JPS5819410B2 - 電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法 - Google Patents

電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法

Info

Publication number
JPS5819410B2
JPS5819410B2 JP51075700A JP7570076A JPS5819410B2 JP S5819410 B2 JPS5819410 B2 JP S5819410B2 JP 51075700 A JP51075700 A JP 51075700A JP 7570076 A JP7570076 A JP 7570076A JP S5819410 B2 JPS5819410 B2 JP S5819410B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polished
polishing
abrasive grains
puff
electrolytic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP51075700A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS531395A (en
Inventor
田宮勝恒
本田昭一
木本康雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP51075700A priority Critical patent/JPS5819410B2/ja
Priority to US05/798,477 priority patent/US4140598A/en
Priority to DE2725254A priority patent/DE2725254C2/de
Publication of JPS531395A publication Critical patent/JPS531395A/ja
Publication of JPS5819410B2 publication Critical patent/JPS5819410B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23HWORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
    • B23H5/00Combined machining
    • B23H5/06Electrochemical machining combined with mechanical working, e.g. grinding or honing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、電解作用による被研摩物の陽極溶解と不働
態化酸化皮膜の生成およびパフと砥粒による研摩作用と
を複合させ、被研摩物の研摩面を鏡面に仕上げ、とくに
ステンレス鋼に適用して顕著な効果を有する電解パフ研
摩による鏡面仕上加工方法に関する。
つぎにこの発明を、その原理を図解した第1図とともに
詳細に説明する。
工具1に電極2とパフ3を交互に配するとともに電解液
4中に5〜17 ?/l:の砥粒5を混入し、電極2を
陰極、被研摩物6を陽極として直流電源7に接続し、電
流密度0.5〜4A/c4の直流電流を通電する。
そして電極2と被研摩物6の研摩面2との間隙を0.2
〜2朋に維持しながら工具1を被研摩物6に押圧し、工
具1と研摩面で作られる間隙に砥粒5を懸濁した電解液
4を流し、工具1を50〜200m/TIu1tの速度
で摺動する。
これにより、研摩面は、第1図のA部に示すよ;うに、
凸部が陽極溶解し、研摩面の間隙の大きい小凸部および
凹部に不働態化酸化皮膜が生成される。
この小凸部に生成された不働態化酸化皮膜は、第1図の
B部に示すように、砥粒5とパフ3の研摩力で削り取ら
れ、つぎの電極2により小凸部にン電流が集中的に通電
され、第1図の6部に示すように、小凸部が優先的に陽
極溶解され、以下これが繰返される。
すなわち、この発明は、砥粒5とパフ3の研摩力で不働
態化酸化皮膜を削り取り、電解を促進させて研摩面を鏡
面に仕上げるもので1ある。
つぎに、この発明の実験結果について説明する。
砥粒にアルミナを用い、粒度#600〜 #1500の砥粒を電解液1.e当りO〜201を混入
した場合、その砥粒混入量と仕上面あらさの;変化を第
2図に示す。
同図から明らかなように、電解液中に電解液11当り5
〜17′i!′の砥粒を混入させて加工すると、仕上面
あらさば、1μRrnax以下の光沢をもった鏡面に仕
上げられる。
そして、砥粒の混入量が5 ?/l以下では、生成され
た不働態化酸化皮膜が完全に除去されないため、電解電
位および電流が低下し、研摩面の選択溶解が起り、仕上
面あらさが1μRmax以下の鏡面にならない。
さらに、不働態化酸化皮膜および酸化物が研摩面に付着
し、研摩面が汚れる。
また、砥粒の混入量が171?/1以上になると、陽極
溶解による被研摩物の金属溶出速度よりも、砥粒による
研摩速度が早くなり、研摩面に砥粒による条痕が発生す
る場合があり、不都合である。
なお、砥粒としては、アルミナのほか、比重の若干具な
る炭化珪素でもよく、材質にはほとんど関係ない。
以上のように、この発明の電解パフ研摩による鏡面仕上
加工方法によると、従来方法ではきわめて困難であると
考えられていた素材面あらさ3〜6μRmaxのものを
、1工程で表面品質の良い光沢をもった鏡面に仕上げる
ことができ、作業性も向上し、しかも簡便になるなど多
くの特徴を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の電解パフ研摩による鏡面仕上加工方
法の原理の図解図、第2図は電解液の砥粒混入量と仕上
面あらさの変化図である。 1・・・・・・工具、2・・・・・・電極、3・・・・
・・パフ、4・・・・・・1電解液、5・・・・・・砥
粒、6・・・・・・被研摩物、7・・・・・・直流電源

