JPS58180554A - 水分遮断下で貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋してエラストマ−になるコンパウンド - Google Patents

水分遮断下で貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋してエラストマ−になるコンパウンド

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JPS58180554A
JPS58180554A JP58051704A JP5170483A JPS58180554A JP S58180554 A JPS58180554 A JP S58180554A JP 58051704 A JP58051704 A JP 58051704A JP 5170483 A JP5170483 A JP 5170483A JP S58180554 A JPS58180554 A JP S58180554A
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/56Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
    • C08K5/57Organo-tin compounds

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  • Silicon Polymers (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 既に米国特許第4102860号明細書(1978年7
月25日)から縮合可能な末端基を有するノオルガノポ
リシロキサン、分子当り少なくとも3個の加水分解可能
な基を有するケイ素化合物(その際加水分解可能な基は
窒素を介してケイ素に結合するアミノ基または酸素を介
してケイ素に結合するオキ/ム基であってよい)および
例えばジーn−ブチル錫ノアセテートと例えばテトラエ
チルシリケートの反応生成物を主要成分として混合する
ことにより製造された水分遮断下に貯蔵可能であり、か
つ水分が侵入する際に室温で架橋してエラストマーにな
るコン・♀ランドが公知である。前記の明細書によるア
ルコキシ7ランと錫化合物の反応生成物は記載されてい
る限りにおいて室温で結晶質である。前記明細書による
すべてのアルコキシンランと錫化合物の反応混合物では
錫原子に少なくとも1個のアノレート基が結合している
。前記の明細書によるアルコキシンランと錫化合物の反
応生成物は本発明により使用されるシランと錫化合物の
反応混合物と同様縮合触媒として使用される。
本発明の課題は、縮合可能な末端基を有するノオルガノ
ポリシロキサン、分子当り窒素を介してケイ素に結合す
るアミノ基または酸素を介してケイ素に結合するオキシ
ム基少なくとも3個または窒素を介してケイ素に結合す
るアミノ基および酸素を介してケイ素に結合するオキン
ム基計少なくとも3個を有するケイ素化合物および縮合
触媒を主要成分として混合して製造され、その際縮合触
媒が室温で液体であり、そのために縮合触媒のより良好
な分配および配量のためにエラストマーの収縮を招く溶
剤を一緒に使用する必要なしにコン・ξランドの他の成
分と容易に混合することができる、水分遮断下で貯蔵可
能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋してエラ
ストマーになるコン・ξランドであって、既に架橋開始
時に、先ず形成されるスキン層中にまたはスキン層下に
存在する、未架橋のコン・3971部分中にクラックを
形成することなく引き伸ばすことができるエラストマー
を与え、史にそれが形成された基材に特に強固に付着す
るエラストマーを与え、かつ最後に空中湿度および雨を
含む水、太陽による放射を含む熱および紫外線または赤
外線の作用に対して特に安定であるエラストマーを与え
るコン・ξランドを提供することである。この課題は本
発明により解決される。
本発明の目的は、縮合可能な末端基を有するオルガノポ
リンロキサン、分子当り窒素を介してケイ素に結合する
アミノ基まだは酸素を介してケイ素に結合するオキンム
基少なくとも3個または窒素を介してケイ素に結合する
アミノ基および酸素を介してケイ素に結合するオキ/ム
基総数少なくとも3個を有するケイ素化合物、および酸
素を介してケイ素に結合し、場合によりエーテル酸素に
よって中断された一価の炭化水素基を加水分解可能な基
