JPS5855437A - 塩化ビニルモノマ−を選択的に吸着回収する方法 - Google Patents

塩化ビニルモノマ−を選択的に吸着回収する方法

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JPS5855437A
JPS5855437A JP15065181A JP15065181A JPS5855437A JP S5855437 A JPS5855437 A JP S5855437A JP 15065181 A JP15065181 A JP 15065181A JP 15065181 A JP15065181 A JP 15065181A JP S5855437 A JPS5855437 A JP S5855437A
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Japan
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vcm
adsorption
bed
adsorbing
vinyl chloride
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Tsugio Shinooka
篠岡 次夫
Hiroshi Uchiyama
宏 内山
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Japan Organo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は低沸点成分を含む塩化ビニル七ツマ−から塩化
ビニルモノ!−(以下単KVCMと略称する)を選択的
かつ高収率下に吸着回収する方法に関するもOである。
重合原料であるVCMtpKは微量のエチレン、プロピ
レン、メチルクロライド勢の低沸点成分が含まれてiる
が、当該重合原料を塩化ビニル重合プロセスに用いた場
合、VCMO重合によって未反応残留ガス中にはVCM
の他に上記低沸点成分が濃縮して残留することkなる・ 従って未反応残留VCMを再び重合原料として回収再有
用する場合、上記低沸点成分の蓄積が生じ、VCM重合
の障害とを多重合製品の品質の低下を生ずる・ 一方活性炭は一般に有機性物質をよく吸着するが、その
中て炭素数の多いもOm、又極性の弱いもの程優先的に
吸着する選択吸着性をもつことがiられている。
そこで従来において4hこの活性炭の特性を利用し低沸
点成分を含むVCM原料ガスよIVcMO遥択吸着なら
σに脱着回収を行う方法として低沸点成分を含むVCM
原料ガスを固体徴収剤層に導入し該吸着剤KVCMを吸
着させ、該吸着剤がVCMで破過される前に前記VCM
原料ガスの導入を止め、吸着剤からVCMI回収する方
法が提案されている(%開昭51−76203号)。
これ(対し本発明は複数Of!に着床を使用してこれに
低沸点成分を含むVCM原料ガスを直列に導入し、VC
Mの破過帯が導入方向前段の吸着床から後段の吸着床に
移行した時点で上記低沸点成分を含むVCM原料ガスの
導入を前段吸着床から後段吸着床に切換えてVCMO吸
着を続行すると共KVCMJi科ガスの導入を止めた前
段吸着床の吸着剤を加熱してVCMを真空減圧下に回収
するようにしたもので、更に又上記のVCMの破過帯の
移行を低沸点成分及び/又ijVcMO吸着熱に起因す
る局部的温度上昇によって検出すること轡を特徴とした
ものである・今VCM原料ガスに含まれる低沸点成分と
してメチルクロライド(以下率KMeCLと記す)をf
lKとると、M@CLはVCMK比し活性炭に対する選
択吸着特性が弱いため、M@C7はVCMが活性炭Ka
着されると共に押し出され、VCM破過帯の前方にMe
CLが換纏して存在する。
そこでVCMO飽和吸着層部にはM@C4は下記の2成
分系混合吸着式 %式% NVCMはVCMの飽和吸着量 NvcM”   はVCM及びM@Ctの二成分の全圧
に等しい圧で単独に存在する場合のVCMO飽和吸着量 NM@C1扛M・Ctの飽和吸着量 NM、ct”   はVCM及びM@CLの二成分の全
圧に等しい圧で単独に存在する場合のM e CLの飽
和吸着量 て決定される量て存在する。
本発明はこの原mを利用してVCMO回収とそのI収V
CMに含まれるMeCjOVCMに対する比率を低下す
るようにしたものである。
以下に本発明を活性炭を用いたN1ガス、M@Ct。
vCMoll&合物の分離について説嘴する。崗活性炭
はその原料により性能が異るが、その活性炭a[K制約
されるものではない。
活性炭を充填した複数の吸着床にN、ガス、M・Ct及
びVCMo混合物を原料ガスとして直列に導入すると、
前段の吸着床からは最初KN、ガスが流出し次いで濃縮
され友MeCLが流出し最後11CVCMが流出するが
、更に原料ガスの導入を続けると流出物中OMectg
度が減少し、ついには原料ガスと同じ組成のガスが流出
する。
そこで本発明ではVCM破過帯が前段吸着床より後段吸
着床へ移行した時点で低沸点成分を含むVCMO導入を
前段吸着床から後段吸着床に切換えて後段吸着床を次工
程の前段吸着床としてVCMを吸着させ、他方ガスの導
入を止めた当該前段の吸着床はその吸着剤を加熱してV
CMを真♀減圧下に脱着回収する。この工程の繰返しK
よってVCMの選択的吸着とその脱着回収を工業的に高
*@本かつ有利に実施するよう和したものである・ 又本発明では上記のVCM破過帯の移行を次OようKM
@Ct及び/又#iVCM01&着熱に起因する局部的
温度上昇によって検出することKも特徴を有している。
即ち吸着床oshm的温度上昇社濃縮されたM@CL破
過帯の通過に伴って現われ、これがjl過ぎると−たん
−下し次にVCM破過帯の通過忙より再びしかも急激な
温度上昇を来九し、vCM破過帯の通過に伴って再び温
fは低下する。
そこで本発明で社上記O慧gc1及び/又#ivCM値
通帯の移行を前段吸着床のガス出口側或いは後段吸着床
のガス入口lIK設置した温度検出器によシM@CL及
び/又はVCMtv各破過帝の通過に伴う上記OJQ部
的部層温度上昇て検出し、vCM破過帯の前段吸着床よ
り後段吸着床への移行を確実に知るよう和したものであ
る。
@M@CL破過帯の通過帯伴なって現われる温度上昇と
VCM破過帯の通過に伴なって現われる温度上昇を比較
すると、前者より後者の方がその温度が高いので、工業
的KFJ後者011f上昇を検出して吸着床の切換えを
した方が好ましい。
また温度検出器は後段ガス吸着床のlス入ロ儒に設置す
る方がVCM破過帯の前段吸着床よシ俵段数着床へO移
