JPS5839146B2 - テトラペプタイド類およびその製造法 - Google Patents
テトラペプタイド類およびその製造法Info
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- JPS5839146B2 JPS5839146B2 JP51030400A JP3040076A JPS5839146B2 JP S5839146 B2 JPS5839146 B2 JP S5839146B2 JP 51030400 A JP51030400 A JP 51030400A JP 3040076 A JP3040076 A JP 3040076A JP S5839146 B2 JPS5839146 B2 JP S5839146B2
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- JP
- Japan
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- lysyl
- glutamic acid
- threonyl
- glutamic
- group
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- Expired
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)
- Peptides Or Proteins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な抗菌性物質であるテトラペンタイド類、
更に詳細には、次の一般式(I)で表わされるリジル−
N6−()レオニル)−リジル−グルタミン酸類ならび
にその製造法に関する。
更に詳細には、次の一般式(I)で表わされるリジル−
N6−()レオニル)−リジル−グルタミン酸類ならび
にその製造法に関する。
(式中、Rは水素原子またはアシル基を示す)従来から
、ある種のアミノ酸をペプチド結合で結合したポリペブ
タイド類が種々の医薬効果を奏することが知られている
。
、ある種のアミノ酸をペプチド結合で結合したポリペブ
タイド類が種々の医薬効果を奏することが知られている
。
そこで、本発明者はこの種の化合物を多種合成し、その
薬理効果を検索していたところ、上記一般式(I)で表
わされる化合物が優れた抗菌作用を有することを見出し
、本発明を完成した。
薬理効果を検索していたところ、上記一般式(I)で表
わされる化合物が優れた抗菌作用を有することを見出し
、本発明を完成した。
従って、本発明は、抗菌作用を有する(I)式のリシル
−N6−()レオニル)−リシル−グルタミン酸類を提
供せんとするにある。
−N6−()レオニル)−リシル−グルタミン酸類を提
供せんとするにある。
更に他の目的は、これを製造するための新規な製造法を
提供せんとするにある。
提供せんとするにある。
本発明によれば、リジル−N’−()レオニル)リジル
−グルタミン酸類(I)は次の如くして製造される。
−グルタミン酸類(I)は次の如くして製造される。
(式中、「はアシル基、XI、N2はアミノ保護基、Y
はエステル残基な示す。
はエステル残基な示す。
)すなわち、N2−X、−N’−N2−リジン(II)
とグルタミン酸ジエステル(m)とを反応せしめてN2
−Xl−N6−N2−リジル−グルタミン酸ジエステル
(■)となし、このN2 を脱離しテN2XI −リジ
ル−グルタミン酸ジエステル(V)となし、これにN2
−トレオニン(VI)を反応せしめてN2−Xl−N’
−(N2−トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエ
ステル(■)となし、このXlを脱離してN’−(N2
− トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエステル
(■)となし、これにN2−Xl−N6−N2−リジン
(IX)を反応せしめてN2−Xl−N’−N2−リジ
ル−N’ −(X2トレオニル)−リジル−グルタミン
酸ジエステル(X)となし、とのXl を脱離してH
6−N2−リジル−N”(N2−)レオニル)−リジル
