JPS5823650A - 4,4′−ジアミノジフエニル誘導体の製法 - Google Patents

4,4′−ジアミノジフエニル誘導体の製法

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JPS5823650A
JPS5823650A JP57044752A JP4475282A JPS5823650A JP S5823650 A JPS5823650 A JP S5823650A JP 57044752 A JP57044752 A JP 57044752A JP 4475282 A JP4475282 A JP 4475282A JP S5823650 A JPS5823650 A JP S5823650A
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JP
Japan
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mixture
azobenzene
hydrogen
reduction
aqueous
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JP57044752A
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Inventor
ギユンター・ステフアン
カール・ハインツ・シユンデヒユツテ
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Bayer AG
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Bayer AG
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/24Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of esters of sulfuric acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C241/00Preparation of compounds containing chains of nitrogen atoms singly-bound to each other, e.g. hydrazines, triazanes
    • C07C241/02Preparation of hydrazines

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の主題は、ヒドラゾベンゼン及びその誘導体を対
応するアゾキシベンゼン、アゾベンゼン又ハアゾベンゼ
ンとアゾキシベンゼンとの混合物からラネー・ニッケル
の存在下での水素又はヒドラジンを用、いる還元により
製造する改良方法である○ 本発明の他の主題は了ゾキシベンゼン、了ゾベンゼン又
はアゾベンゼンとアゾキシベンゼンとの混合物をラネー
・ニッケルの存在下で水素又はヒドラジンによって還元
し、続いてこの工うにして得られたヒドラゾベンゼンを
その中間単離なしに転位させる、4.41−ジアミノゾ
フェニル化合物の製造方法でおる。
シア建ノジ7工二ル化合物は、水溶性及び微水溶性であ
るジスアゾ及びポリアゾ染料の製造用のナト2アゾ成分
として主要な位置にある。
これらの化合物の製造は常にニトロベンゼン又は置換さ
れたニトロベンゼンを出発物質としており、これらの化
合物を極めて様々な還元剤と反応を与え、そしてこれら
を水性鉱酸の作用のもとで転位させて希望するテトラゾ
肩成分を与える。
この還元方法に関してはすでに多くの提案がなされてい
る。比較資料はホウペン−ウニイル(Hushes −
W#yl ) ノr有機化学の方法(Mgtho−da
*  deデ orga覚iaehg* GAvsjg
)J X / 2巻に与えられてiる。公知の還元方法
は411のグループに分類で紮る:L金金属用−る還元
、例えば現在工業的に広く使用されているアルカリの存
在下で亜鉛を用いる方法、2電気化学的還元方法、λ非
