JPH1184104A - Conductive antireflection film and cathode ray tube - Google Patents

Conductive antireflection film and cathode ray tube

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JPH1184104A
JPH1184104A JP10193484A JP19348498A JPH1184104A JP H1184104 A JPH1184104 A JP H1184104A JP 10193484 A JP10193484 A JP 10193484A JP 19348498 A JP19348498 A JP 19348498A JP H1184104 A JPH1184104 A JP H1184104A
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conductive
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cathode ray
ray tube
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尚 千草
Michiyo Abe
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Shuzo Matsuda
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve productivity and durability and to nearly completely prevent the generation of AEF and the reflection of light by including layers contg. conductive particulates and layers which are disposed to cover these layer and contain SiO2 and the conductive particulates. SOLUTION: A color cathode ray tube has a panel 1 and an enclosure consisting of a funnel 7 integrally joined to this panel 1. A fluorescent surface 9 consisting of tricolor phosphor layers which emit light to blue, green and red and black light absorption layers filling the spacing parts of these tricolor phosphor layers is formed on the inside surface of the face panel 8 built into the panel 1. The conductive antireflection films 2 which comprise a first layer (conductive layer) 14 contg. the particulates 13 of ITO and the second layers 15 dispersed with the particulates 13 of ITO in the matrix of the SiO2 and are so disposed as to cover the first layer 14 by the second layer 15 are formed on the surface of the face panel 8. As a result, the refractive index of the second layer 15 is made smaller than the refractive index of the first layer 14 and the surface resistance value of the second layer 15 is made lower.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、導電性微粒子を含
有した第1の層と、第1の層を覆うように設けられ、S
iO2 および導電性微粒子を含有した第2の層とを具備
した導電性反射防止膜および該導電性反射防止膜を有す
る陰極線管反射防止膜として機能し、AEF(Alternat
ing electric field)の発生を防止する導電性反射防止
膜およびフェースプレートの前面(フェースパネル)の
外表面において光の反射が低減され、AEFの発生を防
止する陰極線管に関する。
[0001] The present invention relates to a first layer containing conductive fine particles, and a first layer provided to cover the first layer.
a conductive anti-reflection film including iO 2 and a second layer containing conductive fine particles, and a cathode ray tube anti-reflection film having the conductive anti-reflection film;
The present invention relates to a conductive anti-reflection film for preventing occurrence of an electric field and a cathode ray tube which reduces the reflection of light on the outer surface of a front surface (face panel) of a face plate to thereby prevent the occurrence of AEF.

【0002】[0002]

【従来の技術】TVのブラウン管やコンピューターのC
RT等に用いられる陰極線管では、内部の電子銃や偏向
ヨークの近傍から電磁波が発生している。
2. Description of the Related Art TV cathode ray tubes and computer C
In a cathode ray tube used for an RT or the like, an electromagnetic wave is generated from the vicinity of an internal electron gun and a deflection yoke.

【0003】近年、このような電磁波が陰極線管の外部
に漏洩して、周辺に配置された電子機器等に悪影響を与
える可能性が指摘されている。
In recent years, it has been pointed out that such electromagnetic waves may leak to the outside of the cathode ray tube and adversely affect electronic devices and the like arranged in the vicinity.

【0004】そのため、陰極線管から該電磁波(電場)
の漏洩を防止する方法として、陰極線管のフェースパネ
ルの表面抵抗値を低くする方法が提案されている。
Therefore, the electromagnetic wave (electric field) is transmitted from the cathode ray tube.
As a method of preventing the leakage of the cathode ray tube, a method of lowering the surface resistance value of the face panel of the cathode ray tube has been proposed.

【0005】例えば、特開昭 61-118932号公報、特開昭
61-118946号公報、特開昭 63-160140号公報には、フェ
ースパネルの帯電防止を行なうために、フェースパネル
に対する種々の表面処理方法が開示されているが、これ
らの方法を応用して漏洩電場(AEF)の発生を防止す
ることが考えられている。フェースパネルに表面抵抗値
の低い導電層を形成する方法としては、PVD法、CV
D法、スパッタリング法等の気相方法が考えられる。例
えば、特開平1-242769号公報には、スパッタリング法に
よる透明な低抵抗導電層の形成方法が開示されている。
For example, JP-A-61-118932,
JP-A-61-118946 and JP-A-63-160140 disclose various surface treatment methods for a face panel in order to prevent electrification of the face panel. It has been considered to prevent the generation of an electric field (AEF). As a method for forming a conductive layer having a low surface resistance value on a face panel, there are a PVD method and a CV method.
Vapor phase methods such as D method and sputtering method are conceivable. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-242769 discloses a method for forming a transparent low-resistance conductive layer by a sputtering method.

【0006】一般に、導電層は屈折率が高いために、導
電層のみで十分な反射防止の効果を得ることは困難であ
る。したがって、通常、導電性反射防止膜は、導電性と
反射の防止とを両立させ、かつ導電層を保護するため
に、例えば、SiO2 を含有する屈折率の低い反射防止
層で導電層が覆われている。しかしながら、SiO2
含有する屈折率の低い反射防止層は表面抵抗値が高く、
このように導電層を反射防止層で覆ってしまうと、反射
防止層に導通をとることが難しくなる。
In general, since the conductive layer has a high refractive index, it is difficult to obtain a sufficient antireflection effect only by the conductive layer. Therefore, the conductive antireflection film usually has a conductive layer covered with, for example, a low-refractive-index antireflection layer containing SiO 2 in order to achieve both conductivity and prevention of reflection and to protect the conductive layer. Have been done. However, an antireflection layer having a low refractive index containing SiO 2 has a high surface resistance value,
When the conductive layer is covered with the anti-reflection layer in this way, it is difficult to conduct the anti-reflection layer.

【0007】陰極線管の反射防止層に導通をとるための
構造としては次のような方法が提案されている。
The following method has been proposed as a structure for providing conduction to the antireflection layer of a cathode ray tube.

【0008】(1) 図2に示したように、フェースパネル
8上に設けられた導電性反射防止膜2を構成する導電層
3に導通させるために、反射防止層4を貫通して導電層
3に至る導通部5を設けて特殊なハンダ6を取り付け
る。
(1) As shown in FIG. 2, in order to make the conductive layer 3 constituting the conductive anti-reflection film 2 provided on the face panel 8 conductive, the conductive layer penetrates through the anti-reflection layer 4. A special solder 6 is attached by providing a conductive portion 5 leading to 3.

