printing plates
US4431723A (en) Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates
RU2621769C2 (en) Method for improved curing form surface for flexographic digital printing
JPH0438344B2 (en)
JPS5833884B2 (en) Photosensitive elastic composition
JPS5950971B2 (en) curable composition
US5071732A (en) Two-layer system
JPS62500404A (en) Post-treatment of cured, radiation-sensitive polymerizable resins
US4248960A (en) Radiation responsive relief imageable plastic laminate
JPH0495960A (en) Composition for photosensitive flexographic printing plate
JPH10288838A (en) Photosensitive mixture, photosensitive recording material, manufacture of relief image or relief printing plate and printing method for printable material by using relief printing plate
JPS63162712A (en) Conjugated diene copolymer, its production and photopolymer composition containing the same
WO1992015046A1 (en) Photosensitive elastomer composition
JP2004522194A (en) High performance photoimageable resin composition and printing plate made therefrom
EP1311906A1 (en) Process for preparing flexographic printing plates
US4446220A (en) Method of making a photosensitive elastomeric composition
TWI787816B (en) Photosensitive resin composition for flexographic printing
JPH059017B2 (en)
US20120129097A1 (en) Photopolymer Printing Plates with In Situ Non-Directional Floor Formed During Extrusion
JP4230552B2 (en) Method for coating edges and / or filling gaps or gaps in flexographic photopolymerizable printing plates or photopolymer printing forms
JPH06282070A (en) Manufacture of photosensitive recording element and relief printing plate body
JP2560375B2 (en) Photosensitive resin composition