JPS587123A - 高解像結像光学系 - Google Patents

高解像結像光学系

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JPS587123A
JPS587123A JP56104361A JP10436181A JPS587123A JP S587123 A JPS587123 A JP S587123A JP 56104361 A JP56104361 A JP 56104361A JP 10436181 A JP10436181 A JP 10436181A JP S587123 A JPS587123 A JP S587123A
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annular
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山本 公明
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Olympus Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は補助照明系により照明された物体の像を形成す
るための結像光学系で特に結@性能の改良された尚解像
結像光学系に関するものである。
郭 例えば顕微i、ICプリンター、輪廓投影器等の光学系
のように補助照明系を用いて物体を照明し、その物体f
象を対物レンズを含む結像光学系に形成せ[−める場合
に分解能をあげるための手段として次の方法が用いられ
て外た。その一つとして例えば顕微Q等の対物レンズで
行なわれている開aR(N、 A、 )を大きくする方
法がある。[〜かじながら長い間の改良の結果、対物レ
ンズのN、A、はほぼ限界に近いところ1で大きくなり
、現在以上にN、A、の大きな対物レンズを設h1゛す
る(では非常に大きな困難が伴う。そこで結像−yct
学糸のみでなく、照明系の改良に眼が向けられた。即ち
一般に上記のような補助光学系を備えた光学系の分解能
は照明系のコヒーレンズに依存するために、照明方法の
改良が分解能の向上に寄与するからである。このことを
利用して分解能の向上をはかった照明方法を用いたもの
として輪帯照明系が知られている。それは通常、顕微鏡
等において開口絞りを醸く位置に輪帯伏開1−1絞りを
配置し、この輪帯状開[]絞りを二次光源として物体を
照明する方法である。しかしこの輪帯照明線は、一般に
高周波応答を増加させる反面、低周波応答を低下させる
ので像のコントラストの低下を招く。
したがって生物物体のようにコントラストの低い物質の
微細構造を観察する上では効果を発揮し得す、実質的に
高解像の結像が得難い欠点を有している。
本発明の発明者(ハ、先に上記の欠点を除去した高解像
の光学系を提案1〜特願昭54−88428号(特開昭
56−12615号公報参照)として出願した。
それは第1図に示すような構成の光学系で、コンデンサ
ーレンズ2の前側焦点面近傍に輪帯開口絞り1を配置し
、これを光源(図示してない)により図面左側より照明
することによってこの輪帯開口絞りの開口を二次光源と
しコンデンサーレンズ2を介して物体面3を照明する。
このようにして物体を照明した照明光のうち物体にて回
折されずに直接対物レンズ4に入射した光(0次回竹光
)が輪帯開口絞りlの像を形成する位置に輪帯状吸収フ
ィルター5を配置し、この輪帯状吸収フィルター5によ
って適当に弱められた0次回竹光と物体による1次、2
次、・1・1の回折光とによって予定結像面6に物体像
を形成するようにしたものである。このような構成の光
学系によれば低周波領域から高周波領域(空間周波数)
まで高い応答を示し、高解像結像が得られることが明ら
かにされた。
本発明の目的は、以上のようft?tf+解像結像系を
更に改良し一層高解像な結像光学系を提供することにあ
る。
以下本発明の結像光学系の詳細な内容を説明する。光学
系の構成は第1図に示す従来の高解像光学系と類似する
ものであって、従来の光学系では輪帯フィルターとして
0次回竹光を吸収して減させるのみの作用を有するもの
