JPS5828000B2 - オスイジヨウカソウチ - Google Patents

オスイジヨウカソウチ

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Publication number
JPS5828000B2
JPS5828000B2 JP50127135A JP12713575A JPS5828000B2 JP S5828000 B2 JPS5828000 B2 JP S5828000B2 JP 50127135 A JP50127135 A JP 50127135A JP 12713575 A JP12713575 A JP 12713575A JP S5828000 B2 JPS5828000 B2 JP S5828000B2
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JP
Japan
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chamber
contact
partition plate
tank
tank wall
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Expired
Application number
JP50127135A
Other languages
English (en)
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JPS5251749A (en
Inventor
耕造 金森
正晃 小西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5251749A publication Critical patent/JPS5251749A/ja
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Expired legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10Biological treatment of water, waste water, or sewage

Landscapes

  • Biological Treatment Of Waste Water (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機質を含む汚水を、高度に酸化処理して清澄
水を得ることができる汚水浄化装置に関する。
従来、接触充填材を接触循環室に充填1−て、汚水を該
接触循環室中に循環させ、高度な酸化処理を容量の小さ
い装置で実現する。
所謂接触酸化法による汚水浄化装置が知られている。
しかしながら、これらの汚水浄化装置では、接触充填材
と汚水との接触が不均一 になって汚水処理効率が低下
したり、発生した汚泥、浮遊物と処理した清澄水との分
離が十分に渚慮されていないために汚水浄化装置からの
流出水の有機質濃度が高くなってしまうことがあった。
本発明は上記従来の欠点を解消するものであり、その要
旨は槽内に2枚の仕切板が設けられ、2枚の仕切板間は
曝気室に、一方の仕切板と槽壁の間は接触循環室に、他
方の仕切板と槽壁の間は沈澱室に夫々なされており、該
2枚の仕切板の下端と槽壁の底部の間には間隙が設けら
れてなり、該接触循環室側の仕切板の上端は清澄水流出
管の開口端より1ζ方に位置され、該沈澱室側の仕切板
の上端は清澄水流出管より上方に位置され、該沈澱室に
は汚泥揚水管が設けられ該汚泥揚水管の下方において槽
壁底部が最も低い位置になるように形成され、該接触循
環室には接触充填材が充填されていることを特徴とする
汚水浄化装置に存する。
次に本発明の一例について添イ」士た図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
1は本発明汚水浄化装置の主要部を収納する槽であり、
上部水平断面形状は長方矩形となされている。
該槽1の下部には傾斜部2,3が設げられ、槽壁底部4
か最も低い位置になされている。
該槽1の内部には二枚の仕切板5,6が設けられて、該
槽1を3つの室に分割されている。
該二枚の仕切板5,6の下端と槽壁の底部(傾斜部2,
3及び槽壁底部4)との間には間隙7,8が設げられて
いる。
しかして3つに分割された槽1内の室は、仕切板5,6
間は曝気室Aになされており、該曝気室Aを挾んで一方
の仕切板5と槽壁18の間は接触循環室Bに、他方の仕
切板6と槽壁19の間は沈澱室Cが夫々形成される。
該槽1の曝気室Aの−E方の槽壁には、汚水を槽1に供
給する汚水供給管9の端部が開1」されており、沈澱室
Cの上方の槽壁には処理された清澄水を排出する清澄水
流出管10の端部が開「1されている。
該接触循環室B側の仕切板5の上端は該清7登水流出管
10の開目端よりも下方に位置され、該沈澱室C側の仕
切板6の上端は該清澄水流出管10よりも上方に位置さ
れている。
又、該槽1の該接触循環室B側の傾斜部2はその傾斜が
比較的緩になされており、該沈澱室C側の傾斜部3はそ
の傾斜が比較的急になされている。
11は散気管であり、その下端が該曝気室Aの下方、2
枚の仕切板5,6の下端よりも上方に位置されており、
下端散気孔より空気を散気できるようになされている。
該接触循環室Bには接触充填材13が支持体14に支持
されて充填されている。
該接触充填材13は合成樹脂等のハニカム板体もしくは
波板を積重ねて形成し、金網状の支持体14に支持させ
るのが好適であるが、短尺円筒体等の細片体を多数籠体
内に収納せしめてもよい。
該接触充填材13の上端は仕切板5の上端にはg同じ高
さになされ、下端は該仕切板5の下端よりも上方に位置
されている。
該沈澱室Cには汚泥揚水管15が設けられ、該汚泥揚水
管15の下端開口部16の下方において、槽1の槽壁底
部4が位置するようになされている。
該汚泥揚水管15には槽1外のポンプ(図示せず)に連
通されている。
次に本発明汚水浄化装置の使用態様について説明する。
家庭、団地又は工場から排出された有機物を含む汚水は
、汚水供給管9を通じて槽1内に供給される。
汚水が槽1の曝気室A、接触循環室B及び沈澱室Cに満
たされると、清澄水流出管10の開口端の位置によって
、水位W、L、が決定される。
該曝気室Aに導入された汚水は散気管11の下端散気孔
より散気される空気によって上昇流が形成され、上昇と
共に汚水中に散気された空気中の酸素が溶解しながら、
曝気室Aより接触循環室Bに移行する。