として分子当り少なくとも2個有する7ランまたはその
オリゴマーとノオルガノ錫ノアシレートとの反応生成物
を主要成分として混合することにより製造された、水分
遮断下で貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に室温
で架橋してエラストマーになるコン・ξランドであり、
該コンノミラン1が前記で定義された種類の反応生成物
として錫原子のすべての原子価がSnC結合の一価の有
機基によりまたは基: =SiO8n= の酸素原子に
より飽和されているものを含有することを特徴とする。
縮合可能な末端基を有するジオルガノポリノロキサンと
して縮合可能な末端基を有するノオルガノポリシロキサ
ン、分子当り少なくとも3個の窒素を介してケイ素に結
合するアミン基まだは酸素を介してケイ素に結合するオ
キシム基、または合計少なくとも3個の窒素を介してケ
イ素に結合するアミノ基および酸素を介してケイ素に結
合するオキシム基を有するケイ素化合物および場合によ
り少なくとももう1種の成分を混合して水分排除下で貯
蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋して
エラストマーになるコン・?ランPを製造するために従
来使用された、同じ縮合可能な末端基を有するジオルガ
ノポリシロキサンを本発明によるコン・Sランドの製造
でも使用することができる。従来大ていその目的のため
に使用され、かつ本発明によるコン・ξランドの製造で
も使用される縮合可能な末端基を有するジオルガノポリ
シロキサンは例えば式: no(s]R2o)n、5I
R2oHによって表わすことができる。式中F<は同し
か1だは異なっており、−価の5IC−結合有機基であ
り、かつIllは少なくとも10の整数である。
かかる式によっては通常表わされないが、前記式の/ロ
キサン鎖内にまたはンロキサン鎖に沿ってジオルガノシ
ロキサン単位(S+f(20) IIC付加的に更に他
のシロキサン単位が存在していてよい。このような他の
、しかし大ていは単に多少回避困難な不純物として存在
する70キサ〔式中1(はそれぞれ前記のものを表わす
〕のものテする。有利にジオルガノシロキサン単位とし
てかかる他の70キサン単位の量は全部で縮合可能な末
端基を有するジオルガノポリシロキサン中に存在するシ
ロキサン単位の最高5モル%である。前記の式における
ヒドロキシル基は所望により他の縮合可能な基、例えば
基につき(′コー原子1−4個を有するアルコキシ基に
よって完全にまたは一部分代えられていてよい。
基Hの例は特に基につきC−原子1〜18個を有する炭
化水素基、例えば直鎖または分枝鎖アルケル基、例えば
メチル、エチル、n−プロピル、イノゾロビル、n−ブ
チル、S−ブチル、2−エチルヘキシル、n−デシルオ
L U n −テトラデシル基およびオクタデシル基;
シクロ−アルキル基、例えばジクロヘキシル基およびメ
チルンクロヘキシル基;直鎖または分枝鎖アルケニル基
、例えばビニル、アリルおよびメタリル基;アリール基
、例えばフェニル基;アルキルアリール基、例えばトリ
ル基;およびアラルキル基、例えばβ−フェニルエチル
基である。
基Rの他の例は直鎖または分枝鎖置換炭化水素基、例え
ばハロゲン化炭化水素基、例えば3゜3.3−トリフル
オルゾロピル基およびクロ/Lフェニル並ひにブロムフ
ェニル基;およびシアンアルキル基、例えばβ−シアン
エチル基である。有利には特に入手容易なだめに縮合可
能な末端基を有するジオルガノポリシロキサン中の33
1C結合有機の、したがってまた前記の式の有利な種類
の縮合可能な末端基を有するジオルガノボリア0キサン
中の基Hの数の少なくとも80%はメチル基である。
縮合可能な末端基を有するジオルガノポリシロキサンは
同じかまたは異なる粘度のホモポリマーまたはコポリマ
ーである。本発明によるコノ・ξランドの製造で1種の
縮合可能な末端基を有するジオルガノポリシロキサンを
使用してよい。しかし少なくとも2種類の縮合可能な末
端基を有するジオルガノポリシロキサンの混合物も本発
明によるコンパラン1の製造で使用することができる。
縮合可能な末端基を有するジオルガノポリシロキサンの
粘度は有利に25℃で1500〜500000mPa−
sである。
分子当り少なくとも3個の窒素を介してケイ素に結合す
るアミノ基または酸素を介してケイ素に結合するオキシ
ム基、または合計で少なくとも3個の窒素を介してケイ
素に結合するアミン基および酸素を介してケイ素に結合
するオキ/ム基を有するケイ素化合物として同様に本発
明によるコン・ぐランドの製造においても、縮合可能な