を使用していたが、本発明の光学系ではこのフィルター
としてO次回折光を吸収すると共に位相の変化を与える
ものを用いたもので、これによって一層よい解像力を与
えるようにしたものである。
次にその理由を説明する。第1図の光学系において物体
像の強度分布I(v)は次の(1)式によって与えるこ
とが出来る I (v)−ガT (x、、x2) a (xl)A(
x2)exp(2π+v(xl−x2)’:Idx1d
x2 (1)上記の(1)式で7間は物体スペクトルを
、賛は複素共役を我す。又T (X+、X2) は下記
の(2)式で表されるものである。
T砧+ 72 > = f s苺p附71)p”箔が)
的    (2)ただしsiは輪帯絞りの輝度分布、p
6は対物レンズの瞳関数である。尚輪帯フィルターの特
性はp固に官まれて−ると考える。
上記(1)、(2)式では2次元的な表示をベクトルで
懺わし、文物体および像平面上の座標は回折単位で、さ
らに瞳上の座標は最大半径が1であゐように規格化して
表している。
今(1)式の特注を空間周波数領域で考えるためフーリ
エ変換すれば次の式(3)のようになる。尚これ以後フ
ーリエ変換した量には〜を付して表しである。
T閏−fTし+7)τρ十マ)i“ダ)dマ     
 (3)ここで物体スペクトルが輝線スペクトルを有し
次の(4)式で異わされるとする。
1品−δ間+π間          (4)ただ1−
8間 はデルタ−関数である。
この時には(3)式は次の(5)式のようになる。
1間−′rダ0)δ閏+官間T閲0)十官資−マ)T(
o、−マ)+/T (x+x、x ) 1) (X+X
 )b (x ) dx’      (5)上の(5
)式においてIb(X)Iが小さく、1τ(マ)12(
1′σ(マ)1である場合には(5)式の第4項は無視
出来ると考えられるので(5)式は次の(6)式のよう
になる。
丁団=Tり、0)δi+biTi、g)Ib”(−マI
T(o、−マ)(6)すなわち光学系は線型とみなすこ
とが出来る。
このような系は明るい背景中に小物体が存在する場合や
、大きな物体でも低コントラスト或は低位相物体の場合
等には成立する。それ以外でも一般的に明るい背景中に
物体が存在するような場合には近似的に成立していると
みなせる場合が多い。
今輪帯スリットの輝度分布および対物レンズの瞳関数が
光軸に対称であるとすると(2)式から次の(7)式が
得られる。
T(o、−x)−T (x、 o)         
 (7)又物体の複素振幅分布a (u)を位相φ (
u)が小さいと[7て 8間−(1・・閏)・1φ同 ≠ 1+。閏+i、閏 =  l+b閏             (8)と書
けば次の(9)式、(10)式が成立つ。
言問−言間+11団        (9)T* <−
笥一τ間−11間        (t o)したがっ
て(7)、(9)、(10)式を(6)式に代入すれば
次の式が得られる。
丁R−T(”l o>δL2clReTio)−zi?
1Irnrio) まただしRe、工mは夫々実数部分
、虚数部分を示すオペレーターである4゜ なお、(8)式において 9間−(1+C問)φ間         (12)ジ であり、又c  (u)は、明る背景中に存在する小物
体のような場合には物体の存在する領域においてのみ値
を有し、 であると考えればよい1゜ ここで顕微鏡試料のような物体の特注を考えると、物体
がその周囲と同じ屈折率を持つとは考えられず、たとえ
明暗物体(振幅物体)であっても少館゛であるとはいえ
周囲と位相差を有するのが一般的である。しかも周囲よ
り位相が遅れるのが普通である。
したがって、今物体の位相をφ (U)=−φ′−一定
と仮定し、ImT ((1,0) −〇  を考慮に入
れると、(11)式は次の(14)式のように変形でき
る。
Ti−T Uj、 o+δ74 +2c 1(14q”
 g、 0 )+φ’ImT?M’、0)) (14)
ここでT(x)は像の強度分布I (v)の7−リエ変
換であって、空間周波数領域における像のスペクトル分
布を衣わしているから、これを適当に規格化すればレス
ポンス函数と類似のものとなる。これが低周波領域で大
きければコントラストが増L、又高周波領域で大きけれ
