JPS59231852A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS59231852A JPS59231852A JP58105711A JP10571183A JPS59231852A JP S59231852 A JPS59231852 A JP S59231852A JP 58105711 A JP58105711 A JP 58105711A JP 10571183 A JP10571183 A JP 10571183A JP S59231852 A JPS59231852 A JP S59231852A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5383—Multilayer substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体装1kに係り、特に高S/N化全可能
とする信号線βるいは給f[線の配I行方法に関するも
のである。
とする信号線βるいは給f[線の配I行方法に関するも
のである。
今後LSIが高集積・大規模化されるにつiして、高速
化・高S/N化を十分考慮した設計がまずまず重要にな
る。しかし高集積・大規模化に伴い、信号線や給電線の
配線ピッチが小はくなり、井た立体配線が行なわれるよ
うになったため、従来の配置方法では配線間に寄生する
結合容量による結合雑音が問題となっていた。
化・高S/N化を十分考慮した設計がまずまず重要にな
る。しかし高集積・大規模化に伴い、信号線や給電線の
配線ピッチが小はくなり、井た立体配線が行なわれるよ
うになったため、従来の配置方法では配線間に寄生する
結合容量による結合雑音が問題となっていた。
第1図及び第2図は従来の信号線及び給電線の配置方法
の概念を示したものである。第1図において1〜6は同
一製造工程で形成された信号線あるいは給fti:If
fである。!、た第2図において7は1〜5と異なる製
造工程で形成てれた信号線あるいは給電線である。第1
図及び第2図に示すように、1〜7をある程度長い区間
回一方向に配置1゛る際、従来6あるいm;7は1〜5
と平行に配置きれるため% 1〜5が微小な信号を扱う
ため特にS/Nに注意すべき信号線である場合、6ある
いは7との結合容量8〜11により、2と3だけに大き
な結合雑音全誘起することになり、S/N上大きな問題
となっていた。また逆に6及び7が微小な信号ケ扱う信
号線である場合も同様に、結合容量8〜11により、2
及び3から大きな結合雑音を受けることになる。
の概念を示したものである。第1図において1〜6は同
一製造工程で形成された信号線あるいは給fti:If
fである。!、た第2図において7は1〜5と異なる製
造工程で形成てれた信号線あるいは給電線である。第1
図及び第2図に示すように、1〜7をある程度長い区間
回一方向に配置1゛る際、従来6あるいm;7は1〜5
と平行に配置きれるため% 1〜5が微小な信号を扱う
ため特にS/Nに注意すべき信号線である場合、6ある
いは7との結合容量8〜11により、2と3だけに大き
な結合雑音全誘起することになり、S/N上大きな問題
となっていた。また逆に6及び7が微小な信号ケ扱う信
号線である場合も同様に、結合容量8〜11により、2
及び3から大きな結合雑音を受けることになる。
本発明の目的は、上記従来の配置方法の問題点を解消す
るために、配置方法に改良を施し、雑音の小さい高S/
Nな信号線及び給電線の配置方法を提供することにある
。
るために、配置方法に改良を施し、雑音の小さい高S/
Nな信号線及び給電線の配置方法を提供することにある
。
上記目的を達成するだめの本発明は、雑音源となる配線
と微小な電圧會扱う配線との結合容量を、前者(あるい
は後渚勺の配線ケ故渚(あるいは前者)の配線と又叉イ
るよりに配置づ゛ることにより低減すゐこと〃・でき、
前記従来技術の問題点を解?肖することができる。
と微小な電圧會扱う配線との結合容量を、前者(あるい
は後渚勺の配線ケ故渚(あるいは前者)の配線と又叉イ
るよりに配置づ゛ることにより低減すゐこと〃・でき、
前記従来技術の問題点を解?肖することができる。
以1本元明ffi W施例により詳しく説明する。
第3図は第11メ1に対応した本うち明の一実施例を示
したものである。同図に示したように配線6を階段状に
配j?、 l、、配線1〜5と交叉きせることにより、
配線1〜5のうf)特定の配線との結合容量だけが大き
くなることはなく、配線1〜5の個々の配線と配線6と
の結合容量を小妬くできる。すなわち1〜5のうち特定
の配線と6との間に太き力結合雑音を誘起することはな
く、配線1〜5の個々の配線と配線6との結合剋r音を
低減できる。
したものである。同図に示したように配線6を階段状に
配j?、 l、、配線1〜5と交叉きせることにより、
配線1〜5のうf)特定の配線との結合容量だけが大き
くなることはなく、配線1〜5の個々の配線と配線6と
の結合容量を小妬くできる。すなわち1〜5のうち特定
の配線と6との間に太き力結合雑音を誘起することはな
く、配線1〜5の個々の配線と配線6との結合剋r音を
低減できる。
