JPS5916358A - 混成集積回路の製造方法 - Google Patents

混成集積回路の製造方法

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JPS5916358A
JPS5916358A JP12557482A JP12557482A JPS5916358A JP S5916358 A JPS5916358 A JP S5916358A JP 12557482 A JP12557482 A JP 12557482A JP 12557482 A JP12557482 A JP 12557482A JP S5916358 A JPS5916358 A JP S5916358A
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JP
Japan
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lead frame
lead
substrate
solder
integrated circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12557482A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaki Kinoshita
昌己 木下
Takao Oiwa
大岩 隆夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Japan Radio Co Ltd
Nihon Musen KK
Original Assignee
Japan Radio Co Ltd
Nihon Musen KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Japan Radio Co Ltd, Nihon Musen KK filed Critical Japan Radio Co Ltd
Priority to JP12557482A priority Critical patent/JPS5916358A/ja
Publication of JPS5916358A publication Critical patent/JPS5916358A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4846Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
    • H01L21/4853Connection or disconnection of other leads to or from a metallisation, e.g. pins, wires, bumps
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3405Edge mounted components, e.g. terminals

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発明は、混成集積回路形成基板のリード導出部を、前
記基板の一つの端部面に適宜間隔をもって複数個並設し
た状態に揃え2個々のリード導出部に電気信号授受用リ
ードフレームを半田伺けする混成集積回路の製造方法に
関するものである。
一般に、混成集積回路を製造するとき、アルミナの基板
の表面に銀、パラジウムを主成分とする厚膜を印刷焼成
して形成した金属パターンに。
各種機能素子を附設しリードフレームを半田付けして接
合し製造している。
しかしながら、銀、パラジウムの厚膜焼成した前記金属
パターンは、使用する半田材料の成分である錫への拡散
現象を起こしやすく、この拡散現象による侵蝕作用によ
り半田接合強度が著しく低下してし1つだめ、半田の溶
融温度の過度の上昇を避けること、前記金属パターンを
長時間溶融状態に曝さないこと等、半田の溶融温度の条
件をきびしく管理することが要求される。
この場合、前記各種機能素子をあらかじめ前記金属パタ
ーンに半田付けしたのち、該基板の該金属パターンに前
記リードフレームを半田接合する方法として、糸半田材
料を用いて半田鏝により該リードフレームの各リード片
を順次接合する方法あるいは溶融した半田槽の中に該リ
ードフレームのリード片先端開口部の接合部分のみを浸
漬して半田を被覆し、あらかじめ半田を被罹した基板を
該リード片先端開口部に挿入した状態で加熱し半田を溶
融して接合する等の方法が用いられてきた。
しかしながら、従来の上記方法において、前者は9強固
で安定した半田接合を得るために、糸半田の量および半
田鏝の温度等にきびしい作業条件が要求され2作業の能
率も悪く、また後者は、リードフレームのリード片先端
開口部に基板を挿入するとき該リード片先端開口部が変
形(湾曲)するため均一に加熱することが難しく。
半田の接合強度が弱くまたバラツキが多い等の欠点があ
