JPH1192840A - ジルコニウムの精製方法 - Google Patents

ジルコニウムの精製方法

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JPH1192840A
JPH1192840A JP9256398A JP25639897A JPH1192840A JP H1192840 A JPH1192840 A JP H1192840A JP 9256398 A JP9256398 A JP 9256398A JP 25639897 A JP25639897 A JP 25639897A JP H1192840 A JPH1192840 A JP H1192840A
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zirconium
complex
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organic acid
precipitation
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JP9256398A
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Retsu Yoshida
烈 吉田
Toshio Nakatani
利雄 中谷
Yasushi Nakajima
靖 中島
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Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】ジルコニウム原料から効果的にAl、Ti、F
e等の微量成分を除去することを主な目的とする。 【解決手段】本発明は、ジルコニウムの精製方法であっ
て、(1)ジルコニウム原料からジルコニウムイオンを
含む混合溶液を調製する第一工程、(2)混合溶液にヒ
ドロキシカリックス[n]アレーン−p−スルホン酸塩
(nは2以上の偶数)を添加することにより沈殿物を生
成させる第二工程及び(3)沈殿物に有機酸を添加し、
生成したジルコニウム−有機酸錯体を回収する第三工程
を有することを特徴とする精製方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なジルコニウ
ムの精製方法に関する。
【0002】
【従来技術】ジルコンサンド、バッデライト等のジルコ
ニウム鉱石には、通常1〜2%(場合によっては1〜4
%)のハフニウム(Hf)が含有されている。しかし、
熱中性子吸収断面積の小さいZrを原子炉材料として用
いる場合等には、熱中性子吸収断面積の大きいHfを分
離除去する必要がある。日本工業規格によれば、核燃料
被覆用のZr合金中のHf含有量は0.010%以下に
することが定められている。しかし、ZrとHfは、電
子構造、原子半径(Zr:1.45Å、Hf:1.44
Å)及びイオン半径(Zr:0.74Å、Hf:0.7
5Å)が相互に類似しており、化学的性質が似ているた
め、両者の分離は困難となっている。従来より、Zrと
Hfの分離方法として、例えば溶媒抽出法、分別沈殿
法、イオン交換法等が提案されているが、分離性、経済
性等になお問題があり、しかも環境問題の見地からもさ
らなる改善が望まれている。
【0003】他方、Zrは、近年においてガラス、セン
サー、電子材料、ファインセラミックス用素材等として
の用途が高まりつつある。この種の用途においては、Z
rからHfを除去する必要性は特にない。その一方で、
これらの用途における製品の性能を低下させるAl、T
i、Fe等をむしろ優先的に除去する必要がある。例え
ば、Ti、Fe等は、ジルコニアガラスの着色原因とな
る成分であり、製品の品質を低下させるものである。
【0004】また、これらの元素の一部は、Zrを原子
炉材料として用いる場合にも悪影響を及ぼすことが知ら
れている。例えば、Alは、水型原子炉における高温
水、ガス型原子炉における高温ガス等に対するZrの耐
食性を低下させる原因となる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の元素は、どの産地のジルコニウム鉱石にも微量成分と
して含まれており、これらをジルコニウムから有効に除
去できる技術は未だ開発されていないのが現状である。
【0006】従って、本発明は、ジルコニウム原料から
効果的にAl、Ti、Fe等の微量成分を除去すること
を主な目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来技術の
問題点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、特にヒドロキシカ
リックス[n]アレーン−p−スルホン酸塩(nは2以
