JPS59101096A - Storage circuit - Google Patents
Storage circuitInfo
- Publication number
- JPS59101096A JPS59101096A JP57209984A JP20998482A JPS59101096A JP S59101096 A JPS59101096 A JP S59101096A JP 57209984 A JP57209984 A JP 57209984A JP 20998482 A JP20998482 A JP 20998482A JP S59101096 A JPS59101096 A JP S59101096A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- voltage
- output
- circuit
- vdd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C17/00—Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は不揮発性メモリを使用し、かつパッケージン
グに際して高圧電源ビン等を不要にし、もって小形化を
達成した記憶巨回路に開田る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention uses non-volatile memory and eliminates the need for a high-voltage power supply bottle during packaging, thereby creating a large memory circuit that can be miniaturized.
本出願人は先に、中筒用の各種の電子制御回路、例えは
駆動スイッチが入ると一定の周111Jてランプを点滅
させるラン775181回路、駆動スイッチが入ると一
定時間の間ランプが点;:Jりるルームランプタイマ回
路あるいは入ノ〕周波数と設定周波数とを比較して両者
の周波数が一致したどきにヂャイムを駆動する制限速度
Δ−バー警報回路を専用の回路を用いることなり?1・
L出回路で組立可能としたプログラマブル集積回路を提
案した。The present applicant previously proposed various electronic control circuits for the middle cylinder, such as a run 775181 circuit that flashes a lamp for a fixed period of time 111J when the drive switch is turned on; : Is it possible to use a dedicated circuit for the limited speed Δ-bar alarm circuit that compares the JRuru room lamp timer circuit or the set frequency and the set frequency and drives the dimming when the two frequencies match? 1・
We proposed a programmable integrated circuit that can be assembled using L output circuits.
このプログラマブル集積回路の塁本購成は、時間基準と
なるクロック信号を発生づる発振回路と、前記発振回路
の出力にJ:つ−C歩進制御されるプログラマブルカウ
ンタと、入力端子、出力端子、前記発振回路、カウンタ
間の接続経路に挿入された?!2数のグー1〜と、前記
プログラマブルカウンタの設定値データおよび上記各グ
ー[への制御信号を記憶り−る記憶回路とを含/υで集
積形成されており、前記記憶回路の記憶内容に応じて動
作し一トが決定されるにうになされている。This programmable integrated circuit has an oscillation circuit that generates a clock signal as a time reference, a programmable counter that is controlled in increments by the output of the oscillation circuit, an input terminal, an output terminal, Was the oscillation circuit inserted into the connection path between the counter? ! It is integrated and formed by /υ including two numbers 1 to 1 and a memory circuit that stores the set value data of the programmable counter and the control signal to each of the programmable counters, and the memory contents of the memory circuit are The system is designed to operate accordingly and determine which one to use.
ところで、記憶回路としてそのメモリセルがPr< o
M<例えばヒュース゛型)、EPROM (例えばコ
ントロールゲート付きFAMO8)、FEPROM(例
えは’MNO3)等が使用される場合、ヒユーズの溶断
やフローティンググー1−への電子の注入あるいは窒化
膜と酸化膜との境W面イ」近のトラップへのキャリアの
注入に際し、一般には平常時の回路動作に必要な電圧よ
りも数(f5高い電圧が必要であり、このためこのよう
な記憶回路においては通常時の回路動作用外部電踪喘了
の他に、更に高圧電源用外部端子を設け、書込時にあっ
てはメモリセルに高圧電源を印加Jる必要があった。By the way, as a memory circuit, the memory cell is Pr<o
When M<for example, fuse type), EPROM (for example, FAMO8 with a control gate), FEPROM (for example, 'MNO3), etc. When injecting carriers into the trap near the boundary W surface A, a voltage higher than the voltage required for normal circuit operation is generally required. In addition to the external terminal for circuit operation, it was necessary to provide an external terminal for a high-voltage power supply and apply the high-voltage power to the memory cell during writing.