った。
リードフレームは、その厚さが0.25 mm程度と薄
く、シたがって、リードフレームのリード片先端開1]
部と混成集積回路形成基板のリード導出部との半田付け
の処理過程で、その半田付は部分におけるリードフレー
ムのリード片先端開口部の機械的変形は半田付は処理過
程で力半田付は部の信頼性に著しい影響を与える。
本発明は上“述の如き点に鑑み基板にリードフレームを
半田接合する工程において1強固で安定した信頼性の高
い半田接合部を得るとともに。
量産性に優れ、接合強度が強固でバラツキの少ない製造
方法を提供することを目的とする。
具体的には9本発明は、あらかじめ燐青銅拐質体に錫メ
ッキし、ばね性を有するリードフレームのリード片先端
開口部に、基板のリード導出部(これはあらかじめ半田
被覆されている)を挿入し、該リードフレームと該基板
の嵌合挾持部を、昇降温機能を有する発熱体により上方
から加圧、圧着して加熱し、高速かつ接合強度が強固で
安定した信頼性の高い半田接合部を作り出す混成集積回
路の製造方法にある。
以下9本発明を図面に基づき詳細に説明する。
第1図は本発明の実施対象である混成集積回路形成基板
を示す一部切欠斜視図、である。
混成集積回路形成基板1は、アルミナを材質とし/ζも
のでこ力板面上に多数の機能素子2を載置し半田付けし
ている。該基板1への信号の授受を行なうためのリード
フレーム4は半田層5において厚膜金属パターン3の一
部すなわちリード導出部と半田接合する。
第2図は本発明カー実施例を説明するだめの斜視図であ
る。
該リードフレーム4のリード片先端開口部4′に基板1
を挿入し9図のように該リードフレーム4[刑し該基板
1の方向に張力6′、左右方向に張力σ′、6“′を加
え、該リードフレーム4と該基板1との嵌合を均一化し
ている。8はリードフレーム4の長手方間側縁帯状体部
、8′は該側線帯状体部に穿たれた孔部である。
該リードフレーム4に該基板1を嵌合した状態で、昇降
温制御できる発熱体7により上方から加圧圧着し昇温し
て半田層5を溶融する。この結果、該リードフレーム4
のリード片先端開口部に該基板1を挿入することにより
生じる変形は矯IJ兄され、該リードフレーム4と該基
板lとは均一に接合することができる。
加圧昇温して半田を溶融し半田接合を行なうため、降温
し固化した半田接合部は、前記金属パターン3と該リー
ドフレーム4との接合間隔を僅少な厚さを介して形成さ
れる。
第3図はり−トフレームと金属パターン接合間隔ズJ半
田接合力の関係を示すグラフである。
これによれば、リードフレームと金属パターンの接合間
隔が小さくなると半H]接合力は増大し。
間隔が大きくなると減少する傾向が得られた。
この結果、リードフレームと金属パターンとの接合間隔
を60μm以下に抑えることにより強い接合力を得るこ
とができる。
第4図は1本発明方法を適用するだめの製造装置の概要
説明図で、ドラム9に巻装されたロール状のリードフレ
ーム4が同図の右方向へ移動するようになっている。テ
ンンヨンロー−y 10’ 。
lσl 、 10allは、そのピン部が、リードフレ
ーム4の長手方向側縁帯状体部8に穿たれた孔部8′に
挿入された状態を呈するようにしているので(第2図参
照)、ロール状のリードフレーム4が前述のように右方
向へ移動することになる。
リードフレーム4′の移動過程で、′リードフレーム4
は不要のリード片を切り落すカッタル部11で一時停止
する。その切り落しが行わhだ後。
リードフレーム4は基板挿入機構部12の位置でも−り
停止し、リードフレーム4のリード片先端開口部が基板
(7) IJ−ド導出部に嵌着される。
その後、テンションローラ10′とIO“の間では。
リードフレーム4は既に第2図で説明したように左右方
向に張力が加えられる。その状態で前記リード片先端開
口部(第1図の4’)VC,発熱体7と加圧機構部13
が一体構造のかたちで接触する。はじめに加圧され次に
発熱昇温状態を呈する。
14は加圧、昇温される発熱体7がその機能を呈する前
に、すなわち加圧時点で加温状態となり基板のリード導
出部を予熱するホットプレートである。15は送り爪で
ある。16は送りソリン乙17は定寸カッターシリング
である。この17により側縁帯状体部8が切り落される
上述の作用を呈するようにするため、テンションローラ
10’、 10″、 10”、基板挿入機構部12.発
熱体7.加圧機構部13.送り爪15.送す/リンダ1
6および定寸カノターノリンダ17の各関連動作は、コ
ントロールボックス18により制御される。
以上説明したように、熱的衝撃に脆弱な機能素子を基板
に半田接合するとき、同時に基板のリード導出部に半田
を被覆して半田層を作り、リードフレームリード片先端
開口部を嵌合し9発熱体により加圧昇温して半田接合す
るため高速の作業性が得られる。
また、リードフレームに張力を加えた状態で基板に嵌合
させて加圧昇温しで半田接合するため。
リードフレームの抜ケ等によるリードフレームと基板と
の嵌合状態の変動が少なく2組立後の基板の寸法精度が