なお第3図において、配線1〜5は導電膜14で形成さ
扛、配線6は14及び14とは異なる製造工程で形成し
た導電膜13で形成式れる。導電膜13.14の組み合
せとしては、例えばポIJSiあるいはW、Noなどの
金属あるいはこれらの金籾のシリサイドと第1層目のA
4.拡散層と第1層目のA−1,第1層目のAtと第2
層目のA4などが考えら扛、4蛋膜13,14はいずれ
が上層の導電膜であってもよい。また同図において12
は導電膜13,14を接続−ノ゛るスルーホールである
。
扛、配線6は14及び14とは異なる製造工程で形成し
た導電膜13で形成式れる。導電膜13.14の組み合
せとしては、例えばポIJSiあるいはW、Noなどの
金属あるいはこれらの金籾のシリサイドと第1層目のA
4.拡散層と第1層目のA−1,第1層目のAtと第2
層目のA4などが考えら扛、4蛋膜13,14はいずれ
が上層の導電膜であってもよい。また同図において12
は導電膜13,14を接続−ノ゛るスルーホールである
。
第4図は本発明の他の実施例を示したもので、第2図の
従来例に対応する。本実施例では、配線7ケ配線1〜5
と異なる製造工程で形成しており、第3図中の配線6と
同様に配置7を階段状に配置し、配線1〜5と反叉させ
ることにより、配線1〜5の個々の配線と配線7との結
合容敏全小さくすることができる。なお導電膜14.1
5の組み合せは」−記13,1.4の組み合せと同じも
のが考えられ、1.4.15はいずれが上層であっても
よい。
従来例に対応する。本実施例では、配線7ケ配線1〜5
と異なる製造工程で形成しており、第3図中の配線6と
同様に配置7を階段状に配置し、配線1〜5と反叉させ
ることにより、配線1〜5の個々の配線と配線7との結
合容敏全小さくすることができる。なお導電膜14.1
5の組み合せは」−記13,1.4の組み合せと同じも
のが考えられ、1.4.15はいずれが上層であっても
よい。
第5図は本発明の他の実施例で、第4図では配線7全階
段状に配置したのに対し、7を配線1〜5に対しである
角度でもって直線的に交叉するように配置i−だ場合で
ある。本実施例によれば、第4図と同様に配線7と個々
の配線との結合容量を小きくできる。なお配線7と1〜
5との交叉点数を第4図と第5図で等しくした場合、第
5図の方が配線7の長さが短くなるが、前線7と個々の
配線との結合容量は大きくなるため、両者を設計に応じ
て1史い分ければよい。
段状に配置したのに対し、7を配線1〜5に対しである
角度でもって直線的に交叉するように配置i−だ場合で
ある。本実施例によれば、第4図と同様に配線7と個々
の配線との結合容量を小きくできる。なお配線7と1〜
5との交叉点数を第4図と第5図で等しくした場合、第
5図の方が配線7の長さが短くなるが、前線7と個々の
配線との結合容量は大きくなるため、両者を設計に応じ
て1史い分ければよい。
第6図は本発明の他の実施例である。同図では隣接して
おらず、縦に配列された配線40.’41に対してl’
l:特に配線7から誘起される雑音を等しくしたい場合
を示している。この場合、配線40゜41ど7とが同様
に交叉するように配線7を配置すればよく、同図では一
例として7をジグザグ状に配置している。本実施例によ
れば、配線7と配線1,2,3,5,40.41の個々
の配線との結合容鋪ヲ小場くすることができ、かつ配線
7と配線40.41との結合容■、を等しくすることが
できる。
おらず、縦に配列された配線40.’41に対してl’
l:特に配線7から誘起される雑音を等しくしたい場合
を示している。この場合、配線40゜41ど7とが同様
に交叉するように配線7を配置すればよく、同図では一
例として7をジグザグ状に配置している。本実施例によ
れば、配線7と配線1,2,3,5,40.41の個々
の配線との結合容鋪ヲ小場くすることができ、かつ配線
7と配線40.41との結合容■、を等しくすることが
できる。
なお第3図、第4図、第5図及び第6図では、説明の便
宜上、諜数の配線(1〜5)と1本の配線(6あるいは
7)との場合の実施例を示したが、前者(・よ少)シく
とも2本以上、畝者は少なくとも1本以上の配線であJ
tばよい。また両者の配置はそれぞれ等間隔、同一形状
である必要はなく、任意の間隔、任意の形状であっても
よい。いず扛にしても、複数本βる後者の配線の一部あ
るいは全ての配線全それぞれ設計に応じて、前者の配線
のうちの少なくとも1本以上の配線と交叉するように配
置することにより、前者と後者の個々の配線間の結合答
It低減することができる。その−側音$7図に示す。
宜上、諜数の配線(1〜5)と1本の配線(6あるいは
7)との場合の実施例を示したが、前者(・よ少)シく
とも2本以上、畝者は少なくとも1本以上の配線であJ
tばよい。また両者の配置はそれぞれ等間隔、同一形状
である必要はなく、任意の間隔、任意の形状であっても
よい。いず扛にしても、複数本βる後者の配線の一部あ
るいは全ての配線全それぞれ設計に応じて、前者の配線
のうちの少なくとも1本以上の配線と交叉するように配
置することにより、前者と後者の個々の配線間の結合答
It低減することができる。その−側音$7図に示す。
第7図では、配線1〜5と同一方向に3本の配線71,
