JPS5862489A - ソフトランデイング装置 - Google Patents

ソフトランデイング装置

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JPS5862489A
JPS5862489A JP56158822A JP15882281A JPS5862489A JP S5862489 A JPS5862489 A JP S5862489A JP 56158822 A JP56158822 A JP 56158822A JP 15882281 A JP15882281 A JP 15882281A JP S5862489 A JPS5862489 A JP S5862489A
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tip
quartz tube
heat treatment
jig
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哲也 高垣
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D3/00Charging; Discharging; Manipulation of charge
    • F27D3/12Travelling or movable supports or containers for the charge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • B01J4/001Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B5/00Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
    • F27B5/02Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated of multiple-chamber type

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱処理炉内へ被処理物を出し入れするためのボ
ートローディング装置に関し、特に高温処理用として好
適なソフトランディング装置に関するものである。
半導体製造工程においては、ウェーハ等の被処理物を拡
散、CVD、アニール処理するための熱処理炉を使用し
ており、このためウェーハを炉に出し入れするボートロ
ーディング装置が必要とされる。この種の装置として、
従来ではボートローダ法に基づ(装置やパドル法に基づ
(装置が採用されているが、ボートローダ法ではウェー
ハ治具を内管内で移動させる際に接触部から塵埃が発生
してウェーハ欠陥の原因をつくるという欠点があり、ま
たパドル法では長棒(パドル)を内管内に挿入しy:ま
ま熱処理を行なうために炉内に温度変化を生じさせ、一
定した温度下での熱処理ができないという欠点がある。
更に、前記二種の装置の他に種々の装置が提案されては
いるが、いずれのものも一旦つエーノへ治具を炉内にセ
ットした後には熱処理が完了するまでウェーハ治具を炉
外に移送しないように構成されあるいはシーケンス制御
されている定め、特に拡散処理のような高温処理の場合
VCは石英製のウェーハ治具が炉内管に融着し、炉外へ
の移送を不能にするという問題が生じている。このため
、現在ではウェーハ治具を用いた際の熱処理炉内の高温
化に制限を受けている。なお、従来で&1炉の内壁に無
接触でウエーノ・治具を出し入れする石英フォークを利
用した装置が考えられてきているが、罰述したウェーハ
治具の融着の問題は解決することかできず、またウエー
ノ・治具を炉内に接触させないようフォークを炉内に入
れたt!で支持させようとしても高熱によりフォークが
変形してウェーハを正常に支持てることかで1!ないと
いう問題が生じる。
したがって本発明の目的は、その先端にウェーハ治具を
支持可能なフォークを熱処理炉内面に無接触で炉内に出
し入れ可能に構成すると共に、フォークの先端を上下に
揺動してウェーハ治具の上げ降しを可能とし、かつフォ
ークの炉内外における停止位置を任意に設定してその移
動をシーケンス的に制御し得るよう構成することにより
、塵埃の発生防止や一定した温度での熱処理を実現する
のは勿論のこと、フォークの変形やウェーハ治具の融着
を生ずることなく高温条件下での熱処理を行rxうこと
ができるソフトランディング装置を提供することにある
以下、本発明を図示の実施例により説明する。