高く、また、リードフレームと金属パターン間の接合間
隔を60μm以下に抑えることが可能であり、したがっ
て僅少量の半田材料で接合できるため半田の良好なウェ
ットアングルを作り、前記した金属パターン材料に含ま
れる銀が半田材料の成分である錫へ拡散する現象は僅少
となり強い接合力を一部ることができる。
まだ、僅少量の半田材料で接合できる/こめ半田材料へ
のフラツクス量も僅少量しか必要とせず。
したがってあらかじめ基板に半田材料を溶融被覆すると
き半田」二ニ生ずるフラックスの溶融未分wFa着層を
有機溶剤で除去する必要がない。
また、あらかじめ半田桐浩を溶融被覆するとき。
フラックスに含まれる有機溶剤成分が蒸発して未含准状
態になるだめ、リードフレームを基板に嵌合し発熱体に
より加圧昇温して半IB接合するとき有機溶剤の蒸発に
よる発熱体表面の汚損がきわめて少なくなり、したがっ
て該発熱体とリードフレームとの接触が安定し1品質が
均一な信頼性の高い半田接合部を得ることができる等、
太いに効果を発揮する利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は混成集積回路形成基板の一部切欠斜視図、第2
図は本発明の一実施例を説明するだめの斜視図、第3図
はリードフレームと金属・2タ一ン接合間隔ズJ半田接
合力力関係を示すグラフ、第4図は本発明方法を適用す
るだめの製造装置V)概要説明図である。 1・・混成集積回路形成基板、2・機能素子。 3・・・41Jlr金属パターン、4 リードフレーム
。 4′・リードフレーム4のり−1・片先端開口部。 5 半田層、  6’、6”、、6“″ 張力、7 発
?(体、8リードフレーム4の長手方向側縁帯状体部。 8′・・リードフレーム4の長手方向(Ul+縁帯状体
部8に穿たれた孔部、9・・・トラム、lO′、10″
、川“tテンションローラ、11  カッタ一部、12
・・・基板挿入機構部、 13・・・加圧機構部、14
・・・ホットプレート、15・・送り爪、]6・・・送
りシリング、17・定寸カッター7リンダ、18・・・
コントロールポック特許出願人  日本無線株式会社 第2図 リードフレームと金属バター7接合間隔(μ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 個々のリード片それぞれの一端を二股状部に形成し、他
    端を側縁帯状体部に固定して形成し!’c ’)−ドフ
    レームにおいて、→蕃各二股状部ノリード片先端開口部
    を、混成集積回路形成基板(のあらかじめ半田被覆され
    ている各リート導出部に嵌合挾持させ、その各嵌合挾持
    部に同時に発熱体を接触させかつ該発熱体を加圧、昇温
    させることにより、−挙に、各リード導出部を前記各二
    股状部のリード片先端開口部と半田接合することを特徴
    とする混成集積回路の製造方法。
JP12557482A 1982-07-19 1982-07-19 混成集積回路の製造方法 Pending JPS5916358A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4785533A (en) * 1986-02-21 1988-11-22 Hitachi, Ltd. Hybrid integrated circuit device, and method of and lead frame for use in manufacturing same
US4816427A (en) * 1986-09-02 1989-03-28 Dennis Richard K Process for connecting lead frame to semiconductor device
US6762182B1 (en) 1999-01-07 2004-07-13 Vanderbilt University Converting cox inhibition compounds that are not COX-2 selective inhibitors to derivatives that are COX-2 selective inhibitors

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4785533A (en) * 1986-02-21 1988-11-22 Hitachi, Ltd. Hybrid integrated circuit device, and method of and lead frame for use in manufacturing same
US4816427A (en) * 1986-09-02 1989-03-28 Dennis Richard K Process for connecting lead frame to semiconductor device
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