JPS58106830A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents
電子ビ−ム露光装置Info
- Publication number
- JPS58106830A JPS58106830A JP20501281A JP20501281A JPS58106830A JP S58106830 A JPS58106830 A JP S58106830A JP 20501281 A JP20501281 A JP 20501281A JP 20501281 A JP20501281 A JP 20501281A JP S58106830 A JPS58106830 A JP S58106830A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- pressure
- sample
- valve
- reserve chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、電子ぜ一ム露光装置の改良に関する。
発明の技術的背景とその問題点
近時、半導体ウェー八やマスク等の試料に微細なノ臂タ
ーｙを形成するものとして、電子ビーム露光装置が用い
られているが、この装置は一鍾に第１図に示す如（構成
されでいる。試料室ｌの上１１１４：：は電子殻２、レ
ンを系１および偏向系（図示せず）等からなる電子光学
鏡筒４が設けられ、試料室１の側部にはｒ−）パルプ５
を介して予備室Ｃが連設されている。試料室１内にはＸ
−Ｙ方向に移動可能な試料ステージ７が配置され、この
ステージｒ上に試料Ｉが載置されるものとなっている。
ーｙを形成するものとして、電子ビーム露光装置が用い
られているが、この装置は一鍾に第１図に示す如（構成
されでいる。試料室ｌの上１１１４：：は電子殻２、レ
ンを系１および偏向系（図示せず）等からなる電子光学
鏡筒４が設けられ、試料室１の側部にはｒ−）パルプ５
を介して予備室Ｃが連設されている。試料室１内にはＸ
−Ｙ方向に移動可能な試料ステージ７が配置され、この
ステージｒ上に試料Ｉが載置されるものとなっている。
また、試料室１内は図示しない真空Ｉンデにより真空排
気され、予備室Ｃ内は真空ボンデ９により真空排気され
ている。そして、上記試料室１および予備室Ｃの外壁面
には冷却水配管１−が取着され、各室１−内は冷却され
るものとなっている。
気され、予備室Ｃ内は真空ボンデ９により真空排気され
ている。そして、上記試料室１および予備室Ｃの外壁面
には冷却水配管１−が取着され、各室１−内は冷却され
るものとなっている。
しかしで、電子銃２から発射された電子ビーム（図中１
点鎖線で示す）をレンズ系Ｊおよび偏向系により収束偏
向して、試料ステージｒ上（二試料１０表面に焦点を結
ぶことにより、試料１が露光される。このとき、試料１
は複数枚まとめで処理されるよう予め予備室−内に収容
されでおり、試料’１１１での露光が終了するとｒ −
トΔルゾＩが開かれ試料室１を予備室Ｃとの間で試料Ｉ
が壷透され交換されるものとなっている。Ａターン形成
を０．１（／ｌｌＩｇｋ）或いはそれ以下の位置精度で
行うためには、試料８の熱変形を極力押さえる必要があ
るが、この目的のために従来装置では前記冷却水配管１
０等の冷却系を設け、予備室−と試料室１（特６ニステ
ージｒ周辺）とが同一温度となるよう温度制御している
。
点鎖線で示す）をレンズ系Ｊおよび偏向系により収束偏
向して、試料ステージｒ上（二試料１０表面に焦点を結
ぶことにより、試料１が露光される。このとき、試料１
は複数枚まとめで処理されるよう予め予備室−内に収容
されでおり、試料’１１１での露光が終了するとｒ −
トΔルゾＩが開かれ試料室１を予備室Ｃとの間で試料Ｉ
が壷透され交換されるものとなっている。Ａターン形成
を０．１（／ｌｌＩｇｋ）或いはそれ以下の位置精度で
行うためには、試料８の熱変形を極力押さえる必要があ
るが、この目的のために従来装置では前記冷却水配管１
０等の冷却系を設け、予備室−と試料室１（特６ニステ
ージｒ周辺）とが同一温度となるよう温度制御している
。
ところが、上述した従来装置にあっては試料ｇｏ温度制
御が必ずしも十分行われているとは量えず、電子ビーム
露光本来の精度を損っていた。すなわち、予備室σ内に
は複数枚の試料８が収容され、大気圧から高真空に排気
されるが、短時間に排気が完了するよう予備室６の排気
プｙ／タタｙスを大きくしでいるため、大気からの排気
開始時の急激な排気によって予備室６内の気体が断熱膨
張を起こす、その結果、予備室Ｃ内の試料１の温度は大
きく低下する。一度冷やされた試料１は真空中であるが
ために、正規の温度まで回復するのに長時間を要する。
御が必ずしも十分行われているとは量えず、電子ビーム