しかしながら、このような従来の記憶回路にあっては、
電源として高低2つの電源を外部から供給する必要があ
るため、ICのビン数を極力少くしたい場合、例えば゛
4ビンのDIRICパッケージ力ビン1個、出力ビン1
個、アースビン1個。However, in such conventional memory circuits,
Since it is necessary to supply two power sources, high and low, from the outside, if you want to minimize the number of IC bins, for example, a 4-bin DIRIC package, one output bin and one output bin.
, 1 earth bottle.
回路動作電源ビン1個)を(突出したいような場合、こ
のようなICパッケージに書換え可能な不揮発性メモリ
を導入Jるためには、更に高圧電源ビンを1本追加りる
必要があるためバッド面積の増加によって歩留が低下し
てロス1〜アツプにつながり、さらに、パッケージが大
型化してしまうという問題点があった。In order to introduce rewritable non-volatile memory into such an IC package, it is necessary to add one high-voltage power supply bin, so if you want to make the circuit operation power supply bin stand out, it is necessary to add one high voltage power supply bin. There are problems in that the increase in area lowers the yield, leading to losses of 1 to 100%, and further increases the size of the package.
この発明は、このような従来の問題点に着目してなされ
たもので゛、その目的とするところはこの種不揮発性メ
Lりを使用した記憶回路のコス1へダウンおよびパック
゛−ジングの小型化を達成づることにある。The present invention was made in view of these conventional problems, and its purpose is to reduce the cost of memory circuits using this type of non-volatile memory and to reduce the packaging size. The aim is to achieve this goal.
この発明は上記[1的を達成覆るために、外部電源入力
端子に印加される電源電圧を降圧して高低2種の電圧を
形成し、データ入力端子の論理状態に応じてその何れか
を出力する電圧切替回路を内蔵りるとともに、この電圧
切替回路の出力電圧を不揮発性メモリのコンl−ロール
ゲートへと印加J−るようにしたことを特徴とするもの
である。In order to achieve the above object [1], the present invention steps down the power supply voltage applied to the external power supply input terminal to form two voltages, high and low, and outputs either of them depending on the logic state of the data input terminal. The device is characterized in that it has a built-in voltage switching circuit for switching, and the output voltage of this voltage switching circuit is applied to the control gate of the nonvolatile memory.
以下に、この発明の好適な一実施例を添イ」図面に従っ
て詳細に31明する。A preferred embodiment of the present invention will be explained in detail below with reference to the accompanying drawings.
第1図はこの発明に係わる記憶回路の一例を示す回路図
である。同図において、ANDゲート1はイネーブル端
子「Nに供給されるアドレス信号(メモリセル指定用)
によってイネーブルされ、データ入力端子INに供給さ
れる論理データを通過させるようになされている。また
、このANDゲート1は電源端子Vooに供給される外
部電源によって動作するようになされている。FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a memory circuit according to the present invention. In the same figure, AND gate 1 is an address signal (for specifying a memory cell) supplied to an enable terminal "N".
, and is configured to pass logic data supplied to the data input terminal IN. Further, this AND gate 1 is operated by an external power supply supplied to the power supply terminal Voo.
次に、電圧切替回路2はANDグー1〜1の出力を反転
するインバータ3と、このインバータ3の出ツノで開開
制御されるM OS I−ランジスタ4と、このMOS
l−ランジスタ4と電源Vooとの間に直列接続され
た2個の分圧用抵抗5,6とがらなり、これら2個の抵
抗5,6の接続点の電位を出ノノザるようになされてい
る。Next, the voltage switching circuit 2 includes an inverter 3 that inverts the output of the AND gates 1 to 1, a MOS I-transistor 4 whose opening and opening are controlled by the output of the inverter 3, and a MOS
Two voltage dividing resistors 5 and 6 are connected in series between the L-transistor 4 and the power source Voo, and the potential at the connection point between these two resistors 5 and 6 is output.
従って、ANDグー1−1の出力が1」″の状態におい
ては、1〜ランジスタ4はオフして電圧切替回路2から
は電源Vooが直接に出力されるのに対し、ANDグー
1−1の出力がL″の状態では、トランジスタ4はオン
して電源VDDは抵抗5と6に、よってVoo−に分圧
、降圧された後出力される。Therefore, when the output of AND goo 1-1 is 1'', transistors 1 to 4 are turned off and the voltage switching circuit 2 directly outputs the power source Voo, whereas the output of AND goo 1-1 is When the output is in the L'' state, the transistor 4 is turned on and the power supply VDD is voltage-divided and stepped down to Voo- by the resistors 5 and 6, and then output.