上の偶数)をジルコニウムの精製において用いることに
より、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完
成するに至った。
【0008】すなわち、本発明は、ジルコニウムの精製
方法であって、(1)ジルコニウム原料からジルコニウ
ムイオンを含む混合溶液を調製する第一工程、(2)混
合溶液にヒドロキシカリックス[n]アレーン−p−ス
ルホン酸塩(nは2以上の偶数)を添加することにより
沈殿物を生成させる第二工程及び(3)沈殿物に有機酸
を添加し、生成したジルコニウム−有機酸錯体を回収す
る第三工程を有することを特徴とする精製方法に係るも
のである。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の第一工程で用いるジルコ
ニウム原料としては、特に制限されず、ジルコニウム鉱
石のみならず、ジルコニウム試薬、ジルコニウム化合物
試薬等も使用でき、本発明方法でこれらの精製を行うこ
とができる。ジルコニウム鉱石は、鉱石の種類、産地等
を特に問わない。例えば、世界各地で産出されるジルコ
ンサンド、バッデライト等の鉱石をそのまま用いること
ができる。
【0010】第一工程では、ジルコニウム原料からジル
コニウムイオンを含む混合溶液を調製する。混合溶液の
調製方法は、最終的にジルコニウムを溶液化(イオン
化)できる限り特に制限されず、公知の方法も用いるこ
とができる。例えば、ジルコンサンド(ZrO2・Si
2)をジルコニウム原料として用いる場合は、ジルコ
ンサンドをアルカリ土類金属化合物(Na2CO3等)と
高温(〜1000℃)で反応させ、得られたジルコニウ
ム化合物(Na2ZrO3等)を塩酸等の鉱酸に溶解させ
ることによって混合溶液が得られる。この溶液中には、
一般には、ジルコニウムイオンをはじめ、ジルコニウム
中に含まれる微量成分(Al、Ti、Fe、Mg、M
n,Ca等)がイオンとして含まれる。
【0011】本発明では、上記の混合溶液におけるジル
コニウムイオンの濃度は通常0.01〜30%程度、好
ましくは0.1〜10%に調整する。ジルコニウムイオ
ンの濃度調整は、例えば水を配合することによって行う
ことができる。また、混合溶液では、塩酸、水酸化ナト
リウム等の酸又はアルカリを添加することにより水素イ
オン濃度を調節することもできる。本発明では、混合溶
液中における水素イオン濃度は用いるジルコニウム原料
等に応じて適宜設定すれば良いが、通常は0.01〜3
M程度(1M=1mol dm-3)、好ましくは0.5
〜1.5Mとすれば良い。なお、混合溶液中には、本発
明の効果を妨げない範囲内でこれらの必要成分以外のも
のが含まれていても良い。
【0012】第二工程では、上記の混合溶液にヒドロキ
シカリックス[n]アレーン−p−スルホン酸塩(nは
2以上の偶数)(以下「水溶性カリックスアレーン」と
もいう)を添加することにより沈殿物を生成させる。水
溶性カリックスアレーンは、下式に示すような構造(ナ
トリウム塩の場合)を有するものである。
【0013】
【化1】
【0014】水溶性カリックスアレーンを添加すると、
主として、水溶性カリックスアレーンのスルホン酸基と
一部の水酸基がZr(イオン)に配位して金属錯化合物
を形成し、これが沈殿物(沈殿性錯体)となる。
【0015】本発明の精製方法では、水溶性カリックス
アレーンは、ジルコニウムイオンから上記のような沈殿
物を形成できる限りいずれの金属塩であっても良いが、
通常はアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩の少なく
とも1種を用いる。この中でも、特にアルカリ金属塩
(ナトリウム塩、カリウム塩等)を用いるのが好まし
い。また、水溶性カリックスアレーンは、特に上記式の
nが4、6又は8のものを用いるのが好ましい。なお、
これら水溶性カリックスアレーンは、1種又は2種以上
で用いることができる。
【0016】水溶性カリックスアレーンの添加量は、混
合溶液中に存在するジルコニウムイオンをすべて沈殿さ
せるのに十分な量であれば良い。すなわち、ジルコニウ
ムイオンをすべて沈殿するのに必要な化学当量以上(当
該化学当量の1倍以上)あれば良く、好ましくは化学当
量の1〜1.5倍程度とすれば良い。濃度も、混合溶液
の組成等に応じて適宜調整すれば良い。水溶性カリック
スアレーンの添加に際しては、攪拌しながら徐々に添加
するのが好ましい。また、沈殿物が生成した後にも攪拌
を継続しても良い。
【0017】水溶性カリックスアレーンの添加によって
生成した沈殿物は、必要に応じて濾過し、水等で洗浄
し、さらに必要に応じて乾燥しても良い。乾燥は、一般
には、室温付近の温度で行えば良い。また、沈殿物の形
成に寄与しなかった水溶性カリックスアレーンは、ろ液
として回収し、再利用することができる。例えば、水溶