末端基を有するジオルガノポリシロキサ/、分子当り少
なくとも3個の窒素を介してケイ素に結合するアミノ基
または酸素を介してケイ素に結合するオキシム基、また
は合計少なくとも3個の窒素を弁口てケイ素に結合する
アミノ基および酸素を介してケイ素に結合するオキ下で
貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋し
てエラストマーになるコン・♀ランドを製造するために
従来も使用することができた、この種の同じケイ素化合
物を使用してもよい。
本発明によるコン・ξランドの製造に使用される、分子
当り少なくとも3個の窒素を介してケイ素に結合するア
ミン基を有するケイ素化合物の例はしたがって式: %式%) 〔式中Rは前記のものを表わし、R1は水素または一価
の炭化水素基であり、かつdはOまたは1である〕のア
ミン/ランおよびその分子当り最高10個のケイ素原子
を有する部分加水分解生成物である。炭化水素基■(に
関する前記の例はビニル基を除き、全面的に炭化水素基
H1に該当する。各アミン基において1個のR1が水素
であり、かつ他の1(1がII−ブチル、s−ブチルま
たはンクロヘキンル基であるのが有利である。かかるケ
イ素化合物の詳細な例はメチルトリス−(11−ブチル
アミノ)−7ラン、メチルトリス−(S−ブチルアミノ
)−シランおよびメチルトリス−(シクロへキシルアミ
ノ)−シランである。
本発明によるコン・ξラン1を製造するだめに使用され
る、分子当り少なくとも3個の、酸素を介してケイ素に
結合するオキシム基を有するケイ素化合物の例は式: %式%) 〔式中Rおよびaはそれぞれ前記のものを表わし、かつ
XはR12C−基またはR2O−基を表わし、ここでR
1は前記のものを表わすが、ただし少なくとも1個のR
1は炭化水素基であり、1(2ばR2の炭素原子以外の
炭素原子と環を形成する二価の炭化水素基を表わす〕の
オキシム7う/およびその分子当り最高10個のケイ素
原子を有する部分加水分解生成物である。
本発明によるコン・ぐランドを製造するために使用され
る、分子当り少なくとも3個の酸素をfi″してケイ素
に結合するオキシム基を有するケイ素化合物の詳細な例
はメチルトリス−(メチルエチルケトキシム)−シラン
、メチルトリス−(アセトンオキシム)−シランおよび
メチルトリス−(シクロへキサノンオキシム)−シラン
である。
本発明によるコンパウンドを製造するために使用可能な
、分子当り合計少なくとも3個の窒素を介してケイ素に
結合するアミノ基および酸素を介してケイ素に結合する
オキシム基を有するケイ素化合物の例は式: %式% 〔式中H,H’、Xおよびaはそれぞれ前記のものを表
わし、かつbはOll、2または3、平均0.1−3.
9であり、かつa+bの和は最高39である〕のシラン
およびその分子当り最高10個のケイ素原子を有する部
分加水分解生成物である。
本発明によるコン・ξランドを製造するために使用可能
な、分子当り合計少なくとも3個の窒素原子を介してケ
イ素に結合するアミノ基および酸素原子を介してケイ素
に結合するオキシム基を有するケイ素化合物の詳細な例
はメチルビス−(メチルエチルケトキシム)−7クロヘ
キ/ルアミノシランである。
もちろん例えばメチルトリス−(シクロへキノルアミノ
)−シランおよびメチルトリ、スー(メチルエチルケト
キシム)−シランの混合物も本発明によるコン・ξラン
ドの製造で使用することができる。
本発明によるコン・ぐランドを製造する際に分子当り少
なくとも3個の窒素を介してケイ素に結合するアミノ基
または酸素を介してケイ素に結合するオキシム基、また
は合計少なくとも3個の窒素を介してケイ素に結合する
アミノ基および酸素を介してケイ素に結合するオキン′
ム基を有するケイ素化合物を有利に縮合可能な基を有す
るジオルガノポリシロキサン中の縮合可能な基1グラム
当量当り窒素を介してケイ素に結合するアミノ基および
酸素を介してケイ素に結合スルオキシム基全部で少なく
とも3グラム当量の量で使用する。実−地ではこれはそ
の都度のコンパウンドの全成分の総重量に対して屡々0
2〜15重量%、特に1〜8重量%である。
本発明によるコンパウン1中で縮合生成物として使用さ
れる反応生成物の製造に使用することのできる、分子当
り少なくとも2個の酸素を介してケイ素に結合する、場
合によりエーテル酸素によって中断された一価の炭化水
素基を加水分解可能な基として有するシランは式:%式
%) によって表わすことができる。この式においてRは前記
のものを表わし、R5は同じかまたは異なる一価の、場
合によりエーテル酸素により中断された炭化水素基を表