72.73に配置した場合である。本実施例では、配線
72は配線1〜5どの結合容量が設計上問題とはならな
い位置に配置でさるため、従来11ilシ配θ1〜・5
と平行に配置している。一方配線71は配線1〜3に、
また配線73は配線4゜5に近接した位置に配置ぜざる
を4す、設帽上個個の配線間の結合容量の低7威?はか
る心安がある。
72.73に配置した場合である。本実施例では、配線
72は配線1〜5どの結合容量が設計上問題とはならな
い位置に配置でさるため、従来11ilシ配θ1〜・5
と平行に配置している。一方配線71は配線1〜3に、
また配線73は配線4゜5に近接した位置に配置ぜざる
を4す、設帽上個個の配線間の結合容量の低7威?はか
る心安がある。
そこで図示L/ζように配線71.73’に配線1〜5
と交叉さぜることによシ、結−8(6血の低倣が可能と
なる。
と交叉さぜることによシ、結−8(6血の低倣が可能と
なる。
壕だ第3図〃)ら第7図におい−C1黙:線及び点線で
示した配線がそれぞれ複数本ある揚上、ここではそれぞ
れの配線群が同一製造工程で形Jl<でれた例について
述べたが、本発明では前L″及び電属の配線群はそれぞ
れ同一製造工程で形成された場合に限ら才1ず、そfL
ぞれのへ己緑君イ、にし」、かLなつ/C製造]二程で
形成された配線ケ含んでも〃・甘わ7′?い。例λは実
線で示した配線イ((゛が紀1層目のA、tで、点線で
示した配線群の一部が第2層目のA4で、残シが第3層
目のA、tで形成された場合などで4)る。
示した配線がそれぞれ複数本ある揚上、ここではそれぞ
れの配線群が同一製造工程で形Jl<でれた例について
述べたが、本発明では前L″及び電属の配線群はそれぞ
れ同一製造工程で形成された場合に限ら才1ず、そfL
ぞれのへ己緑君イ、にし」、かLなつ/C製造]二程で
形成された配線ケ含んでも〃・甘わ7′?い。例λは実
線で示した配線イ((゛が紀1層目のA、tで、点線で
示した配線群の一部が第2層目のA4で、残シが第3層
目のA、tで形成された場合などで4)る。
さらに第4図からと目7図に2いて、図中点線で示した
配線が′:p:線で示した配線の1本りるいC・↓複数
本と重なpをもつ程に配線幅が広い場合でも、以上述べ
てきたように階段状にあるいは実線で示した配線とある
角度をもって直線的に配置し、より多数本と交叉させる
ことによシ、実線の個々の配線との結合容量全低減する
ことができる。
配線が′:p:線で示した配線の1本りるいC・↓複数
本と重なpをもつ程に配線幅が広い場合でも、以上述べ
てきたように階段状にあるいは実線で示した配線とある
角度をもって直線的に配置し、より多数本と交叉させる
ことによシ、実線の個々の配線との結合容量全低減する
ことができる。
以上いくつかの簡単な実施例を用いて本発明の概念を示
してきたが、以下でにより具体的な実施例によυ本発明
を説明する。
してきたが、以下でにより具体的な実施例によυ本発明
を説明する。
第8図は本発明を半導体メモリ装置のデコーダ部に適用
した一実施例を示したものである。半導゛ 体メモリ装
置ではデコーダ部23に複数のアドレス信号用の配線が
配置されている。アドレス信号用の配線数はメモリ容量
の規模、メモリアレーの構成方法などで異なってくるが
、少なくとも2本以上の複数である。ここでは図面を簡
略化するため、6本のアドレス信号用配線16〜21が
配置されている場合を示す。このように配置された配線
16〜21と同一方向に例えば微小な信号を扱う信号線
22を1本デコーダ部23に配置する際、第8図に示す
ように22’!+−階段状に配置することにより、特定
のアドレス信号から大きな雑音ケ受けず、各アドレス信
号から受ける雑音を低減することができる。また22を
第8図に示すように全てのアドレス信号用配線と交叉す
るように配置することによシ、入力されたアドレスパタ
ーンによシ22に誘起される雑音の大きさが変化するこ
とはなく、いずれのアドレスパターンが入力さ扛ても2
2が受ける雑音は等しく小さな値となる。なお第8図に
おいて22を階段状に配置したが、第5図で示したよう
に16〜21に対しである角度でもって直線的に交叉す
るように配置してもよい。
した一実施例を示したものである。半導゛ 体メモリ装
置ではデコーダ部23に複数のアドレス信号用の配線が
配置されている。アドレス信号用の配線数はメモリ容量
の規模、メモリアレーの構成方法などで異なってくるが
、少なくとも2本以上の複数である。ここでは図面を簡
略化するため、6本のアドレス信号用配線16〜21が
配置されている場合を示す。このように配置された配線
16〜21と同一方向に例えば微小な信号を扱う信号線
22を1本デコーダ部23に配置する際、第8図に示す
ように22’!+−階段状に配置することにより、特定
のアドレス信号から大きな雑音ケ受けず、各アドレス信
号から受ける雑音を低減することができる。また22を
第8図に示すように全てのアドレス信号用配線と交叉す
るように配置することによシ、入力されたアドレスパタ
ーンによシ22に誘起される雑音の大きさが変化するこ
とはなく、いずれのアドレスパターンが入力さ扛ても2
2が受ける雑音は等しく小さな値となる。なお第8図に
おいて22を階段状に配置したが、第5図で示したよう