−グルタミン酸ジエステル(XI)となし、次いでこれ
を脱エステル化してN’−N2−リジル−H6−(N2
−トレオニル) −1,1シル−グルタミン酸(■)と
なし、これのN2 を脱離すれば(I)式中Rが水素原
子で表わされる化合物が得られる。
とグルタミン酸ジエステル(m)とを反応せしめてN2
−Xl−N6−N2−リジル−グルタミン酸ジエステル
(■)となし、このN2 を脱離しテN2XI −リジ
ル−グルタミン酸ジエステル(V)となし、これにN2
−トレオニン(VI)を反応せしめてN2−Xl−N’
−(N2−トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエ
ステル(■)となし、このXlを脱離してN’−(N2
− トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエステル
(■)となし、これにN2−Xl−N6−N2−リジン
(IX)を反応せしめてN2−Xl−N’−N2−リジ
ル−N’ −(X2トレオニル)−リジル−グルタミン
酸ジエステル(X)となし、とのXl を脱離してH
6−N2−リジル−N”(N2−)レオニル)−リジル
−グルタミン酸ジエステル(XI)となし、次いでこれ
を脱エステル化してN’−N2−リジル−H6−(N2
−トレオニル) −1,1シル−グルタミン酸(■)と
なし、これのN2 を脱離すれば(I)式中Rが水素原
子で表わされる化合物が得られる。
更にまた、式(■)の化合物にカルボン酸またはその反
応性誘導体を反応せしめてN2−アシルN6−N2−リ
ジル−H6−(N2−トレオニル)−リジル−グルタミ
ン酸(xm)となし、このN2 を脱離すれば(I)式
中Rがアシル基で表わされる化合物が得られる。
応性誘導体を反応せしめてN2−アシルN6−N2−リ
ジル−H6−(N2−トレオニル)−リジル−グルタミ
ン酸(xm)となし、このN2 を脱離すれば(I)式
中Rがアシル基で表わされる化合物が得られる。
Xl、N2で表わされるアミノ保護基としては、ホルミ
ル、ベンジルオキシカルボニル差等カ挙ケられ、Xlと
N2は脱離方法の異なるものが使用される。
ル、ベンジルオキシカルボニル差等カ挙ケられ、Xlと
N2は脱離方法の異なるものが使用される。
Yはエステル残基で加水分解等によって容易に脱エステ
ル化されるものが好ましい。
ル化されるものが好ましい。
各アミノ酸間の反応は、従来のペプチド反応と全く同様
にして行われ、例えばジクロロメタン、ジメチルホルム
アミド等の溶媒中ジシクロヘキシルカルボジイミド(D
CCD)等の脱水縮合剤の存在下行うのが好ましい。
にして行われ、例えばジクロロメタン、ジメチルホルム
アミド等の溶媒中ジシクロヘキシルカルボジイミド(D
CCD)等の脱水縮合剤の存在下行うのが好ましい。
アミノ保護基の脱離は、ホルミル基の場合は塩酸処理す
ることにより、またベンジルオキシカルボニル基の場合
はパラジウム−炭素等による還元によって容易になし得
る。
ることにより、またベンジルオキシカルボニル基の場合
はパラジウム−炭素等による還元によって容易になし得
る。
カルボン酸の反応性誘導体としては、塩化物、無水物、
活性エステルが使用され、反応は一般のアシル化反応に
よって行われる。
活性エステルが使用され、反応は一般のアシル化反応に
よって行われる。
次に本発明化合物の抗菌作用を示す。
尚抗菌力は寒天平板希釈法によって測定した。
次に実施例を挙げて説明する。
実施例 l
N2−ホルミル−H6−ベンジルオキジカルボニル−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル:N2−ホルミル
−H6−ベンジルオキシカルボニル−リジン30.8P
(0,1モル)とグルタミン酸ジメチルエステル17.
5P(0,1モル)ヲシクロロメタン100m1に溶解
し、−10℃に冷却し、攪拌下にDCCD 22.7
? (0,11モル)を少量ずつ加え、1時間攪拌後、
氷室に一夜放置する。
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル:N2−ホルミル
−H6−ベンジルオキシカルボニル−リジン30.8P
(0,1モル)とグルタミン酸ジメチルエステル17.