わし、かつCは0.1または2を表わす。
かかる7ランのオリゴマーとは70キサン酸素によって
互いに結合されたケイ素原子最低2個および最高10個
およびケイ素原子当り平均少なくとも1個のR’O−基
を含有する化合物である。かかるオリゴマーは特に式’
、 t(、S+ (OR’ )4−。
の/ランの部分加水分解によって得られる。
縮合可能な末端基を有−しるジオルガノポリシロキサン
に関して挙げられた基Hの例が式:14 (L) I 
(○)(3)4−、のシランにおける基Hについても全
面的に該当する。
しかし7ラン中の基Rもしくはこのシランのオリゴマー
中の5iC−結合有機基としては基当りC−原子1〜4
個を有する炭化水素基が有利であり、これについては縮
合可能な末端基を有するジオルガノポリシロキサンに関
連して前記で同様に例が挙げられている。その際メチル
基またはビニル基が挙げられる。
基R3としてはC−原子数1〜4のアルキル基、例えば
メチル、エチル、rl−プロピル、イノゾロビル、rl
−ブチルおよびら一ブチル基またはこれらの種類の異な
る基の混合物が優れている。
エーテル酸素によって中断された基R3の例はメトキ/
エチIi ン−(C)130C)(zCH2−)基であ
る。
特定の錫化合物と反応させることにより本発明によるコ
ン・ξラン1中で縮合触媒として使用することのできる
反応生成物を製造することができるシランまたはそのオ
リゴマーの詳細な例u例tハ” エチル/す’y −ト
(、Nthy1s11+ka+、 )40″または゛エ
チルンリケート(Etbylsiltkat )40″
の表示の下に市販されているようなS 102含量30
−45重量%を有するテトラエチル/リケード、ビニル
トリエトキン7ラン、ジメテルノエトキシ/ラン、ヘキ
サエトキ7ジンロキサンおよびエトキンポリシロキサン
である。
錫化合物と反応させて反応生成物を製造するためにシラ
ンまたはそのオリゴマー1種を使用することができる。
しかしこの種のケイ素化合物少なくとも2種から成る混
合物、例えばテトラエチル/リケードとへキサエトキ/
)/ロキサンの混合物も反応生成物の製造で錫化合物と
の反応に使用してもよい。
ノオルガノ錫ノアンレートは式: %式%) により表わすことができる。式中R’ は同じが壕だけ
異なる、−価のS nC結合有機基であり、かつH5は
同じかまたは異なる、−価の、場合により置換された炭
化水素基である。
基1(’も基当pc−原子数1〜18を有し、がつ縮合
可能な末端基を持っジオルガノポリシロキサンに関連し
て前記に挙げられた基■(に関する例が全面的に基R4
に該当する。基f(4としてはメチル、rl−ブチル、
n−オクチルおよび2−エチルヘキフル基が優れている
。基R4が同じものである、すなわち2つの基R4が例
えば++ −メチル基であるのが優れている。
基R5は有利にC−原子数1−牛のアルキル基であり、
かつ基R3の例は基R5に全面的に該当する。基R5と
してはメチル基が優れている、それというのもケイ素化
合物と錫化合物から反応生成物を製造する際に副生成物
として生じるエステルが蒸溜により特に容易に除去し得
るからである。更に2つの基R5が同じもの、すなわち
R5が共に例えばメチル基であるのが優れている。
錫化合物および7ランまたはそのオリゴマーから反応生
成物を製造する際に有利であるノオルガノ錫ノア/レー
トの詳細な例h) −n −7’チル錫ジアセテートお
よび)−2−エチル錫ノアセテートである。
ノオルガノ錫ノアンレート1種をケイ素イし合物との反
応による反応生成物の製造で使用することができる。し
かしこの種の錫化合物少なくとも2種の混合物も反応生
成物の製造でケイ素化合物との反応に使用してもよい。
酸素を介してケイ素に結合する、場合によりエーテル酸
素により中断されだ一価の炭イヒ水素基を加水分解可能
な基として分子当り少なくとも2個有する7ランまたは
そのオリゴマーと2オルガノ錫ノア/レートとの反応生
成物にお・いて錫原子のすべての原子価がSr+C結合
の一価の基もしくは基: −+5iOSn三の酸素原子
によって飽和されるためにはこの反応生成物の製造でR
50CO基1グラム当量につきOR5基少なくとも1グ
ラム当量便用しなければならない。有オ11にはノオル
ガノ錫ジアジレート1モル当V)R5(J基4〜25グ
ラム当量使用する。
酸素を介してケイ素に結合し、場合によりエーテル酸素
によって中断された、−価の炭化水素基を加水分解可能
な基として分子当り少なくとも2個有するシランまたは
そのオリゴマーとノオルガノ錫ノアシレートとの反応は
有利に反応成分の混合物を15分〜15時間15〜20