性カリックスアレーンがナトリウム塩である場合は、ろ
液を適宜濃縮した後に過剰の塩化ナトリウムを添加する
ことによって水溶性カリックスアレーンを容易に回収す
ることができる。
【0018】第三工程では、沈殿物に有機酸を添加し、
生成したジルコニウム−有機酸錯体を回収する。有機酸
としては、ジルコニウム原料、水溶性カリックスアレー
ン等の種類、第三工程における回収方法等に応じて適宜
選択することができる。例えば、回収方法として陰イオ
ン交換樹脂により行う場合は、一般にジルコニウムと
結合し、陰イオンを形成し、かつ、当該陰イオンの
イオン半径が用いる陰イオン交換樹脂による吸着に適合
している有機酸であれば良い(後記の試験例2参照)。
このような有機酸としては、ジカルボン酸及びヒドロキ
シカルボン酸の少なくとも1種が好ましく、この中でも
特にシュウ酸が好ましい。
【0019】有機酸の濃度及び添加量は、生成した沈殿
物(ジルコニウム)をすべてジルコニウム−有機酸錯体
を形成させるのに十分な濃度及び添加量であれば特に制
限されず、用いる有機酸、水溶性カリックスアレーン等
の種類、沈殿物量等に応じて適宜設定すれば良い。通常
は、沈殿物からジルコニウム−有機酸錯体を形成させる
のに十分な化学当量であれば良い。すなわち、ジルコニ
ウム−有機酸錯体を形成させるのに必要な化学当量以上
(当該化学当量の1倍以上)あれば良く、好ましくは化
学当量の1〜2倍程度とする。
【0020】次いで、生成したジルコニウム−有機酸錯
体の回収を行う。回収方法としては、上記錯体が選択的
に回収できる限り特に制限されないが、特に陰イオン交
換樹脂により回収することが好ましい。陰イオン交換樹
脂の種類は、回収すべきジルコニウム−有機酸錯体の種
類等に応じて適宜選択できる。また、市販品もそのまま
使用することができる。例えば、強塩基性陰イオン交換
樹脂I型又はII型(4級アンモニウム)、弱塩基性陰イ
オン交換樹脂I型又はII型(1〜3級アミン)等が挙げ
られる。また、陰イオン交換樹脂は、ゲル型又はポーラ
ス型(多孔型)のいずれのタイプであっても良い。
【0021】陰イオン交換樹脂で処理する操作条件も、
生成したジルコニウム−有機酸錯体を回収できる限りい
ずれの条件であっても良く、また公知の操作条件の範囲
内であっても良い。例えば、陰イオン交換樹脂を充填し
たカラムに溶液を通液した後、水を通液し、カラムを洗
浄して最初の通過液に合わせ、さらに塩酸等をカラムに
通することにより吸着されたジルコニウム−有機酸錯体
を陰イオン交換樹脂から溶出回収すれば良い。
【0022】回収されたジルコニウム−有機酸錯体は、
分解することにより最終的にジルコニウムを得ることが
できる。分解方法としては、有機酸錯体における公知の
分解方法によれば良い。この場合、分解条件を適宜設定
することによって、水酸化ジルコニウム、その他ジルコ
ニウム塩として得ることも可能である。例えば、上記錯
体を加熱したり、あるいは過酸化水素水等で処理するこ
とにより行うことができる。具体的には、加熱処理する
場合は、主として酸化ジルコニウムのかたちで回収する
ことができる。また、過酸化水素水による場合は、ジル
コニウムイオン(Zr4+)として回収できる。これらの
方法は、最終製品の状態、用途等により適宜選択でき
る。
【0023】
【発明の効果】本発明の精製方法によれば、特に、Zr
に対する選択性に優れているヒドロキシカリックス
[n]アレーン−p−スルホン酸塩をいわゆる沈殿形成
剤として用いるので、従来では困難とされていたZrか
らAl、Ti、Fe等の微量成分の除去を効果的に行う
ことができる。
【0024】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明の特徴をより一
層明確にする。なお、実施例等で用いたヒドロキシカリ
ックス[n]アレーン−p−スルホン酸ナトリウム(n
は4、6又は8)をNannと略記する。
【0025】また、各元素記号Zr、Hf、Al、T
i、Fe、Mg、Mn、Ca、Ni、Co、Cu及びZ
nは、特に Zr(IV)、Hf(IV)、Al(III)、Ti(I
V)、Fe(III)、Mg(II)、Mn(II)、Ca(II)、Ni
(II)、Co(II)、Cu(II)及びZn(II)をそれぞれ示
す。
【0026】沈殿性錯体、水溶液中の金属イオン濃度
(又は硫黄濃度)の定量は、高周波誘導結合プラズマ発
光分光分析(以下「ICP−AES」と略記する)法に
従って装置「SPS−1200VR型」(セイコー電子
工業(株)製)を用いて測定した。沈殿性錯体はそれを
シュウ酸で溶解させて得た溶液について測定した。吸光
度の測定は、可視・紫外分光光度計「UV−180型」
(島津製作所製)を用いた。
【0027】実施例1 Nann(いずれもスガイ化学工業(株)製)を用いて
Zrの精製を行った。
【0028】まず、Na445.06g、Na667.