該接触循環室Bでは酸素を含有した汚水が下降流を形成
して、接触充填材13間の間隙を通過して該接触循環室
Bの下端に至る。
該接触充填材130表面には微生物が薄い層状に付着し
ており、汚水か接触循環室Bを下降する間に汚水中の有
機物を酸化し、汚水が浄化される。
該接触充填材13の上端が仕切板5の上端とはg一致さ
れ、下端は仕切板5の下端より上方に位置され、且つ接
触循環室Bの下方に傾斜部2が形成されているので、汚
水の下降流が接触充填材13の断面全体に亘り一様にな
り、例えば曝気室Aに近い部分に偏することがない。
しかして汚水は間隙γかも曝気室Aに戻り、曝気室Aと
接触循環室Bの間を何度も循環させられ、所望の高度の
浄化処理が実現されるようなされる。
該接触充填材130表面に微生物が繁殖し形成される薄
い層を形成するには、種汚泥を入れた水を槽1に仕込み
、接触充填材13に種汚泥を付着させ微生物を予め育成
繁殖させることによってなし得る。
該微生物の死滅した部分又は過剰に繁殖した部分は該接
触充填材130表面から剥離し落下し、傾斜部2に沿っ
て槽壁底部4に沈下する。
曝気室Aにおいて、散気管11の下端は仕切板5゜6よ
りも上方に位置されるから、汚水の循環流及び過剰に繁
殖した微生物によって形成される汚泥の傾斜部2を沿う
沈下を乱ずことばない。
このように、汚水は浄化処理され清澄水となり、順次間
隙8から沈澱室Cに移行する。
清澄水は該沈澱室Cを徐々に上昇し、清澄水中の沈澱物
、比較的微小な過剰の微生物によって形成される汚泥が
沈澱分離され清澄水流出管より流出され、放流されるか
もしくは更に高度の第3次処理装置に送られる。
清澄水から分離された沈澱物、過剰の微生物によって形
成される比較的微小な汚泥は傾斜部3に沿って槽壁底部
4に沈下する。
該沈下した沈澱物、過剰に繁殖した微生物によって形成
される汚泥は汚泥揚水管15により揚水され、汚泥処理
装置もしくは前段階のより低度の汚水浄化装置に返送さ
れる。
第5図は本発明の別の実施例であり、曝気室Aに散気管
11の替りに曝気水車17を設けたものである。
該曝気水車1γは回転軸に多数の毛状突起が植設された
ものであり、その回転により曝気室A上部の汚水を接触
循環室Bに移行せしめるものである。
汚水には該曝気水車17の攪拌作用により多量の酸素が
溶解される。
本発明汚水浄化装置では槽内に2枚の仕切板が設けられ
、2枚の仕切板間は曝気室に、一方の仕切板と槽壁の間
は接触循環室に、他方の仕切板と槽壁の間は沈澱室に夫
々なされており、該2枚の仕切板の下端と槽壁の底部の
間には間隙が設けられてなり、該接触循環室側の仕切板
の上端は清澄水流出管の開口端より下方に位置され、該
沈澱室側の仕切板の上端は清澄水流出管より上方に位置
され、該沈澱室には汚泥揚水管が設けられ、該汚泥揚水
管の下方において槽壁底部が最も低い位置になるように
形成され、該接触循環室には接触充填材が充填されてい
るので、高度の汚水浄化処理が実現され、環境を汚染す
ることのない清澄水か得られる。
又、汚水浄化処理中における過剰に繁殖した微生物によ
って形成される汚泥は汚泥揚水管の下方における槽壁底
部の最も低い位置に集められ、汚泥揚水管により槽外に
排出されて、清澄水中に混入することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明汚水浄化装置の一例を示す平面図であり
、第2図は第1図■−■線より切断した縦断面図であり
、第3図は本発明の別の実施例を示す縦断面図である。 A・・・・・・曝気室、B・・・・・・接触循環室、C
・・・・・・沈澱室、1・・・・・・槽、2,3・・・
・・・傾斜部、4・・・・・・槽壁底部、5,6・・・
・・・仕切板、7.8・・・・・・間隙、9・・・・・
・汚水供給管、10・・・・・・清澄水流出管、11・
・・・・・散気管、13・・・・・・接触充填材、14
・・・・・・支持体、15・・・・・・汚泥揚水管、1
6・・・・・・下端開口部、17・・・・・・曝気水車
、18,19・・・・・・槽壁。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 槽内に2枚の仕切板が設けられ、2枚の仕切板間は
    曝気室に、一方の仕切板と槽壁の間は接触循環室に、他
    方の仕切板と槽壁の間は沈澱室に夫夫なされており、該
    2枚の仕切板の下端と槽壁の底部の間には間隙が設けら
    れてなり、該接触循環室側の仕切板の上端は清澄水流出
    管の開口端よりF方に位置され、該沈澱室側の仕切板の
    上端は清澄水流出管より上方に位置され、該沈澱室には
    汚泥揚水管が設けられ該汚泥揚水管の一ド方において槽
    壁底部が最も低い位置になるように形成され、該接触循
    環室には接触充填材が充填されていることを特徴とする
    汚水浄化装置。
JP50127135A 1975-10-21 1975-10-21 オスイジヨウカソウチ Expired JPS5828000B2 (ja)

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JP50127135A JPS5828000B2 (ja) 1975-10-21 1975-10-21 オスイジヨウカソウチ

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JPS5251749A JPS5251749A (en) 1977-04-25
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ID=14952472

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0266425B1 (en) * 1986-04-01 1991-10-30 IIDA, Katumi Aeration type water treatment plant
JPH0511196Y2 (ja) * 1986-05-28 1993-03-18

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS542131A (en) * 1977-06-08 1979-01-09 Hitachi Metals Ltd Magnetic toner
JPS542132A (en) * 1977-06-08 1979-01-09 Hitachi Metals Ltd Magnetic toner
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