0℃に加熱することにより実施される。この加熱は有利
に囲繞雰囲気の圧力、すなわち約1・ζ−ルで、または
減圧で実施される。かかる反応生成物のこの種の製造は
米国特許第3186963号明細書(1965年6月1
日)から公知である。この印刷物によれば反応生成物は
縮合触媒としていわゆる2成分系で使用される。
本発明によるコン・ξランドの主要成分に含まれる、ケ
イ素化合物とジオルガノ錫シア/レートとの反応生成物
の製造で副生成物として形成されるエステルはコン・ξ
ランドから形成されるエラストマーの収縮を低下させる
ために有利に溜去する。
ケイ素化合物とじてシランを使用し、7ランのオリゴマ
ーを使用しなかった場合のケイ素化合物とジオルガノ錫
シア/レートの反応混合物は式: %式%) でgかね、その際■(、饅、R4およびCはそれぞれ前
記のものを表わし、dは○または1を表わし、かつr〕
はOまたは少なくとも1である。
有利に本発明によるコン・ξランドは酸素を介してケイ
素に結合する、場合によりエーテル酸素によって中断さ
れた一価の炭化水素基を加水分解可能な基として分子当
り少なくとも2個有するシランまたはそのオリゴマーと
ジオルガノ錫シア/レートとの反応生成物をその都度の
コンパウンドの全成分の総重量に対して0.01〜5車
量%、特に01〜1重量%の量で含有する。
本発明によるコン・ξランドの製造で使用される主斐成
分、すなわち縮合可能な末端基を有するジオルガノポリ
ンロキサン、分子当り少なくとも3個の、窒素を介して
ケイ素に結合するアミノ基または酸素を介してケイ素に
結合するオキ/ム基または合計少なくとも3個の窒素を
介してケイ素に結合するアミン基と酸素を介してケイ素
に結合するオキシム基を有するケイ素化合物および酸素
を介してケイ素に結合し、場合によりエーテル酸素によ
って中断された一価の炭化水素基を加水分解可能な基と
して分子当り少なくとも2個有する7ランまたはそのオ
リゴマーと2オルガノ錫ノアンレートとの反応生成物に
付加的に他の物質を本発明にょるコン・ξつ/ドの製造
で一緒に使用することができる。すなわち本発明による
コンパウンドが前記の物質に付加的に、ニジストマーが
その上で生成された基材へのエラストマーの付着を改善
するだめの剤を含んでいるのが優れている。かがる剤の
中では炭素を介してケイ素に結合するアミノ基少なくと
も1個を有するオルガノシラン(米国特許第36780
03号明細書、1972年7月18日参照)および炭素
を介してケイ素に結合するアミン基少なくとも1個を有
するオルガノンロキサン(米国特許第4191817号
明i書、1980年3月4日参照)が優れている。
本発明によるコン・ξランド中に付加的に含まれていて
もよい物質の他の4例は疎水性または親水性であってよ
い強化性無機充填材、疎水性またけ親水性であってよい
非強化性無機充填材、顔料、可溶性着色料、香料、軟化
剤、例えば室温で液状の、トリメチルンロキン基によっ
て末端遮断されたツメチルポリシロキサンまたはリン酸
エステル、除黴剤、(CH3)3S10.イーおよびロ
キサン、純粋な有機樹脂、例えばアクリルニトリルのホ
モポリマーまたはコポリマー、ポリメチル/、ポリ塩化
ビニルまだはポリプロピレン、その際かかる純粋な有機
樹脂、特にスチレ/とl’l−ブチルアクリレートのコ
ポリマーは既に縮合可能な末端基を有するジオルガノボ
リンロキサンの存在でフリーラノカルを用いて前記のモ
ノマーの重合により生成することができた、防食剤、エ
ステル化またはエーテル化されていてもよいポリグリコ
ール、酸化防止剤、熱安定剤、溶剤、電気特性に作用す
る剤、例えば電導性カーボンブラック、防炎化剤、耐光
剤およびスキン層形成時間を延長させるだめの剤、例t
ハulc −結合メルカプトアルキル基を有する7ラン
である。
本発明によるコン・ξランドを製造するためにその都度
の全成分を任意の順序で互いに混合してよい。この混合
は有利に室温で行ない、かつ混合の時に水分の侵入を避
ける。しかし所望によりこの混合はより高い温度、例え
ば温度35〜135℃で行なってもよい。
本発明によるコン・ξランドの架橋には空気の通常の水
分含量で十分である。所望により室温よりも高い温度ま
たぼ低い温度、例えば−5〜10’Cで実施してもよい
。同様に架橋は空気の通常の水分含量を上回る水の濃度
で実施してもよい。
本発明によるコン・ξランドは垂直に延びる継目を含む
継目および内幅例えば10〜40朋を有する同様の隙間
、例えば建造物、陸上車、船舶および航空機の隙間用の
シーラントとしてまたは例えば窓建築または水槽まだは
