JPS59128352A - d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 - Google Patents
d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法Info
- Publication number
- JPS59128352A JPS59128352A JP260083A JP260083A JPS59128352A JP S59128352 A JPS59128352 A JP S59128352A JP 260083 A JP260083 A JP 260083A JP 260083 A JP260083 A JP 260083A JP S59128352 A JPS59128352 A JP S59128352A
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- Japan
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- dimethylcyclopropanecarboxylic acid
- acid
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- dimethylcyclopropanecarboxylic
- acid containing
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はデヒドロペブチターゼl阻害剤の中間体などと
して、まt:光学分割剤として、あるいは光学活性アミ
ンの光学純度測定用試薬として有用なd−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸の取得方法に関する。
して、まt:光学分割剤として、あるいは光学活性アミ
ンの光学純度測定用試薬として有用なd−2,2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸の取得方法に関する。
従来ヨリ、d−2s 2−ジメチルシクロプロパンカル
ボン酸の製造方法としては、dt −2。
ボン酸の製造方法としては、dt −2。
2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸ヲ光学分割する
方法が知られており、分割方法として1)キニンによる
分割(特開昭55−51028号公報)、2)d−また
はt−α−フェネチルアミンによる分割(英国特許第1
,260,847号明細書)が公知である。
方法が知られており、分割方法として1)キニンによる
分割(特開昭55−51028号公報)、2)d−また
はt−α−フェネチルアミンによる分割(英国特許第1
,260,847号明細書)が公知である。
しかし、前者の方法は分割剤としては非常に高価で、し
かもその供給が不安定なキニンを使用しなければならな
いうえ、収率も低いという問題があり、また後者の方法
は旋光度が+65゜といつ光学純度の近いd−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸しか得られないとい
う問題があり、これらの方法はいずれも光学純度の高い
d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を工業
的に有利に得る方法とは言えない。
かもその供給が不安定なキニンを使用しなければならな
いうえ、収率も低いという問題があり、また後者の方法
は旋光度が+65゜といつ光学純度の近いd−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸しか得られないとい
う問題があり、これらの方法はいずれも光学純度の高い
d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を工業
的に有利に得る方法とは言えない。
このようなことから、本発明者らは光学的純1(7)高
イ、d−2、2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を
好収率で、工業的有利に製造すべく検討の結果、本発明
に至った。
イ、d−2、2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を
好収率で、工業的有利に製造すべく検討の結果、本発明
に至った。
すなわち本発明は、d一体を過剰に含む2゜2−ジメチ
ルシクロプロパンカルボン酸に、一般式(1) (式中、R1およびR2は水素原子または低級アルキル
基を示す。) で示されるt−ジフェニルエチルアミン類を作用させて
光学精製することを特徴とするd−2゜2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸の製造方法である。
ルシクロプロパンカルボン酸に、一般式(1) (式中、R1およびR2は水素原子または低級アルキル
基を示す。) で示されるt−ジフェニルエチルアミン類を作用させて
光学精製することを特徴とするd−2゜2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸の製造方法である。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明において原料として用いられるd一体を過剰に含
む2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸は、たと
えば米国特許第4,029,690号明細書に記載され
るような方法により容易に得ることができる。
む2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸は、たと
えば米国特許第4,029,690号明細書に記載され
るような方法により容易に得ることができる。
ここで、d一体過剰率すなわち光学純度は任意であるが
、通常15%以上、好ましくは80%以上がよい。
、通常15%以上、好ましくは80%以上がよい。
d一体を過剰に含む2,2−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸の光学精製処理は、該カルボン酸と前記一般式
(I)で示されるt−ジフェニルエチルアミン類とを溶
媒中で反応させてジアステレオマー塩を形成せしめ、反
応混合物を徐冷してd一体のジアステレオマー塩を析出
させ、これを分離したのち分解することにより行われる
。
ルボン酸の光学精製処理は、該カルボン酸と前記一般式
(I)で示されるt−ジフェニルエチルアミン類とを溶
媒中で反応させてジアステレオマー塩を形成せしめ、反
応混合物を徐冷してd一体のジアステレオマー塩を析出
させ、これを分離したのち分解することにより行われる
。
ジアステレオマー塩の生成反応において用いられるt−
ジフェニルエチルアミン類の使用量は、d一体を過剰に
含む2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸に対し
