JPH1158629A - Fog-resistant film for agriculture - Google Patents

Fog-resistant film for agriculture

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JPH1158629A
JPH1158629A JP22710297A JP22710297A JPH1158629A JP H1158629 A JPH1158629 A JP H1158629A JP 22710297 A JP22710297 A JP 22710297A JP 22710297 A JP22710297 A JP 22710297A JP H1158629 A JPH1158629 A JP H1158629A
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JP
Japan
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film
oxide
photocatalytic
layer
fog
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Application number
JP22710297A
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Japanese (ja)
Inventor
Tadashi Higashiura
忠司 東浦
Tsuneo Yamashita
恒雄 山下
Mitsusaku Sakaguchi
光作 坂口
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fog-resistant film for agriculture which shows the outstanding endurance and durability of fog resistance effects and also high resistance to the adhesion of pollutant. SOLUTION: This fog-resistant film for agriculture has a substantially transparent layer B containing a photocatalytic material (b) made up of a photocatalytic action substance (b-1) and a silicon compound (b-2) formed on at least, one of the faces of a film A of a fluororesin. The silicon compound (b-2) is made of a silicone or a silicone precursor or silica or a silica precursor. The layer B shows water wetting properties at 10 deg. or less in terms of an angle of contact with water in accordance with photoexcitation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、防曇効果の持続性
と耐久性とに優れ、防汚染付着性をも有する農業用防曇
性フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antifogging film for agricultural use which has excellent durability and durability of an antifogging effect and also has antifouling adhesion.

【0002】[0002]

【従来の技術】農業用フィルムは、作物の生育用等とし
て用いられている農業用ハウスの屋根や壁部分の構成物
として汎用されている。このようなフィルムは、長期間
にわたって風雨にさらされることから耐久性や耐候性が
要求されるとともに、作物が充分な日光を浴びるように
するため、充分な光透過性と長期の使用によっても曇る
ことがない工夫が必要となる。農業用防曇性フィルム
は、このような目的のために開発され、従来から種々の
ものが提案されている。
2. Description of the Related Art Agricultural films are widely used as components of roofs and walls of agricultural houses used for growing crops. Such a film is required to have durability and weather resistance due to long-term exposure to wind and rain, and also has sufficient light transmission and becomes cloudy due to long-term use so that the crop is exposed to sufficient sunlight. There must be some ingenuity. Agricultural anti-fog films have been developed for such purpose, and various films have been proposed.

【0003】防曇性を維持するために、例えば、フィル
ムを構成する樹脂に、コロイダルシリカやアルミナゾル
等の無機物とポリメチルメタクリレートやポリビニルピ
ロリドン等の親水性バインダーとを混合したものが使用
されている。しかしながら、このものは、初期防曇性
(曇りが生じ始めるときの防曇性)が悪いために、外気
の温度が急激に下がる朝方の冷え込み時に、フィルムの
内面に結露が生じてそのしずくが落ちてハウス内の作物
に悪影響を与えるうえ、光透過性も低下してしまう。ま
た、フィルムとその表面に形成される防曇層との密着性
が経時的に劣化するために、防曇効果が経時的に劣化す
る欠点がある。
In order to maintain anti-fogging properties, for example, a mixture of a resin constituting a film with an inorganic substance such as colloidal silica or alumina sol and a hydrophilic binder such as polymethyl methacrylate or polyvinyl pyrrolidone is used. . However, this film has poor initial anti-fogging property (anti-fogging property when fogging starts to occur), so that when the temperature of the outside air drops sharply in the morning, dew condensation occurs on the inner surface of the film and the water drops. As a result, the crops in the house are adversely affected, and the light transmittance is reduced. Further, since the adhesion between the film and the antifogging layer formed on the surface of the film deteriorates with time, there is a disadvantage that the antifogging effect deteriorates with time.