ガラス戸棚の製造で接着剤および・?テとして、並びに
例えば淡水まだは海水の作用に不断に曝される表面用を
含む保護皮膜または滑り止め皮膜の製造にまたは積層材
料の製造にまたは従来公知の、室温で架橋してエラスト
マーになるコン・ξラン1を使用することができた他の
用途、例えば電気または電子装置の絶縁またはゴム弾性
成形体の製造に優れて好適である。
以下のテトラアルフキ/シランとノオルガノ錫ノアシレ
ートの反応生成物の製造の記載および実施例において「
部」および「%」は他に記載がない限り「重量部」およ
び「重量%」である。
下記の実施例で使用されるテトラアルコキンンランと2
オルガノ錫ノアシレートの反応生成物は次のようにして
製造された: d)テトラ−+1−ゾロホキフッ2フ4部とジー[1−
ブチル錫ジアンレート1部の混合物を囲繞雰囲気の圧力
で攪拌下に6時間120℃に加熱する。同時に生成する
酢酸プロピルエステルを不断に溜去する。次いでIR−
スペクトルによれば1600cm−1にある、ノーr〕
−ブチル錫ノアセテートのカルフキシル基の伸縮振動が
消える。
b)  テトラ−n−プロピル7リケート4部の代わり
にテトラエチルシリケート2部を用い、がつ酢酸ゾロピ
ルエステルの代わりに酢酸エチルエステルを溜去するこ
とを除いてa)に記載さねた操作方法を繰返す。
C)テトラエチルシリケート2部の代わりにLi10−
含−fit約34%を有するエトキンポリソロキサ74
部を使用することを除いてb)に記載された操作方法を
繰返す。
若干の例で使用される、炭素を介してケイ素に結合する
アミン基を有するオルガノポリノロキサンはN 1vj
R−スペクトルによればcH3o−基16.4モル%、
ツメチルシロキサン単位71モル゛久および式: H2
N(CH2)2NH(CH2)3S:to   の基管 12.6モル%から成る。これは式: +−+2N(c++2)2+1+1(Cn2)、51(
oco3)6のノシンと末端単位内にそれぞれ1個のS
l結合ヒドロキンル基を有する、25℃で測定した粘度
5 Q mPa−5の2メチルポリ/ロキサンとの反応
により製造された。
例91 末端単位内に各1個のSi結合ヒビロキ/ル基を有する
、25℃で粘度30 Q OOQ m P、i 、 s
のノメチルポリンロキサン40部に記載の順序で末端単
位内に各1個の81結合ヒ10キンル基を有する、25
℃で200QQmPa、sの粘度の2メチルポリソロキ
サ720部、トリメテルンロキ/基によって末端遮断さ
れた、25℃で100m Pa 、 sの粘度のノメチ
ルポリンロキサン40部、13のエチレンオキシ1単位
を有するトリーI〕−ノチルフェノールポリエチレング
リコールエーテル2部および前記で詳説した、炭素を介
してケイ素に結合するアミン基を有するオルガノポリ/
ロキサン1部を混合する。この混合物中にメチル−トリ
ス−(メチルエチルケトキシム)−72710部を攪拌
混入する。こうして得られた混合物に表面をステアリン
酸で被覆された炭酸カルシウム(パコーテツドクレイP
′)80部、気相で熱分解法で生成された、表面積15
0m2/gの二酸化ケイ素(ヒユームトンリカ)10部
および前記のa)により製造された反応生成物2部を混
合する。
こうして得られる、排気によって空気含有物を除かれた
、水分遮断下に貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際
に室温で架構してエラストマーになるコンパウンドは5
℃においても70℃においても均質、柔軟かつ安定であ
る、すなわち該コンパランPは−これらの温度で垂直な
継目から架橋前に流れ出ることはない。
早期応力の試験のために、すなわちコン・ξつ/ドが既
に架橋の開始時に先ず形成されるスキン層内でまたはこ
のスキン層の下に存在する、コ/・♀ラン1の架橋して
いない部分内にクラックが形成されることなく引き伸ば
すことができるエラストマーを与えるという事実を証明
するためにコン・?ラントゝの試料を閉鎖容器内に室幅
で3ケ月貯蔵の後ポリエチレンシート上に11mmの間
隔を置いて垂直かつ平行に配置された、寸法100龍×
10朋の2枚のアルミニウム板の間に充填し、かつ空気
中の水分に曝す。次いでアルミニウム板の間隔を、コン
・ξランドを継目に充填した直後から、もしくは充填さ
れた配置を空気循環乾燥箱中で50℃で2時間貯蔵後そ
れぞれ5時間以内に12.6 mmに、すなわち当初の
距離の14.6%広げる。その際表面にもアルミニウム
板の間の充填物の内部にもクランクまたは他の空所は形
成されない。
例  2 例1に記載された操作方法を、前記のa)で製造された