金属還元剤、例えばホルムアルデヒド、を用いる還元、
及び表接触還元。
還元方法は、一段階方法及び二段階方法、例えば中間体
として生成するアゾキシ化合物又は中間体として生成す
るアゾキシ化合物とアゾ化合物との混合物の単一を含む
方法、の両方で賽すでき、そして二還元段階では同一の
還元剤又Fi異なる還元剤t−使用することが可能であ
る。
金属を用いかつその目的で亜鉛の他に鉄、鉄アルミニウ
ム合金及びナトリウムアマルガムが提案されている方法
鉱壌元剤の処理に関して大きな投資を必要とする。
電気化学的還元方法はdfllleの貌点からみると非
常に費用がかかりそして非常に多大のエネルギーを要す
る。
還元剤としてメタノール、硫化ナトリワム又はホルムア
ルデヒドを使用する還元方法は化学書論的電の一生物を
与え、咳副生物は必ずしも常に望ましめものではなく、
或Fi硫化す) IJウムの場合の如く職業病上の理由
のためにプラントにはむかない。
これらの全ての方法の共通の特徴は、ヒドラゾベンゼン
を鉱酸を用いて転位させてジアミノジフェニル誘導体を
与える前に −゛°°′、ヒドラゾ ベンゼンを本離しなければならないことである。
上記の方法の一点又は欠点を除くために、アゾ化合物及
びアゾ1?シ化合物を接触的に還元してヒドラゾ化合物
とすることがすでに機唱されており(ホウベン−ウニイ
ルX/2巻721〜724貞)、使用される触媒は炭酸
カルシウム上のパッジラム、木炭上のパッジラム、木炭
上のルテニウム及び酸化白金−Wである。水素源として
は分子状水素の他にヒドラジン水和物も使用できる。還
元反応は一般におだやかな条件下で行なわれる。そtl
にもかかわらず、対応するアニリンまで還元しすぎると
いう危険性が大きい〔例えldMathodie%mC
himia襲嘱■巻6、芳香族ヒドラゾ化合物、161
Jiij1ジヨージ・チェ五〇フエルラーグ(Gaor
gaThiamg VttrLag)、ステユットガル
ト(Stutt−σαデt)、 1974@照〕。
しかしながら、ラネーニッケルは経済的理由の丸めに好
ましい。ラネー・ニッケルを用いる還元もすでに提案さ
れているが(J、A惰、C&#倶。
Se2.78.544B (1956)、J、Am。
Chem、  Soa、  7 @、549g(195
7)及び米国特許明細置部1,589,986号#朋〕
、これは上記の費用のかかる触媒を用いる場合のような
おだやかな条件下では進行しないことが知られている、
従って米国%軒#4細書第1,589,988号Kti
l17Ct 100 Cで実施しなければならないと記
されている。この!度は正確に保っ必蒙がめる。
何故なら、126Cにおいてすら布望するヒドラゾン化
合物はもはや得られず41)実上対応するアニリ/が定
型的に得られてし1%A1そして80cにお−ては長い
反応時間の後でさえヒドラゾベンゼンはほとんど生成せ
ず王として出発物質が回収されるからでiる。 J、 
Am、 Chem、Soc、 56 。
1411〜1412(1984)にはそゎよシ劣った結
果が配されている。この場合ニッケル触媒の存在下で9
9Gにおいてアゾベンゼンは良好な収率でアニリンに還
元される。1モルのアゾベンゼン尚〕1モルの水素が消
費された後に還元を停止した場合、ヒドラゾベンゼン、
アニリン及ヒ未変化のアゾペンセンの混合物が侍られる
。温度が5sCK低下した場合、水素の吸収は非常に遅
くなり、そしてヒドラゾベンゼンよりむしろアニリンが
製造される。水性アにカリ中においてニッケル触媒の存
在下で水素を用いてニトロベンゼンを還元し、ヒドラゾ
ベンゼンを与える方法に米国特許明細書$219498
8号に紀されている。生成物はヒドラゾベンゼン、アゾ
ベンゼン及びアニリンの混合物で夛・す、それをさらに
還元しなければならない。該方法は非常に進行が悪いた
め、ヒドラゾベンゼンがベンジジンに転化し*後<依然
として残存しているアゾベンゼンを鉄及び塩酸を用いて
さらに還元しそして最終的に転化しなければならない。
この方法の技術的応用は手間のかかる工程役階の点で不
可能である。
還元剤として水素の体動にヒドラジン水和物管用いる場
合、ヒドラゾ化合物を得るためには後者の還元剤は高I
III度で使用しなければならない、安全面の理由だけ
からでも、文献(J、An、Chum。