【0004】特開昭53−39347号公報、特開昭5
5−99987号公報、特開昭57−73059号公報
には、変性されていないポリビニルアルコールと、コロ
イダルシリカ、珪酸ナトリウム等の無機物とを主成分と
する防曇剤が開示されている。しかしながら、このもの
は、表面に生じる曇り(水分)を防曇層が吸収したとき
に表面硬度が下がるため、ひっかき傷等が生じやすく、
水に対するぬれ性も不充分であり、実用に耐えるもので
はなかった。
JP-A-53-39347, JP-A-5-39347
JP-A-5-99987 and JP-A-57-73059 disclose an antifogging agent containing unmodified polyvinyl alcohol and an inorganic substance such as colloidal silica and sodium silicate as main components. However, since the surface hardness decreases when the haze (moisture) generated on the surface is absorbed by the antifogging layer, scratches and the like are likely to occur,
The wettability to water was also insufficient, and was not practical.

【0005】特開昭59−179685号公報には、分
子内にシリル基とイオン性親水性基とを有する変性ポリ
ビニルアルコール、及び、無機物からなる防曇剤を、主
としてガラス板やポリエステルフィルムに適用する技術
が開示されている。しかしながら、この技術では、ポリ
エステルフィルムと防曇剤とを接着剤を用いて接着して
いるため、工程が複雑になるうえコスト面でも割高にな
る欠点を有していた。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 59-179885 discloses that a modified polyvinyl alcohol having a silyl group and an ionic hydrophilic group in a molecule and an antifogging agent composed of an inorganic substance are mainly applied to a glass plate or a polyester film. A technique for performing this is disclosed. However, in this technique, since the polyester film and the anti-fogging agent are adhered using an adhesive, there are disadvantages that the process becomes complicated and the cost becomes high.

【0006】ところで、酸化チタン等の光触媒作用物質
は、紫外線により光励起されて強い酸化、還元力を生じ
ることが知られている。これにより有機物質を分解する
性質を発現することから、有害物質、悪臭物質や油分を
分解したり抗菌効果を付与する目的で塗料等に含有さ
れ、日用品、建材等の種々の製品の表面処理に用いるこ
とが検討されている。
Incidentally, it is known that a photocatalytic substance such as titanium oxide is photo-excited by ultraviolet rays to generate a strong oxidizing and reducing power. As a result, it exhibits the property of decomposing organic substances, and is contained in paints and the like for the purpose of decomposing harmful substances, odorous substances and oils and imparting an antibacterial effect. It is being considered for use.

【0007】しかしながら、これらの光触媒作用物質を
上述した農業用防曇性フィルムに適用する技術は、これ
まで存在しなかった。更に、光触媒作用物質は、本来、
光により励起されて酸化、還元力を発生して抗菌作用等
を発現するものであるので、光触媒作用物質を樹脂に含
有させてフィルムを構成すると、光触媒作用物質を含有
する樹脂自体に、当該酸化、還元作用が及んで当該樹脂
をも分解してしまい、フィルムそのものの機能が劣化す
ることが考えられ、通常の方法によっては、実現するこ
とが困難であった。
However, there has been no technique for applying these photocatalytic substances to the above-mentioned agricultural anti-fog film. Furthermore, photocatalytic substances are originally
Since it is excited by light to generate oxidation and reducing power and exerts antibacterial action and the like, if a film is formed by including a photocatalytic substance in a resin, the resin itself containing the photocatalytic substance will be subjected to the oxidation. In addition, it is considered that the resin is decomposed due to the reducing action, and the function of the film itself is degraded, and it has been difficult to realize the function by a usual method.

【0008】特開平4−284851号公報には、光触
媒粒子とフッ素系ポリマーとの混合物を積層し圧着する
ことにより、光触媒を有する塗膜を形成する方法が開示
されている。また、特開平4−334552号公報に
は、光触媒粒子をフッ素系ポリマーに熱融着することに
より、同様の効果を得る技術が開示されている。更に、
特開平7−171408号公報には、フッ素系ポリマ
ー、シリコン系ポリマー等の難分解性結着剤を介して光
触媒粒子を基体上に接着させる技術が開示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-284851 discloses a method of forming a coating film having a photocatalyst by laminating and pressing a mixture of photocatalyst particles and a fluoropolymer. Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-334552 discloses a technique for obtaining the same effect by thermally fusing photocatalyst particles to a fluoropolymer. Furthermore,
JP-A-7-171408 discloses a technique in which photocatalyst particles are adhered to a substrate via a hardly decomposable binder such as a fluorine-based polymer and a silicon-based polymer.