反応生成物2部の代わりに前記のシ、)で製造された反
応生成物1部を用いて繰返す。
早期応力の試験の際アルミニウム板の間の空間にコン・
ξランドを充填した直後に行なわれた伸びによってもま
た充填された複合物を乾燥箱中で50℃で2時間貯蔵の
後に行なわれた伸びによっても例1と同じ結果が得られ
る。
比較例1 錫化合物を一緒に用いないことを除き例1に記載の操作
方法を繰返す。
早期応力の試験でコン・ぐランド充填直後に行なわれた
伸びの際も充填された複合物を乾燥箱中で50℃で2時
間貯蔵の後の伸びの際にもアルミニウム板間の充填物の
表面に多数のクラックが形成される。
例  3 末端単位内に各1個の′、31結合ヒドロキンル基ヲ有
する、25℃f 8000Q mPa、sの粘度のジメ
チルボリア0キサン55部に記載の順序でトリメチルン
ロキシ基によって末端遮断された、25℃で100 r
nPa、sの粘度を有するツメチルボリア0キサン35
部、凹部のメチルトリス−(メチルエチルケトキシム)
−7ランおよびメチルトリス−(シクロへキンルアミノ
)−7ランから成る混合物6部、上記で詳説された炭素
を介してケイ素に結合するアミン基を有するオルガノポ
リ/ロキサ72部および気相で熱分解法により生成され
た、表面積150m’/、9の二酸化ケイ素11部を混
合する。こうして得られる混合物中に前記のC)で製造
される反応生成物03部を混入する。
早期応力の試験を閉鎖容器内で室温でコンパランドを3
ケ月貯蔵後例1のようにして行なう0コン・eランドを
アルミニウム板間の空間に充填した直後に行なわれる伸
びによっても充填された複合物を乾燥箱中に2時間貯蔵
の後に行なわれる伸びによっても表面並びにアルミニウ
ム板間の充填物の内部にもクラックまたは他の空洞は認
められない。
比較例2 錫化合物を一緒に使用しないことを除き、例3に記載の
操作方法を繰返す。
早期応力の試験でコンノミランドをアルミニウム板の間
の空間に充填した直後に行なわれる伸びによっても充填
された複合物を乾燥箱中で50℃で2時間貯蔵の後に行
なわれる。伸びにょってもアルミニウム板間の充填物の
表面に多数のクランクが形成される。
例  4 末端単位中に各1個の81結合ヒドロキシル基を有する
、25℃f 30000Q mPa、s (7)粘度の
ジメチルポリンロキサン2o部に記載の順序で末端単位
中に各1個のS]結合ヒドロキシル基を有する、25℃
で粘度20000mPa、sのツメチルボリア0キサン
7部、トリメチルンロ、キ/基によって末端遮断された
、25℃で粘度1000・nPa、sのツメチルボリア
0キサン20部、13のエチレ/オキンド単位を有する
トリーn−ブチルフェノールポリエチレングリコールエ
ーテル2部、式:H2N(CF(2)2NH(CH2)
5S1(ocH6)3  の79706部、およびメチ
ルトリス−(メチルエチルケトキ/ム)−7ラン3部、
メチルトリス−(ンクロヘキシルアミノ)−7ラン2部
およびツメチルビス(/クロヘキフルアミノ)−727
1部から成る混合物7部を混合する。この混合物中に記
載の順序で表面がステアリン酸で被覆された炭酸カルン
ウム45部、気相で熱分解法により形成された、表面積
150m”/gの二酸化ケイ素4部および前記のa)で
製造された反応生成物0.33部を混入する。
こうして得られた、排気により空中包含物を除かtまた
、水分遮断下に貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際
に室温で架橋してエラストマーになるコン・Sラント°
は均質であり、柔軟かつ安定している。該コン・ξラン
ドをチューブに充填し、これを閉鎖し、かつ室温で24
時間貯蔵する。次いでチューブから試料を取出す。これ
らの試料を予め溶剤で洗浄した、表1に挙げる基材にス
トリップ状に塗布し、かつ計1週間23℃および相対湿
度50%で架橋させ、かつ貯蔵する。次いで基材を機械
的に引き離すことによりエラストマーの接着強さを試験
する1゜結果を表1に挙げる。
表  1 基   材               付  着ア
ルミニウム          + 陽極酸化さ−れたアルミニウム    +コンクリート
          + アスベストセメント       + 硬質ポリ塩化ビニル       φ ポリアクリレート        + ポリカーボネート        + 4−一良好な付着−凝着クラック−ニジストマー中のク
ラック φ一部分付着−接着剤層クラックおよび凝着クラック−
エラストマーと基材間の分離およびエラストマー中のク
ラック。
史にチューブからの試料を平滑な基材上に厚さ2土0.