次に、メモリ部7は前記電圧切替回路2の出力電圧がそ
のコン1ヘロールグー1〜に印加される不揮発1」メモ
リセル8と、外部出力端子VDDと前記メモリセル8と
の間に介挿され、かつ前記A N +)グー1〜1の出
力の論理状態に応じてAンAフリーるセル電源供給用の
MOS l−ランジスタ9と、前記外部電源入力端子V
ooど前記メモリセル8との間に前記MO8I−ランジ
スタ9と並列に介挿された負荷抵抗として機能JるMO
S l〜ランジスタ10どから構成されており、負荷抵
抗として(幾重するMOS l−ランジスタ1oの電圧
降下に対応する信号が外部出力端子OU−1−がら出力
されるようになされている。Next, the memory section 7 is inserted between a non-volatile 1'' memory cell 8 to which the output voltage of the voltage switching circuit 2 is applied to the controller 1 and the external output terminal VDD and the memory cell 8. , and the MOS l-transistor 9 for supplying cell power, which is free depending on the logic state of the outputs of the A N +) groups 1 to 1, and the external power input terminal V.
A MO serving as a load resistor is inserted between the memory cell 8 and the MO8I in parallel with the transistor 9.
It is composed of transistors 10 and 10, and a signal corresponding to the voltage drop across the multiple MOS transistors 1o is outputted from an external output terminal OU-1 as a load resistor.
次に、第2図はメモリセル8の具体的な半導体構造の断
面を示づ−もので、同図において11は基板、12はド
レイン領域、13はソース領域、14はグー1−酸化膜
、15はフローディングゲート。Next, FIG. 2 shows a cross section of a specific semiconductor structure of the memory cell 8, in which 11 is a substrate, 12 is a drain region, 13 is a source region, 14 is a goo-1-oxide film, 15 is a floating gate.
16は第2酸化膜、17はコントロールグー1−218
は層間絶縁膜、19はドレイン化IJj、20はソース
電極である。16 is the second oxide film, 17 is the control group 1-218
1 is an interlayer insulating film, 19 is a drain IJj, and 20 is a source electrode.
同図から明らかなように、この不揮発性メ−Eす8はコ
ン1ヘロールグー1へイ」フローディンググー1〜Il
?i造のものが使用されてJ)す、書込の電圧とし−(
はコントロールグー1−17にVCGとして(20〜2
5V)、ドレイン電極19にVooとして(2〜20V
)が必要である。また、古込み04間としては数十〇l
s程度が必要である。As is clear from the same figure, this non-volatile matrix 8 is connected to the floating group 1 to Il.
? The write voltage is -(
is used as a VCG for control goo 1-17 (20-2
5V), and Voo to the drain electrode 19 (2 to 20V).
)is necessary. In addition, it is several tens of liters as an old 04 room.
s is required.
このメモリi−ランジスタのスレショルド電圧は、出込
み前で1”−2V(VTHB)、書込後で十数V(VT
I−1^)である。The threshold voltage of this memory i-transistor is 1"-2V (VTHB) before writing and writing, and more than ten V (VTHB) after writing.
I-1^).
従って、読出時のコントロールグー1へ電圧VCGは
VTHB<VCG<VTHA・・・(1)である必要が
ある。Therefore, the voltage VCG to control group 1 during reading must satisfy VTHB<VCG<VTHA (1).
まlζ、書込時の電源電圧を25■、読出時の電源電圧
を12Vとづ−ると、リベでの回路が21込時の電源電
圧でも動作するためには、30V以上の耐圧をもつlv
l OS トランジスタで第111成りる必要がある。Assuming that the power supply voltage during writing is 25V and the power supply voltage during reading is 12V, in order for the circuit in the circuit to operate even at the power supply voltage of 21V, it must have a withstand voltage of 30V or more. lv
It is necessary to form the 111th transistor with l OS transistor.
次に、以上のlf4成よりなる記憶回路の動作を第3図
の波形図を参照しながら説明づる。Next, the operation of the memory circuit composed of the above lf4 configuration will be explained with reference to the waveform diagram of FIG.