ば像のシャープさが増大する。したがってこれらが大き
ければ分解能は増大する。
(14)式からγ(マ)はT(マ、0)δ (マ)と2
0  (x) R(x)  との和であるから2C(X
)R(X)が大きい方が分解能が増大すると云える。し
かしC(X)は物体によって決まるので、それ以外で調
整出来るのはR(x)であり、R(x)が大きい方が望
ましい。
1−たがって高解像顕微鏡用の輪帯フィルターとしては
次の(15)式で与えられるR (x)が大きくなるよ
うな特性を有することがより望ましいと考えられる。
RH−ReT E、o)+φ′工mT(マ、0)   
   (15)上記(15)式のうち第2項中のImT
(X、O)はフィルターが位相シフトを与えない時には
Oであり、位相シフトを与えるような特性の時に値を有
する。したがって高解像顕微鏡用の輪帯フィルターとし
ては単にO次回折光の強度を弱めるだけでなく位相シフ
トも適切に与えるもの(9) が有効であると考えられる。なお、この場合、前述のよ
うに位相の遅れる物体に対してはφ(U)=−φ′であ
るので(15)式からImT(x。
0)が正であることが、R(x)を大にすることになり
、又、逆に位相の進む物体に対してはI、11T (x
、  0)が負でちることがR(x)を大にすることに
なる。したがって、物体の位相が遅れるような時にけO
次回折光の位相を進めるように、又実際にはまれではあ
るが物体の1位相が進んでいるような時には、0次回指
光の位相を遅らせるように位相シフトiを与えるのがよ
いO 今−例として振幅透過率が犬で幅が無限小の輪帯フィル
ターがレンズの瞳の最周辺におかれているような場合を
考える。
このような時に、(2)式を考慮して(15)式のR(
X) を求め、これをT (0,0)=2πt2で規格
化したものR(x)を考えると、空間周波数Xがx)Q
の時次のように衣わせる。
R(x) = −’−(coaθ+φ’alnθ)πt
(16) (10) したがってフィルター位相シフトを与えないθ−〇の時
とを比較すると、輪帯フィルターに次のような位相シフ
トを与えた方が位相シフトを与えない時よりも優れてい
ると考えられる。
1(cosθ+φ’sinθ           (
17)この式(17)けθ< 2 jan”−”φ′の
時に成立つ。
第2図、第3図は以上のことをシミュレーションによっ
て確かめたものである。これら図のうち第3図は強度透
過率が第2図に示すような値をもち、しかも位相がその
周囲より01π遅れているような二つの小円板状の物体
を仮定し、又幅が小さく強度透過率が0.30輪帯フイ
ルターをレンズ瞳周辺に置いた時に得られる保時性を位
相シフト量θの異なる三つのフィルターに対して計算し
たものである。
!を算は(1)式を用いて行ってあり、第3図のうち曲
線Bはθ=0<(位相・シフトなし)、曲線Cはθ−Z
、 l)はθ=73″の場合である。又曲線(l l) Aは輪帯フィルターを用いない場合で輪帯照明のみの保
時性であって、参考のために示したものである。
第3図から明らかなように輪帯フィルターを用いた高解
像顕微鏡において、位相シフトを与えない時の曲線Bよ
りも、位相シフトを適切に与えた時の曲線Cの方がコン
トラスト、解像力ともにすぐれている。つまり図示する
例のうちでθが−の場合が最もすぐれている。物体の位
相は物体毎に異なっておりそれによって望ましいθの値
も異なるが、θは小さい方が良く1θ1π く−が一般的には望ましい。
 6 以上説明したように、物体が位相をもつような場合には
高解像顕微鏡において輪帯フィルターが牟なる吸収を与
えるだけでなく位相シフトも適切な量だけ与える方がよ
りよい理由が明らかになったと考えるが、このことは次
に説明する理由から実用上もすぐれていることがわかる
今、明暗構造がなくfCだ小さな位相変化のみを有する
位相物体の像を考える。
(12) この場合は(8)式1cおいてC(u)=O1又(12
)式からcl<u)、=φ(u)であるから(9)式、
(10)式は夫々 3間−1”;i<x)、釣−マ)−=”’;j;閏とな
る。これらの式を(6)式に代入すれば次式が得られる
γ1=r(x、o)δi−2”iixmTE、o)(1
8)即ちImT(X、0)かOでなく値を有すれば位相