Sea、?8%B446 (1956))に配されてい
る如く、無水ヒドラジノが非常に爆発性であるため還元
を大規模な工業用プラントにおいて無水ヒドラジンを用
いて実施することは詐されない。
本発明に従う方法を用いると篤くべきどとに、アゾキシ
ベンゼン、アゾベンゼン並びにアゾ千シベンゼyとアゾ
ベンゼンとの混合物の還元を、おだやかな条件下でそし
て大過剰の還元剤を用い4にラネーニッケルの存在下で
実施することが今や可能とまった。アゾキシベンゼン、
アゾベンゼン並びにアゾキシベンゼンとアゾベンゼンと
の混合物からクネー・ニッケルの存在下での水素又はヒ
ドラジノ水和物を用いる接触還元によりヒドラゾベンゼ
ンを製造する本発明方法は、水性又は非水性の低級アル
コール(ここで水の量は全溶媒の多くとも50重量%、
好適にはflogg−である)の中で、アルカリ性作用
を有するアルカリ金属化合−及びアルカリ土類金属化合
物、又はγン七ニアもしくは有機塩基の存在下で該方法
を実施することを特徴とする。
全く予期されていなかったことであるが、希望する還元
がこれらの条件下で20〜100Cの闇の、好ましくr
i60〜80Cの間の温度において、答易かつ急速に進
行し痛収率を与える。
適する低級アルコールは例えばメタノール、エタノール
、イソプロパツール及びグリコール七ツメチルエーテル
である。
この方法は下式のヒドラゾベンゼンのを運用に特に迩し
ている: 〔式中、Rf及びR1は水素、アミノ、C8〜C4−ア
ルキル、任意にカルボキシルにより置換されていてもよ
いC1〜C4−フルコキシ、カルボキシル、スルホ又は
ハロゲン、好適には水素、メチル、メトキシ又は塩素を
示す〕。
この方法による特に塩素置換されたヒドラゾベンゼンの
製造は分献から予期することができない。
何故なら、Fツイマルコフx4イ(Zymalkowa
kイ)の「有機化学研究室中の接触水素化(KataL
yti−amha  H1drイーrsbnger  
is  organイ8cルchetmilteJルー
rakeデ)J7エルデイナンド・エンケ・フェルラグ
(Ferdisa*d Enka Varlag) 、
ステユツトfjkト(1965)161−170[c従
うと接触水素化をアルカリ性媒体中で実施すると舞には
脱ハロゲン化を予期せねばならないからである。この懸
念は文献(J、 As、 C40m、  Soc、61
2.1687〜1698(194G))中の配達により
支持されている。即ち塩素原子は中性媒体中でにγゾ化
合物の着元の際にそのままで残っているが、アルカリの
存在下では脱ハロゲン化が生じると1述されている。
本発明に従う方法は好適には水素を用いて実施される。
アルカリ性作用を有する適当なアルカリ金属化合物及び
アルカリ土類金属化合物の例は、アルカリ金属水酸化物
及び炭酸塩並びにアルカリ土類金属水酸化物及び#2酸
塩、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム及び炭酸カ
リウム、である。
使用できる有機塩基は例えは七ノー、シー、及びトリー
アルキルアミン、並び忙対応するアンモニウム化合物、
ピペリジン、七ルホリン、千ノリン、ピリジン、ジアザ
ビシクロオクタン及び!、5−ジアザビククct(4,
8,0)ノン−5−二ンである。アルカリ性作用管有す
る好適な化合物はアルカリ金属水酸化物及びアルカリ土
類金属水酸什物%特に水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム及び水−ヒバリクムである0本発明方法に関して社ア
ルカリのtFi広い範囲内で変化できそして臨界的では
ない、アルカリを一度加えると、事実上それは反応中に
は消費されない。
理論では、還元すべきアゾ千り化合物1モル当り2モル
の水素又は1モルのヒドラジン水和物が必要であり、そ
して還元すべきγゾ化合物1モル当り1七ルの水素又社
+モルのヒドラジン水和物が必要である。事実上、水素
をlOチまでの過剰量で使用できその場合実情的な過還
元は生じない。
それより大過剰量を用いてさえもヒドラジン水利物によ
る過還元は生じないが、経済上の理由から剛反応による
ヒドラジン水和物の損失を補なうという点からでも20