1 mmの膜にして23℃および50%−相対空中湿度
で計4週間架橋させ、かつ貯蔵する。次いでDIN (
西ドイツ工業規格)53504により基準棒片S3Aを
用いて100%伸び率における応力値、引張り強度およ
び破断点伸び、■びにDIN 53505によるエラス
トマーのショア硬度を測定する。この試験並びにニジス
トマーを高めた温度および高い空中湿度で貯蔵の後に行
なった試験の結果を表2に挙げる。
例  5 末端単位中にそれぞれ1個の81結合ヒドロキシル基を
有し、25℃で300000 mPa、sの粘度を有す
るジメチルポリシロキサン40部に記載の順序で末端単
位中でそれぞれ1個のヒドロキンル基を有する、25℃
で20000 ml’a、sの粘度のジメチルポリシロ
キサン15部、トリメチル70キン基によって末端遮断
された、25℃で100 mPa、sの粘度を有するジ
メチルポリ10キサン35部、メチルトリス−(メチル
ケトキ/ム)−シラン6部および上記で詳説さねた、炭
素を介してケイ素に結合したアミン基を有するオルガノ
ポリンロキサ72部を混合する。この混合物中に先ず気
相で熱分解法により形成された、表面積150m’/、
9の二酸化ケイ素11部、次いで上記のa)によシ製造
された反応生成物008部を混入する。
こうして得られる、排気によシ空気包含物を除かれた、
水分遮断下に貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に
室温で架橋してエラストマーになるコン・ξランドは均
質、柔軟であり、かつ安定している。コン・ξランドを
チューブに充填し、かつ閉鎖されたチューブ内で室温で
24時間貯蔵の後チューブの内容物の試料で例4に記載
されたようにして100%の伸び率における応力値、引
張強さおよび破断点伸びおよび試料から得られるエラス
トマーのンヨアA硬度を試験する。結果を同様に表2に
挙げる。
表 2 例Φ  +)士士)    十ト十)  fl15  
+)    十十)    十++)i申ひ率100%
における 応力値N/ays  O,49−0,190,340,
310,230,27引張強度N/in   C960
,520,441,200,800,50級断点伸び%
  460395350 510600340/ヨア−
A硬度    23 15 17  18  9 19
+)例4に記載されたようにして架橋および貯蔵後。
1+)例生に記載されたようにして架橋および貯蔵後引
続き70℃および100%−相対空中湿度で2週間貯蔵
ト)ト)例4に記載されたようにして架橋および貯蔵後
引続き70℃および100%−相2(空中湿度で8週間
貯蔵。
比較例δ 例会に記載された操作方法を繰返すが、L記のd)によ
り製造された反応生成物0.33部の代わりに石油エル
チル0.33部中の式:%式% 溶液を使用する。
例牛に記載されたようにして架橋および貯蔵、引続き7
0°Cおよび100%−相対空中湿度で8週間貯蔵後エ
ラストマーはきわめて脆くなり、沖び率100%におけ
る応力値、引張強度、破断点伸びおよびンヨアーA硬度
の測定が可能ではない。
比較例4 例5に記載の操作方法を繰返すが、上記の31)により
製造された反応生成物08部の代わりに石油:j−−7
ル0.8部中ノ式:5t(O3n(o−C411,)2
U(X−Y13):1の化合物08部の溶液を用いる。
例4に記載されたようにして架橋および貯蔵、引続き7
0’Cおよび100%−相対空中湿度で8週間貯蔵後比
較例3と同様の結果が得られる。
ドイツ連邦共和国プルクハウゼ ン・ハイドンシュトラーセ12

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 縮合可能な末端基を有するオルガノポリノロキサン
    、分子当り窒素を介してケイ素に結合するアミノ基まだ
    は酸素を介してケイ素に結合するオキシム基少なくとも
    3個または窒素を介してケイ素に結合するアミノ基およ
    び酸素を介してケイ素に結合するオキシム基全部で少な
    くとも3個を有するケイ素化合物、および酸素を介して
    ケイ素に結合し、エーテル酸素により中断されていても
    よい一価の炭化水素基を加水分解可能な基として分子当
    り少なくとも2個有するシランまたはそのオリゴマーと
    ノオルガノ錫ノアシレートとの反応生成物を主要成分と
    して混合することにより製造された、水分遮断下で貯蔵
    可能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋してエ
    ラストマーになるコン・ξランドにおいて(前記で定義
    された種類の反応生成物として錫原子のすべての原子価
    がSnC結合の一価の有機基によりまたは基:ミ5iO
    8n−の酸素原子により飽和されているものを含有する
    ことを特徴とする、水分遮断下で貯蔵可能であり、かつ
    水分が侵入する際に室温で架橋してエラストマーになる
    コンノミランド。 2 ノオルガノ錫ノアシレート1モル当り酸素を介して
    ケイ素に結合する炭化水素基4〜25グラム当量の量で
    一りオルガノ錫ジアジレートと混合された、酸素を介し
    てケイ素に結合する炭化水素基を加水分解可能な基とし
    て分子当り少なくとも2個有するシランまたはそのオリ
    ゴマーを最高1・々−ルで15分〜15時間15〜20
    0℃に加熱することにより製造されたものを特徴する特
    許請求の範囲第1項記載のコンパウンド。
JP58051704A 1982-03-31 1983-03-29 水分遮断下で貯蔵可能であり、かつ水分が侵入する際に室温で架橋してエラストマ−になるコンパウンド Granted JPS58180554A (ja)

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