60g、Na8811.1gを250mlの水に溶解さ
せ、0.02M(1M=1mol dm-3)水溶液をそ
れぞれ調製した。一方、Zrとしては、二塩化酸化ジル
コニウム8水塩(半井化学薬品)を用い、その1.85
3gを500mlの0.1M塩酸500ml中に溶解さ
せ、0.0115MのZr水溶液を調製した。
【0029】次いで、200ml三角フラスコ中で、
0.0115MのZr水溶液50mlに、Al、Ti及
びFeを含む混合水溶液を加えた後、15mlの2M塩
酸及び100mlの水を添加・混合し、表1に示すモデ
ル混合溶液(精製前)を調製した。
【0030】このモデル混合溶液に0.02MのNa8
8溶液25mlを攪拌しながら添加した。生成した沈
殿物を20分間かき混ぜ、次いで保持粒径1μmのメン
ブランフィルターで吸引濾過し、残渣を100mlの水
で洗浄した後、真空デシケーター中で五酸化二リン上に
て室温下4日間乾燥した。
【0031】乾燥した沈殿物を0.2Mのシュウ酸10
mlに溶解させた後、50mlメスフラスコに移し、水
を標線まで加えて希釈した。
【0032】次に、カラム(内径1.5cm×高さ9c
m)にゲル型陰イオン交換樹脂(登録商標「ダイヤイオ
ン」(SA10A)三菱化成(株)製)10.0gを充
填し、これに上記水溶液を通液した。さらに、100m
lの水を通液し、カラムを洗浄して最初の通過液に合わ
せた。次に、250mlの1M塩酸250mlをカラム
に通し、吸着されたZrを陰イオン交換樹脂から溶出回
収した。この回収液は、10mlずつ分画し、各分画中
の金属イオン濃度を測定した。その結果を表1(精製
後)に示す。
【0033】
【表1】
【0034】表1に示すようにNa88による精製で
は、Zrの回収量は48.3mg、回収率は91.7%
であった。Tiは99.2%、Feは92.2%がそれ
ぞれ除去された。また、Alでは60.5%であった。
これらの結果、Zrの純度(Zr/全金属量)は98.
7%から99.7%に上昇した。特に、Tiの除去に関
する効果は顕著であった。
【0035】図1には、1M塩酸の通液によりカラムか
ら回収されたZrとこれに伴う他成分の溶出曲線を示
す。図1より、他種の金属イオンの溶出が認められない
ことがわかる。なお、図1中、○はZr、△はAl、◇
はTi、□はFe、■はl8 8-をそれぞれ示す。
【0036】実施例1で用いたNa88は、その約37
%がZr錯体から金属イオンを含まないかたちで分離さ
れた。これを沈殿調製時の濾過溶液に合わせて約0.0
2Mに濃縮し、次いで過剰の塩化ナトリウムを添加する
と容易にNa88を回収できた。
【0037】なお、この精製操作で得られたZrの化学
形はシュウ酸錯体であるが、これは加熱又は過酸化水素
水により分解できるので容易に水酸化ジルコニウムある
いは所望のジルコニウム塩として得ることもできる。
【0038】試験例1 Nann(nは4、6又は8)による金属イオン(Z
r、Al、Ti、Feの沈殿率を調べた。
【0039】表2に示す組成の鉱石組成水溶液及びモデ
ル混合溶液を用いた。モデル混合溶液では、Zrに対
し、各金属イオンが40%のモル比で共存するように設
定した。また、Mnイオンの場合は硫酸塩を用いたほか
は、他の金属イオンは塩化物塩を用いて各溶液を調製し
た(以下同じ)。
【0040】各溶液は、まず200ml三角フラスコに
0.01MのZr水溶液50mlに対し、所定量のA
l、Ti及びFe水溶液を混合した後、1M塩酸を添加
して水素イオン濃度を0.3Mにして調製した。次い
で、攪拌しながら、0.02MのNann25ml水溶
液を添加し、生成した沈殿物を実施例1と同様にして濾
過し、乾燥した。
【0041】乾燥した沈殿物を0.2Mのシュウ酸25
mlに溶解させた後、50mlメスフラスコに移し、水
を標線まで加えて希釈した。得られた水溶液中における
各金属イオンの濃度をそれぞれ測定した。その結果を表
2に示す。
【0042】
【表2】
【0043】表2の結果より、Zrの沈殿率は93.0
〜99.8%であり、Na44(4量体)<Na6
6(6量体)<Na88(8量体)の順に大きくなって
いることがわかる。この場合、8量体のNa88を用い
ると、Zrはほぼ定量的(99.8%)に沈殿すること
がわかる。鉱石組成水溶液中のZrの沈殿率はNa44
あるいはNa66でもそれぞれ96.7%、97.6%
であり、ほぼ定量的であることがわかる。
【0044】Zr不在下では沈殿しないこれらの共存金
属イオンのうちAlはZrの沈殿に伴って一部共同沈殿
していることがわかる。これは、鉱石組成水溶液におけ
るAl含有量がわずか0.284mgの場合であっても