96の過剰量で完全に充分で凍る。
ラネー・ニッケルの量は広い範口内で変化でき、一般に
還元すぺ自アゾ又はアゾ千シ化合物1モル当り0.1−
5Fを使用すれば充分である。それより多量を用いると
過還元の危険性が存在する。紋触媒は一般的方法、例え
ば関連した文献に記されている方法、に従って製造され
る。
出発物質として必t1表アゾ千シベンゼン、アゾベンゼ
ン又はアゾキシベンゼンとアゾベンゼンとの混合物はニ
トロベンゼンから公知の還元方法により得られるゆ本発
明方法に使用される出発物質は好適1cFi)’l/公
告公’4第1,029,00544C従って水性NaO
H中でホルムアルデヒドを用いる還元により製造される
本発明の他の主題は、アゾキシベンゼン、アゾベンゼン
又はアゾキシベンゼンとアゾベンゼ/との混合物を本発
明方法により還元しそして中間生成物として生成したヒ
ドラゾ化合物をその拳離なしに、鉱酸の作用によって転
位させる。4.4’−ジアミノジフェニル肪導体の製造
である使用できる鉱酸はいわゆるベン勇転位用に一般的
に使用されて吃る酸、例えばJ11鹸又は+m酸である
実施例1 S3.4tの2.2′−ジクロルアゾキシベンゼンを6
0−のメタノール中で攪拌した。(L6Fの水酸化ナト
リウム及び1L8sJのヒト・プシン水和物を加え、そ
して混合物t−65CK暖め九。う不一・ニッケルを(
全部で約aosr%2〜8回に分けて)加え死後に、激
し一窒素の発生が始まった。
80分後Kl1元が終了し友。混合物をlOcに冷却し
、水で希釈し、そして結晶化した2、2′−ジクロルヒ
ドラゾベンゼンを戸別し、中性となるまで水で洗浄した
。8.8’−ジクロルベンジ、ジンの転位及び亜硝酸で
のテトラアゾ化の後に、理論値の869!の収率が得ら
i−庭。
水酸化ナトリウムを添加しないと、理論値の86チの2
.!−ジクロルヒドラゾベンゼンしか得られなかった。
。 実施例! 140−のメタノール中の5&4tの2 、1’−ジク
ロルアゾ牟シベンゼ/及びL’lfの水酸化ナトリウム
lI L8mのヒドラジン水和物と一緒に65CK暖め
た。仏05tのラネー・ニッケルを加え九峡に、激しい
窒素の発生がおこりそして温[ri78t:’に上昇し
た。1時間後に還元が終了した。薄色の透明溶液中には
、クロマトグラフィによるとそれ以上2.2′−ジクロ
ルアゾキシベンゼンは検出できなかった。:・ 水酸化ナトリウムを用いずに反応を実施した場合、窒素
の発生はおだやかでしか起らず、そして6時間の反応時
偵優に2.2′−ジクロルアゾキシベンゼンの約201
4が反応混合物中に依然として存在していえ。
実11194B 514Fの8.8′−ジクロルアゾキシベンゼンを実施
例IJC示した方法で還元した場合、80分の反応時間
後に理論値の98136の8.8/−ジクロルヒドラゾ
ペンゼ/が得られた。
しかしながら水酸化ナトリウムvrs加せずに反応を笑
廁した場合、8.8’−ジクロルヒドラゾベンゼンの収
率は理論値の58−でしかなかった。
実施例4 11−の水、1.SFの水酸化ナトリウム及びtk、2
sfのラネー・ニッケルを160mのメタノール中の5
14tの2,2′−ジクロルアゾキシベンゼンに加えた
。水素化反応を650においてそして10パールの水素
圧力において実施した。約1時間の反応時間後に圧力は
一定のま塘であった。
混合物を100に冷却し、100=の水で希釈し、そし
て生成物を一過により単一した。2.2′−ジクロルヒ
ドラゾベンゼンの収率はjl理論値88−であった。
水酸化ナトリウムを用いないと、事冥上水素は吸収さt
lなかった。
実施例5 L2tの水酸化ナトリウム及び0.25fのラネー・ニ
ッケル1、so−のメタノール及び15mtの水の中の
8.8′−ジクロルアゾキシベンゼン5λ4fの懸濁液
に加え、そして水素化反応を10バールの水素圧力にお
いて実施した。90分後に混合物を10Cに冷却し、そ
して生成物を濾過により単一した。8.8′−ジクロル
ヒドラゾベンゼンが理論値の891にの収率で得られた
反応を同一条件下で水酸化す) リウムを用いずに実施
し光場合、吸収された水素は多くとも理論値の11%で
あった。
実施例6 *m5lric示しり指示に従’)て4N2Fの2゜2
′−ジメチルアゾキシベンゼンを還元するト、2、!!