第1図は本発明装置の全体構成を示し、ソフトランディ
ング装置1は、詳細な図示を省略した熱処理炉の石英管
2の開口側に隣設して配置しており1石英製のウェー八
治具3土に整列載置した被熱処理物であるウェーハ4を
このウェ−ハ治具と共に前記石英管2内に搬入しかつ取
り出すことができる。即ち、ソフトランディング装置1
は。
基台5とこの基台の後方に立設した背壁6とを有してお
り、この背壁6には前記石英管2の管軸方向(以下、前
後方向と称する)&C延設した一対のガイド2レール7
.7を上下に配置している。このガイドレール7.7に
は第2図に示すように、垂直方向に架設した一対のガイ
ドロッド8.8VCて一体化された上下の支持台9,1
0を夫々滑動可能に嵌合している。そして、これら支持
台9,10は下側の支持台lOに一体形成したブロック
11に前記ガイドレール7.7と平行に前記背壁6に支
架した送り軸12を嵌挿している。この送り軸12は第
1図のように両端部を軸受13.13にて軸支すると共
に、その一端に固着したプーリ14を前後動モータ15
の出力プーリ16とでベルト17連結し、モータ15に
よって軸転駆動される。
また、前記ブロック11内にはこの送り軸12と協働し
てブロックを軸方向(前後方向)K移動させる機構を内
装しており、この機構により送り軸が軸転されたとぎに
は、七〇軸転方向に応じてブロック11、つまり上、下
の支持台9,10は一体的に前後方向に移動できる。
前記上、下の支持台9,10間に設けた前記ガイドロッ
ド8.8には略り字型に形成した可動台18の突片19
を挿通させ、支持台9,10に対して可動台18を上下
移動できるようにしている。
また、可動台18の背面略中央に突設したブロック板2
0は前記支持台9,10間で上下方l′l1Ovc軸支
したウオームロッド21に螺合させ、このウオームロッ
ド21の軸転により可動台18を支持台9.10に対し
て上下移動させることができる。
前記ウオームロッド21はその下端にプーリ22を一体
に設け、このプーリ22と支持台10に固設した上下動
モータ23のプーリ24との間にベルト25を巻揖ける
ことによりウオームロッドは軸転できる。
一万、前記可動台18の水平部上には前後に夫々設けた
段部26.26に沿って前後方向と直角な方向(以下、
左右方向と称する)に移動可能な滑動台27を載置して
いる。この滑動台27はその上面の図示左端に立片28
を一体に形成しており、この立片28と対向するように
して前記可動台18の左端に立設した固定立片29に軸
転可能に軸支した左右調整ボルト30にこの立片28を
螺合させている。この左右調整ボルト30は先端に摘み
31を有しており、摘み31を手操作にて回動すること
によりボルト30が軸転し、これにより滑動台27を可
動台18上で左右方向に移動することができる。
前記滑動台27上には詳細を後述するフォークを支持す
る上下揺動台32をその一端32aVcおいて軸受33
.33および軸(図示せず)Kて支持している。また、
この上下揺動台32の略中央部に対応する位置には短ロ
ッド状に形成した偏心カム34を軸受35.35にで横
設支持し上下方向に回動できるよう構成すると共に、そ
の一端にはウオームホイール36を固着している。そし
て、このウオームホイール36&Cは滑動台27上に固
定した揺動モータ37の回転ウオーム38を噛合させ、
モータ37により偏心カム34を軸転することができる
前記上下揺動台32上には断面を略■字状としたフォー
ク受台39をその一端部位においてポル)40止めし、
更にこの受台39上にはフォーク41を二本のベルト4
2.42vcて略水平前後方回に支持している。このフ
ォーク41は石英材を用いたパルプ状に形成しており、
第1図のようにその先端部41aはパイプの上側を切欠
いてウェーハ治具3を複数個並置できるようにしている
したがってこのフォーク41は、第3図に示すように、
前記上下揺動台32の中央部が前記偏心カム340局面
に支持されていることから、偏心カム34が図示鎖線の
ように軸転されたとぎには上下揺動台32、フォーク受
は台39と共にその先端部41aを上下に揺動すること
かできる。また、前記ボルト40を緩めたときには上下
揺動台32に対してフォーク先端部41aを水平左右方
向に揺動することができる。
更に、前記フォーク41は、第4図(A)、 (B)。
(C)に示すように、その略中央部の内部、外部に夫々
内キャップ43.外キャップ44をセットすることかで
きる。これら両キャップ43.44は夫々外筐を石英カ
ラヌで形成すると共に内部に石英ウールを充填させたも
のでノ・ンドル43a、44aや空気抜き43b、44