に16〜21に対しである角度でもって直線的に交叉す
るように配置してもよい。
さらにスタティック型メモリ及び行あるいは列デコーダ
の一方をスタティック化したメモリ(例えば特開昭58
−29195号に記載)においては、常に互いに補(c
omptementary )の関係になるような一組
のアドレス信号用の配線をデコーダ部23に配置するこ
とがあり、配線22をこの一組の配線と又又きせること
によシ、22はこの一組の配線から常にC0n1pl
emen t aryな雑音を受けることになシ、雑音
を相殺することが可能となる。
の一方をスタティック化したメモリ(例えば特開昭58
−29195号に記載)においては、常に互いに補(c
omptementary )の関係になるような一組
のアドレス信号用の配線をデコーダ部23に配置するこ
とがあり、配線22をこの一組の配線と又又きせること
によシ、22はこの一組の配線から常にC0n1pl
emen t aryな雑音を受けることになシ、雑音
を相殺することが可能となる。
恣て微小な信号を扱う配線が複数設置されている代表例
な例として半導体メモリ装置のメモリアレーがある。以
下では本発明ケメモリアレーに適用した実施例を、■ト
ランジスタへ408メモリを例に説明する。
な例として半導体メモリ装置のメモリアレーがある。以
下では本発明ケメモリアレーに適用した実施例を、■ト
ランジスタへ408メモリを例に説明する。
第9図はデータ対線D i 、 ]) i (131,
1,31)が近接してレイアウトされているメモリセル
(folded dataline arrang
ementあるいは2交点セルと称す)で第1゛り成さ
れ/ζメモリアレー内に、アドレスバッファ回路やその
他の制御回路でi、l、l;成妊れる周辺回路24.2
5間のやりとりに関係する信号ffAAあるいは給′+
li#iI26をデータ線及びワード線127と異なる
!!A造工程で形成した導電膜で配置〆tした例である
。図において128はメモリセル、29はメデコーダ・
ドライバ、30はデータ対飽に読み出でれた信号を差動
増幅するセンスアンプである。図に示したように配線2
6をデータ対線に対しである角度でもって交叉するよう
に配置することにより、配線26をメモリアレー内に配
置しても、個々のデータ線と26との結合雑音ケ小さく
することができ、特定のデータ対線だけに大きな雑音ケ
誘起することはなくなる。まンrデーク対線と26が異
なめ製造工程で形成さ肛る7妄めに起こり1得るマスク
ず7tが生じても、26とデータ対線1) i 、 I
) iとの結合容量に不平衡音生じることはない。なお
データ線、ワード線及び配線26ケ形成する導電膜とし
ては、例えばSem1conductor World
1982年12月号p、32あるいは特開昭57−
198592号に記載されているように、ワード線ケポ
リSLあるいはMO,Wなどの金属あるいはこれらの金
属のノリサイドで、データ線の主要部全第1層目のAt
で形成し、配線26ケ第2層目のAtで形成することな
どが考(ら、fLる。また後で述べる1父点セルでは、
例えば同誌p、32.p、33あるいは![、¥開明5
7−198592号に記載を7%でいるように、ワード
イ鼎を第11曽目のAtで、テータ線ケボリSi心るい
に拡散層で形成し、配線26を第2層目のA7で形成す
ることなどが考えられる。しかし本発明の主旨は、デー
タ線と配線26全父叉でせることにより、結合容置全低
減させることにあり、本発明の思想を逸脱しηい限り、
導電膜の組み合せはここに述べたものに限定されるもの
ではない。
1,31)が近接してレイアウトされているメモリセル
(folded dataline arrang
ementあるいは2交点セルと称す)で第1゛り成さ
れ/ζメモリアレー内に、アドレスバッファ回路やその
他の制御回路でi、l、l;成妊れる周辺回路24.2
5間のやりとりに関係する信号ffAAあるいは給′+
li#iI26をデータ線及びワード線127と異なる
!!A造工程で形成した導電膜で配置〆tした例である
。図において128はメモリセル、29はメデコーダ・
ドライバ、30はデータ対飽に読み出でれた信号を差動
増幅するセンスアンプである。図に示したように配線2
6をデータ対線に対しである角度でもって交叉するよう
に配置することにより、配線26をメモリアレー内に配
置しても、個々のデータ線と26との結合雑音ケ小さく
することができ、特定のデータ対線だけに大きな雑音ケ
誘起することはなくなる。まンrデーク対線と26が異
なめ製造工程で形成さ肛る7妄めに起こり1得るマスク
ず7tが生じても、26とデータ対線1) i 、 I
) iとの結合容量に不平衡音生じることはない。なお
データ線、ワード線及び配線26ケ形成する導電膜とし
ては、例えばSem1conductor World
1982年12月号p、32あるいは特開昭57−
198592号に記載されているように、ワード線ケポ
リSLあるいはMO,Wなどの金属あるいはこれらの金
属のノリサイドで、データ線の主要部全第1層目のAt
で形成し、配線26ケ第2層目のAtで形成することな
どが考(ら、fLる。また後で述べる1父点セルでは、