物体を可視化することができる。
ImT (x、  0)を最大にするためには輪帯フィ
ルターにθ=7  の位相シフトを与えればよいが、こ
れは位相差顕微鏡そのものである。
θ=77、  でなくとも少しでも位相シフト量があれ
ば(1B)式のImT (Xs  O)は値を有するこ
とになる。したがって本発明におけるように第1図のよ
うな構成の篩解像顕′#鐘において若干量でも位相シフ
トを与えるような輪帯フィルターを使用すれば振幅物体
に対して高解像力を得るのみでなく、位相シフトを与え
ていない時には見えないような位相物体に対しても物体
構造の(13) 観察が可能となるような利点が生ずる。
以上説明したように本発明の結像光学系は簡単な構成で
、従来の高解像光学系より一層高解像力が得られ、又、
位相物体の観察も可能となる等の効果を有するものであ
る。
【図面の簡単な説明】
$1図は高解像結像光学系の構成を示す図、第2図およ
び第3図は夫々物体の強度透過率分布とその物体に対す
る保時性を示す図である。 1:輪帯状開口絞り 2::rンデンサーレンズ3:物
体面 4:対物レンズ 5:輪帯状フィルター 出願人 オリンパス光学工業株式会社 代理人    向   寛  二 (14) 第2図 I□V −一−,L、−一一 −4−3−2−101234 第3図 1 1−、   −  、−t−m    L、−f−、−
4−−4−3−2−101234 手続補止岩(自発) 昭和56年7月、3/日 特πr庁長官 殿 1事件の表示 昭和56年特許願第104361−弓 2発明の名称 高解像結像光学系 3補正をする者 事件との1ダ1係特W(出願人 東京都渋谷[メ幡ケ谷2−43−2 代表取締役 北 村 茂 男 4、代 理 人 東京都港区虎)門2−5−2  窪lT+1園ビル(7
586)弁理士 向    寛 二   し二゛5補正
の対象 明細用の発明の詳細な説明の(閘 6、補−Wの内容 (1)明細」(2頁8行[し1.・よひ0行[1の[1
寸、A、−1を「N 、  A 、  jにMlWl゛
る。 (2) 明細4)2頁14 ’?j「Iの「コヒーレン
ズ」をI゛コヒーレンスに711市−4−る。 (3)明細1−1tF 4頁1に右1“1の「減させる
−1をr減少させる」にt打止する・・ (4) 明細書5両71行11の を 「](V)=/−、/−T(X++X2)a(x+ )
)1  (X2 )oxp〔2π]v、(xl−X2)
]dX1dX2 、jに計重する。 (5)  明細せ)−5頁20 ?’−j川−1用を If’  T(X)=、/T(X’  トx、x’  
)a(x’  1x)a、  (x’  )dx′ −
1に訂iFO,する。 (6)明細書8頁16行乃至9頁9行の「ここで■(x
)は・・・・望ましい。」を次のように訂正する。 rここでI (x)は像の強度分布1: (v)のフー
リエ変換であって、空間周波数領域における像の布のス
ペクトルを表わしていることを考慮するとR(x) −
ReT(x、o)+φ’ ImT (x、o)は、これ
を適痛に規格化すればレスポンス函数と類似のものとな
る。」 (7)明細1−10頁20行目の 「□’(IXI)=−’−(。。8θ+(A’sinθ
)、に訂正πt (3) (9)明細書13頁4行目の 「π(〜バーー・j市」を「π−5)−・1品」に訂正
する。 00)明#I書J3頁7行目の (4)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  コンデンサーレンズの前側焦点近傍に配置さ
    れた輪帯状開口絞りと、コンデンサーレンズと対物レン
    ズQて関する前8己輪帯状開口絞りの共役位置に配置さ
    れO次回折光の一部を吸収すると共に物体の平均位相差
    をφとした時0次以外の回折光に対しθ(2tan””
    ’φの位相の進みを与えるようにした輪帯状フィルター
    とを備えた高解像結像光学系。
  2. (2)  θく−である輪帯状フィルターを備えた特 
    6 許請求の節回(1)の高解像結像光学系。
JP56104361A 1981-07-06 1981-07-06 高解像結像光学系 Granted JPS587123A (ja)