【0009】しかしながら、これらやフッ化ビニリデン
系のゴム等に光触媒作用物質を含有させた場合、ポリマ
ー中にC−H結合、C−Cl結合を持つモノマーを多く
有するものは光により劣化を起こす。また、ポリテトラ
フルオロエチレン等の結晶性ポリマーは、高温焼付けが
必須であること、高温加熱処理に伴い光触媒粒子の比表
面積が低下し、そのため光触媒機能の低下が起こる等の
問題があった。
However, when a photocatalytic substance is contained in these or vinylidene fluoride rubbers, those having a large amount of monomers having C—H bonds and C—Cl bonds in the polymer are deteriorated by light. In addition, crystalline polymers such as polytetrafluoroethylene have problems that high-temperature baking is essential and that the specific surface area of the photocatalyst particles is reduced due to the high-temperature heat treatment, so that the photocatalytic function is reduced.

【0010】農業用防曇性フィルムに紫外線遮断剤を含
有させることにより、特定波長光(有害紫外線)領域を
抑制して、施設園芸用に好適なフィルムを構成する技術
は公知である。しかしながら、当該紫外線遮断剤は、そ
の粒径が0.01μm、好ましくは0.1μm程度のも
のであって、含有させることにより紫外線を遮断するこ
とを目的としており、光触媒としての機能を果たすもの
ではなかった。
[0010] A technique for forming a film suitable for greenhouse horticulture by suppressing a specific wavelength light (harmful ultraviolet light) region by adding an ultraviolet ray blocking agent to an agricultural anti-fog film is known. However, the ultraviolet ray blocking agent has a particle size of 0.01 μm, preferably about 0.1 μm, and is intended to block ultraviolet rays by being contained, and does not function as a photocatalyst. Did not.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上記の現状に鑑み、本
発明は、防曇効果の持続性と耐久性とに優れ、しかも防
汚染付着性をも有する農業用防曇性フィルムを提供する
ことを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above situation, the present invention provides an anti-fogging film for agricultural use which has excellent durability and durability of the anti-fogging effect and also has anti-staining and adhesion properties. It is intended for.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、フッ素樹脂か
らなるフィルム(A)の少なくとも一方の面に、光触媒
作用物質(b−1)及びケイ素化合物(b−2)からな
る光触媒性材料(b)を含む実質的に透明な層(B)が
形成されてなる農業用防曇性フィルムであって、上記ケ
イ素化合物(b−2)は、シリコーン若しくはシリコー
ン前駆体又はシリカ若しくはシリカ前駆体からなるもの
であり、上記層(B)は、光励起に応じて、対水接触角
に換算して10°以下の水濡れ性を発現するものである
ことを特徴とする農業用防曇性フィルムである。以下に
本発明を詳述する。
According to the present invention, a film (A) comprising a fluororesin is provided on at least one surface thereof with a photocatalytic material (b-1) comprising a photocatalytic substance (b-1) and a silicon compound (b-2). An agricultural antifogging film formed by forming a substantially transparent layer (B) containing b), wherein the silicon compound (b-2) comprises silicone or a silicone precursor or silica or a silica precursor. The above-mentioned layer (B) is an antifogging film for agricultural use characterized by exhibiting water wettability of 10 ° or less in terms of a contact angle with respect to water in response to light excitation. is there. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0013】本発明の農業用防曇性フィルムは、フッ素
樹脂からなるフィルム(A)の片面又は両面に、実質的
に透明な層(B)が形成されてなる。上記層(B)の説
明は後述するとして、まず先に、上記フィルム(A)を
構成するフッ素樹脂について説明する。上記フッ素樹脂
は、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体(ET
FE)、又は、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体(FEP)である。この二つ以外
のフッ素樹脂は、本発明の農業用防曇性フィルムに適用
するには好ましくない。上記ETFEとしては、例え
ば、特開昭59−197411号公報に記載されている
ように、モノマーとして、エチレン、テトラフルオロエ
チレン、含フッ素ビニルモノマーを用い、エチレン:テ
トラフルオロエチレンのモル比が、40:60〜60:
40であり、含フッ素ビニルモノマーの配合比が、0.
1〜10モル%であるものが、成形性や透明性に優れて
いる点から好ましい。
The agricultural antifogging film of the present invention comprises a film (A) made of a fluororesin and a substantially transparent layer (B) formed on one or both surfaces. The layer (B) will be described later, and the fluororesin constituting the film (A) will be described first. The fluororesin is an ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (ET
FE) or tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP). Fluororesins other than these two are not preferred for application to the agricultural anti-fog film of the present invention. As the ETFE, for example, as described in JP-A-59-197411, ethylene, tetrafluoroethylene, and a fluorine-containing vinyl monomer are used as monomers, and the molar ratio of ethylene: tetrafluoroethylene is 40%. : 60-60:
40, and the compounding ratio of the fluorine-containing vinyl monomer was 0.1.
What is 1-10 mol% is preferable from the point which is excellent in moldability and transparency.