例えば同誌p、32.p、33あるいは![、¥開明5
7−198592号に記載を7%でいるように、ワード
イ鼎を第11曽目のAtで、テータ線ケボリSi心るい
に拡散層で形成し、配線26を第2層目のA7で形成す
ることなどが考えられる。しかし本発明の主旨は、デー
タ線と配線26全父叉でせることにより、結合容置全低
減させることにあり、本発明の思想を逸脱しηい限り、
導電膜の組み合せはここに述べたものに限定されるもの
ではない。
第10図は本発明の別な実施例で、第9図の配線26を
階段状に配!’t した例で、この配置によシ配線26
と個々のデータ線との結合容量の低減全行なっている。
階段状に配!’t した例で、この配置によシ配線26
と個々のデータ線との結合容量の低減全行なっている。
さらに結合谷m1f−低減するためには、配線26が交
叉するデータ線の数會増やすことにより可能である。寸
だ本実施例では、配線26のうちデータ線と平行な部分
のピッチLl とデータ線のピッチL2とを等しくシ、
配線26がデータ純金等分割(第10図では9等分)し
た点で交叉するようにし、前記マスクすれによる26と
f−夕対線1) i 、 D iとの結合容量の不平衡
を極力なくすようにしている。
叉するデータ線の数會増やすことにより可能である。寸
だ本実施例では、配線26のうちデータ線と平行な部分
のピッチLl とデータ線のピッチL2とを等しくシ、
配線26がデータ純金等分割(第10図では9等分)し
た点で交叉するようにし、前記マスクすれによる26と
f−夕対線1) i 、 D iとの結合容量の不平衡
を極力なくすようにしている。
第11図及び第12図は、データ対線Di。
]) i (231、231)がを間約に離れている方
式のセル(op、en datal ine ar
rangementあるいは1交点セルと称す)で44
4成されたメモリアレーに対して本発明を適用した実施
例である。第11図では配線26をデータ線に対しであ
る角度でもって直線的に交叉をせることにより、第12
図では26を階段状に配置することにより、26と個々
のデータ線との結合容@全低減している。
式のセル(op、en datal ine ar
rangementあるいは1交点セルと称す)で44
4成されたメモリアレーに対して本発明を適用した実施
例である。第11図では配線26をデータ線に対しであ
る角度でもって直線的に交叉をせることにより、第12
図では26を階段状に配置することにより、26と個々
のデータ線との結合容@全低減している。
また本実施例では、データ対線がセンスアンプ30を中
心に両側に広がったu5成となっており、配線26をセ
ンスアンプ列を中心に対称になるように配置し、データ
対線の容量不平衡ケなくしている。
心に両側に広がったu5成となっており、配線26をセ
ンスアンプ列を中心に対称になるように配置し、データ
対線の容量不平衡ケなくしている。
以上の実施例ではメモリアレー内の配線が1本の場合を
示した。第13図、第14図は配線が2本(261,2
62)の場合の、2交点セル及び1父点セル方式に対す
る実施例ケそれぞれ示している。才たここでは配線全階
段状に配置した例を示したが、第9図及び第11図に示
した配置方法も考えられる。
示した。第13図、第14図は配線が2本(261,2
62)の場合の、2交点セル及び1父点セル方式に対す
る実施例ケそれぞれ示している。才たここでは配線全階
段状に配置した例を示したが、第9図及び第11図に示
した配置方法も考えられる。
また同様にしてn本の配線(n>1.nの最大値は製造
可能な配線ピッチの最小値によって制限される)に対し
て適用可能である。
可能な配線ピッチの最小値によって制限される)に対し
て適用可能である。
さて以上の実施例では、周辺回路24.25間のやりと
りに関係する配線金メモリアレー内に配萌−シ/ζ例ケ
示しプロが、デコーダの出力をメモリアレー内に配置?
Jijする場合も本発明全適用できる。この例として特
開昭57−198592号に記載されCいる例がある。
りに関係する配線金メモリアレー内に配萌−シ/ζ例ケ
示しプロが、デコーダの出力をメモリアレー内に配置?
Jijする場合も本発明全適用できる。この例として特
開昭57−198592号に記載されCいる例がある。
第15図ぐよ上記発明に対して本う6明ケ適用した場打
の概念全示したもので、うる。上記発明では1本のデー
タ線を図示するよりに3In+1*3’□、2゜−9=
午31. n、3* 31・、4のように分割し、分割
した′bデークβメの一部に、Yデコーダ・ドライバ3
4による11−1力制御1I4j信号YC(36,)で
開園1さl1るスイッチ35イ+1 + 35 ++
121 35 m13 。
の概念全示したもので、うる。上記発明では1本のデー
タ線を図示するよりに3In+1*3’□、2゜−9=
午31. n、3* 31・、4のように分割し、分割
した′bデークβメの一部に、Yデコーダ・ドライバ3
4による11−1力制御1I4j信号YC(36,)で
開園1さl1るスイッチ35イ+1 + 35 ++
121 35 m13 。
35、、.4を設け、他に属する分割でれたデータ線(
たとえば31□1,1)と共通な共通入出力線33、.