て通常1.2 倍モル以下、好ましくは0,5〜1倍モ
ルである。
ジフェニルエチルアミン類の使用量は、d一体を過剰に
含む2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸に対し
て通常1.2 倍モル以下、好ましくは0,5〜1倍モ
ルである。
ここで一般式(r)で示されるt−ジフェニルエチルア
ミン類としては、たとえばt−α−フェニル−β−(p
−1リル)−エチルアミン、l−α−(p−1リル)−
β−フェニル−エチルアミン、l−α−フェニル−β−
フェニル−エチルアミンなどがあげられる。
ミン類としては、たとえばt−α−フェニル−β−(p
−1リル)−エチルアミン、l−α−(p−1リル)−
β−フェニル−エチルアミン、l−α−フェニル−β−
フェニル−エチルアミンなどがあげられる。
上記反応で使用される有機溶媒としては、メタノール、
エタノール、イソプロパツール、n−プロパノール、ア
セトンおよびそれらの水溶液マたは酢酸エチル、トルエ
ン、ベンゼン、クロロホルム、ヘキサン、テトラヒドロ
フランあるいはそれらの混合溶媒等が例示される。
エタノール、イソプロパツール、n−プロパノール、ア
セトンおよびそれらの水溶液マたは酢酸エチル、トルエ
ン、ベンゼン、クロロホルム、ヘキサン、テトラヒドロ
フランあるいはそれらの混合溶媒等が例示される。
反応温度については一20°C〜使用溶媒の沸点の範囲
で任意であるが、生成したジアステレオマー塩か析出す
る温度以上が好ましい。
で任意であるが、生成したジアステレオマー塩か析出す
る温度以上が好ましい。
上記の反応によってジアステレオマー塩を生成せしめた
のち、反応混合物を徐冷し、目的とするd一体のジアス
テレオマー塩を析出させる。
のち、反応混合物を徐冷し、目的とするd一体のジアス
テレオマー塩を析出させる。
もし必要とあらば取得した結晶はさらに再結晶を繰りか
えし精製することができる。
えし精製することができる。
このようにして得た結晶はこれを戸別し、さらに必要な
らば乾燥させたのち、酸あるいはアルカリによってこれ
を分解する。酸を用いる場合は塩酸、硫酸、リン酸、酢
酸等が用いられ、遊IIするd−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸は有機溶媒(たとえばトルエン、
ベンゼン、クロロホルム、酢酸エチルエステル、エチル
エーテルなど)で抽出単離される。
らば乾燥させたのち、酸あるいはアルカリによってこれ
を分解する。酸を用いる場合は塩酸、硫酸、リン酸、酢
酸等が用いられ、遊IIするd−2,2−ジメチルシク
ロプロパンカルボン酸は有機溶媒(たとえばトルエン、
ベンゼン、クロロホルム、酢酸エチルエステル、エチル
エーテルなど)で抽出単離される。
分解反応にアルカリを用いる場合は苛性ソーダ、苛性カ
リ等が用いられ、分解反応液を有機溶媒で抽出すること
により、分割剤として使用したt−ジフェニルエチルア
ミン類が有機溶媒層に移行し、当該光学活性カルボン酸
は塩として水層に移行する。との水層に酸を加えて中和
し、有機溶媒で抽出するとd−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸が有機層に抽出される。
リ等が用いられ、分解反応液を有機溶媒で抽出すること
により、分割剤として使用したt−ジフェニルエチルア
ミン類が有機溶媒層に移行し、当該光学活性カルボン酸
は塩として水層に移行する。との水層に酸を加えて中和
し、有機溶媒で抽出するとd−2,2−ジメチルシクロ
プロパンカルボン酸が有機層に抽出される。
このときの酸および抽出有機溶媒としては、前記と同様
のものが用いられる。
のものが用いられる。
カくシてd−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸が効率よく得られ、また使用したt−ジフェニルエチ
ルアミン類も回収することができる。
酸が効率よく得られ、また使用したt−ジフェニルエチ
ルアミン類も回収することができる。
次に実施例をあげて本発明を説明する。
実施例1
2.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(d一体過
剰率70%)80f、t−α−フェニル−β−(P−ト
リル)エチルアミン55.5g、イソプロピルアルコー
ル50〇−および水500−をフラスコに仕込み、80
分還流する。その後、別途に調整したd−2゜2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸とt−α−フェニル−β
−(p−トリル)エチルアミンとのジアステレオマー塩
の結晶を50〜52°Cで種晶として少量加え、20°
Cまで徐冷し、析出した結晶を戸別する。
剰率70%)80f、t−α−フェニル−β−(P−ト
リル)エチルアミン55.5g、イソプロピルアルコー
ル50〇−および水500−をフラスコに仕込み、80
分還流する。その後、別途に調整したd−2゜2−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸とt−α−フェニル−β
−(p−トリル)エチルアミンとのジアステレオマー塩
の結晶を50〜52°Cで種晶として少量加え、20°
Cまで徐冷し、析出した結晶を戸別する。
得られた結晶55.21にエチルエーテル200−およ
び水50−を加え、これに10π塩酸水65gを加えて
塩分解し、d−2゜2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸を有機層に抽出する。
び水50−を加え、これに10π塩酸水65gを加えて
塩分解し、d−2゜2−ジメチルシクロプロパンカルボ
ン酸を有機層に抽出する。
有機層を水洗し、エーテルを留去したのち更に蒸留を行
ってd−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸1
9.6 II (i[165,8%)を得た。
ってd−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸1
9.6 II (i[165,8%)を得た。
〔α]、+147.0° (C−1、クロロホルム)d
一体過剰率 99.4% 含 it 99.8%実施例2 2.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(d一体過
剰率50%)、/8.Of、を−α−フェニル−β−(
P−トリル)エチルアミン55.5gおよびベンゼン2
tをフラスコに仕込み、1時間還流する。
一体過剰率 99.4% 含 it 99.8%実施例2 2.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(d一体過
剰率50%)、/8.Of、を−α−フェニル−β−(
P−トリル)エチルアミン55.5gおよびベンゼン2
tをフラスコに仕込み、1時間還流する。
その後、実施例1で用いたと同種の種晶を少量加え、l
OoCまで徐冷し、析出した結晶を戸別する。