1)を付設している。前記内キャシブ43は短円柱状に
形成してフォーク41内部に装入でき、外キ今ツブ44
は一部に半長円形の切欠き44cを有する厚肉円板状に
形成してフォークの上部に載置できる。そして、このよ
うにして内、外の上々ツブ43.44を装着したフォー
ク41を後述するように前記石英管2内に進入させたと
きには−これらキ今ツブ43,44はフォーク41と石
英管2との垂直断面方向の空隙を閉塞することができる
次に以上の構成のソフトランディング装置の作用を説明
する。
第5図は石英管2内にウェーハ治具3をセットさせる工
程を示す図であり、同図(A)のように用意されたフォ
ーク41の先端部41a上に同図(Blのように複数個
のウェーハ治具3を載置する。このとき、フォーク先端
部はウェーハ治具の重量により下方へ変形されるため、
上下動モータ23を回転してウオームロッド21を軸転
させ、可動台18を上動することにより同図(C)のよ
うにフォーク41全体を上動する。更に、上下揺動モー
タ37を回転して偏心カム34を軸転することにより、
第3図に示[たようにフォーク先端部41aは上方へ揺
動し、この結果フォーク先端部は第5図(D)のように
その姿勢を略水平に近い状態に1で補正される。次いで
、前後動モータ15を回転して送り軸12を軸転丁れば
、ブロック110作用によって支持台9,10は図示左
方へ前進し、フォーク41は石英管2内に進入して同図
(B)実線のように所定位置で停止する。そこで、上下
動モータ23を逆′y5同に回転すれば同図(E)鎖線
のようにフォーク41全体が下動し、所定の下動位置で
ウェーハ治具3の下端を石英管2の内底面に接触させる
。因みにこのときの状態を第6図に拡大して示す。しか
る後、上下揺動モータ37を逆転してフォーク先端部4
1aを下方に揺動させると、第5図(F)のように先端
部は下動してウェーハ治具3の支持から解放される。し
たがって、その後に前後動モータ15を逆転してフォー
ク41を図示右進させ、石英管2内から後退させると共
に上下動モータ23を順転してフォークを上動すれば、
同図(G)の実線ないし鎖線のようにフォーク41は初
期位置に復帰される。以上の工程によりウェーハ治具3
は石英管の内部を無接触状態で進入されかつ静かに石英
管内に載置される。
−万、第7図は熱処理の完了したウエーノ・のウェーハ
治具を石英管内から取り出て工程を示す図であり、同図
(A)のように待機しているフォーク41を前後動モー
タ15を作動することV(より石英管2内に前進させ、
フォーク先端部41aを同図CB)のようにウェーハ治
具3の下方に進入させる。次いで、上下動モータ23を
作動してフォーク全体を上動丁れげフォーク先端部は同
図(C)のようにウェーハ治具3を丁(い上げる。この
とぎ、先端部41aはウェーハ治具3の重量によって下
方に変形される。このため、上下揺動モータ37を作動
丁れはフォーク先端部は上方へ揺動され、同図(D)の
ように先端部を水平に近い状態にしてウェーハ治具を支
持する。しかる後、前後動モータ15を逆転丁ればフォ
ークは同図(B)実線のように後退して石英管2から退
出し、これと略同時に上下動モータ23によりフォーク
全体を鎖線のように下動させ、更に同図(F)のように
上下揺動モータ37Vcよりフォーク先端部418を初
期状態に下方揺動させる。したがって、この状態で作業
者がフォーク上のウェーハ治具3を取り去れげフォーク
は同図CG)のように初期状態に戻されるのである。こ
のフォークによるウェーハ治JL3の取り出し時にもウ
ェーハ治具は石英管2とは無接触で取り出されるのであ
る。
したがって、以上の工程によるウェーハ治具の装入、取
出作用は、ウェーハ治具3を石英管2内で管内面に無接
触状態で移動させるので、ウェーハ治具と内面との間に
摩耗に伴なう塵埃が発生することはない。また、フォー
ク41は単に上下。
前後に移動するだけではな(先端部41aを上下に揺動
できるので、ウェーハ治具の重量に伴すってフォークが
変形した場合にもウェーハ治具を水平に近い状態で支持
することができウェーハ治具の落下等は殆んど生じない
。この場食、フォーク先端部が下方に変形してもこれを
上方に補正することにより、フォークが下動したとぎで
もフォークと石英管が干渉しないという利点もある。
次ニ以上の基本作用を可能とした本例のソフトランディ
ング装置の応用例を説明する。先ず、本装置では石英管
2に対するフォークの相対位置を第8図(入)、 (B
)、 (C) ノよ’)K分け、各位置を7 z  p
g 、Pj とする。即ち、P、はフォーク41が石英
管2かも完全に退避された状態、P、はフォーク先端部