全量の32.4〜36.4%が沈殿物中に混入している
ことから判断できる。特に、Tiでは、混入が最も大き
いNa66の場合でも3.89%であり、TiはNan
nを用いる沈殿精製法でZrから効果的に除去できる
ことがわかる。また、Feの混入も、Na44を用いる
場合では1.37%と低く、Na66又はNa88でも
せいぜい7%程度である。Zrに対する共存金属量がモ
ル比で40%という高い濃度で含まれるモデル混合溶液
においては、各共存金属イオンの共沈率はさらに低く、
これらのほとんどが除去されていることがわかる。結果
として、Zrの純度は、当初のモデル混合溶液中の6
2.5%から精製によりNa44の沈殿中では98.9
%、Na66沈殿中では98.0%、Na88沈殿中で
は98.3%にそれぞれ上昇した。
【0045】次に、Zr鉱石に共存する可能性のある他
の7種の金属イオン(Mg、Ca、Mn、Co、Ni、
Cu、Zn)についても、上記と同様にして、表3に示
すサンプル溶液を調製し、試験を行った。その結果を表
3に示す。なお、水素イオン濃度は0.3Mとした。
【0046】
【表3】
【0047】表3の結果より、当初モル比で20%共存
したこれら7種の金属イオンのすべてが1%未満の混入
率に低下しており、いずれの金属イオンも効果的に除去
されていることがわかる。その結果、当初58.7%で
あったZrの純度は精製によりNa44の沈殿中では9
9.8%、Na66沈殿中では99.6%、Na88
殿中では99.8%に上昇した。このことから、Nan
nは、Zrのいわば沈殿形成剤として機能しているこ
とがわかる。
【0048】試験例2 Zr−シュウ酸錯体を含む溶液からZr−シュウ酸錯体
又はNannの吸着性について調べた。
【0049】まず、試験例1と同様にしてZr−シュウ
酸錯体(沈殿性錯体)を調製し、強塩基性陰イオン交換
樹脂(前記SA10A)による沈殿性錯体の吸着とNa
nn(nは4、6又は8)の吸着とをバッチ法により検
討した。その結果を図2(沈殿性錯体の場合)及び図3
(Nannの場合)にそれぞれ示す。
【0050】なお、図2の場合では、[Zr]=5.5
0×10-4M、[H224]=4.0×10-3M、S
A10A=1.01g、容量50mlとした。図3の場
合では、[Nann]=3.3×10-4M、SA10A
=0.50g、容量75mlとした。図3中、○はNa
44、△はNa66、□はNa88をそれぞれ示す。
【0051】図2における試験では、シュウ酸がZrの
7モル倍共存しており、Zrはすべてアニオン性シュウ
酸錯体[ZrO(C242-2として存在していると
考えられる。図2より、上記錯体は陰イオン交換樹脂に
吸着され、その吸着割合は24時間後には約90%に達
した。
【0052】一方、図3によれば、Nannの吸着は、
最も吸着されやすいNa44においても、48時間後で
40%程度であった。吸着率はnの増大による分子サイ
ズの増大に伴い小さくなり、Na66の場合は4%であ
り、Na88の場合はわずか0.4%であった。陰イオ
ン交換樹脂のNannに対するこのような非吸着性はゲ
ル型のものに強く、ポーラス型の陰イオン交換樹脂は同
一の化学構造であってもかなり高い吸着性を有している
場合がある。ポーラス型の陰イオン交換樹脂における同
様の試験では、Na44では100%、Na66では3
7%、Na88では12%がそれぞれ吸着された。
【0053】このことから、Zr−シュウ酸錯体の分子
サイズ(5.6Å)がこの試験に用いたゲル型陰イオン
交換樹脂(実施例1と同じ)の分子網目空孔のサイズ
(5.8Å×18.5Å)より小さく、樹脂内部に容易
に入り込めるため、Zrはシュウ酸のアニオン性錯体と
して吸着されることを示していると考えられる。他方、
水溶性カレックスアレーンは最小のNa44でも芳香環
の外縁サイズが13Åであり、陰イオン交換樹脂の網目
空孔へ容易に侵入できないために吸着されにくいと考え
られる。Na66(18.4Å)とNa88(22.7
Å)は、Na44よりもさらに大きいため、網目空孔へ
の侵入は一層困難となり、これらは樹脂表面のみでわず
かに吸着されるものと考えられる。
【0054】以上のような結果から、ZrのNann
の沈殿物をシュウ酸に溶解させ、生成したジルコニウム
−シュウ酸錯体のみを陰イオン交換樹脂に吸着させ、他
方ではNannはそのまま溶出させることにより、Zr
とNannの相互分離が可能になったものと考えられ
る。
【0055】参考例1 Nannと、Zr又はHfとの沈殿物における溶解度の
違いについて調べた。
【0056】(1)試薬 Nannはスガイ化学工業(株)製のものを用いた。こ
れらの所定量(Na44:6.06g、Na66:7.