まず、ANDグー1へ1のイネーブル端子ENに冒」″
が供給されている状態〈書込時)において、アータ入乃
端子INに書込みに充分なパルス幅〈例えば数+nts
以上)を右する゛1−ビ′パルスが供給されると、第3
図(A)に示J如く、ANDグーi−1の出力は当該パ
ルスの゛]−ビ′期間に対応して′冒−ビ’ (Vo
o)となり、この出力はトランジスタ9をオンさせるこ
とになる。First, connect the enable terminal EN of AND 1 to 1.''
is supplied (at the time of writing), a pulse width sufficient for writing (for example, number + nts) is supplied to the arter input terminal IN.
When the ``1-bi'' pulse is supplied, the third
As shown in FIG.
o), and this output turns on the transistor 9.
また、ANDゲート1の出力がパトド′どなると、この
“Hr+出ツノはインバータ3によって11+1に反転
された後、1〜ランジスタ4のゲートへと供IF2され
これをオフさせる。すると、抵抗5,6によって溝成さ
れた分圧回路は分圧回路として賎能しなくなり、電圧切
替回路2からは電源Vooがそのまま出力され、この出
ツノはメモリセル8のコントロールゲートへと供給され
、これにより、メモリセル8に幻する書込み電流の供給
が行なわれ、メモリセル8のスレショルド電圧はVTH
BからVTHAへと上昇する。Furthermore, when the output of the AND gate 1 is turned off, this "Hr+ output horn is inverted to 11+1 by the inverter 3, and then supplied to the IF2 to the gates of the resistors 1 to 4 to turn them off. Then, the resistor 5, The voltage dividing circuit formed by the groove 6 no longer functions as a voltage dividing circuit, the voltage switching circuit 2 outputs the power source Voo as it is, and this output is supplied to the control gate of the memory cell 8. A virtual write current is supplied to the memory cell 8, and the threshold voltage of the memory cell 8 becomes VTH.
B to VTHA.
次に、以上の書込が終了した後、当該メモリセルの記憶
内容の読出しは、書込時以外は、イネーブル端子ENに
゛ト1°′は供給されないので、△NDゲート1の出力
がL Itとなることによって、トランジスタ4はオン
し、抵抗5.6で形成された分圧回路が機能することに
よって、電圧切(It、回路2からは電源V o o
h’ V o o−に降圧されて出力される。Next, after the above writing is completed, when reading the memory contents of the memory cell, the output of the △ND gate 1 is low since 1°' is not supplied to the enable terminal EN except during writing. By becoming It, the transistor 4 is turned on, and the voltage dividing circuit formed by the resistor 5.6 functions, so that the voltage is cut off (It, from the circuit 2, the power supply V o o
The voltage is stepped down to h' V o o- and output.
ここで、この第2電源電圧vDD′の値は、予め
VTHB<VDD−<VTHAとなルにうニ設定されて
いる。Here, the value of the second power supply voltage vDD' is set in advance so that VTHB<VDD-<VTHA.
従って、未だ書込が行われていないメモリセル8にあっ
ては、第3図(B)に示づ如<、]ン1〜ロールゲグー
電圧Voo”の値は当該メモリセル8のスレショルドレ
ベルV T Hs J:りも大となってメモリセル8は
オンし、出力OUTは” L ”〈OV)とイするのに
対して、既に書込が柊ゎっIcメモ、リセル8にあって
は第3図(C)に示づ如く、コントロールゲート電圧V
oo−の値はスレショルド電圧VTHAよりも大となっ
て、当該メモリセル8はAフ状態となり、その出ノjO
UTは“’ l−1”(Voo)となるのである。Therefore, in the memory cell 8 to which writing has not yet been performed, the value of the voltage Voo'' is the threshold level V T of the memory cell 8, as shown in FIG. 3(B). Hs J: The memory cell 8 is turned on due to the large current, and the output OUT is "L" (OV), whereas the 3rd level of the Ic memory and recell 8 which has already been written is As shown in figure (C), the control gate voltage V
The value of oo- becomes larger than the threshold voltage VTHA, and the memory cell 8 enters the A off state, and its output voltage jO
UT becomes "'l-1" (Voo).