41aが石英管2の均熱部2a内に位置された状態、つ
fリウェーハ治具が均熱部2a内に位置された状態、P
、はフォーク先端部41aが石英管2の均熱部から退避
されてはいるが石英管z内には未だに位置しており、こ
のとき、罰記内、外のキャップ43.44が石英管2の
開口に位置l、て石英管内を閉塞している状態である。
このようTxP、、P、、P、の各位置を設定した上で
、第9図(A)、 (B)、 (C) K示すようrz
モードにてシーケンス制御を行なうことにより種々の処
理に対応した制御を行なうことができる。即ち、ウェー
ハを拡散処理する場合やCVD処理する場合のように比
較的処理温度が高いとぎには同図(A)、 (B)のよ
うなモード人、モードBを行なう。モードAは同図(A
)のS、の工程でフォークをPt tで移動してウェー
ハ治具を均熱部にセットした後、S、の工程でフォーク
をP、tで後退させる。ここで、内、外キャップにて石
英管を閉塞させた1ま拡散、CVD等の熱処理を行なう
このとぎ、フォーク先端部は石英管の開口部近傍に位置
しているため熱の影響は少ない。そして、熱処理中にお
いては、処理熱によって石英製のウェーハ治具が石英管
との接触部(下端)において石英管内面に溶融接着する
おそれがあるが、これはタイマーにより作動されるフォ
ークの83工程により防止できる。つfす、タイマーの
作用によってフォークは適宜時間間隔をおいてP3位置
からP、位置1cまで前進し、P3位置においてフォー
ク先端部を短時間上方へ揺動位置させる。これにより、
ウェーハ治具はその間だけ持ち上げられて石英管の内面
から離されることVC’rjす、石英管内面との溶着か
う防止される。この作用の完了後は再びP3位置まで戻
る。このような作用を処理の間中、適宜間隔おいて繰返
し行なうことにより、ウエーノ・治具の溶着を確実に防
止することができる。そして、熱処理の完了後には、S
4の工程で再びフォーク先端部がウエーノ・治具下に進
入し−8,の工程でウェー・・治具を石英管外に取り出
すことになる。したがって、高温処理においてもウェー
ハ治具の溶着やフォークの熱変形を防止することかでき
、良好な熱処理を完成することができる。
モードBは同図(B)の工程S、、S、で示すようにフ
ォークにてウエーノ・治具を石英管内に進入セントした
後はフォークをP、の位置まで後退させ、つ1リフオー
クを石英管から完全に引き出した上で熱処理を行なう。
そして、熱処理の完了後にはS8.s、の工程で再びフ
ォークを往復動させることによりウエーノ・治具を石英
管内から取り出てことができる。本モードは極めて高℃
・温度での熱処理VCv効であり、かつ石英管の自動キ
ャップを併用した場合には更に有効である。
モードCはアニール処理等の比較的低い温度での処理に
有効であり、工程S、。においてフォークをP2位置ま
で前進させてウエーノ・治具を石英管の均熱部に進入さ
せ、この状態を保ったままで熱処理を行rx 5゜そし
て、熱処理の完了後にはSI。
の工程にまりウェーハ治具を石英管から取り出てのであ
る。処理温度が低いためにフォークの熱変形が生じるこ
とがないのは言う筐でもない。
なお、前記各モードは予めマイクロコンビー−タにプロ
グラム入力させておぎ、選択スイッチを押すことにより
所望のモードを得られるようにしておけばよい。もっと
も、汎用機として構成する場合にはフォークの作動を手
操作できろように構成しておけばよく、例えば操作パネ
ルのスイッチパネルを第10図のように構成丁ればよい
。この装置では、フォークの作動を制御するパネル下部
の作動スイッチ群45は、セミオート、マニュアルモー
ドで使用でき、マニュアルモードの時はスイッチを押し
ている間だけ動作し、セミオートモードでは1度押すと
次のボジシ四ンソで自動的に移動して停止することVC
なる。ty、−1前述したモードA、B、CはA、B、
Cの各スイッチ46の選択により可能である。
ここで本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
フォークの前後動、上下動、上下揺動の各作動を行Tx
 ウための具体的な装置は適宜の設計変更が可能である
以上のように本発明のソフトランディング装置は、ウェ
ーハ治具を搬送し得るフォークを、熱処理炉に対して少
なくとも上下1前後に移動できるよう構成すると共に、
フォーク先端部を上下に揺動してワエーノ・治具の上下
動を可能にしているので、ウェーハ治具の出し入れに際
して炉内面とウェーハ治具等とを無接触状態に保って塵
埃の発生を防止することかできる。また、熱処理中にお
いてフォークを間欠的に出入れしてウエーノ・治具を持
ち上げることができるので、ウエーノ・治具の熱による