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 工具に電極とパフを交互に配するとともに電解液中
    に5〜17’ff/l:の砥粒を混入し、前記電極を陰
    極、被研摩物を陽極として直流電源を印加し、前記工具
    を被研摩物の研摩面に押圧しながら摺動し、電解により
    研摩面を陽極溶解し、研摩面の凸部に生成された電解に
    よる不働態化酸化皮膜を、前記パフおよび砥粒の研摩作
    用により除去し、研摩面の凸部を優先的に陽極溶解し、
    研摩面を鏡面に仕上げることを特徴とする電解パフ研摩
    による鏡面仕上加工方法。
JP51075700A 1976-06-03 1976-06-25 電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法 Expired JPS5819410B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP51075700A JPS5819410B2 (ja) 1976-06-25 1976-06-25 電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法
US05/798,477 US4140598A (en) 1976-06-03 1977-05-19 Mirror finishing
DE2725254A DE2725254C2 (de) 1976-06-03 1977-06-03 Vorrichtung zur spiegelartigen Endbearbeitung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP51075700A JPS5819410B2 (ja) 1976-06-25 1976-06-25 電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS531395A JPS531395A (en) 1978-01-09
JPS5819410B2 true JPS5819410B2 (ja) 1983-04-18

Family

ID=13583745

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51075700A Expired JPS5819410B2 (ja) 1976-06-03 1976-06-25 電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5819410B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101585A (ja) * 2003-08-29 2005-04-14 Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc エレクトロケミカルメカニカルポリッシングのための研磨パッド

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55148482A (en) * 1979-05-08 1980-11-19 Canon Inc Semiconductor laser device
JPS5816585A (ja) * 1982-06-09 1983-01-31 Canon Inc 半導体レ−ザ−装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4878597A (ja) * 1972-01-24 1973-10-22

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4878597A (ja) * 1972-01-24 1973-10-22

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101585A (ja) * 2003-08-29 2005-04-14 Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc エレクトロケミカルメカニカルポリッシングのための研磨パッド
JP4575729B2 (ja) * 2003-08-29 2010-11-04 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド エレクトロケミカルメカニカルポリッシングのための研磨パッド

Also Published As

Publication number Publication date
JPS531395A (en) 1978-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02303724A (ja) 超音波加工方法
JPS5819410B2 (ja) 電解バフ研摩による鏡面仕上加工方法
EP0777766B1 (en) Method for obtaining well-defined edge radii on cutting tool inserts by electropolishing technique
Barger et al. Cleaning daguerreotypes
Pavel et al. Investigation of pre-dressing time for ELID grinding technique
JP2003019623A (ja) 被加工物の表面機能改善方法及び装置
JPH01165800A (ja) 高速電解酸洗研磨法
JPS5819413B2 (ja) 電解バフ研摩加工装置
JPS6056797B2 (ja) ZrおよびHf並びにその合金の表面酸化被膜除去方法
JPS5819412B2 (ja) 電解バフ研摩加工装置
EP0941373B1 (en) Method for obtaining well-defined edge radii by electropolishing
Buchheit et al. Procedures for the Metallographic Preparation of Beryllium, Titanium, and Refractory Metals
JPS5579900A (en) Mirror surface working method
JPS6119513A (ja) 電解放電加工用の砥石
JPS5882626A (ja) 電解複合鏡面研摩方法
JPH0138612B2 (ja)
Noble et al. Electro-mechanical action in peripheral electrochemical grinding
JPS5848291B2 (ja) 電解バフ研摩方法
JPS5835823B2 (ja) 電解バフ研摩加工装置
JPS62246419A (ja) ジルコニウムまたはジルコニウム合金の電解研削方法
US3772166A (en) Electrolytic process for slating a curvilinear aluminum workpiece
JPH0417696A (ja) アルミニウム製品の製造方法
JPS62246423A (ja) ジルコニウムまたはジルコニウム合金の電解研削方法
SU795841A1 (ru) Способ размерной электрохимическойОбРАбОТКи
JPH10202509A (ja) 電気泳動研磨用研磨剤および電気泳動研磨方法