【0009】(2) 図3に示したように、導電層3に導通
部5となる領域を設け、導通部5には反射防止層4を形
成しない。
(2) As shown in FIG. 3, a region serving as a conductive portion 5 is provided in the conductive layer 3, and the antireflection layer 4 is not formed in the conductive portion 5.

【0010】(3) 図4に示したように、導電層3を覆う
反射防止層4を多孔質の層となるように形成し、導電層
3を一部露出させてそこを導通部とする。
(3) As shown in FIG. 4, an anti-reflection layer 4 covering the conductive layer 3 is formed to be a porous layer, and the conductive layer 3 is partially exposed to serve as a conductive portion. .

【0011】しかしながら、導電性反射防止膜に導通を
とるために反射防止層を貫通するよう導通部を設けた
り、該導通部に対しハンダを取り付けたりすると、導電
性反射防止膜の構造が複雑となるうえに、製造の際に工
程数が増加するため導電性反射防止膜の生産性が低くな
るという問題があった。
However, if a conductive portion is provided so as to penetrate the anti-reflection layer or solder is attached to the conductive portion in order to conduct the conductive anti-reflection film, the structure of the conductive anti-reflection film becomes complicated. In addition, there is a problem that the productivity of the conductive anti-reflection film is reduced due to an increase in the number of steps in manufacturing.

【0012】また、導電層を覆う反射防止層を多孔質の
層となるように形成すると、反射防止層の強度が低下
し、導電性反射防止膜の耐久性が著しく低下するという
問題があった。
Further, when the antireflection layer covering the conductive layer is formed as a porous layer, there is a problem that the strength of the antireflection layer is reduced and the durability of the conductive antireflection film is significantly reduced. .

【0013】ところで、フェースパネル等の基材上に導
電層を形成する方法としては、従来から、塗布法または
ウェット法により、基材上に導電性の酸化物微粒子また
は金属微粒子を分散させた塗布液を塗布して塗膜を形成
し、この塗膜を乾燥硬化あるいは焼成して導電層とする
方法が知られている。
By the way, as a method of forming a conductive layer on a base material such as a face panel, conventionally, a coating method in which conductive oxide fine particles or metal fine particles are dispersed on a base material by a coating method or a wet method. There is known a method in which a liquid is applied to form a coating film, and the coating film is dried, cured or fired to form a conductive layer.

【0014】この方法では、基材に最も近い層の屈折率
を高くし、該層の上に積層された層の屈折率を、基材に
最も近い層の屈折率より低くするように屈折率を変化さ
せて複数の層が形成される。すなわち、この方法におい
ては、基材から最も遠い層の屈折率を最も低くされる。
In this method, the refractive index of the layer closest to the substrate is increased, and the refractive index of the layer laminated on the layer is set lower than the refractive index of the layer closest to the substrate. Are changed to form a plurality of layers. That is, in this method, the layer farthest from the substrate has the lowest refractive index.

【0015】しかしながら、通常、導電率の高い層は低
い層に比べて屈折率が高いため、基材より最も遠い層に
導電層を形成すると、導電性反射防止膜の光の反射を防
止する機能が低下したり失われてしまうという問題があ
る。
However, since a layer having a higher conductivity usually has a higher refractive index than a layer having a lower conductivity, when a conductive layer is formed on a layer farthest from the substrate, the function of the conductive anti-reflection film to prevent light from being reflected. Is reduced or lost.

【0016】そこで、導電層の上に、例えば、SiO2
を含有した屈折率の低い反射防止層を設けて光の反射を
防止しているが、この場合、反射防止層はコンデンサと
して作用するために、導電性反射防止膜の表面を十分な
低い抵抗値とすることができず、このままでは導電性反
射防止膜の表面に導通部を形成することができない。
Therefore, for example, SiO 2 is formed on the conductive layer.
Is provided with an antireflection layer having a low refractive index to prevent light reflection.In this case, since the antireflection layer acts as a capacitor, the surface of the conductive antireflection film has a sufficiently low resistance value. In this case, a conductive portion cannot be formed on the surface of the conductive antireflection film.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電性
反射防止膜に導通をとるために反射防止層を貫通するよ
う導通部を設けたり、該導通部に対しハンダを取り付け
たりすると、導電性反射防止膜の構造が複雑となるうえ
に、製造の際に工程数が増加するため導電性反射防止膜
の生産性が低くなるという問題があった。
However, when a conductive portion is provided so as to penetrate the anti-reflection layer or a solder is attached to the conductive portion in order to conduct the conductive anti-reflection film, the conductive anti-reflection film is not provided. There is a problem that the structure of the film becomes complicated, and the number of steps increases during manufacturing, so that the productivity of the conductive antireflection film decreases.

【0018】また、導電層を覆う反射防止層を多孔質の
層となるように形成すると、反射防止層の強度が低下
し、導電性反射防止膜の耐久性が著しく低下するという
問題があった。
Further, when the antireflection layer covering the conductive layer is formed as a porous layer, there is a problem that the strength of the antireflection layer is reduced and the durability of the conductive antireflection film is significantly reduced. .

【0019】さらに、フェースパネル等の基材上に導電
層を形成するのに、基材上に導電性の酸化物微粒子また
は金属微粒子を分散させた塗布液を塗布して塗膜を形成
し、この塗膜を乾燥硬化あるいは焼成して導電層とする
方法では、基材から最も遠い層の屈折率が最も低くされ
るが、通常、導電率の高い層は低い層に比べて屈折率が
高いため、基材より最も遠い層に導電層を形成すると、
導電性反射防止膜の光の反射を防止する機能が低下した
り失われてしまうという問題がある。
Further, in order to form a conductive layer on a base material such as a face panel, a coating solution in which conductive oxide fine particles or metal fine particles are dispersed is applied on the base material to form a coating film. In the method of drying and curing or baking this coating film to form a conductive layer, the layer farthest from the substrate has the lowest refractive index, but usually, a layer having a higher conductivity has a higher refractive index than a layer having a lower conductivity. When a conductive layer is formed on the layer farthest from the substrate,
There is a problem that the function of the conductive anti-reflection film for preventing light reflection is reduced or lost.