60g、Na88:11.1g)を250mlの水に溶
解させ、0.02Mの水溶液をそれぞれ調製した。Zr
としては、二塩化酸化ジルコニウム8水塩(半井化学薬
品)を用い、その1.63gを0.1M塩酸500ml
に溶解させ、0.01M溶液を調製した。
【0057】Hfとしては、塩化ハフニウム(半井化学
薬品)を用い、その1.00gを0.1M塩酸300m
lに溶解させ、0.01M溶液を調製した。ここで、こ
れらのZr水溶液及びHf水溶液の正確な金属イオン濃
度はEDTA滴定法により求めた。
【0058】共存陰イオンの影響の検討に用いた各種陰
イオンはそれらのナトリウム塩を所定量の水に溶解し、
調製した。金属イオンは、試験例と同様に、Mnは硫酸
塩を用いたほかは、共存金属イオンとしてはこれらの塩
化物塩を用いた。Ti及びFeの場合は、塩化物塩を1
M塩酸に溶解して用いた。
【0059】(2)沈殿性錯体の調製 1.2mmolのNann(Na44:1.00g、N
66:1.50g、Na88:2.00g)を50m
l三角フラスコに計り採り、7mlの水にそれぞれ溶解
させた。これらに対し、3mlの水に溶解させるために
1.2mmolのZr塩あるいはHf塩をかき混ぜなが
ら徐々に添加したところ、直ちに微粉末状の白色沈殿が
生成した。20分間かき混ぜた後に保持粒径1μmのメ
ンブランフィルターで吸引濾過し、残査を100mlの
水で洗浄し、真空デシケーター中で五酸化二リン上にて
室温下4日間乾燥した。得られた乾燥沈殿物の組成は、
それぞれ以下の通りであった。
【0060】 ・(ZrO)3(l4-2)・7H2O ・(HfO)3(l4-2)・16H2O ・(ZrO)4(l6-2)・20H2O ・(HfO)4(l6-2)・22H2O ・(ZrO)7(l8-6)・16H2O ・(HfO)7(l8-6)・5H2O (3)溶解度の測定 上記で得られた各沈殿物0.2gを50ml三角フラス
コに計り採り、15mlの水を添加し、20℃の恒温槽
中で3日間振盪した。その後、上澄液中の金属イオンと
硫黄濃度をICP−AESにより測定し、その結果から
沈殿性錯体の溶解度積を求めた。その結果を表4に示
す。
【0061】
【表4】
【0062】表4の結果より、3種のNannのいずれ
についても、Hf錯体の溶解度積(Ksp)が対応する
Zr錯体の溶解度積よりも小さく、Hf錯体がより難溶
性であることがわかる。また、nの違いによる溶解度の
差異はほとんどないことがわかる。
【0063】参考例2 ZrとHfにおける沈殿生成に対する共存イオンの効果
について調べた。
【0064】50ml三角フラスコに0.0106Mの
Zr水溶液5ml又は0.0111MのHf水溶液5m
lをそれぞれとり、これらに種々の濃度の希塩酸あるい
は種々の濃度になるように各種陰イオンを含む水溶液1
0mlを加えた。次いで、攪拌しながら0.02MのN
nn水溶液5mlを添加した。80分後に生成した沈
殿を参考例1と同様にして濾過し、ろ液の金属イオン濃
度を参考例1と同様にして測定した。
【0065】(1)沈殿生成に及ぼす水素イオン濃度の
影響 Zr及びHfの沈殿率と反応溶液の水素イオン濃度の関
係を図4に示す。
【0066】図4では、上段にNa44、中段にNa6
6、下段にNa88の場合を示す。また、[Na
nn]=5.0×10-3M、[Zr]=2.65×10
-3M、[Hf]=2.77×10-3Mとした。図4中、
○はZr、△はHfを示す。
【0067】ここでは、水素イオン濃度の効果が容易に
観察できるように金属イオンの沈殿率が低くなるような
条件設定をしている。[H+]=0.02〜1.1Mで
は、いずれも80%以上の沈殿率を示しており、沈殿率
の水素イオン濃度依存性は検討した弱酸性領域では小さ
い。また、ZrとHfの沈殿性に大きな差異は認められ
ない。詳細に検討すると、Na44による沈殿率は[H
+]=0.02Mで最大となり、Na66による沈殿率
は[H+]=0.3〜0.5Mで最大となり、Na88
による沈殿率は[H+]=0.1〜0.5Mで最大とな
るなど水素イオン濃度の変化に伴う沈殿率の変化は小さ
く、ZrとHfの沈殿生成は0.02Mから0.5Mの