5P(0,1モル)ヲシクロロメタン100m1に溶解
し、−10℃に冷却し、攪拌下にDCCD 22.7
? (0,11モル)を少量ずつ加え、1時間攪拌後、
氷室に一夜放置する。
ついで酢酸5mlを加え、1時間攪拌し、析出したジシ
クロヘキシル尿素を沢去し、ジクロロメタンで洗い、洗
液と母液を合わせる。
クロヘキシル尿素を沢去し、ジクロロメタンで洗い、洗
液と母液を合わせる。
1N塩酸、水、1N炭酸ソーダ、水の順に洗い、硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣を石油エーテル
−ジクロロメタンから再結晶して目的物38.21(8
5%)を得る。
トリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残渣を石油エーテル
−ジクロロメタンから再結晶して目的物38.21(8
5%)を得る。
融点164166℃oCct)2A−25,6°(C=
1.0、DMF)。
1.0、DMF)。
元素分析値 C2] H29o8N3
理論値(%):C55,86、H64,7、H9,31
実測値(%):C55,95、H6,52、H9,38
実施例 2
N2−ホルミル−リジル−グルタミン酸ジメチルエスア
ルニ N2−ホルミル−H6−ベンジルオキジカルボニル−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル37.25’(0
,08モル)をメタノール100r/llに溶解し、I
N塩酸−メタノール5aを加え、5%パラジウム−炭素
を触媒とし、水素ガスを通じる。
ルニ N2−ホルミル−H6−ベンジルオキジカルボニル−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル37.25’(0
,08モル)をメタノール100r/llに溶解し、I
N塩酸−メタノール5aを加え、5%パラジウム−炭素
を触媒とし、水素ガスを通じる。
反応終了後、触媒を戸去し、メタノールで洗い、洗液と
母液を合わせ、減圧濃縮する。
母液を合わせ、減圧濃縮する。
残渣をIN塩酸に溶解し、ジクロロメタン100W11
で抽出し、水層を10%炭酸ソーダでアルカリ性とし、
酢酸エステル100m1で2回抽出し、酢酸エステル層
を合わせ、水洗、硫酸す) IJウムで乾燥する。
で抽出し、水層を10%炭酸ソーダでアルカリ性とし、
酢酸エステル100m1で2回抽出し、酢酸エステル層
を合わせ、水洗、硫酸す) IJウムで乾燥する。
溶媒を減圧留去し、残渣を石油エーテル−酢酸エステル
から再結晶して目的物24.69(94%)を得る。
から再結晶して目的物24.69(94%)を得る。
融点174−176℃o Cct 、l濱−27,4゜
(C=1.0、DMF’)。
(C=1.0、DMF’)。
元素分析値 C13H23o6N3
理論値(%):C49,20,H7,31゜N2−ホル
ミル−H6−(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル
)−リシル−グルタミン酸ジメチルエステル: N2−ホルミル−クジルーグルタミン酸ジメチルエステ
ル24.1f(0,076モル)とベンジルオキシカル
ボニルトレオニンl 9.2? (0,076モル)を
ジメチルホルムアミド50rnlに溶解し、10℃に冷
却し、攪拌下にDCCD17.3f(0,084モル)
を少量ずつ加える。
ミル−H6−(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル
)−リシル−グルタミン酸ジメチルエステル: N2−ホルミル−クジルーグルタミン酸ジメチルエステ
ル24.1f(0,076モル)とベンジルオキシカル
ボニルトレオニンl 9.2? (0,076モル)を
ジメチルホルムアミド50rnlに溶解し、10℃に冷
却し、攪拌下にDCCD17.3f(0,084モル)
を少量ずつ加える。
1時間攪拌後、氷室に一夜放置し、ついで酢酸5mlを
加え、1時間攪拌し、析出した結晶を沢去する。
加え、1時間攪拌し、析出した結晶を沢去する。
これを酢酸エステルで洗い、洗液と母液を合わせ、減圧
濃縮する。
濃縮する。
残渣を酢酸エステルに溶解し、1N塩酸、水、IN炭酸
ソーダ、水の順に洗い、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去し、残渣を石油エーテル−酢酸エステルから再結
晶すれば目的物34.4f(82%)を得る。
ソーダ、水の順に洗い、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去し、残渣を石油エーテル−酢酸エステルから再結
晶すれば目的物34.4f(82%)を得る。
融点181〜183℃。
〔α〕2δ−31.6°(C=1.0、DMF)元素分
析値 C25H36010N4 理論値(%):C54,34、H657、N10.14 実測値(%):C54,41、H6,60、N10.1
8 実施例 4 H6−(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル:N2−ホルミル