【0020】また、さらに導電層の上に、SiO2 を含
有した屈折率の低い反射防止層を設けて光の反射を防止
した場合には、反射防止層がコンデンサとして作用する
ため、導電性反射防止膜の表面を十分な低い抵抗値とす
ることができず、このままでは導電性反射防止膜の表面
に導通部を形成することができないという問題がある。
本発明は、上記問題を解決するためになされたもの
で、AEFの発生と光の反射とをほとんど完全に防止す
るとともに、表面から容易に導通をとることができ、生
産性および耐久性に優れた導電性反射防止膜を提供する
ことを目的とする。
Further, when an anti-reflection layer containing SiO 2 having a low refractive index is provided on the conductive layer to prevent light reflection, the anti-reflection layer acts as a capacitor. There is a problem that the surface of the anti-reflection film cannot have a sufficiently low resistance value, and a conductive portion cannot be formed on the surface of the conductive anti-reflection film as it is.
The present invention has been made in order to solve the above problems, and almost completely prevents the generation of AEF and the reflection of light, can easily conduct electricity from the surface, and is excellent in productivity and durability. It is an object of the present invention to provide a conductive anti-reflection film.

【0021】また、この発明の他の目的は、上記導電性
反射防止膜を備えた、品質の高い画像を長期にわたり表
示することのできる陰極線管を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a cathode ray tube having the conductive anti-reflection film and capable of displaying a high quality image for a long period of time.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】本発明は、導電性反射防
止膜の表面(基材から最も遠い部分)となる層にSiO
2 とともに導電性微粒子を存在させることにより、導電
性反射防止膜の表面を導電性にして表面に容易に導通部
を形成することを可能としたものである。
According to the present invention, a layer to be a surface (part farthest from a substrate) of a conductive antireflection film is formed of SiO.
The presence of the conductive fine particles together with 2 makes the surface of the conductive anti-reflection film conductive so that a conductive portion can be easily formed on the surface.

【0023】すなわち、本発明に係る導電性反射防止膜
は、導電性微粒子を含有した第1の層と、前記第1の層
を覆うように設けられ、SiO2 および導電性微粒子を
含有した第2の層とを具備したことを特徴としている。
That is, the conductive anti-reflection film according to the present invention is provided so as to cover a first layer containing conductive fine particles and a first layer containing SiO 2 and conductive fine particles. And two layers.

【0024】本発明に係る導電性反射防止膜によれば、
導電性微粒子を含有した第1の層を、SiO2 および導
電性微粒子を含有した第2の層で覆うことにより、第2
の層の屈折率を第1の層の屈折率より小さくするととも
に、第2の層の表面抵抗値を低くすることができる。し
たがって、第2の層により光の反射を防止し、かつ第2
の層から直接導通をとることが可能である。
According to the conductive antireflection film of the present invention,
By covering the first layer containing the conductive fine particles with the second layer containing SiO 2 and the conductive fine particles,
Can be made smaller than the refractive index of the first layer, and the surface resistance of the second layer can be made lower. Therefore, reflection of light is prevented by the second layer, and the second layer
It is possible to conduct electricity directly from this layer.

【0025】本発明に係る陰極線管は、蛍光物質を備え
た第1の面を有するフェースプレートと、前記フェース
プレートの第1の面と対向する第2の面上に設けられ、
導電性微粒子を含有する第1の層と、前記第1の層を覆
うように設けられ、SiO2および導電性微粒子を含有
した第2の層とを具備したことを特徴としている。
A cathode ray tube according to the present invention is provided on a face plate having a first face provided with a fluorescent substance, and on a second face opposite to the first face of the face plate,
It is characterized by comprising a first layer containing conductive fine particles, and a second layer provided to cover the first layer and containing SiO 2 and conductive fine particles.

【0026】本発明に係る陰極線管によれば、蛍光物質
を備えた第1の面を有するフェースプレートに対し、該
第1の面と対向する第2の面上に導電性微粒子を含有し
た第1の層を設け、該第1の層をSiO2 および導電性
微粒子を含有した第2の層で覆うことにより、第2の層
の屈折率を第1の層の屈折率より小さくし、かつ第2の
層の表面抵抗値を低くすることができる。したがって、
第2の層により光の反射を防止し、かつ第2の層に必要
な導電率で電気的にコンタクトすることが可能となる。
According to the cathode ray tube according to the present invention, the face plate having the first surface provided with the fluorescent substance has the second surface opposite to the first surface and containing the conductive fine particles on the second surface. Providing a first layer, and covering the first layer with a second layer containing SiO 2 and conductive fine particles, so that the refractive index of the second layer is smaller than the refractive index of the first layer; and The surface resistance of the second layer can be reduced. Therefore,
The second layer prevents reflection of light and makes it possible to make electrical contact with the second layer at a required conductivity.

【0027】本発明における第1の層に含有される導電
性微粒子と第2の層に含有される導電性微粒子とは、同
一のものであっても異なるものであってもよい。
In the present invention, the conductive fine particles contained in the first layer and the conductive fine particles contained in the second layer may be the same or different.

【0028】本発明に使用される導電性微粒子として
は、金、銀、銀化合物、銅、銅化合物、錫化合物および
チタン化合物からなる群より選択された少なくとも1つ
の物質の超微粒子が例示される。上記銀化合物として
は、例えば、酸化銀、硝酸銀、酢酸銀、安息香酸銀、臭
素酸銀、臭化銀、炭酸銀、塩化銀、クロム酸銀、クエン
酸銀、シクロヘキサン酪酸銀を挙げることができる。第
1および第2の層でより安定な状態で存在することがで
きるという観点から、例えば、 Ag-Pd、 Ag-Ptおよび A
g-Auに代表される銀の合金が適している。上記銅化合物
としては、例えば、硫酸銅、硝酸銅、フタロシアニン銅
等を挙げることができる。錫化合物としては、例えば、
Sbx Sn1-x O2 、Inx Sn1-x O2 で表されるATOやI
TOをあげることができる。また、チタン化合物として
はTiN 等を挙げることができる。
Examples of the conductive fine particles used in the present invention include ultrafine particles of at least one substance selected from the group consisting of gold, silver, silver compounds, copper, copper compounds, tin compounds and titanium compounds. . Examples of the silver compound include silver oxide, silver nitrate, silver acetate, silver benzoate, silver bromate, silver bromide, silver carbonate, silver chloride, silver chromate, silver citrate, and silver cyclohexanebutyrate. . In terms of being able to exist in a more stable state in the first and second layers, for example, Ag-Pd, Ag-Pt and A
A silver alloy represented by g-Au is suitable. Examples of the copper compound include copper sulfate, copper nitrate, copper phthalocyanine, and the like. As a tin compound, for example,
ATO and I represented by Sb x Sn 1-x O 2 and In x Sn 1-x O 2
TO can be given. Further, as the titanium compound, TiN and the like can be mentioned.