′−ジメチルヒト2ゾベンゼンが理論値の7゜慢の収率
で得られた。
水酸化す) 17ウムを用いないがその他は同一の条件
t−使用した場合、理論値の20%l、か得られなかつ
大。
実施何丁 a8Fの水酸化ナトリウム及びIL811jのヒドラジ
ン水和物を60−のメタノール中の5&4vの2,21
−ジクロルアゾ千シベンゼンに加えた。
混合物を85C4C暖めそして全部で(LO5fのラネ
ー・ニッケルを加え喪、−11″ycが終了したときに
16−の水を加え、そして混合物を室温に冷却し九m 
29.8 ’ O’1111−111 (6G ’ B
 a )を45分間にわたって、滴加時間の終了時に温
度が5orK!するような速度で、滴加した。混合物を
この温度において転位が完了するまで攪拌し、次に加−
沸とうさせ九、そねを10cill:冷却し、生成物を
単囃し、干してジアゾ化可能な副生物を含まなくなるま
で残渣を高度に希釈された硫酸で洗浄し友。この方法で
純粋な8.8′−ジクロル−4,4′−シアξノジフェ
ニルサルフエー)カ!1kkilの80%の収率で得ら
れた。
実施例8 5&4Fの8.Jl’−ジクロルアゾキシベンゼンを実
施例7に示したように還元した0次に反応混合物を40
0に冷却し、そして87.2−の硫酸(60’#j)i
40−45’ K&いて45分間にわ光って流入させ喪
、混合物をこの111#:、において転位が完了するま
でさらに攪拌した。全部で4゜−の水を間隔をおいて徐
々に加えた。転位が完了したときKさらにll5mの水
を加え、そして混合物を加熱沸とうさせた。20Cに冷
却した後に生成物をV過により奉−し、そして硫酸をざ
有して−ろ水で洗浄した。2.2’−ジクロル−4、4
’−シア電ノージフェニルサルフェートの収率Fi理論
値の90−であり喪。
実施例9 880mのメタノール中ノ267 f(B2 、2’−
ジクロルアゾキシベンゼン、100−の40容量−水酸
化す) IJウム溶液及び80Iljの水を、65C及
びlOバールの水素圧力においてL12のラネー・ニッ
ケルの存在下で水素化し友。理論値の約10596の水
素が峡収されたときに還元は完了した。混合物を800
に冷却し、そして硫酸(60・B5)198mt−橋加
終了時の温度が45〜50Cとなるような速度で流入さ
せ九、混合物を転位が完了するまでsoCにおいてさら
に攪拌し、次に水を加えて全部で11の容量とし、そし
て混合物を加熱沸とうさせた。20Cに冷却した後に混
合物をP遇し、P張残渣會5−の硫酸(60°B≦)を
含有している合計600mの水で8回に分けて洗浄した
。純粋な8.8′−ジクロル−4,4’−/アきノージ
フェニルサルフェートが理論値の7λ596の収率で得
らtlft。
実施例10 15B9f>o−ニトロアニソールを270mのメタノ
ール、@Orの水酸化ナトリウム及び2fの2.8−ジ
クロル−1,4−ナフト牟ノンの混合物に55〜60C
において攪拌しながら滴加した。2,2I−ジメトキシ
アゾキシベンゼンを与えるための発熱反応が止んだ住に
、混合物を55〜60Cでさらに4時間攪拌し、次にs
oCに冷却し、80Fのヒドラジン水和物を加えた。4
5〜50Cの温度が保たれるような具合に、全部でa8
fのラネー・ニッケルを数回にわけて加え喪。
反応が終了したときに、混合物を20Cに冷却し、生成
物を一過により単離し、中性となるまで水で洗浄し丸、
!、!’−ジメトキシヒドラゾベンゼンの収率は理論値
の95−でめった。
実施例11 実施例10において(L6Fのラネー・ニッケルの存在
下で10/<−ルの圧力において、ヒドラジン水和物の
代りに水素を使用し、その他は同じ方法を行なつ九場合
%2.2′−ジメトキシヒドラゾベンゼンが理論値の9
596の収率で得られた。
実施例12 実施例6に示したように451Fの2.2’−ジメチル
アゾ千シベンゼンta元した。反応混合物tm温に冷却
し、そして87−の硫酸(600Bj)をゆつくシと胸
加した。次に転位が完了するまで混合物を攪拌した0次
に生成物をF別し、そして100−の1llll&の硫
酸で洗浄した。 8 、8’−ジメチル−4,47−ジ
アミツジフエニルサルフエートの収率は理論値の709
6でめった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水の童が全溶媒の多くとも50重量%、好適には30@
    i1%;、である水性の又は非水性の低級アルコール中
    で、アルカリ性作用を有するアルカリ金属化合物もしく
    はアルカリ土類金鵬イビ合物又はアンモニア本しくは有
    機環基のを右下、アゾキシベンゼン、アゾベンゼン、又
    りアゾキシベンゼンとアゾベンゼンとの混合物をラネー
    ・ニッケルの存在下で水素又はヒドラジン水和物を・用
    いて接触還元し、そして反応生成物金鉱酸の作用により
    転位させることによ、94.4’−ジアミノジフェニル
    誘導体を製造する方法であって、中間生成物として生成
    するヒドラゾ化合物を単離しない製造方法O
JP57044752A 1976-03-08 1982-03-23 4,4′−ジアミノジフエニル誘導体の製法 Pending JPS5823650A (ja)

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