−H6(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル38.6P(0,
07モル)を2N塩酸メタノール1807711に溶解
し、室温で24時間放置後、溶媒を減圧留去する。
析値 C25H36010N4 理論値(%):C54,34、H657、N10.14 実測値(%):C54,41、H6,60、N10.1
8 実施例 4 H6−(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル:N2−ホルミル
−H6(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リ
ジル−グルタミン酸ジメチルエステル38.6P(0,
07モル)を2N塩酸メタノール1807711に溶解
し、室温で24時間放置後、溶媒を減圧留去する。
残渣を10%塩酸に溶解し、酢酸エステルで抽出し、水
層に酢酸エステル200rnlを加えた後、10%炭酸
ソーダでアルカリ性とし、酢酸エステル層を分取する。
層に酢酸エステル200rnlを加えた後、10%炭酸
ソーダでアルカリ性とし、酢酸エステル層を分取する。
酢酸エステル層を水洗腰硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮し、残渣を酢酸エステル−アセトンから再結晶すれ
ば目的物32.7P(87%)を得る。
濃縮し、残渣を酢酸エステル−アセトンから再結晶すれ
ば目的物32.7P(87%)を得る。
融点194−196℃。
〔α)y−28,3°(C=1.0、DMF)。
元素分析値 C24H3600N4
理論値(%):C54,95、H6,92、N10.6
8 実測値(%):C55,07、H6,98、N10.7
2 実施例 5 N2−ホルミル−H6−ペンジルオキジカルボニ/L/
−1) シル−N6 (ペンジルオキシカルボニル
−トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジメチルエステ
ル: H6(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リジ
ル−グルタミン酸ジメチルエステル31.5f(0,0
6モル)とN2−ホルミル−H6−ベンジルオキシカル
ボニル−リシン18.5 ′?(0,06モル)をジメ
チルホルムアミド70m1に溶解し、−10℃に冷却し
、攪拌下にDCCD13.6f(0,066モル)を少
量ずつ加える。
8 実測値(%):C55,07、H6,98、N10.7
2 実施例 5 N2−ホルミル−H6−ペンジルオキジカルボニ/L/
−1) シル−N6 (ペンジルオキシカルボニル
−トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジメチルエステ
ル: H6(ペンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リジ
ル−グルタミン酸ジメチルエステル31.5f(0,0
6モル)とN2−ホルミル−H6−ベンジルオキシカル
ボニル−リシン18.5 ′?(0,06モル)をジメ
チルホルムアミド70m1に溶解し、−10℃に冷却し
、攪拌下にDCCD13.6f(0,066モル)を少
量ずつ加える。
以下実施例3と同様に処理し、生成物をエタノール酢酸
エステルから再結晶すれば目的物33..1(68%)
を得る。
エステルから再結晶すれば目的物33..1(68%)
を得る。
融点176−178℃。〔α〕背−29,1°(C=1
.0、DMF)。
.0、DMF)。
元素分析値 C39H54013N6
理論値(%):C57,48、H6,68、N10.3
1 実測値(%):C57,6L H6,74、N10.3
8 実施例 6 H6−ベンジルオキシカルボニル−リジル−H6(ペン
ジルオキシカルボニルートレオニル)IJジル−グルタ
ミン酸ジメチルエステル:N2−ホルミル−H6−ベン
ジルオキジカルボニル−リシル−N6 (ペンジル
オキシカルボニルトレオニル)−リジル−グルタミン酸
ジメチルxステル32.8 ft (0,04モル)を
2N塩酸−メタノール200m1に溶解し、室温で24
時間放置後、溶媒を減圧濃縮する。
1 実測値(%):C57,6L H6,74、N10.3
8 実施例 6 H6−ベンジルオキシカルボニル−リジル−H6(ペン
ジルオキシカルボニルートレオニル)IJジル−グルタ
ミン酸ジメチルエステル:N2−ホルミル−H6−ベン
ジルオキジカルボニル−リシル−N6 (ペンジル
オキシカルボニルトレオニル)−リジル−グルタミン酸
ジメチルxステル32.8 ft (0,04モル)を
2N塩酸−メタノール200m1に溶解し、室温で24
時間放置後、溶媒を減圧濃縮する。
残渣に10%塩酸を加え、酢酸エステルで抽出し、水層
に再び酢酸エステル200Ttlを加えた後、10%炭
酸ソーダでアルカリ性とする。
に再び酢酸エステル200Ttlを加えた後、10%炭
酸ソーダでアルカリ性とする。
酢酸エステル層を分取し、酢酸エステル層を水洗し、硫