【0029】導電性微粒子は、例えば、これらの物質か
らなる微粒子の中から1種または2種以上を選択して使
用される。
As the conductive fine particles, for example, one or more kinds are selected from fine particles made of these substances and used.

【0030】導電性微粒子の大きさは、導電性の向上と
いう点を考慮すれば大きいほどよいが、導電性反射防止
膜の光学的特性を考慮すると、粒径(粒子を同一の体積
を示す球に換算した値)が 400nm以下、より好ましくは
50〜 200nmであることが望ましい。導電性微粒子の粒径
が 400nmを越えると、導電性反射防止膜の光の透過率が
著しく低下するようになる上に微粒子による光の散乱が
生じて導電性反射防止膜が曇るようになる。粒径が 400
nmを越える導電性微粒子を用いて作成した導電性反射防
止膜を陰極線管に適用した場合には、陰極線管の解像度
が低下する可能性がある。
The size of the conductive fine particles is preferably as large as possible in view of the improvement in conductivity. However, in consideration of the optical characteristics of the conductive anti-reflection film, the particle size (particles having a sphere having the same volume) can be used. Is 400 nm or less, more preferably
Desirably, it is 50 to 200 nm. If the particle size of the conductive fine particles exceeds 400 nm, the light transmittance of the conductive anti-reflection film will be remarkably reduced, and light will be scattered by the fine particles, and the conductive anti-reflection film will become cloudy. Particle size 400
When a conductive antireflection film formed using conductive fine particles having a size exceeding nm is applied to a cathode ray tube, the resolution of the cathode ray tube may be reduced.

【0031】また、第2の層に含有させる導電性微粒子
の好ましい配合量は、SiO2 に対して、すなわち導電
性微粒子(重量)/SiO2 (重量)×100とした値
が 5〜50重量%、より好ましくは10〜40重量%である。
第2の層に含有させる導電性微粒子の量が、SiO2
対して 5重量%を下回ると、第2の層の表面抵抗値が、
導電性反射防止膜の表面と導通をとるのに必要な低い抵
抗値とならない可能性がある。
The preferable amount of the conductive fine particles to be contained in the second layer is 5 to 50 weight% with respect to SiO 2 , that is, the value of conductive fine particles (weight) / SiO 2 (weight) × 100. %, More preferably 10 to 40% by weight.
When the amount of the conductive fine particles contained in the second layer is less than 5% by weight based on SiO 2 , the surface resistance of the second layer becomes
There is a possibility that the resistance value may not be as low as that required for establishing conduction with the surface of the conductive antireflection film.

【0032】また、第2の層に含有させる導電性微粒子
の量が、SiO2 に対して50重量%を越えると、導電性
反射防止膜の光の反射率が高くなり、光の反射を十分に
防止することが困難となる可能性がある。
When the amount of the conductive fine particles contained in the second layer exceeds 50% by weight with respect to SiO 2 , the light reflectance of the conductive anti-reflection film becomes high, and the light reflection becomes insufficient. May be difficult to prevent.

【0033】さらに、本発明において、第1の層に、導
電性反射防止膜の光学的特性を向上させるために、例え
ば、フタロシアニン銅等の色素の顔料超微粒子を存在さ
せることができる。このとき、色素の超微粒子の粒径
(粒子を同一の体積を示す球に換算した値)は、10〜 2
00nm程度の範囲とされる。また、第2の層に、該第2の
層の耐候性(耐水性や耐薬品性等)を向上させ、導電性
反射防止膜の信頼性を高めるために、例えば、Zr
2 、フッ化シランまたはシリケート類のような化合物
の1種あるいは複数種を、環境条件等に応じて存在させ
ることができる。なお、第2の層における該化合物の存
在量は、導電性反射防止膜の機能を損なわない範囲とな
るよう調整される。例えば、第2の層にZrO2 を存在
させる場合、該ZrO2 の含有量は、SiO2 の含有量
に対して、すなわちZrO2 (モル)/SiO2 (モ
ル)×100の値が 5〜40モル%、より好ましくは10〜
20モル%とする。第2の層におけるZrO2 の含有量が
SiO2 の 5モル%未満ではZrO2 による効果がほと
んど得られない。また、第2の層におけるZrO2 の含
有量がSiO2 の含有量に対して40モル%を越えると、
第2の層の強度が低下するようになる。さらに、上述し
たように、第2の層に、ZrO2 を、例えばフッ素シラ
ンとともに含有させることも可能である。この場合、導
電性反射防止膜は、表面に容易に必要な導電率でコンタ
クトさせることができるうえに、耐水性や耐酸性、耐ア
ルカリ性等をさらに向上させることができる。
Further, in the present invention, in order to improve the optical characteristics of the conductive antireflection film, pigment ultrafine particles of a dye such as copper phthalocyanine can be present in the first layer. At this time, the particle size of the ultrafine particles of the dye (the value obtained by converting the particles into spheres having the same volume) is 10 to 2
The range is about 00 nm. Further, in order to improve the weather resistance (water resistance, chemical resistance, etc.) of the second layer and increase the reliability of the conductive anti-reflection film, for example, Zr is added to the second layer.
One or more compounds such as O 2 , fluorinated silanes or silicates can be present depending on environmental conditions and the like. Note that the amount of the compound in the second layer is adjusted so as not to impair the function of the conductive antireflection film. For example, when ZrO 2 is present in the second layer, the content of ZrO 2 is 5 to the content of SiO 2 , that is, ZrO 2 (mol) / SiO 2 (mol) × 100. 40 mol%, more preferably 10 to
20 mol%. When the content of ZrO 2 in the second layer is less than 5 mol% of SiO 2 , the effect of ZrO 2 is hardly obtained. When the content of ZrO 2 in the second layer exceeds 40 mol% with respect to the content of SiO 2 ,
The strength of the second layer is reduced. Further, as described above, the second layer may contain ZrO 2 together with, for example, fluorine silane. In this case, the conductive antireflection film can easily contact the surface with the required conductivity, and can further improve water resistance, acid resistance, alkali resistance, and the like.