【0014】上記含フッ素ビニルモノマーは、一般式: CH2 =CXRf (式中、Xは、水素原子又はフッ素原子を表す。Rf
は、フルオロアルキル基を表す。)で表される化合物で
あり、なかでも、Xがフッ素であるものが好ましい。R
fで表されるフルオロアルキル基のアルキル基の炭素数
は、2〜10が好ましい。2未満であると共重合体の改
質が充分に行われず、10を超えると重合反応性の点で
不利となる。上記含フッ素ビニルモノマーとしては、例
えば、CH2 =CFC5 10H、CH2 =CFC3 6
H、CH2 =CFC2 5 等を挙げることができる。
The above-mentioned fluorine-containing vinyl monomer has the general formula: CH 2 CCXRf (wherein X represents a hydrogen atom or a fluorine atom. Rf
Represents a fluoroalkyl group. The compounds represented by the formula (1), in which X is fluorine, are preferred. R
The alkyl group of the fluoroalkyl group represented by f preferably has 2 to 10 carbon atoms. When it is less than 2, the copolymer is not sufficiently modified, and when it exceeds 10, it is disadvantageous in terms of polymerization reactivity. Examples of the fluorine-containing vinyl monomer include, for example, CH 2 CFCFC 5 F 10 H and CH 2 CFCFC 3 F 6
H, CH 2 CFCFC 2 F 5 and the like can be mentioned.

【0015】上記FEPとしては、例えば、特開昭54
−31492号公報に記載されているように、水性媒体
中において、重合開始剤としてジイソプロピルパーオキ
シジカーボネートをモノマー全量に対して0.05〜5
重量%用いて、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオ
ロプロピレンとを共重合させることによって得られる共
重合体であって、当該共重合体中におけるヘキサフルオ
ロプロピレンの配合量が、8〜20重量%であるもの
が、成形性や耐クラック性に優れている点で好ましい。
As the above-mentioned FEP, for example, JP-A-54
As described in JP-A-31492, diisopropyl peroxydicarbonate is used as a polymerization initiator in an aqueous medium in an amount of 0.05 to 5 based on the total amount of monomers.
A copolymer obtained by copolymerizing tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene by weight, wherein the blending amount of hexafluoropropylene in the copolymer is 8 to 20% by weight. Is preferred in that it has excellent moldability and crack resistance.