露光本来の精度を損っていた。すなわち、予備室σ内に
は複数枚の試料８が収容され、大気圧から高真空に排気
されるが、短時間に排気が完了するよう予備室６の排気
プｙ／タタｙスを大きくしでいるため、大気からの排気
開始時の急激な排気によって予備室６内の気体が断熱膨
張を起こす、その結果、予備室Ｃ内の試料１の温度は大
きく低下する。一度冷やされた試料１は真空中であるが
ために、正規の温度まで回復するのに長時間を要する。
試料１の熱変形を１例えばαｌ（声詭〕以内（二押さえ
るには試料Ｉの温度変化は±９，１（’Ｃ）ｌ、か許さ
れないが、排気初期の断熱膨張により試料Ｉにはｌ・〜
意・（’Ｃ）の温度変化が起こり得る。そして、この変
化した温度を元の設定温度に復帰させるには意゛〜４時
間を要する。このため、生産性を着しく低下させる大き
な要因となる。また、上述した間層を避けるため排気コ
ンダクタンスを小さくすることが考えられるが、この方
法では断熱膨張を押さえることはできても排気時間が従
来より数倍も畏（なり、結局装置稼動率低下を招く。
るには試料Ｉの温度変化は±９，１（’Ｃ）ｌ、か許さ
れないが、排気初期の断熱膨張により試料Ｉにはｌ・〜
意・（’Ｃ）の温度変化が起こり得る。そして、この変
化した温度を元の設定温度に復帰させるには意゛〜４時
間を要する。このため、生産性を着しく低下させる大き
な要因となる。また、上述した間層を避けるため排気コ
ンダクタンスを小さくすることが考えられるが、この方
法では断熱膨張を押さえることはできても排気時間が従
来より数倍も畏（なり、結局装置稼動率低下を招く。
そこで最近、前記試料８の温度低下および排気時間の長
時間化を防ぐものとして、排気コンダクタンスを可変に
方法が考案された。すなわち、大気からの排気開始時に
は小さいコンダクタンスで断熱膨張を緩和し、予備室内
の真空度がある程度高（なった時点で大きなコンダクタ
ンスとし短時間排気を可能とするものであり。
時間化を防ぐものとして、排気コンダクタンスを可変に
方法が考案された。すなわち、大気からの排気開始時に
は小さいコンダクタンスで断熱膨張を緩和し、予備室内
の真空度がある程度高（なった時点で大きなコンダクタ
ンスとし短時間排気を可能とするものであり。
具体的には真空度をモニタしながら、予備室と排気系と
の間に設けたバルブのコンダクタンスを制御する構造と
なっている。
の間に設けたバルブのコンダクタンスを制御する構造と
なっている。
しかしながら、このような装置では真空庫を七二ダする
モニタ装置およびこのモニタ装置のモニタ出力に応じて
バルブの：ｙｙ／クタｙスを制御する制御装置が必要と
なり、Ｖステムの複雑化および装置製造コストの増大を
招き好ましくない。
モニタ装置およびこのモニタ装置のモニタ出力に応じて
バルブの：ｙｙ／クタｙスを制御する制御装置が必要と
なり、Ｖステムの複雑化および装置製造コストの増大を
招き好ましくない。
発明の目的
本発明の目的は、予備室を真空書ニするための排気時間
の長大化および予備室内の試料の温度低下を防止するこ
とができ、かつ装置構成の簡略化をはかり得る電子Ｖ−
ム露光装置を提供することにある。
の長大化および予備室内の試料の温度低下を防止するこ
とができ、かつ装置構成の簡略化をはかり得る電子Ｖ−
ム露光装置を提供することにある。
発明の概要
本発明は、予備室と真空排気系との間に予備室および真
空排気系の圧力差に応じてその排気プｙ／クタｙスが自
動的に可変する／ぐルデを設け、かつこのバルブのコン
ダクタンスが予備室の圧力が真空排気系の圧力な上欄る
とき小となり、予備室および真空排気系の各圧力が略等
しいとき大となｉよう１；シたものである。
空排気系の圧力差に応じてその排気プｙ／クタｙスが自
動的に可変する／ぐルデを設け、かつこのバルブのコン
ダクタンスが予備室の圧力が真空排気系の圧力な上欄る
とき小となり、予備室および真空排気系の各圧力が略等
しいとき大となｉよう１；シたものである。
発明の効果
本発明によれば、予備室内の圧力が真空排気系の圧力を
大幅に１硼るとき、つまり予備室の真空排気開始時には
バルブのコンダクタンスが小となるため、予備室内の気
体の断熱膨張を抑えることができ、試料の温度低下を小
さくすることができる、さらに、予備室内の圧力と真空
排気系の圧力とが略等しいとき、つまり予備室の真空排
気開始より一定時間過ぎたのちはパルプのコンダクタン
スが大となるため、排気時間が増大することを防止でき
る。また％バルブが自動的に可変するためそエタ装置や
制御装置を設ける必要がなくｌ置構成の簡略化をはかり
得る。
大幅に１硼るとき、つまり予備室の真空排気開始時には
バルブのコンダクタンスが小となるため、予備室内の気
体の断熱膨張を抑えることができ、試料の温度低下を小
さくすることができる、さらに、予備室内の圧力と真空
排気系の圧力とが略等しいとき、つまり予備室の真空排