【0034】本発明において、第1の層を形成する方法
としては、例えば、非イオン系界面活性剤とともにAgや
Cu等の微粒子を分散した溶液をスピンコート法、スプレ
ー法あるいは浸漬法等により、陰極線管のフェースパネ
ルの外表面等の基材上に塗布する方法が例示される。こ
のとき、第1の層を形成する際のムラの発生をさらに抑
制し、均一な膜厚を備えた第1の層を得るために、基材
の表面の温度を 5〜60℃程度にしておくことが望まし
い。第1の層の膜厚は、溶液に含まれるAgやCu等の金属
の微粒子の濃度、スピンコート法における塗布時の回転
数、スプレー法における分散液の放出量あるいは浸漬法
における引き上げ速度等を調整することにより容易に制
御することができる。なお、溶液の溶媒としては、必要
に応じて水とともに、例えば、エタノールやIPA等を
含有させることができる。また、溶液中に有機金属化合
物、顔料および染料等をさらに含有させ、形成された第
1の層に他の機能を付加することもできる。
In the present invention, as a method of forming the first layer, for example, Ag or Ag may be used together with a nonionic surfactant.
Examples thereof include a method in which a solution in which fine particles such as Cu are dispersed is applied to a base material such as an outer surface of a face panel of a cathode ray tube by a spin coating method, a spraying method or a dipping method. At this time, in order to further suppress the occurrence of unevenness in forming the first layer and obtain a first layer having a uniform film thickness, the temperature of the surface of the base material is set to about 5 to 60 ° C. It is desirable to keep. The thickness of the first layer is determined by the concentration of fine particles of metal such as Ag or Cu contained in the solution, the number of revolutions at the time of coating in the spin coating method, the discharge amount of the dispersion in the spraying method, or the pulling speed in the dipping method. It can be easily controlled by adjusting. In addition, as a solvent of the solution, for example, ethanol, IPA, or the like can be contained together with water as necessary. In addition, an organic metal compound, a pigment, a dye, and the like may be further contained in the solution to add another function to the formed first layer.

【0035】また、第1の層上に第2の層を形成する方
法としては、例えば、非イオン系界面活性剤とともにAg
やCu等の微粒子およびシリケートを分散した溶液をスピ
ンコート法、スプレー法あるいは浸漬法等により第1の
層上に塗布する方法が例示される。第2の層の膜厚は、
例えば、溶液に含まれるAg、Cuおよびシリケート等の濃
度、スピンコート法における塗布時の回転数、スプレー
法における溶液の放出量あるいは浸漬法における引き上
げ速度等を調整することにより容易に制御することがで
きる。こうして形成された第1および第2の塗膜を、 1
50〜450 ℃で10〜180 分の間に渡って同時に焼成するこ
とで、本発明に係る導電性反射防止膜を得ることができ
る。なお、本発明においては、導電性反射防止膜におけ
る反射率をより効果的に低減するために、第1の層と第
2の層との間に、例えば、第1の層の反射率と第2の層
の反射率とのほぼ中間にあたる反射率を有する第3の層
を設けて、2層以上の構成とすることができる。このと
き、互いに隣り合う2つの層の間において、屈折率の差
が低くなるように設定することで、導電性反射防止膜の
反射率を効果的に低減することができる。本発明におい
て、第1および第2の層から導電性反射防止膜を構成す
る場合には、通常、第1の層については、層の厚さを 2
00nm以下、屈折率を 1.7〜 3程度となるように設定し、
第2の層については、層の厚さを第1の層の厚さの10倍
程度以下、屈折率を1.38〜1.70程度となるように設定す
るが、第1の層と第2の層との間に第3の層を設ける場
合には、第1〜第3の層における各々の層の厚さや屈折
率は、反射防止膜全体の光の透過率や屈折率等を考慮し
て適宜設定すればよい。
As a method of forming the second layer on the first layer, for example, Ag is added together with a nonionic surfactant.
Examples thereof include a method in which a solution in which fine particles such as Cu or Cu and a silicate are dispersed is applied on the first layer by a spin coating method, a spray method, a dipping method, or the like. The thickness of the second layer is
For example, it can be easily controlled by adjusting the concentration of Ag, Cu, silicate, and the like contained in the solution, the number of rotations at the time of application in the spin coating method, the amount of the solution released in the spray method, or the pulling speed in the immersion method. it can. The first and second coating films thus formed are
By sintering simultaneously at 50 to 450 ° C. for 10 to 180 minutes, the conductive antireflection film according to the present invention can be obtained. In the present invention, in order to more effectively reduce the reflectance of the conductive antireflection film, for example, the reflectance of the first layer and the reflectance of the first layer may be reduced between the first layer and the second layer. By providing a third layer having a reflectance approximately in the middle of the reflectance of the two layers, two or more layers can be formed. At this time, the reflectance of the conductive anti-reflection film can be effectively reduced by setting the difference in the refractive index between two adjacent layers to be low. In the present invention, when the conductive anti-reflection film is composed of the first and second layers, the thickness of the first layer is usually 2.
00nm or less, set the refractive index to be about 1.7-3,
For the second layer, the thickness of the layer is set to be about 10 times or less the thickness of the first layer, and the refractive index is set to be about 1.38 to 1.70. When the third layer is provided between the first and third layers, the thickness and refractive index of each of the first to third layers are appropriately set in consideration of the light transmittance and the refractive index of the entire antireflection film. do it.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】次に、具体的に実施例を挙げて本
発明をさらに詳しく説明するが、本発明は以下の実施例
に限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0037】まずITOの微粒子をエタノ一ルに分散さ
せ、 2重量%ITO分散液を調製した。
First, ITO fine particles were dispersed in ethanol to prepare a 2% by weight ITO dispersion.