酸すトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣を酢酸エステ
ル−石油エーテルから再結晶すれば目的物28.4P(
82%)を得る。
酸すトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、残渣を酢酸エステ
ル−石油エーテルから再結晶すれば目的物28.4P(
82%)を得る。
融点175−177℃。〔α〕背−265゜(C=lO
1DMF)。
1DMF)。
元素分析値 C38H54012N6
理論値(%):C58,001H6,92、N10.6
8 実測値(%VC58,07、H6,98、N 10.7
0 実施例 7 H6−ベンジルオキジカルボニル−リシル−N6−(ペ
ンジルオキシカルボニルートレオニル)リジル−グルタ
ミン酸: H6−ベンジルオキシカルボニル−リジル−H6−(ペ
ンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リジル−グル
タミン酸ジメチルエステル27.6f(0,035モル
)をジオキサン40mに溶解し、さらにIN水酸化ナト
リウム3811Llを加え、室温で6時間放置後、酢酸
酸性とする。
8 実測値(%VC58,07、H6,98、N 10.7
0 実施例 7 H6−ベンジルオキジカルボニル−リシル−N6−(ペ
ンジルオキシカルボニルートレオニル)リジル−グルタ
ミン酸: H6−ベンジルオキシカルボニル−リジル−H6−(ペ
ンジルオキシ力ルポニルートレオニル)−リジル−グル
タミン酸ジメチルエステル27.6f(0,035モル
)をジオキサン40mに溶解し、さらにIN水酸化ナト
リウム3811Llを加え、室温で6時間放置後、酢酸
酸性とする。
減圧下に溶媒を留去し、残渣をジメチルホルムアミド4
0m1で2回抽出し、ジメチルホルムアミド層を減圧下
に5mA’まで濃縮後、冷飽和食塩水溶液100rIl
lに注入する。
0m1で2回抽出し、ジメチルホルムアミド層を減圧下
に5mA’まで濃縮後、冷飽和食塩水溶液100rIl
lに注入する。
氷室に2時間放置後、析出した結晶を汗取し、結晶を再
び少量のジメチルホルムアミドに溶解し、エーテルを加
えて、氷室に1時間放置する。
び少量のジメチルホルムアミドに溶解し、エーテルを加
えて、氷室に1時間放置する。
析出した結晶を汗取し、エーテルで洗い、乾燥すれば目
的物15.4S’(58%)を得る。
的物15.4S’(58%)を得る。
★★融点181−183℃。
〔α〕貨−28,5℃(C−1,0、DMF)。
元素分析値 C36H50CI2 N6
理論値(%):C56,98、H664、N11.08
実測値(%) : C57,0,5、H6,71゜N1
1.13 実施例 8 H6−ベンジルオキジカルボニル−リシル−N6(ペン
ジルオキシカルボニルートレオニル)−リジルーグルタ
ミン酸2−3P(0=0=0 2.5ミリモル)をテト
ラヒドロフラン(THF) 5TLlおよびIN水酸化
ナトリウム3dの混液に溶解し、水冷し、攪拌下に対応
する有機酸塩化物3ミリモルとIN水酸化ナトリウム3
Tllを交互に数回に分けて滴下する。
1.13 実施例 8 H6−ベンジルオキジカルボニル−リシル−N6(ペン
ジルオキシカルボニルートレオニル)−リジルーグルタ
ミン酸2−3P(0=0=0 2.5ミリモル)をテト
ラヒドロフラン(THF) 5TLlおよびIN水酸化
ナトリウム3dの混液に溶解し、水冷し、攪拌下に対応
する有機酸塩化物3ミリモルとIN水酸化ナトリウム3
Tllを交互に数回に分けて滴下する。
さらに室温で2時間攪拌後、冷IN塩酸50mに注入し
、氷室に1時間放置する。
、氷室に1時間放置する。
析出した結晶を沢取し、結晶を少量のジメチルホルムア
ミドに溶解し、エーテルを加えて氷室に2時間放置後、
析出した結晶を沢取し、ジメチルホルムアミド−エーテ
ルから再結晶すれば次の化合物を得る。
ミドに溶解し、エーテルを加えて氷室に2時間放置後、
析出した結晶を沢取し、ジメチルホルムアミド−エーテ
ルから再結晶すれば次の化合物を得る。
実施例 9
N2−(6−オクタノイル)−H6−ベンジルオキシカ
ルボニル−リシル−H6(ペンジルオキシカルボニルー
トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジメチルエステル
i、 o yを0.IN塩酸メタノール20mA’に溶
解し、5%パラジウム−炭素を触媒とし、水素ガスを通
じ反応させる。
ルボニル−リシル−H6(ペンジルオキシカルボニルー
トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジメチルエステル
i、 o yを0.IN塩酸メタノール20mA’に溶
解し、5%パラジウム−炭素を触媒とし、水素ガスを通
じ反応させる。
反応後、触媒をp去し、メタノールで洗い、を液を合わ
せ、減圧濃縮する。
せ、減圧濃縮する。
残渣をIN塩酸に溶解し、沢過後、p液をカルボキシメ
チルセルロース(CMC)カラムクロマトグラフィーに
付し、pH6,5の0.05モルギ酸アンモン緩衝液で