行を直接知りうる利点はあるが、後段吸着床のガス入口
@に温度検出器を設電する#c#′i装鐙的に難点があ
る。
そこで前段吸着床のガス出口lIk温度検出器を設置し
、これをタイマーと組合せて温度検出器による検出時と
前段吸着床から後段吸着床へのVCM破過帯の移行時ま
での時間差をタイマーに与えること(よりVCM破過帯
の前段吸着床より後段吸着床への移行を間接的に5Dる
ようにするのが装置的に#i有利である。
このようkして本発明によれば温度検出信号によって或
いは又温度検出器の位置によっては温度検出信号とメイ
!僅号と和よって原料ガスの前段吸着床から後段数着床
への導入切換えを調整制御するOでM@CC11VCよ
り確実に分離することが可能となる・ 次に原料ガスの導入を止めた当該前Rf!に着床社任意
の方法で加熱し真空減圧下KVCMを脱着回収するが、
王妃の加熱方法として#i吸着床を間接的kかつ90〜
200 K:の温にに加熱するのが好ましく、又真空減
圧FiO,01Torr (mHg ) >ら250T
orrの範囲で行うことが好ましい・ 同、その際この真空減圧の範囲であれば吸着床(非凝縮
性ガスを吹込んても差支えない。
脱着回収終了後の前段吸着末社非凝縮性不活性ガスにて
復圧し吸着床を好ましくは0〜50℃の範囲まで冷却器
し、f!、st擾段tl床区Lしl1、ろ。
以下に本発明O実IIIANII!を図面を参照して説
明する・ 第1図においてMeCt等の低沸点成分を含むVCMは
拠ガスをキャリヤーとした原料ガスとして原料ガス導入
パイプ(6)を経て前段の吸着筒(2−1)0下部に導
入され、そこに充填された活性炭層α)に先ずMeCt
が次−でVC,、Mが選択的に夫々吸着され、中ヤリャ
ーON、ガスは後段の吸着筒(2−b )を介して流出
ガスパイプ(ηより流出される。
置した温度発信器(5−JL)を通過するときK M 
s CLの吸着熱に起因する局部的温度上昇及びVCM
 O吸着熱に起因する局部的温度上昇を該温[Ia信器
(S−りで夫々検知することによって各破過帯の通過を
知ることができる・ このようにして活性炭層a)中を上昇通過する間に濃縮
されたMeCLu直列吸着パイプ(ト4)を経て後段の
吸着11 (2−b )の下部に導入されるが、vCM
の破過帯が後段吸着fil(2−b)の下部に移行した
時点で前段吸着11(2−1’)への原料ガスの供給を
止め該原料ガスを後段吸着筒(2−b )の下部に引続
き導入する・ 上鮎の原料ガスの導入を前段吸着*(2−りから後段吸
着筒(2−b )に切換える操作は前述の如く温度発信
器(5−1)によってVCM破過帯の通過を検出すると
同時に一定の時間差をもたせ友タイマー作動によってこ
れを行う・ 後段吸着筒(2−b)ec導入された原料ガスについて
も前段吸着筒(2−4)における前述の操作と全く同様
廻してMeCt及びVCMO選択的吸着が行われる。(
5−b)tjその温度発信器であり、又C3−b)は濃
縮Mectを前段吸着筒(2−4)に送る乏めの直列吸
着パイプを示す。
他方原料ガスの導入を止めた前段吸着筒(2−1)はそ
の活性炭層α)を加熱して真空発生設備(真空ポンプ)
(4)の作動により前段吸着筒(2−1)の内部を減圧
和することによって活性炭層α)[吸着されていたVC
Mt説着させ冷却器0)で冷却して回収VCMパイプ(
9)を経てVCMを回収する。このようにして前段吸着
筒(2−8)及び後段吸着筒(2−b ’)での原料ガ
スの選択的吸着操作と各吸着筒に濃縮散着されたVCM
の脱着操作とを順次交互に反覆して行い、原料ガスから
連続してVCMを選択的に吸着回収することができる。
て操作に余裕をもたせるか或はいずれか1つの吸着筒を
予備として留保しうる例を示し友もので操作の本質はI
IEI図O場合と同機である。
以下に本発明の効果を明らかにするため第1図の装皺を
用いて行った具体的な実施例を示す。
実施例 間接的に加熱、冷却を行うことができるジャケットを備
えた内径52−7■、長さ2sの銅鋼製の前段吸着筒及
び後段吸着筒に夫々活性炭20JOfを充填し又破過帯
O通過を検出するためO@度針は充填活性炭層のガス流
出側より下方100■の位置に夫々設置したー 先ず前段吸着筒の前記充填層#C凡35鳴、N@Cj(
114鳴、VCM64.86唾の混合ガスを原料ガスと
して常圧にて145t/sm(空塔速度102c++w
/s*)0流速で導入した・ この前段吸着筒の充填層Ks?いては原料ガスO導入開
始後、2時間46分経過して上記owFt計O指示温t
#iso℃に上昇したが、2時間56分で−たん温fが
下降し、続いて温to上昇が始ま93時間1分に最高9
0℃まで上昇し再び温f#i下がった。
上記050℃の上昇温ftfM@C4破過帯O通過を示
し、又90℃の上昇温度はVCM破過帯の通過を示して
いる・ 前記0112針?90℃Oビーク温fを検知後タイマー
作動によって原料ガスの前段吸着筒への導入を14分間
継続させてから、前段吸着筒への原料ガスの導入を止め
、これを後段吸着筒に切換えて引続き原料ガスを後段吸
着筒へ導入した。
一方原料ガスの導入を止めた前段吸着筒はこれを加熱し
て充填層温度を130℃とし真!2ポンプにて4T@r
rまで減圧し、鋏充填層に吸着されているVCMを脱着
回収した― 次に前段吸着筒の充填層はこれを40t:に冷却し次工
程にシける後段吸着筒として使用し、以下この操作を繰
返し行った・ そとて上記の吸着筒からの流出ガス及び回収ガスをガス
クロマド分析し夫々の濃度を測定した。
その結果を下記に示す。
a)流出ガス#If N露ガス  99.5%から100% MeC1未検出からs、oooppm VCM   IPPm以下 (2)回収ガス組成 N、ガス  0.363鳴 MeCt   O,107% VCM   99.531 これ!t)VCMO回収’J1199.98唾以上、M
@C1O除去率50鳴という結果が得られた。
従って本発明によればVCMからMeCtを50唾以上
除去すると共に、流出ガス中のvCMflkfをlpp
m以下とし、高収車下でVCM−IIxiii1収でき
たことを示している。
【図面の簡単な説明】
図面はいずれも本発明方法を適用したフローの例示図で
あり、第18i!Fi2床方式を、菖2図は3床方式を
夫々示す。 l・−・・・・・・活性炭層 2・・・−・−・・吸着筒 3−・−・・・・冷却器 4・・・・・・・−・真空発生設備 5・・・−・・・・温度発信器 6−−−−・・・・原料ガス導入パイプ7・・・・・・
・・・流出ガスパイプ 8−=−・・1伺吸着パイプ 9−−−−−回収VCMパイプ 特許出願人  オルガノ株式会社 代理人  弁理士 高 橋  章