気開始より一定時間過ぎたのちはパルプのコンダクタン
スが大となるため、排気時間が増大することを防止でき
る。また％バルブが自動的に可変するためそエタ装置や
制御装置を設ける必要がなくｌ置構成の簡略化をはかり
得る。
発明の実施例
第２図は本発明の一実施例に係わるパルプ構造を示す断
面図である。前記予備１１ｇと真空−ンデクとの間に設
けられた排気管１１は、その内径が予備室ｌ側で大きく
形成され、ここに弁板容部が設けられている。排気管１
１の弁板容部１１ａにはばね１２を介して小さな貫遥口
１１を有する弁１４が設けられている。上記ばね１１は
予備室−と真空１ｙｆ＃との各圧力が略等し１ いとき弁１４を予備室−側に押し出し、弁１４と排気管
１１０予備富側開口との間にすきまかあ（ように作られ
ている。また、予備室−の圧力が真空１ｙｆりの圧力を
ある程度上棚るときは弁１４により真空Ｉｙｆ側に圧縮
され、これにより上記すきまが閉じられるものとなって
いる。
面図である。前記予備１１ｇと真空−ンデクとの間に設
けられた排気管１１は、その内径が予備室ｌ側で大きく
形成され、ここに弁板容部が設けられている。排気管１
１の弁板容部１１ａにはばね１２を介して小さな貫遥口
１１を有する弁１４が設けられている。上記ばね１１は
予備室−と真空１ｙｆ＃との各圧力が略等し１ いとき弁１４を予備室−側に押し出し、弁１４と排気管
１１０予備富側開口との間にすきまかあ（ように作られ
ている。また、予備室−の圧力が真空１ｙｆりの圧力を
ある程度上棚るときは弁１４により真空Ｉｙｆ側に圧縮
され、これにより上記すきまが閉じられるものとなって
いる。
このような構成であれば、予備室−の排気開始時には、
予備室Ｃ側の圧力は略大気圧で、ｄＩｙｆｓ側の圧力は
急激に小さくなるので第３図（ａ）に示す如く弁１４が
Ｉｙｆｚｌ側に押しつけられ、排気管ＩＩの予備室側開
口と弁１４との間のすきまは閉じられる。このため、予
備室Ｃは弁１４の貫通孔１１を通じて大きいコンダクタ
ンスで排気される。したがって、予備室σ内の気体の断
熱膨張は小さくなり、試料８の温度低下は極めて小さい
ものとなる。
予備室Ｃ側の圧力は略大気圧で、ｄＩｙｆｓ側の圧力は
急激に小さくなるので第３図（ａ）に示す如く弁１４が
Ｉｙｆｚｌ側に押しつけられ、排気管ＩＩの予備室側開
口と弁１４との間のすきまは閉じられる。このため、予
備室Ｃは弁１４の貫通孔１１を通じて大きいコンダクタ
ンスで排気される。したがって、予備室σ内の気体の断
熱膨張は小さくなり、試料８の温度低下は極めて小さい
ものとなる。
一方、排気がある程度進むと、予備室Ｃと真空−ンｆり
との圧力差が小さくなり、第３図（時に示す如く弁１４
は予備＊ζ側に押しやられ、その結果前記すきまかあ（
、このため、予備室Ｃは上記すきまおよび貫通孔１４を
介して大きなコンダクタンスで排気されることになる。
との圧力差が小さくなり、第３図（時に示す如く弁１４
は予備＊ζ側に押しやられ、その結果前記すきまかあ（
、このため、予備室Ｃは上記すきまおよび貫通孔１４を
介して大きなコンダクタンスで排気されることになる。
このように予備ＩＩｌの排気開始時には小さなコンダク
タンスで、排気がある程度進むと大きなコンダクタンス
で自動的に排気されることになる。したがって、予備Ｗ
１１１内の気体の断熱膨張に起因する試料１の温度低下
を小さく抑えることができると共に、排気時間の短縮化
をはかり得る。さらに、パルプの構造が極めて簡単であ
り、かつモニタ装置や制御装置も必要としないので、全
体構成が簡略化される等の効果を奏する。
タンスで、排気がある程度進むと大きなコンダクタンス
で自動的に排気されることになる。したがって、予備Ｗ
１１１内の気体の断熱膨張に起因する試料１の温度低下
を小さく抑えることができると共に、排気時間の短縮化
をはかり得る。さらに、パルプの構造が極めて簡単であ
り、かつモニタ装置や制御装置も必要としないので、全
体構成が簡略化される等の効果を奏する。
なお１本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い０例えば、前記弁に設けた貫通孔の大きさ、ばねの強
さおよびすきま等は、／ンプの排気適度、予備室の容積
および基板温度変化の許容量等の条件に応じて適宜定め
ればよい。
い０例えば、前記弁に設けた貫通孔の大きさ、ばねの強
さおよびすきま等は、／ンプの排気適度、予備室の容積
および基板温度変化の許容量等の条件に応じて適宜定め
ればよい。
また、電子光学鏡筒や試料室等の構成も、仕様に応じて
適宜変更できるのは勿論のことである。
適宜変更できるのは勿論のことである。
その他１本発明の要曾を１脱しない範囲で、種々変形し
て実施することができる。
て実施することができる。
第１ｍｌは電子Ｖ−ム露光装置の概略構成を示す模式図
、第２図は本発明の一実施例装置に用いたパルプ構造を