【0038】また、 1重量%シリケート溶液(テトラメ
トキシシランのトリマー、テトラマーの混合溶液(3.5
量体))に対して、SiO2 固形分換算でSiO2 に対
して0重量%(比較例)、 5、10、20、40、50および 10
0重量%(実施例1〜実施例6)となるようITOの微
粒子をそれぞれ添加混合し第2〜第8の分散液を調製し
た(ここで重量%は、ITO(重量)/SiO2 (重
量)×100である。)。 次に、組立て終了後の陰極
線管のフェースパネル(17インチパネル)の外表面を酸
化セリウムによりパフ研磨し、ゴミ、ほこりおよび油分
等を除去した後、第1の分散液をスピンコート法により
塗布して第1の塗膜を成膜した。塗布条件は、パネル
(塗布面)温度が30℃、回転速度が溶液注入時80rpm-5s
ec、液振りきり(成膜)時 150rpm- 80secとした。次い
で、第1の塗膜の上に、第2〜第8の各1つの溶液を溶
液注入時80rpm-5sec、液振りきり時 150rpm- 80secの条
件でスピンコート法により塗布して第2の塗膜を成膜し
た後、第1および第2の塗膜を210℃の温度で30分間焼
成した。
A 1% by weight silicate solution (tetramethoxysilane trimer / tetramer mixed solution (3.5%
Against mer)), 0 wt% with respect to SiO 2 in SiO 2 in terms of solid content (Comparative Example), 5,10,20,40,50 and 10
Fine particles of ITO were added and mixed so as to be 0% by weight (Examples 1 to 6) to prepare second to eighth dispersions (where the weight% is ITO (weight) / SiO 2 (weight ) × 100). Next, the outer surface of the face panel (17-inch panel) of the cathode ray tube after the assembly is finished is puff-polished with cerium oxide to remove dirt, dust, oil and the like, and then the first dispersion is applied by spin coating. Thus, a first coating film was formed. The application conditions are as follows: panel (application surface) temperature is 30 ℃, rotation speed is 80rpm-5s at the time of solution injection
ec, 150 rpm-80 sec at the time of liquid sweeping (film formation). Next, on the first coating film, each of the second to eighth solutions is applied by a spin coating method under the conditions of 80 rpm-5 sec at the time of injecting the solution and 150 rpm-80 sec at the time of swirling the solution to form the second coating. After forming the film, the first and second coating films were baked at a temperature of 210 ° C. for 30 minutes.

【0039】図1に、こうして得られ、実施例1〜実施
例6に相当する陰極線管を示す。
FIG. 1 shows a cathode ray tube obtained in this way and corresponding to Examples 1 to 6.

【0040】図1(a)において、カラー陰極線管はパ
ネル1およびパネル1に一体に接合されたファンネル7
からなる外囲器を有し、このパネル1に組み込まれたフ
ェースパネル8の内面には、青、緑、赤に発光する三色
蛍光体層と、この三色蛍光体層の間隙部を埋める黒色の
光吸収層とからなる蛍光面9が形成されている。三色蛍
光体層は、各蛍光体をPVA、界面活性剤、純水等と共
に分散させたスラリーを用い、これを通常の方法に従っ
てフェースパネル8の内面に塗布することにより得られ
る。三色蛍光体層の形状は、ストライプ状でもドット状
でもよいが、ここではドット状とした。そして、蛍光面
9に対向してその内側に多数の電子ビーム通過孔の形成
されたシャドウマスク10が装着されている。また、フ
ァンネル7のネック11の内部には、蛍光面8に電子ビ
ームを照射するための電子銃12が配設されており、電
子銃12によって放出された電子ビームが蛍光面9に衝
突し、三色蛍光体層を励起、発光させるものである。そ
して、フェースパネル8の外表面には、導電性反射防止
膜2が形成されている。また、図1(b)に、図1
(a)で示した陰極線管をA−A´に沿って切断した断
面を示す。図1(b)に示したように、フェースパネル
8の表面上には、ITOの微粒子13を含有した第1の
層(導電層)14と、SiO2 のマトリックス中にIT
Oの微粒子13が分散した第2の層15とから構成され
た導電性反射防止膜2が形成されている。次いで、実施
例1〜6および比較例1でそれぞれ得られた導電性反射
防止膜について、表面抵抗値、抵抗安定性、膜強度およ
び視感正反射率をそれぞれ測定した。なお、表面抵抗値
は、 Loresta IP MCP-T250(油化電子社製)を使用して
測定して得られた値であり、抵抗安定性については、測
定中数値が変動しないものを○、測定中数値が変動する
ものを×とした。さらに、膜強度は SUS 304からなる探
針を1.5kg/cm2 の圧力で導電性反射防止膜と接触させた
後、該探針を1.5kg/cm2 の圧力で加圧したまま導電性反
射防止膜上を移動させ、探針により傷がつかないものを
○、傷がつくものを×とした。また、視感正反射率は、
CR-353G(ミノルタ社製)により得られた値である。表
1に、これらの測定結果を示す。
In FIG. 1 (a), a color cathode ray tube has a panel 1 and a funnel 7 integrally joined to the panel 1.
The face panel 8 incorporated in the panel 1 has a three-color phosphor layer that emits blue, green, and red light, and fills a gap between the three-color phosphor layers. A fluorescent screen 9 composed of a black light absorbing layer is formed. The three-color phosphor layer is obtained by using a slurry in which each phosphor is dispersed together with PVA, a surfactant, pure water, and the like, and applying the slurry to the inner surface of the face panel 8 according to an ordinary method. The shape of the three-color phosphor layer may be a stripe shape or a dot shape. Further, a shadow mask 10 having a large number of electron beam passage holes formed inside and facing the fluorescent screen 9 is mounted. An electron gun 12 for irradiating the phosphor screen 8 with an electron beam is disposed inside the neck 11 of the funnel 7, and the electron beam emitted by the electron gun 12 collides with the phosphor screen 9, The three-color phosphor layer is excited and emits light. The conductive antireflection film 2 is formed on the outer surface of the face panel 8. Further, FIG.
2 shows a cross section of the cathode ray tube shown in FIG. As shown in FIG. 1 (b), on the surface of the face panel 8, a first layer (conductive layer) 14 containing the ITO fine particles 13, IT in the SiO 2 matrix
The conductive anti-reflection film 2 is formed from the second layer 15 in which fine particles 13 of O are dispersed. Next, for the conductive anti-reflection films obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, respectively, the surface resistance, resistance stability, film strength, and luminous regular reflectance were measured. The surface resistance was measured using Loresta IP MCP-T250 (manufactured by Yuka Denshi Co., Ltd.). The one in which the middle numerical value fluctuated was evaluated as x. Further, the film strength after contact with the conductive anti-reflection film a probe consisting of SUS 304 with a pressure of 1.5 kg / cm 2, while the conductive reflecting該探needle was pressurized at a pressure of 1.5 kg / cm 2 The sample was moved on the prevention film, and the sample which was not damaged by the probe was evaluated as ○, and the sample which was damaged was evaluated as ×. The luminous regular reflectance is
It is a value obtained by CR-353G (manufactured by Minolta). Table 1 shows the results of these measurements.