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. l 低沸点成分を含む塩化ビニルモノ!−を複数の吸着
    床KII列に導入して塩化ビニルモノマーを導入方向前
    段(D@、着床に吸着させ、塩化ビニル七ツマー破過帯
    の移行を低沸点成分及び/又蝶塩化ビニルモノ!−の吸
    着熱に起因する局部的温度上昇によって検出し、該破過
    蕾が前段吸着床よ)i1段吸着床へ移行した時点で上記
    低沸点成分を含む塩化ビニルモノマーの導入を前段吸着
    床から後段数着床に切換えて後段吸着床を次工程の前段
    吸着床として塩化ビニルモノマーを吸着させ、又他方前
    記の導入を止めた前段吸着床社七の吸着剤を加熱して塩
    化ビニル七ツマ−を真空減圧下(脱着l収することを特
    徴とする塩化ビニル七ツマ−を選択的に@着−収する方
    法・
JP15065181A 1981-09-25 1981-09-25 塩化ビニルモノマ−を選択的に吸着回収する方法 Granted JPS5855437A (ja)

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JPS6340409B2 JPS6340409B2 (ja) 1988-08-11

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6249165A (ja) * 1985-08-29 1987-03-03 東京高圧株式会社 低温輸送方法及び装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6249165A (ja) * 1985-08-29 1987-03-03 東京高圧株式会社 低温輸送方法及び装置

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