水素イオン濃度範囲で高収率で達成されることがわか
る。
【0068】このような低濃度の金属イオンがスルホン
酸化合物として高収率で沈殿する例はほかになく、この
Nannによる沈殿反応は本発明の特徴の一つであると
言える。この特徴は、特にスルホン酸基群が環状に配列
した効果によるものと推測される。
【0069】(2)沈殿物生成に与える共存陰イオンの
影響 一方、沈殿生成に及ぼす共存陰イオンの影響についてみ
ると、これらの沈殿はNannのスルホン酸基がZrあ
るいはHfに配位して生成した金属錯化合物であること
は前記の通りである。従って、周知のようにスルホン酸
基の金属イオンに対する他種陰イオンの種類と濃度に大
きく影響されると考えられる。
【0070】そこで、NannとZr及びHfとの沈殿
反応に対する塩化物イオン(Cl-)、硝酸イオン(N
3 -)及び硫酸水素イオン(HSO4 -)の影響を検討し
た。その結果を図5〜図7に示す。なお、各図の横軸は
金属イオンに対する共存陰イオンのモル比をそれぞれ示
す。また、各図では、上段にNa44、中段にNa
66、下段にNa88の場合を示す。
【0071】図5では、[Nann]=2.5×10-3
M、[Zr]=2.65×10-3M、[Hf]=2.7
7×10-3M、[H+]=0.25Mとした。図5中、
○はZr、△はHfを示す。
【0072】図6では、[Nann]=2.5×10-3
M、[Zr]=2.65×10-3M、[Hf]=2.7
7×10-3M、[H+]=0.25Mとした。図6中、
○はZr、△はHfを示す。
【0073】図7では、[Nann]=2.5×10-3
M、[Zr]=2.65×10-3M、[Hf]=2.7
7×10-3M、[H+]=0.5Mとした。図7中、○
はZr、△はHfを示す。
【0074】図5〜7からわかるように、塩化物イオン
の沈殿生成に及ぼす影響は小さく、200モル倍共存し
てもNa44による沈殿率が約15%、Na66による
沈殿率が7%、Na88による沈殿率が2%低下するに
すぎない。硝酸イオンの影響はさらに小さく、200モ
ル倍共存してもNa44による沈殿率及びNa66によ
る沈殿率がわずかに低下するだけであり、Na88によ
る沈殿率においては全く変化しない。従って、Nann
の金属イオンに対する配位結合力はこれらの陰イオンよ
りもはるかに強いことがわかる。
【0075】これに対し、硫酸水素イオンでは沈殿生成
を強く妨害した。Zrの沈殿率は特に大きく低下し、N
44では7モル倍、Na66では4モル倍、Na88
では30モル倍の共存で0になった。他方、Hfの沈殿
率の低下は小さく、Zrの沈殿率が0になる条件下でも
なお70〜80%が沈殿した。
【0076】ZrとHfのこのような沈殿挙動は、これ
らの両金属イオンがNann及び種々の陰イオンと錯形
成する能力により説明される。すなわち、塩化物イオン
又は硝酸イオンのZr及びHfに対する錯形成能力は非
常に小さく、それらの安定度定数はきわめて小さい。そ
の結果、塩化物イオン又は硝酸イオンは、Nannによ
るZr及びHfの沈殿生成反応をほとんど妨害しないも
のと考えられる。一方、硫酸水素イオンとこれら金属イ
オンの錯体の安定度定数は、前二者の対応する錯体の値
と比較して2000倍程度大きく、硫酸水素イオンはN
nnのスルホン酸基と競争的にZr又はHfと錯形成
すると考えられる。また、これらの両金属イオン間で比
較すると硫酸水素イオン錯体の安定度定数はZrの方が
1:1で4倍、1:2錯体で10倍程度もHfより大き
い。その結果、硫酸水素イオンは、Zrの沈殿生成反応
をより強く妨害するものと考えられる。このことは、い
わゆる沈殿形成剤としてNannを用いる本発明の精製
方法により、硫酸水素イオンの存在下にZrからHfを
分離できる可能性を示すものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1において、1M塩酸の通液によりカラ
ムから回収されたZr及び他成分の溶出曲線である。
【図2】試験例2において、陰イオン交換樹脂によるジ
ルコニウム−シュウ酸錯体の吸着状態を示す図である。