OoCまで徐冷し、析出した結晶を戸別する。
得られた結晶は20倍重量部のベンゼンで再結晶を行い
、89.2 f/の結晶を得た。
、89.2 f/の結晶を得た。
この結晶89.2 IIにエチルエーテル150−およ
び水40−を加え、これに10%塩酸水46Nを加えて
塩分解する。
び水40−を加え、これに10%塩酸水46Nを加えて
塩分解する。
以下、実施例1と同様に後処理、精製してd−2,2−
ジメチルシクロプロパンカルボン酸18.7g(収率4
5.7%)を得た。
ジメチルシクロプロパンカルボン酸18.7g(収率4
5.7%)を得た。
[α]、 +146.2° (C=1、クロ、ロホル
ム)d一体過剰率 99,1% 含 量 99.4% 実施例3 2.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(d一体過
剰率80%)80g、を−α−フェニル−β−フェニル
エチルアミン51.9y、メチルアルコール500−お
よび水500meをフラスコに仕込み、30分還流する
。そノ後、別途に調整した(1−2 、2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸とt−α−フェニル−β−フヱ
ニルエチルアミンとのジアステレオマー塩の結晶を45
〜50°Cで種晶として少量加え、20°Cまで徐冷し
、析出した結晶を戸別する。
ム)d一体過剰率 99,1% 含 量 99.4% 実施例3 2.2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸(d一体過
剰率80%)80g、を−α−フェニル−β−フェニル
エチルアミン51.9y、メチルアルコール500−お
よび水500meをフラスコに仕込み、30分還流する
。そノ後、別途に調整した(1−2 、2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸とt−α−フェニル−β−フヱ
ニルエチルアミンとのジアステレオマー塩の結晶を45
〜50°Cで種晶として少量加え、20°Cまで徐冷し
、析出した結晶を戸別する。
得られた結晶54.1 f/にエチルエーテル200−
および水50+iを加え、これに1゜%塩酸水66.5
9を加えて塩分解する。以下実施例1と同様に後処理、
精製してd−2゜2−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸19.8g(収率64.8%)を得た。
および水50+iを加え、これに1゜%塩酸水66.5
9を加えて塩分解する。以下実施例1と同様に後処理、
精製してd−2゜2−ジメチルシクロプロパンカルボン
酸19.8g(収率64.8%)を得た。
〔α]、 + 146.8° (C−1、クロロホル
ム)d一体過剰率 99.5% 含 量 99.2%
ム)d一体過剰率 99.5% 含 量 99.2%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 d一体を過剰に含む2,2−ジメチルシクロプロパンカ
ルボン酸に、一般式(1) (式中、几1およびR2は水素原子または低級アルキル
基を示す。) で示されるt−ジフェニルエチルアミン類を作用させて
光学精製することを特徴とするd−2゜2−ジメチルシ
クロプロパンカルボン酸の製造方法
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP260083A JPS59128352A (ja) | 1983-01-10 | 1983-01-10 | d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 |
US06/482,259 US4542235A (en) | 1982-04-12 | 1983-04-05 | Method for producing an optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid |
DE8383301925T DE3366389D1 (en) | 1982-04-12 | 1983-04-06 | Method for producing and optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid |
EP83301925A EP0093511B1 (en) | 1982-04-12 | 1983-04-06 | Method for producing and optically active 2,2-dimethylcyclopropanecarboxylic acid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP260083A JPS59128352A (ja) | 1983-01-10 | 1983-01-10 | d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59128352A true JPS59128352A (ja) | 1984-07-24 |
JPH0417936B2 JPH0417936B2 (ja) | 1992-03-26 |
Family
ID=11533874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP260083A Granted JPS59128352A (ja) | 1982-04-12 | 1983-01-10 | d−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59128352A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11279111A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-10-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な菊酸の製造方法 |
-
1983
- 1983-01-10 JP JP260083A patent/JPS59128352A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11279111A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-10-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学活性な菊酸の製造方法 |
JP4576642B2 (ja) * | 1998-01-29 | 2010-11-10 | 住友化学株式会社 | 光学活性な菊酸の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0417936B2 (ja) | 1992-03-26 |
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