【0041】[0041]

【表1】 表1から明らかなように、実施例1〜6で得られた導電
性反射防止膜では、いずれも導電性反射防止膜の表面か
ら導通をとるために有効な低い表面抵抗値を有するうえ
に、十分な抵抗安定性を有している。また、視感正反射
率においても、導電性反射防止膜として機能するため
に、実用上、十分な値となっている。これに対し、比較
例で得られた導電性反射防止膜では、第2の層にITO
の微粒子が存在していないために表面抵抗値が高く、抵
抗安定性も不安定なものであった。その結果、導電性反
射防止膜の表面から導通をとることはできなかった。
[Table 1] As is clear from Table 1, the conductive anti-reflection films obtained in Examples 1 to 6 each have a low surface resistance effective for conducting from the surface of the conductive anti-reflection film, It has sufficient resistance stability. Also, the luminous regular reflectance is practically sufficient to function as a conductive anti-reflection film. On the other hand, in the conductive anti-reflection film obtained in the comparative example, the second layer is made of ITO.
Since no fine particles were present, the surface resistance was high and the resistance stability was unstable. As a result, conduction could not be obtained from the surface of the conductive antireflection film.

【0042】なお、実施例6において、膜強度が×とな
っているが、実施例6の導電性反射防止膜の膜強度は、
実用的には十分なものであった。
In Example 6, the film strength was x, but the film strength of the conductive antireflection film of Example 6 was
Practically enough.

【0043】以上の実施例からも明らかなように、本発
明の導電性反射防止膜によれば、第1の導電性微粒子を
含有した第1の層を、SiO2 のマトリックス中に第2
の導電性微粒子を含有した第2の層で覆うことにより、
第2の層の屈折率を第1の層の屈折率より小さくすると
ともに、第2の層の表面抵抗値を低くすることができ
る。したがって、AEFの発生を防止するとともに、第
2の層により光の反射を防止し、かつ導通部等を形成す
ることなく第2の層から安定して導通をとることが可能
な導電性反射防止膜を提供することができる。また、導
電性反射防止膜より導通をとる際の工程数およびコスト
を削減できるので、生産性に優れた導電性反射防止膜を
提供することができる。さらに、第1の層を覆う第2の
層の安定性が高いので、耐久性に優れた導電性反射防止
膜を提供することができる。
As is clear from the above examples, according to the conductive anti-reflection film of the present invention, the first layer containing the first conductive fine particles is provided in the SiO 2 matrix in the second layer.
By covering with a second layer containing conductive fine particles of
The refractive index of the second layer can be made smaller than the refractive index of the first layer, and the surface resistance of the second layer can be reduced. Therefore, the occurrence of AEF is prevented, the reflection of light is prevented by the second layer, and the conductive anti-reflection can be stably conducted from the second layer without forming a conduction portion or the like. A membrane can be provided. Further, since the number of steps and the cost for establishing conduction from the conductive anti-reflection film can be reduced, a conductive anti-reflection film having excellent productivity can be provided. Further, since the second layer covering the first layer has high stability, a conductive antireflection film having excellent durability can be provided.

【0044】また、本発明の陰極線管によれば、フェー
スプレートの面上に第1の導電性微粒子を含有した第1
の層を設け、該第1の層をSiO2 および第2の導電性
微粒子を含有した第2の層で覆うことにより、第2の層
の屈折率を第1の層の屈折率より小さくし、かつ第2の
層の表面抵抗値を低くすることができる。したがって、
AEFの発生を防止するとともに、第2の層により光の
反射を防止し、かつ導通部等を形成することなく第2の
層から安定して導通をとることが可能な陰極線管を提供
することができる。また、導電性反射防止膜より導通を
とる際の工程数およびコストを削減できるので、生産性
に優れた陰極線管を提供することができる。さらに、第
1の層を覆う第2の層の安定性が高いので、長期に渡り
画質の高い画像を表示できる陰極線管を提供することが
できる。
According to the cathode ray tube of the present invention, the first conductive fine particles containing the first conductive fine particles are formed on the face plate.
And the first layer is covered with a second layer containing SiO 2 and second conductive fine particles, so that the refractive index of the second layer is smaller than the refractive index of the first layer. In addition, the surface resistance of the second layer can be reduced. Therefore,
To provide a cathode ray tube capable of preventing generation of AEF, preventing reflection of light by a second layer, and stably conducting from the second layer without forming a conducting portion or the like. Can be. Further, since the number of steps and cost for establishing conduction from the conductive anti-reflection film can be reduced, a cathode ray tube excellent in productivity can be provided. Further, since the second layer covering the first layer has high stability, it is possible to provide a cathode ray tube capable of displaying a high-quality image for a long time.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の導電性反射防止膜によれば、第1の導電性微粒子を含
有した第1の層を、SiO2 および第2の導電性微粒子
を含有した第2の層で覆うことにより、第2の層の屈折
率を第1の層の屈折率より小さくするとともに、第2の
層の表面抵抗値を低くすることができる。したがって、
AEFの発生を防止するとともに、第2の層により光の
反射を防止し、かつ導通部等を形成することなく第2の
層から安定して導通をとることが可能な導電性反射防止
膜を提供することができる。また、導電性反射防止膜よ
り導通をとる際の工程数およびコストを削減できるの
で、生産性に優れた導電性反射防止膜を提供することが
できる。さらに、第1の層を覆う第2の層の安定性が高
いので、耐久性に優れた導電性反射防止膜を提供するこ
とができる。
As is apparent from the above description, according to the conductive anti-reflection film of the present invention, the first layer containing the first conductive fine particles is made of SiO 2 and the second conductive fine particles. By covering with a second layer containing a, the refractive index of the second layer can be made smaller than the refractive index of the first layer, and the surface resistance of the second layer can be lowered. Therefore,
A conductive antireflection film capable of preventing generation of AEF, preventing light reflection by the second layer, and stably conducting from the second layer without forming a conducting portion or the like. Can be provided. Further, since the number of steps and the cost for establishing conduction from the conductive anti-reflection film can be reduced, a conductive anti-reflection film having excellent productivity can be provided. Further, since the second layer covering the first layer has high stability, a conductive antireflection film having excellent durability can be provided.