示す断面図、第３図（ａ）■は上記実施例パルプの作用
を説明するための断面図である。 １・・・試料室、４・・・電子光学鏡筒、５・・・ｒ−
）パルプ、Ｃ−予備室、１−・試料ステーＮ、Ｊｔ・−
試料、＃−真空Ｉンプ、ｆ＃−・・冷却水配管、１１−
排気管、Ｊ ｊ−・・ばね、１１−貫通孔、１４・・・
弁。 出願人代運人 弁理士 鈴 江 武 彦１３８−
、第２図は本発明の一実施例装置に用いたパルプ構造を
示す断面図、第３図（ａ）■は上記実施例パルプの作用
を説明するための断面図である。 １・・・試料室、４・・・電子光学鏡筒、５・・・ｒ−
）パルプ、Ｃ−予備室、１−・試料ステーＮ、Ｊｔ・−
試料、＃−真空Ｉンプ、ｆ＃−・・冷却水配管、１１−
排気管、Ｊ ｊ−・・ばね、１１−貫通孔、１４・・・
弁。 出願人代運人 弁理士 鈴 江 武 彦１３８−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １１） 電子ビーム露光書＝供される試料が配置され
る真空排気された試料室と、この試料室に連接して設け
られ上記試料を露光前および露光後に収容する予備室と
、この予備室を真空排気する真空排気系と、上記予備室
と真空排気系との間に設けられ該予備室および真空排気
系の圧力差に応じてその排気コンダクタンスが可変せら
れる１４ルプとを員備し、上記パルプは前記予備室の圧
力が前記真空排気系の圧力より上欄るときそのコレダク
タンスが小となり、前記予備室および真空排気系の圧力
が略等しいときそのプンダクタンスが大となるものであ
ることを特徴とする電子ビーム電光装置。 （２） 前記ＩＱルブは、前記予備室と真空排気系と
の圧力差により上記予備室および真空排気系の連通路を
１１１１ｇする微小貫通孔が設けられた弁。 この弁を予備盲側に押圧するばねからなるものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子Ｖ−ム
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20501281A JPS58106830A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子ビ−ム露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20501281A JPS58106830A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子ビ−ム露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58106830A true JPS58106830A (ja) | 1983-06-25 |
| JPH038099B2 JPH038099B2 (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=16499981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20501281A Granted JPS58106830A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 電子ビ−ム露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58106830A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100775870B1 (ko) | 2006-11-02 | 2007-11-13 | 양용찬 | 진공 흡착 시스템 |
| CN102478028A (zh) * | 2010-11-26 | 2012-05-30 | 政相工业有限公司 | 文氏管构件及含有该构件的手、气动两用唧筒 |
-
1981
- 1981-12-18 JP JP20501281A patent/JPS58106830A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100775870B1 (ko) | 2006-11-02 | 2007-11-13 | 양용찬 | 진공 흡착 시스템 |
| CN102478028A (zh) * | 2010-11-26 | 2012-05-30 | 政相工业有限公司 | 文氏管构件及含有该构件的手、气动两用唧筒 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH038099B2 (ja) | 1991-02-05 |
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