このように、この実施例にあっては外部電源端子Voo
から供給され1.:電源電圧を内部において降圧り−る
ことによって第1.第2の電源電圧V。In this way, in this embodiment, the external power supply terminal Voo
Supplied from 1. : By lowering the power supply voltage internally, the first. Second power supply voltage V.
o、Voo”を形成するようにし、これを書込パルスに
応答して適宜コントロールグー1−8に切替供給するよ
うにしたため、従来の記憶回路のよ−うに外部から2種
類の電源電圧を取込むために2つの電源端子を設けるこ
とが不要どなって、この種メモリ回路を最小ピン数のD
IRパックージに収納することが可能となるとともに、
またIC基板上に形成されたパッドの占右面偵が小さく
なることにより歩留を向上させてコストダウンにも資J
るものである。o, Voo" and are switched and supplied to control groups 1-8 as appropriate in response to the write pulse, so unlike conventional memory circuits, two types of power supply voltages can be externally connected. Since it is not necessary to provide two power supply terminals for the
It becomes possible to store it in the IR package, and
In addition, by reducing the surface area of the pads formed on the IC substrate, yields can be improved and costs can be reduced.
It is something that
なお、前記実hI!i例においでは電圧切替回路2とし
て、直列接続された2個の抵抗に更にMo5t〜ランジ
スタを接続し、これを能動化d5るいは非能動化するよ
うに構成したが、これに替えて第4図に示す如く電源V
oρとアース間に2個の抵抗5a、5aを直列後@する
とともに、インバー’:21を介して交互にオンオフ可
(1uな2個のMO8I−ランジスタ22.23を設け
、これら2個のMOSトランジスタを介して電源電圧V
DDあるい(よ分圧回路の接続点の電位を択一的に出力
するよ゛うに構成しても同様な機能を達成することがで
きる。In addition, the actual hI! In example i, the voltage switching circuit 2 was configured by further connecting Mo5t to two resistors connected in series and activating it or inactivating it. As shown in the figure, the power supply V
Two resistors 5a and 5a are connected in series between oρ and ground, and can be turned on and off alternately via an inverter (21). Power supply voltage V through the transistor
A similar function can be achieved by configuring the voltage divider circuit to selectively output the potential at the connection point of the voltage dividing circuit.
以上の実施例の説明でも明らかなように、この発明によ
れば不揮発性メモリセルを使用しIC記憶回路の4ビン
パツケージが可(jシどなるとともに、従来回路に比し
てパッド面積の減少により歩留を向上してコメ1〜ダウ
ンを可能にするものである。As is clear from the above description of the embodiments, according to the present invention, it is possible to implement a 4-bin package of an IC storage circuit using nonvolatile memory cells. This improves the yield and makes it possible to reduce rice 1 to 1 down.
第1図は本発明に係わる記憶回路の構成を示Jブロック
図、第2図は不JiF発性メモリセルの半導体断面1f
4造を示す図、第3図は本発明記憶回路の動作を説明り
るための各部の信号波形図、第4図は電圧切替回路の他
の一例を示す回路図である。
2・・・・・・・・・電圧切替回路
8・・・・・・・・・メモリセル
9・・・・・・・・・セル電源供給用のM OS l−
ランジスタ10・・・・・・0荷抵抗として機能するM
OSトランジスタ
IN・・・・・・データ入ツノ端子
OUT ・・・ 出 ツノ 娼) 子特許出願人
I」産自動車株式会社FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of a memory circuit according to the present invention, and FIG. 2 is a semiconductor cross section 1f of a non-JiF-emitting memory cell.
FIG. 3 is a signal waveform diagram of each part for explaining the operation of the memory circuit of the present invention, and FIG. 4 is a circuit diagram showing another example of the voltage switching circuit. 2... Voltage switching circuit 8... Memory cell 9... MOS l- for cell power supply
Transistor 10...M that functions as a zero load resistance
OS transistor IN... Data input terminal OUT... Output terminal) Child patent applicant I" San Jidosha Co., Ltd.