【0046】また、本発明の陰極線管によれば、フェー
スプレートの面上に第1の導電性微粒子を含有した第1
の層を設け、該第1の層をSiO2 および第2の導電性
微粒子を含有した第2の層で覆うことにより、第2の層
の屈折率を第1の層の屈折率より小さくし、かつ第2の
層の表面抵抗値を低くすることができる。したがって、
AEFの発生を防止するとともに、第2の層により光の
反射を防止し、かつ導通部等を形成することなく第2の
層から安定して導通をとることが可能な陰極線管を提供
することができる。また、導電性反射防止膜より導通を
とる際の工程数およびコストを削減できるので、生産性
に優れた陰極線管を提供することができる。さらに、第
1の層を覆う第2の層の安定性が高いので、長期に渡り
画質の高い画像を表示できる陰極線管を提供することが
できる。
According to the cathode ray tube of the present invention, the first conductive fine particles containing the first conductive fine particles are formed on the face plate.
And the first layer is covered with a second layer containing SiO 2 and second conductive fine particles, so that the refractive index of the second layer is smaller than the refractive index of the first layer. In addition, the surface resistance of the second layer can be reduced. Therefore,
To provide a cathode ray tube capable of preventing generation of AEF, preventing reflection of light by a second layer, and stably conducting from the second layer without forming a conducting portion or the like. Can be. Further, since the number of steps and cost for establishing conduction from the conductive anti-reflection film can be reduced, a cathode ray tube excellent in productivity can be provided. Further, since the second layer covering the first layer has high stability, it is possible to provide a cathode ray tube capable of displaying a high-quality image for a long time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る陰極線管(a)および導電性反射
防止膜(b)の構成を模式的に示した図である。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a cathode ray tube (a) and a conductive antireflection film (b) according to the present invention.

【図2】従来の陰極線管において、導電性反射防止膜の
構成を模式的に示した図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration of a conductive antireflection film in a conventional cathode ray tube.

【図3】従来の陰極線管において、導電性反射防止膜の
構成を模式的に示した図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a conductive anti-reflection film in a conventional cathode ray tube.

【図4】従来の陰極線管において、導電性反射防止膜の
構成を模式的に示した図である。
FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration of a conductive anti-reflection film in a conventional cathode ray tube.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……パネル 2……導電性反射防止膜 3……導
電層 4……反射防止層 5……導通部 6……ハンダ 7……ファンネル 8……フェースパネル 9……
蛍光面 10……シャドウマスク 11……ネック 12…
…電子銃 13……ITOの微粒子 14……第1の層 15
……第2の層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Panel 2 ... Conductive anti-reflective film 3 ... Conductive layer 4 ... Anti-reflective layer 5 ... Conducting part 6 ... Solder 7 ... Funnel 8 ... Face panel 9 ...
Fluorescent surface 10 Shadow mask 11 Neck 12
... Electron gun 13 ... ITO fine particles 14 ... First layer 15
.... 2nd layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性微粒子を含有した第1の層と、 前記第1の層を覆うように設けられ、SiO2 および導
電性微粒子を含有した第2の層と、を具備したことを特
徴とする導電性反射防止膜。
1. A semiconductor device comprising: a first layer containing conductive fine particles; and a second layer provided to cover the first layer and containing SiO 2 and conductive fine particles. A conductive anti-reflection film.
【請求項2】 前記第1および第2の導電性微粒子は、
金、銀、銀化合物、銅、銅化合物、錫化合物およびチタ
ン化合物からなる群より選択された同一又は異なる物質
であることを特徴とする請求項1に記載の導電性反射防
止膜。
2. The first and second conductive fine particles,
The conductive anti-reflective coating according to claim 1, wherein the conductive anti-reflective coating is the same or different substance selected from the group consisting of gold, silver, silver compound, copper, copper compound, tin compound and titanium compound.
【請求項3】 導電性微粒子の粒径(粒子を同一の体積
を示す球に換算した値)が 400nm以下であることを特徴
とする請求項1又は2記載の導電性反射防止膜。
3. The conductive anti-reflection film according to claim 1, wherein the particle size of the conductive fine particles (the value obtained by converting the particles into spheres having the same volume) is 400 nm or less.
【請求項4】 第2の層に含有させる導電性微粒子の配
合量が、該導電粒子とSiO2 との合計量に対して 5〜
50重量%であることを特徴とする請求項1乃至3のいず
れか1項記載の導電性反射防止膜。
4. The compounding amount of the conductive fine particles to be contained in the second layer is 5 to 5 with respect to the total amount of the conductive particles and SiO 2.
4. The conductive anti-reflection film according to claim 1, wherein the content is 50% by weight.
【請求項5】 蛍光物質を備えた第1の面を有するフェ
ースプレートと、 前記フェースプレートの第1の面と対向する第2の面上
に設けられ、導電性微粒子を含有する第1の層と、前記
第1の層を覆うように設けられ、SiO2 および導電性
微粒子を含有した第2の層と、具備したことを特徴とす
る陰極線管。
5. A face plate having a first surface provided with a fluorescent substance, and a first layer provided on a second surface opposite to the first surface of the face plate and containing conductive fine particles. And a second layer provided so as to cover the first layer and containing SiO 2 and conductive fine particles.
【請求項6】 前記導電性微粒子は、金、銀、銀化合
物、銅、銅化合物、錫化合物およびチタン化合物からな
る群より選択された同一又は異なる物質であることを特
徴とする請求項5に記載の陰極線管。
6. The method according to claim 5, wherein the conductive fine particles are the same or different substances selected from the group consisting of gold, silver, silver compounds, copper, copper compounds, tin compounds and titanium compounds. A cathode ray tube as described.
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KR100366087B1 (en) * 2000-08-04 2002-12-26 삼성에스디아이 주식회사 Composition for filter layer and filter layer formed therefrom

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