【0016】また、施設園芸用等の作物によっては、特
定波長光(有害紫外線)領域を抑制することが必要なも
のもあるが、そのような用途には、フッ素樹脂にあらか
じめ紫外線遮断剤を含有させたフィルムを使用してもよ
い。上記紫外線遮断剤としては、有機系と無機系のもの
が知られているが、特開昭59−204517号公報に
記載されているようにフィルム成膜時の高温(300〜
400℃)でも分解劣化しないという点で、無機系のも
のが好ましい。上記無機系紫外線遮断剤としては、例え
ば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化アルミ
ニウム等を挙げることができるが、特開平6−9062
7号公報に記載されているように、紫外線遮断能、作物
への影響から酸化チタン、酸化亜鉛が特に好ましく、こ
の二種を混ぜて使用してもよい。上記紫外線遮断剤の添
加量としては、0.01〜10重量%が好ましいが、紫
外線遮断能、透明性の点からは0.1〜5重量%が特に
好ましい。上記紫外線遮断剤の粒径としては、0.01
〜100μmが好ましいが、分散性、透明性の点から、
0.1〜10μmが特に好ましい。上記紫外線遮断剤
は、例えば、350nm以下の紫外線を反射して減衰す
ることにより、その30%以上、好ましくは50%以上
を遮断する能力を有するものであり、有害な紫外線を遮
断して作物に好影響を与える効果が得られる。
Some crops for greenhouse horticulture and the like need to suppress a specific wavelength light (harmful ultraviolet ray) region. For such a use, a fluororesin contains an ultraviolet ray blocking agent in advance. You may use the film which made it fall. As the above-mentioned ultraviolet ray blocking agent, organic and inorganic ones are known, but as described in JP-A-59-204517, a high temperature (300 to 300.degree.
(400 ° C.), an inorganic type is preferable in that it does not decompose and deteriorate. Examples of the inorganic ultraviolet blocking agent include titanium oxide, zinc oxide, cerium oxide, and aluminum oxide.
As described in Japanese Patent Publication No. 7, titanium oxide and zinc oxide are particularly preferred in view of the ability to block ultraviolet rays and the effect on crops, and these two types may be used in combination. The addition amount of the ultraviolet ray blocking agent is preferably from 0.01 to 10% by weight, and particularly preferably from 0.1 to 5% by weight from the viewpoint of the ultraviolet ray blocking ability and transparency. As the particle size of the ultraviolet blocking agent, 0.01
To 100 μm is preferred, but from the viewpoint of dispersibility and transparency,
0.1 to 10 μm is particularly preferred. The ultraviolet ray blocking agent has an ability to block 30% or more, preferably 50% or more of the ultraviolet ray by reflecting and attenuating the ultraviolet ray of 350 nm or less. An effect having a favorable effect is obtained.

【0017】上記ETFE又はFEPのフィルムの製造
方法としては、公知の成形方法を採用することができ、
例えば、押出成形法、インフレーション成形法、カレン
ダー成形法、スカイブ法等を挙げることができ、なかで
も、二次加工性や生産性に優れる点から押出成形法が好
ましい。上記フィルムの膜厚は、10〜250μmが好
ましい。10μm未満であると破れやすくシワになりや
すくなる傾向があり、250μmを超えると展張時の作
業性や透明性が悪くなる傾向がある。より好ましくは、
50〜150μmである。
As a method for producing the ETFE or FEP film, a known molding method can be adopted.
For example, an extrusion molding method, an inflation molding method, a calendar molding method, a skive method, and the like can be given. Among them, the extrusion molding method is preferable in terms of excellent secondary workability and productivity. The thickness of the film is preferably from 10 to 250 μm. If it is less than 10 μm, it tends to be easily broken and wrinkled, and if it exceeds 250 μm, workability and transparency at the time of spreading tend to be poor. More preferably,
It is 50 to 150 μm.

【0018】上記フィルム(A)は、フッ素樹脂からな
るので、撥水性や非粘着性を有するため、後述する層
(B)との密着には工夫を要するが、本発明においては
当該密着性を良好にするため、上記フィルム(A)の表
面を、予めコロナ放電処理することができる。
Since the film (A) is made of a fluororesin and has water repellency and non-adhesiveness, it is necessary to devise a method of adhering it to the layer (B) described later. In order to improve the surface, the surface of the film (A) can be subjected to corona discharge treatment in advance.

【0019】上記コロナ放電処理の雰囲気としては、フ
ッ素樹脂がETFEの場合には、ETFEのC−F結合
を解離し表面を活性化して、親和性を増すようなものが
好ましく、例えば、ESCAにおけるC−F結合のF1S
スペクトルの強度が減少し、更に表面酸化による極性基
の生成を示すO1Sスペクトルが現れるようなものが好ま
しい。このような雰囲気は活性ガスを含む雰囲気であ
り、上記活性ガスとしては、例えば、酸素、一酸化炭
素、二酸化炭素、一酸化二窒素、メチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、酢酸ビニル、スチレ
ン、メチルビニルケトン、アクリロニトリル、ヘキサ
ン、キシレン、及び、これらの混合物等を挙げることが
できる。
As the atmosphere for the corona discharge treatment, when the fluororesin is ETFE, it is preferable to dissociate the CF bond of ETFE to activate the surface and increase the affinity. F 1S of CF bond
It is preferable that the intensity of the spectrum is reduced and an O 1S spectrum indicating the formation of a polar group by surface oxidation appears. Such an atmosphere is an atmosphere containing an active gas.Examples of the active gas include oxygen, carbon monoxide, carbon dioxide, nitrous oxide, methyl methacrylate, glycidyl methacrylate, vinyl acetate, styrene, methyl vinyl ketone, Acrylonitrile, hexane, xylene, and mixtures thereof can be mentioned.