溶着を防止することかできる−1でフォークの熱変形を
防止することができ、これにより高温条件下での熱処理
を極めて良好に行なうことができるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の全体構成図、第2図は要部の部分
分解斜視図、第3図はフォークの上下揺動を説明するた
めの部分正面図、第4図よr〜(Cルミフォークの詳細
を示す図で同図(A)は部分斜視図、同図(B)は側面
図、同図(C)は正面断面図、第5図(A)〜(G)は
作用を説明する模式図、第6図は石英管内の断面図、第
7図(A)〜(G)は作用を説明する模式図、第8図(
A)〜(C)はボジシ目ンの説明図、第9図はモードA
、B、Cにおけるフォーク作動図、第10図はスイッチ
パネルの配置図である。 1・・・ソフトランディング装置、2・・・石英管(処
理炉)、3・・・ウェーハ治具、4・・・ウェーハ、9
゜10・支持台、12・・・送り軸、15・・・前後動
モータ、18・・・可動台、23・・・上下動モータ、
27・・・滑動台、32・・・上下揺動台、34・・・
偏心カム、37・・上下揺動モータ、39・・・フォー
ク受は台、4トフォーク、41a・・・フォーク先端部
、43・・・内キ今ツブ、44川外キヤツプ、P、〜P
、・・・ボジシ璽ン、SI〜S11・・・フォークの工
程。 代理人 弁理士  薄 1)利 辛 第  8 図 4/ユ 一カヨヨ  。 閣「==さ 47      ノ/工 第  9  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、熱処理炉の開口側に配置され、その先端部に被処理
    物を載置しπフォークを前記熱処理炉内に前進して装入
    し、かつ後退して取出丁よつttr−シe装置であって
    、前記フォークは熱処理炉に対して全体を少なくとも前
    後動および上下できるように構成する−1、フォークの
    先端部を上下に揺動できるように構成したことを特徴と
    するソフトランディング装置。 2、フ會−りは上下動および先端部の上下揺動を調節し
    てフォークないし被処理物が熱処理炉の内面に干渉しな
    い状態で前後動するよ5に構成してなる特許請求の範囲
    第1項記載のソフトランディング装置。 3、フォークは載置した被処理物がフォーク先端部の重
    量変形に拘らず略水平状態となるように先端部の上下揺
    動を調節できるように構成してなる特許請求の範囲第1
    項または第2項記載のソフトランディング装置。
JP56158822A 1981-10-07 1981-10-07 ソフトランデイング装置 Granted JPS5862489A (ja)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP56158822A JPS5862489A (ja) 1981-10-07 1981-10-07 ソフトランデイング装置
US06/418,252 US4468195A (en) 1981-10-07 1982-09-15 Thermal treatment apparatus
KR8204471A KR910001908B1 (en) 1981-10-07 1982-10-05 Semiconductor device
GB08228547A GB2109519B (en) 1981-10-07 1982-10-06 Thermal treatment apparatus and method
DE19823237047 DE3237047A1 (de) 1981-10-07 1982-10-06 Waermebehandlungs-einrichtung
GB08424276A GB2148471B (en) 1981-10-07 1984-09-26 Thermal treatment apparatus and method
SG37087A SG37087G (en) 1981-10-07 1987-04-23 Thermal treatment apparatus
SG371/87A SG37187G (en) 1981-10-07 1987-04-23 Thermal treatment apparatus and method
HK704/87A HK70487A (en) 1981-10-07 1987-10-01 Thermal treatment apparatus and method
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