【図3】試験例2において、陰イオン交換樹脂によるN
nnの吸着状態を示す図である。
【図4】参考例2において、Zr及びHfの沈殿率と反
応溶液の水素イオン濃度との関係を示す図である。
【図5】参考例2において、NannとZr又はHfと
の沈殿反応における塩化物イオンの影響を示す図であ
る。
【図6】参考例2において、NannとZr又はHfと
の沈殿反応における硝酸イオンの影響を示す図である。
【図7】参考例2において、NannとZr又はHfと
の沈殿反応における硫酸水素イオンの影響を示す図であ
る。
フロントページの続き (72)発明者 中島 靖 大阪府大阪市住之江区新北島5丁目3番3 号

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ジルコニウムの精製方法であって、(1)
    ジルコニウム原料からジルコニウムイオンを含む混合溶
    液を調製する第一工程、(2)混合溶液にヒドロキシカ
    リックス[n]アレーン−p−スルホン酸塩(nは2以
    上の偶数)を添加することにより沈殿物を生成させる第
    二工程及び(3)沈殿物に有機酸を添加し、生成したジ
    ルコニウム−有機酸錯体を回収する第三工程を有するこ
    とを特徴とする精製方法。
  2. 【請求項2】ヒドロキシカリックス[n]アレーン−p
    −スルホン酸塩が、ナトリウム塩(nは4、6又は8)
    である請求項1記載の精製方法。
  3. 【請求項3】有機酸が、ジカルボン酸及びヒドロキシカ
    ルボン酸の少なくとも1種である請求項1記載の精製方
    法。
  4. 【請求項4】第三工程が、沈殿物に有機酸を添加し、得
    られた溶液を陰イオン交換樹脂に通液することによって
    ジルコニウム−有機酸錯体を回収する請求項1記載の精
    製方法。
  5. 【請求項5】回収したジルコニウム−有機酸錯体を加熱
    処理する第四工程をさらに有する請求項1ないし4のい
    ずれかに記載の精製方法。
  6. 【請求項6】回収したジルコニウム−有機酸錯体を過酸
    化水素水で処理する第四工程をさらに有する請求項1な
    いし4のいずれかに記載の精製方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004508462A (ja) * 2000-09-11 2004-03-18 コンパニー ウーロペアンヌ デュ ジルコニアンセズ ジルコニウムやハフニウムのような金属の分離方法
JP2005325082A (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Nippon Rensui Co Ltd 高純度シュウ酸水溶液の回収方法
JP2016538389A (ja) * 2013-11-14 2016-12-08 ノースカロライナ セントラル ユニバーシティーNorth Carolina Central University 電気応答技術

Cited By (4)

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JP2004508462A (ja) * 2000-09-11 2004-03-18 コンパニー ウーロペアンヌ デュ ジルコニアンセズ ジルコニウムやハフニウムのような金属の分離方法
JP2005325082A (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Nippon Rensui Co Ltd 高純度シュウ酸水溶液の回収方法
JP4534591B2 (ja) * 2004-05-17 2010-09-01 日本錬水株式会社 高純度シュウ酸水溶液の回収方法
JP2016538389A (ja) * 2013-11-14 2016-12-08 ノースカロライナ セントラル ユニバーシティーNorth Carolina Central University 電気応答技術

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