【0020】上記活性ガスは、通常、窒素、ヘリウム、
アルゴン等の不活性ガスで希釈して用いることができ
る。上記活性ガスの希釈後の濃度は、低すぎると表面活
性化が不充分となり層(B)とフィルム(A)との密着
性が劣り、高すぎると放電処理時に爆発する危険があり
安全性や生産性の面で好ましくない。それぞれの活性ガ
スの種類に応じた濃度で処理を行う。例えば、酸素の場
合には、5〜80容量%の濃度で行うことができるが、
生産性やコストの面から、空気中常温常圧下でコロナ放
電処理を行うことが好ましい。
The active gas is usually nitrogen, helium,
It can be used after being diluted with an inert gas such as argon. If the concentration of the active gas after dilution is too low, the surface activation is insufficient and the adhesion between the layer (B) and the film (A) is inferior. It is not preferable in terms of productivity. Processing is performed at a concentration corresponding to the type of each active gas. For example, in the case of oxygen, it can be performed at a concentration of 5 to 80% by volume,
From the viewpoints of productivity and cost, it is preferable to perform corona discharge treatment in air at normal temperature and normal pressure.

【0021】上記コロナ放電処理の条件は、活性ガスの
種類、濃度、雰囲気温度、圧力によって異なるが、雰囲
気として空気を用い、常温、常圧で行う場合には、荷電
密度は70〜800W/m2 が好ましい。70W/m2
未満であると、フィルム表面の活性化が不充分となり層
(B)との密着性が悪くなる傾向があり、800W/m
2 を超えるとフィルム表面に傷ができて外観が悪くなる
傾向がある。好ましくは90〜270W/m2 である。
The conditions of the corona discharge treatment vary depending on the type, concentration, ambient temperature and pressure of the active gas. When air is used as the ambient at normal temperature and normal pressure, the charge density is 70 to 800 W / m. 2 is preferred. 70W / m 2
If it is less than 1, the activation of the film surface becomes insufficient and the adhesion to the layer (B) tends to be poor, and 800 W / m
If it exceeds 2 , the film surface tends to be damaged and the appearance tends to be poor. Preferably from 90~270W / m 2.

【0022】本発明のフッ素樹脂がFEPである場合に
は、例えば、酢酸ビニル蒸気を0.3〜1.5容量%、
好ましくは0.7〜1.3容量%含む窒素雰囲気中にお
いてコロナ放電処理を行うことが好ましい。この場合の
コロナ放電処理の条件は、70〜700W/m2 であ
り、70W/m2 未満であるとFEPフィルム表面の活
性化が不充分で層(B)との密着性が悪くなる傾向があ
り、700W/m2 を超えるとフィルム表面に傷ができ
て外観が悪くなる傾向がある。より好ましくは90〜2
00W/m2 である。フッ素樹脂がFEPである場合に
は、窒素のみの雰囲気下でのコロナ放電処理では、フッ
素樹脂表面の活性化が不充分となる。
When the fluororesin of the present invention is FEP, for example, 0.3 to 1.5% by volume of vinyl acetate vapor,
Preferably, the corona discharge treatment is performed in a nitrogen atmosphere containing 0.7 to 1.3% by volume. Conditions of the corona discharge treatment in this case is 70~700W / m 2, a tendency that adhesion is poor between the activation insufficient layers of FEP film surface is less than 70W / m 2 (B) If it exceeds 700 W / m 2 , the film surface tends to be scratched and the appearance tends to be poor. More preferably 90 to 2
00 W / m 2 . When the fluororesin is FEP, activation of the fluororesin surface becomes insufficient by corona discharge treatment in an atmosphere containing only nitrogen.