332.333,334との間でデータの授受を行フよ
うようにしたものである。通常メモリアレーの面積増加
ケなく・!ため、YCは第9図心るいf−、H:I’%
11図の配線26と同様にデータ線と′1′らなる製
造工程で形成σ社る。本実施例では、上記YC−i例え
ば階段状にメモリアレー内に配値し、データ線と父メさ
せることにJ:す、YC(例えば361)と一本のテー
タ想(例えば31−、+1との結合容量を小さくし、Y
Cがテータ貨“に誘起する結0雑音を小さくすることが
可能となる。なお第15図に2いて、32はリード/ラ
イトコントロール回路で、WEは7」き込み読み出し卸
1fi!l伯−号、八はアドレス信号、D+nUデータ
入力、Dout(はデータjll力である。
たとえば31□1,1)と共通な共通入出力線33、.
332.333,334との間でデータの授受を行フよ
うようにしたものである。通常メモリアレーの面積増加
ケなく・!ため、YCは第9図心るいf−、H:I’%
11図の配線26と同様にデータ線と′1′らなる製
造工程で形成σ社る。本実施例では、上記YC−i例え
ば階段状にメモリアレー内に配値し、データ線と父メさ
せることにJ:す、YC(例えば361)と一本のテー
タ想(例えば31−、+1との結合容量を小さくし、Y
Cがテータ貨“に誘起する結0雑音を小さくすることが
可能となる。なお第15図に2いて、32はリード/ラ
イトコントロール回路で、WEは7」き込み読み出し卸
1fi!l伯−号、八はアドレス信号、D+nUデータ
入力、Dout(はデータjll力である。
第16図は2父点セルに対する本発明の実施例で、第1
5図の分割され/ζデータ、′1うJ!L1; (以下
サブアレーと称す)の一部仁・1eL−’Cもので1ち
る。、本実施例では、YCを階段状に配置することによ
り、選択1れた1本のYC(たとえば3G、)と1本の
データ線(7゛辷と、tば131 n+1+□)とQ方
’l’i合各員金小をくしている。すなわち第16図に
示したよう(て1本のYC全的えは異なる5本のデータ
線と交叉させることにより、結合・8貫はC8十cl(
一部の組み合せではCOあるいはC+ )となシ、従
来の配qf方法に比べ約1/3に低減でき、記憶情報の
高S/Nな読み出し書き込みが行なえる。
5図の分割され/ζデータ、′1うJ!L1; (以下
サブアレーと称す)の一部仁・1eL−’Cもので1ち
る。、本実施例では、YCを階段状に配置することによ
り、選択1れた1本のYC(たとえば3G、)と1本の
データ線(7゛辷と、tば131 n+1+□)とQ方
’l’i合各員金小をくしている。すなわち第16図に
示したよう(て1本のYC全的えは異なる5本のデータ
線と交叉させることにより、結合・8貫はC8十cl(
一部の組み合せではCOあるいはC+ )となシ、従
来の配qf方法に比べ約1/3に低減でき、記憶情報の
高S/Nな読み出し書き込みが行なえる。
式らに結合容量を低ン織する/ヒめには、YCが交叉す
る異なるデータ線の本数を増やすことにより達成できる
。また本実施例では、第10図で述べたように、YCの
うちデータ線と平行な部分のピッチをデータ線のピッチ
と等しくシ、烙らにYCがデータ組を偶数等分した点で
交叉するように配置することにより、YCとデータ対線
X)t 、 ]) tとの結合容量がマスクずれによシ
ネ平衡にならないようにしている。すなわち第16図で
はデータ線131 n+12mあるいは131 h+I
t、、とYCの線群との結合容量−は3x(C,−1〜
Ct )となり、マスクずれが生じてもCo とC1
の値が変動するたけで、両名の容11.は等しくなる。
る異なるデータ線の本数を増やすことにより達成できる
。また本実施例では、第10図で述べたように、YCの
うちデータ線と平行な部分のピッチをデータ線のピッチ
と等しくシ、烙らにYCがデータ組を偶数等分した点で
交叉するように配置することにより、YCとデータ対線
X)t 、 ]) tとの結合容量がマスクずれによシ
ネ平衡にならないようにしている。すなわち第16図で
はデータ線131 n+12mあるいは131 h+I
t、、とYCの線群との結合容量−は3x(C,−1〜
Ct )となり、マスクずれが生じてもCo とC1
の値が変動するたけで、両名の容11.は等しくなる。
したがってマスクずれにより]) t 、 ]) iの
容1社が異なってしまい、これが雑音源になるようなこ
とはない。
容1社が異なってしまい、これが雑音源になるようなこ
とはない。
第17図は1交点セルに対する本発明の実施例で第16
図と同様に第15図のサブアレーの一部全示したもので
ある。本実施例では1父点セルであるため、センスアン
プ列に対してYCが対称になるように装置しでおり、テ
ーク対線間でYCとの結合容量の不平型が生じないよう
にしている。
図と同様に第15図のサブアレーの一部全示したもので
ある。本実施例では1父点セルであるため、センスアン
プ列に対してYCが対称になるように装置しでおり、テ
ーク対線間でYCとの結合容量の不平型が生じないよう
にしている。
捷だ第16図においても第15図で述べたように、YC
が交叉する異なるデータ線の本数を増−やずことにより
、選択された1本のYCとデータ線との結合容量を芒ら
に低減することが可能である。
が交叉する異なるデータ線の本数を増−やずことにより
、選択された1本のYCとデータ線との結合容量を芒ら
に低減することが可能である。
第18図は2交点セルに対する本蛇明の他の実施例で、
2つのザブアレーに共ユ]hにセンスアンプ列を配置し
た例である。センスアンプ會共通にし、Xデコーダ29
で制@I aれるゲートコントロール37を介しでいず
れか一力のザブアレーに結線される。本実施例では一方
のザブ7゛レーのYCの配置を第16図と同様に行7よ
い、他方のザブアレーのYCはセンスアンプ列に対して
対称に配置烙れる。このように配置することにより、Y
’C?l(階段状にしても両方のザブアレーの電気的!