Claims (1)
と; 前記外部電源入力端子に印加される電源電圧を降圧して
高低2種の電圧を形成し、前記データ入ツノ端子の論理
状態に応じてその何れかを出力りる電圧切替回路と; 前記電圧切替回路の出力電圧がその」ンl〜ロールグー
1−に印加される不揮発性メEリセルと:前記外部電源
入力端子ど前記メモリセルとの間に介挿され、前記デー
タ入力端子の論理状態に応じてオン、オフするセル電源
供給ゲートと;前記外部電源入力端子と前記メモリセル
どの間に前記ヒル電源供給ゲー1へと並列に介挿された
負荷抵抗素子と; 前記負荷抵抗素子の電圧降下に対応する信号が導出され
る外部出力9;::了とを只Wiりることをq!J徴と
する記憶回路。(1) An external power supply input terminal to which a power supply voltage is applied; a data input terminal to which logical data to be written is input; the power supply voltage applied to the external power supply input terminal is stepped down to provide two types of high and low voltages; a voltage switching circuit that forms a voltage and outputs one of the voltages depending on the logic state of the data input terminal; memory cell: a cell power supply gate that is inserted between the external power input terminal and the memory cell and turns on and off depending on the logic state of the data input terminal; the external power input terminal and the memory cell; A load resistance element inserted in parallel to the hill power supply gate 1 between the cells; and an external output 9 from which a signal corresponding to the voltage drop of the load resistance element is derived. q that! Memory circuit with J sign.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57209984A JPS59101096A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Storage circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57209984A JPS59101096A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Storage circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59101096A true JPS59101096A (en) | 1984-06-11 |
Family
ID=16581929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57209984A Pending JPS59101096A (en) | 1982-11-30 | 1982-11-30 | Storage circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59101096A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8902985A (en) * | 1988-12-15 | 1990-07-02 | Samsung Electronics Co Ltd | STATIC ANY ACCESSIBLE MEMORY. |
JP2014116050A (en) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Seiko Instruments Inc | Nonvolatile memory circuit |
-
1982
- 1982-11-30 JP JP57209984A patent/JPS59101096A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8902985A (en) * | 1988-12-15 | 1990-07-02 | Samsung Electronics Co Ltd | STATIC ANY ACCESSIBLE MEMORY. |
JP2014116050A (en) * | 2012-12-10 | 2014-06-26 | Seiko Instruments Inc | Nonvolatile memory circuit |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0766256B1 (en) | Voltage regulator for semiconductor non-volatile electrically programmable memory devices | |
US5553030A (en) | Method and apparatus for controlling the output voltage provided by a charge pump circuit | |
US7072218B2 (en) | Semiconductor integrated circuit, semiconductor non-volatile memory, memory card, and microcomputer | |
US6304487B1 (en) | Register driven means to control programming voltages | |
JPH0823080A (en) | Manufacture of memory device and memory cell | |
US6327183B1 (en) | Nonlinear stepped programming voltage | |
US6246610B1 (en) | Symmetrical program and erase scheme to improve erase time degradation in NAND devices | |
US5210716A (en) | Semiconductor nonvolatile memory | |
JPS6297199A (en) | Improvement in non-volatile memory cell | |
KR100223623B1 (en) | Test circuit for non-volatile storage cell | |
US8004904B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
EP0459246A2 (en) | EPROM register | |
JPH07109710B2 (en) | Field effect semiconductor integrated circuit | |
JP2003223794A (en) | Booster circuit of non-volatile semiconductor device | |
JPS63251999A (en) | Semiconductor memory device | |
EP0288075B1 (en) | Sub-booster circuit for stepping up an output voltage of main booster circuit | |
JPS59101096A (en) | Storage circuit | |
US5381366A (en) | Non-volatile semiconductor memory device with timer controlled re-write inhibit means | |
US5055705A (en) | Selecting one of a plurality of voltages without overlap | |
JPS63108595A (en) | Electrically programmable non-volatile memory | |
JPH06309889A (en) | Electrically rewritable nonvolatile memory | |
JPS62121998A (en) | Static memory | |
JPS586238B2 (en) | Fukihatsei Handout Thai Memory Souch | |
JPH11507163A (en) | Semiconductor memory device | |
JPH0223597A (en) | Nonvolatile semiconductor memory |