【0023】コロナ放電処理をする表面は、層(B)が
形成される面に応じて、フィルム(A)の片面であって
もよく、両面であってもよい。また、雰囲気ガスを流し
ながらコロナ放電処理をしてもよい。更にまた、フィル
ムを移動させながらコロナ放電処理をしてもよい。
The surface to be subjected to corona discharge treatment may be one side or both sides of the film (A), depending on the surface on which the layer (B) is formed. Further, the corona discharge treatment may be performed while flowing the atmosphere gas. Furthermore, corona discharge treatment may be performed while moving the film.

【0024】以上で本発明のフィルム(A)についての
説明を終えたので、以下に層(B)について説明する。
本発明の層(B)は、実質的に透明な層である。本明細
書において、「実質的に透明な」とは、層(B)がフィ
ルム(A)の表面に形成されることによっては、フィル
ム(A)の透明性に影響を与えることがないことを意味
する。このように実質的に透明な性質は、以下に詳述す
る層(B)の構成によって達成することができる。
Now that the description of the film (A) of the present invention has been completed, the layer (B) will be described below.
The layer (B) of the present invention is a substantially transparent layer. In the present specification, “substantially transparent” means that the layer (B) does not affect the transparency of the film (A) by being formed on the surface of the film (A). means. Such a substantially transparent property can be achieved by the structure of the layer (B) described in detail below.

【0025】上記層(B)は、後述する光触媒性材料
(b)を含んでなるが、光触媒性材料(b)のほか、例
えば、各種の添加剤を配合することにより調製すること
ができる。上記添加剤としては特に限定されず、各種消
泡剤、ノニオン性、カチオン性、アニオン性各界面活性
剤等を挙げることができる。
The layer (B) contains the photocatalytic material (b) described below, and can be prepared by blending, for example, various additives in addition to the photocatalytic material (b). The additive is not particularly limited, and examples thereof include various antifoaming agents, nonionic, cationic, and anionic surfactants.

【0026】上記層(B)が含有する光触媒性材料
(b)は、光触媒作用物質(b−1)及びケイ素化合物
(b−2)からなる。上記光触媒作用物質(b−1)
は、微粒子状である。上記微粒子とは、平均粒子径が、
0.1〜0.001μmのものをいう。
The photocatalytic material (b) contained in the layer (B) comprises a photocatalytic substance (b-1) and a silicon compound (b-2). The photocatalytic substance (b-1)
Is in the form of fine particles. The fine particles, the average particle diameter,
0.1 to 0.001 μm.

【0027】上記光触媒作用物質(b−1)としては、
光触媒機能を有する物質であれば特に限定されず、例え
ば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、チタン
酸ストロンチウム、酸化スズ、酸化タングステン、酸化
鉄、酸化ビスマス、酸化ルテニウム等を挙げることがで
きるが、なかでも、酸化チタンが好ましい。
As the photocatalytic substance (b-1),
It is not particularly limited as long as it has a photocatalytic function, and examples thereof include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, strontium titanate, tin oxide, tungsten oxide, iron oxide, bismuth oxide, and ruthenium oxide. Among them, titanium oxide is preferable.

【0028】上記酸化チタンは、無害であり、化学的に
安定であり、かつ、安価に入手可能である。また、酸化
チタンは、バンドギャップエネルギーが高く、従って、
光励起には紫外線を必要とし、光励起の過程で可視光線
を吸収しないので、補色成分による発色が起こらない。
The above-mentioned titanium oxide is harmless, chemically stable, and available at low cost. Titanium oxide also has a high band gap energy,
Ultraviolet light is required for photoexcitation and does not absorb visible light in the process of photoexcitation, so that color formation by complementary color components does not occur.