溶出し、単−画※※分を得る。
チルセルロース(CMC)カラムクロマトグラフィーに
付し、pH6,5の0.05モルギ酸アンモン緩衝液で
溶出し、単−画※※分を得る。
この溶出液を減圧濃縮し、残渣に塩酸メタノールを加え
て、沢過し、p液を減圧濃縮すれば白色粉末を得る。
て、沢過し、p液を減圧濃縮すれば白色粉末を得る。
同様にして次の化合物を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1一般式 (式中、Rは水素原子またはアシル基を示す)で表わさ
れるリジル−N’ −(トレオニル)−リジル−グルタ
ミン酸類。 2 アシル基がアルキルカルボニル基である特許請求の
範囲第1項記載のリジル−N’−(トレオニル)−リジ
ル−グルタミン酸類。 3 アルキルカルボニル基が6−メチルオクタノイル基
または3・7−シメチルオクタノイル基である特許請求
の範囲第2項記載のリジル−N6(トレオニル)−リジ
ル−グルタミン酸類。 4 N2−X、−N6−X、、−リジン(ここで、X
l 、X2はアミノ保護基を示す)とグルタミン酸ジエ
ステルとを反応せしめてN2−X、 −N’−X2−リ
ジル−グルタミン酸ジエステルとなし、このX2を脱離
してN2−X、 −’Jジルーグルタミン酸ジエステル
となし、これにX2〜トレオニンを反応せしめてN2−
Xl−N6−(X2− トレオニル)−リジル−グルタ
ミン酸ジエステルとなし、このXl を脱離してN6
−(X2−トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエス
テルとなし、これにN2−X、−N6−X2−リジンを
反応せしめてN”X、 −NOx2−リジル−N6−(
X2−トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエステル
となし、このXlを脱離してN6−X2−リジル−N6
−CX、 −トレオニル)−リジル−グルタミン酸ジエ
ステルとなし、次いでこれを脱エステル化してN6−X
2−!JジルーN’ −(X2− )レオニル)−リシ
ル−グルタミン酸となし、更にこれのX2 を脱離する
ことを特徴とするリジル−N6−()レオニル)−リジ
ル−グルタミン酸の製造法。 5 N6−X2−リジル−N6−(X2−4レオニル
)−リジルーグルタミン酸(ここでX2はアミノ保護基
を示す)をアシル化してN2−アシル−N6−X2−リ
ジル−N’−(X2−ルオニル)−リジル−グルタミン
酸となし、次いでこれのX2を脱離することを特徴とす
るN2−アシル−リジル−※※N6−()レオニル)−
リジル−グルタミン酸の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51030400A JPS5839146B2 (ja) | 1976-03-19 | 1976-03-19 | テトラペプタイド類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51030400A JPS5839146B2 (ja) | 1976-03-19 | 1976-03-19 | テトラペプタイド類およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52113920A JPS52113920A (en) | 1977-09-24 |
JPS5839146B2 true JPS5839146B2 (ja) | 1983-08-27 |
Family
ID=12302870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51030400A Expired JPS5839146B2 (ja) | 1976-03-19 | 1976-03-19 | テトラペプタイド類およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5839146B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02124068U (ja) * | 1989-03-23 | 1990-10-12 | ||
JPH0432998Y2 (ja) * | 1985-12-27 | 1992-08-07 |
-
1976
- 1976-03-19 JP JP51030400A patent/JPS5839146B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0432998Y2 (ja) * | 1985-12-27 | 1992-08-07 | ||
JPH02124068U (ja) * | 1989-03-23 | 1990-10-12 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52113920A (en) | 1977-09-24 |
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