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JP56104361A JPS587123A (ja) 1981-07-06 1981-07-06 高解像結像光学系
GB08218398A GB2102981B (en) 1981-07-06 1982-06-25 High resolution image forming optical system
US06/393,520 US4472023A (en) 1981-07-06 1982-06-29 High resolution image forming optical system
FR8211528A FR2509055B1 (fr) 1981-07-06 1982-06-30 Systeme optique de formation d'images a haute resolution
DE19823224791 DE3224791A1 (de) 1981-07-06 1982-07-02 Bildformendes optisches system

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DE (1) DE3224791A1 (ja)
FR (1) FR2509055B1 (ja)
GB (1) GB2102981B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63239419A (ja) * 1986-11-28 1988-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd レ−ザ光学系

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7656504B1 (en) 1990-08-21 2010-02-02 Nikon Corporation Projection exposure apparatus with luminous flux distribution
JP2995820B2 (ja) 1990-08-21 1999-12-27 株式会社ニコン 露光方法及び方法,並びにデバイス製造方法
US5638211A (en) * 1990-08-21 1997-06-10 Nikon Corporation Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system
US6885433B2 (en) * 1990-11-15 2005-04-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5719704A (en) 1991-09-11 1998-02-17 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6710855B2 (en) * 1990-11-15 2004-03-23 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6967710B2 (en) 1990-11-15 2005-11-22 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US6252647B1 (en) 1990-11-15 2001-06-26 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
US6897942B2 (en) * 1990-11-15 2005-05-24 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and method
US5592328A (en) * 1991-04-19 1997-01-07 Edge Scientific Instrument Company Llc Illumination system and method for a high definition light microscope
US5345333A (en) * 1991-04-19 1994-09-06 Unimat (Usa) Corporation Illumination system and method for a high definition light microscope
US5548441A (en) * 1991-04-19 1996-08-20 Edge Scientific Instrument Corp. Illumination system and method for a high definition light microscope
US5570228A (en) * 1991-04-19 1996-10-29 Edge Scientific Instrument Company Llc Fiber optic illumination system and method for a high definition light microscope
DE4404283A1 (de) * 1994-02-11 1995-08-17 Leica Mikroskopie & Syst Kondensorsystem für Mikroskope
DE69931690T2 (de) * 1998-04-08 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Apparat
TW587199B (en) 1999-09-29 2004-05-11 Asml Netherlands Bv Lithographic method and apparatus

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2660923A (en) * 1949-10-06 1953-12-01 Bausch & Lomb Phase contrast apparatus for metallographic microscopes
DE825753C (de) * 1950-07-01 1951-12-20 Leitz Ernst Gmbh Phasenkontrasteinrichtung, insbesondere fuer Mikroskope
DE974173C (de) * 1953-09-13 1960-10-06 Freiberger Praez Smechanik Veb Einrichtung zur mikroskopischen Abbildung nicht selbstleuchtender Objekte, deren Einzelheiten keine oder zu geringe Helligkeits-unterschiede hervorrufen, durch Phasenkontrast
FR1517701A (fr) * 1966-03-28 1968-03-22 Centre Nat Rech Scient Perfectionnements aux instruments optiques pour la projection et la reproduction agrandie ou réduite ainsi que pour l'observation usuelle
PL68411A6 (ja) * 1969-05-26 1973-02-28
JPS5612615A (en) * 1979-07-12 1981-02-07 Olympus Optical Co Ltd High rosolution microscope

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63239419A (ja) * 1986-11-28 1988-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd レ−ザ光学系

Also Published As

Publication number Publication date
FR2509055B1 (fr) 1986-05-16
GB2102981A (en) 1983-02-09
JPH0381129B2 (ja) 1991-12-27
FR2509055A1 (fr) 1983-01-07
DE3224791A1 (de) 1983-01-20
US4472023A (en) 1984-09-18
GB2102981B (en) 1985-03-13

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