特性全同一にすることが可能である。
2つのザブアレーに共ユ]hにセンスアンプ列を配置し
た例である。センスアンプ會共通にし、Xデコーダ29
で制@I aれるゲートコントロール37を介しでいず
れか一力のザブアレーに結線される。本実施例では一方
のザブ7゛レーのYCの配置を第16図と同様に行7よ
い、他方のザブアレーのYCはセンスアンプ列に対して
対称に配置烙れる。このように配置することにより、Y
’C?l(階段状にしても両方のザブアレーの電気的!
特性全同一にすることが可能である。
なお以上の実施例ではYCi各データ線ごとに設置した
が、特開昭57−125186号公報に述べられている
方法(例えば170脚ケ2組設けた場合など)を用い、
YC4−任意の組数のデータ対線に対応して設けた場合
でも本発明全適用できる。
が、特開昭57−125186号公報に述べられている
方法(例えば170脚ケ2組設けた場合など)を用い、
YC4−任意の組数のデータ対線に対応して設けた場合
でも本発明全適用できる。
壕だ上記のようにYCの配線ピッチを広け、その中にY
Cとは異なる44号線や給電線を設けた場合にも本発明
を適用できる。その−例′ff:第19図に示す。
Cとは異なる44号線や給電線を設けた場合にも本発明
を適用できる。その−例′ff:第19図に示す。
第19図はI10線を2組設けることにより、YCの配
線ピッチ全2倍に広げ、その中に周辺回路24.25間
のやりとりだけに関係する信号や給′屯線kYcと同じ
層を用いて配置した例である。
線ピッチ全2倍に広げ、その中に周辺回路24.25間
のやりとりだけに関係する信号や給′屯線kYcと同じ
層を用いて配置した例である。
これにより、メモリアレー内全メモリアレーの面積ケ大
きくすることなく、また雑音音大きくすることなく、配
#!ヲ走らせることができ、高S/Nにチップ面積金低
減することができる。なおここではYCと異なる配線を
YCと同じ層で配置し/ζ場合について述べたが、例え
ばY(1−第2層目のA7で、他の配線金第3層目のA
tで形成した場合など、異なる製造工程で形成すること
も考えられる。
きくすることなく、また雑音音大きくすることなく、配
#!ヲ走らせることができ、高S/Nにチップ面積金低
減することができる。なおここではYCと異なる配線を
YCと同じ層で配置し/ζ場合について述べたが、例え
ばY(1−第2層目のA7で、他の配線金第3層目のA
tで形成した場合など、異なる製造工程で形成すること
も考えられる。
以上、本発明の実梱例ケいくつか述べたが、本発明の適
用飽囲はここで述べた捩施世」に限足されず、発明の思
想全逸脱しないIIIa囲で柚々変史可能なことは百う
寸でもンよい。ン’Cとえば、2父点セルを用いたメモ
リアレーにおいて、データ対線の谷量不平衡盆なくずた
めにたとえば特開昭57−198592号の第23図に
示されでいるような対線同志′f−箱数回父叉袋せた構
成と本発明全組み合せることも考えられる。また、ここ
では第9図以降1トランジスタ八10Sメモリケ例にし
て説明したが、フリップフロッグ型のメモリセルなどで
構成されたいわゆるスタティックメモリ(ブCどえば特
開昭57−198592号の第30図)やROMあるい
はこ才しらのメモリ全同一チップ内に搭載したマイクロ
プロセッサなどについても、本発明によシメモリアレー
内の雑音の低減〃)可11ヒとなる。
用飽囲はここで述べた捩施世」に限足されず、発明の思
想全逸脱しないIIIa囲で柚々変史可能なことは百う
寸でもンよい。ン’Cとえば、2父点セルを用いたメモ
リアレーにおいて、データ対線の谷量不平衡盆なくずた
めにたとえば特開昭57−198592号の第23図に
示されでいるような対線同志′f−箱数回父叉袋せた構
成と本発明全組み合せることも考えられる。また、ここ
では第9図以降1トランジスタ八10Sメモリケ例にし
て説明したが、フリップフロッグ型のメモリセルなどで
構成されたいわゆるスタティックメモリ(ブCどえば特
開昭57−198592号の第30図)やROMあるい
はこ才しらのメモリ全同一チップ内に搭載したマイクロ
プロセッサなどについても、本発明によシメモリアレー
内の雑音の低減〃)可11ヒとなる。
また、第3図から第7図の実施例はメモリに限らず、い
わゆる彼細加工技術を用いて製造されるLSI一般につ
いて適用でき、本発明により配線間の結合雑音を低減す
ることかできる。時にCλ4O8−LSIにおいては、
ランチアップ現象を防ぐために、チップ内の配線の雑音
全低減することが必要で、本発明による雑酔の低減が特
に重要と考えられる。
わゆる彼細加工技術を用いて製造されるLSI一般につ
いて適用でき、本発明により配線間の結合雑音を低減す
ることかできる。時にCλ4O8−LSIにおいては、
ランチアップ現象を防ぐために、チップ内の配線の雑音
全低減することが必要で、本発明による雑酔の低減が特
に重要と考えられる。
以上述べたように、本発明によれば、配線間の結合雑音
を低減でき、高S/NなLSIが実現できる。
を低減でき、高S/NなLSIが実現できる。
第1図、第2図は従来例を説明するだめの図、第3図力
・ら絹7図は本発明の一実施図、第8図から第19図は
本発明の他の実施例を示す半導体メモリ装置の要部回路
構成図である。 1〜7.16〜22,26,40,41,71゜72.
73,261,262・・・18号線あるいは給′r1
(線、8〜11°°゛結合Wit、12・・・スルーホ
ール、13〜15・・・411f膜、23・・・デコー
ダ、24゜25.32・・・周辺回路、27,127,
227・・・ワード線、28,128,228・・・メ
モリセル、29・・・X7’コーダ、3o・・・センス
アンプ、31゜31.131,131,231,231
・・・データ線、33・・・I10線、34・・・Yデ
コーダ、35・・・スイッチ、36・・・制岬線、37
・・ゲートコントロ■ 7 図 し=−一一−−−−−−−− ′73 ■3図 第 7 図 ′¥ 1θ 図 五 11 図 第 1z 図 不 13 図 Z /乙 図 罰 16 図 VJ17 図
・ら絹7図は本発明の一実施図、第8図から第19図は
本発明の他の実施例を示す半導体メモリ装置の要部回路
構成図である。 1〜7.16〜22,26,40,41,71゜72.
73,261,262・・・18号線あるいは給′r1
(線、8〜11°°゛結合Wit、12・・・スルーホ
ール、13〜15・・・411f膜、23・・・デコー
ダ、24゜25.32・・・周辺回路、27,127,
227・・・ワード線、28,128,228・・・メ
モリセル、29・・・X7’コーダ、3o・・・センス
アンプ、31゜31.131,131,231,231
・・・データ線、33・・・I10線、34・・・Yデ
コーダ、35・・・スイッチ、36・・・制岬線、37
・・ゲートコントロ■ 7 図 し=−一一−−−−−−−− ′73 ■3図 第 7 図 ′¥ 1θ 図 五 11 図 第 1z 図 不 13 図 Z /乙 図 罰 16 図 VJ17 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、任意の間隔、任意の形状で配置された、少なくとも
2本以上の複数の配線からなる第1の配線群と、任意の
間隔、任意の形状で第1の配線群とほぼ同一方向に配置
された少なくとも1本以上の配線からなる第2の配線群
と全備えた半導体装置に2いて、第2の配線群の一部あ
るいは全ての配線がそれぞれ、第1の配線群のうち少な
くとも1本以上の配線と交叉するように配置されたこと
を特徴とする半導体装置。 2、・ データ線群と、データ線群内にデータ線方向に
配置された少なくとも1本以上の配線と全備えた半立体
メモリ装置において、上記第1項の1喉。 3、データ線を、独立に記憶情報全処理できる複数のザ
ブ線に分割し、サブ線に共通なデコーダで制御された信
号で、サブ線の入出力記憶情報を制御した半畳体メモリ
装置において、上記第記第1項の第1の配線群をサブ線
に、第2の配線群全デコーダで制御された信号線及びザ
ブ線群内にデータ線方向に配置された配線とした半導体
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105711A JPS59231852A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58105711A JPS59231852A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59231852A true JPS59231852A (ja) | 1984-12-26 |
JPH0580831B2 JPH0580831B2 (ja) | 1993-11-10 |
Family
ID=14414919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58105711A Granted JPS59231852A (ja) | 1983-06-15 | 1983-06-15 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59231852A (ja) |
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1983
- 1983-06-15 JP JP58105711A patent/JPS59231852A/ja active Granted
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