【0029】上記酸化チタンとしてはアナターゼ型とル
チル型とのいずれをも用いることができる。ルチル型酸
化チタンは、高温で焼結することができ、強度と耐摩耗
性に優れた塗膜を得ることができるが、アナターゼ型酸
化チタンは、極めて細かな粒子を分散させたゾルが市販
されており、容易に入手することができ、かつ非常に薄
い塗膜を容易に形成することができる利点があり、本発
明の目的のためには、アナターゼ型酸化チタンが好まし
い。
As the titanium oxide, any of anatase type and rutile type can be used. Rutile-type titanium oxide can be sintered at a high temperature, and a coating film with excellent strength and abrasion resistance can be obtained.However, anatase-type titanium oxide has a commercially available sol in which extremely fine particles are dispersed. And has the advantage that it can be easily obtained and that a very thin coating film can be easily formed. For the purpose of the present invention, anatase type titanium oxide is preferable.

【0030】上記酸化チタンを用いた場合には、後述す
る紫外線によって光励起されたときに、光触媒作用によ
って水が水酸基の形で表面に化学吸着され、その結果、
本発明の独特の効果を発揮することができる。
When the above-mentioned titanium oxide is used, water is chemically adsorbed on the surface in the form of a hydroxyl group by photocatalysis when the titanium oxide is photo-excited by ultraviolet rays to be described later.
The unique effects of the present invention can be exhibited.

【0031】本発明の光触媒性材料(b)を構成するケ
イ素化合物(b−2)は、上記光触媒性材料(b)中に
5〜90モル%、好ましくは10〜70モル%、より好
ましくは、10〜50モル%含有させることが好まし
い。上記ケイ素化合物(b−2)としては、第一に、シ
リコーン(オルガノポリシロキサン)又はシリコーン前
駆体を挙げることができる。これらはケイ素原子に結合
する有機基を有し、光励起に応じて、この有機基が水酸
基に置換されて本発明独特の効果を奏することとなる。
The silicon compound (b-2) constituting the photocatalytic material (b) of the present invention is 5 to 90 mol%, preferably 10 to 70 mol%, more preferably, in the photocatalytic material (b). , 10 to 50 mol%. As the silicon compound (b-2), first, silicone (organopolysiloxane) or silicone precursor can be used. These have an organic group bonded to a silicon atom, and the organic group is substituted by a hydroxyl group in response to photoexcitation, thereby exhibiting an effect unique to the present invention.

【0032】上記シリコーンを形成するものとしては特
に限定されず、例えば、以下のもの等を挙げることがで
きる。メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリt
−ブトキシシラン、n−プロピルトリクロルシラン、n
−プロピルトリブロムシラン、n−プロピルトリメトキ
シシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロ
ピルトリイソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−
ブトキシシラン、n−ヘキシルトリクロルシラン、n−
ヘキシルトリブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシ
シラン、n−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシ
ルトリイソプロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブ
トキシシラン、n−デシルトリクロルシラン、n−デシ
ルトリブロムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、
n−デシルトリエトキシシラン、n−デシルトリイソプ
ロポキシシラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン、
n−オクタデシルトリクロルシラン、n−オクタデシル
トリブロムシラン、n−オクタデシルトリメトキシシラ
ン、n−オクタデシルトリエトキシシラン、n−オクタ
デシルトリイソプロポキシシラン、n−オクタデシルト
リt−ブトキシシラン、フェニルトリクロルシラン、フ
ェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプ
ロポキシシラン、フェニルトリt−ブトキシシラン、テ
トラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキ
シシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラ
ン、ジメトキシジエトキシシラン、ジメチルジクロルシ
ラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジエトキシシ
ラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジクロ
ルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジエ
トキシシラン。
The material for forming the silicone is not particularly limited, and examples thereof include the following. Methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltrit
-Butoxysilane, n-propyltrichlorosilane, n
-Propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-
Butoxysilane, n-hexyltrichlorosilane, n-
Hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane, n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n- Decyltrimethoxysilane,
n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane,
n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrisilane Bromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane, tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane , Dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyl Jiburomushiran, diphenyl diethoxy silane.

【0033】フェニルメチルジクロルシラン、フェニル
メチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラ
ン、フェニルメチルジエトキシシラン、トリクロルヒド
ロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒド
ロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロポ
キシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシラン、ト
リフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプ
ロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメ
トキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラ
ン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、
トリフルオロプロピルトリt−ブトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリt−ブトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロ
ピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシ
プロピルトリt−ブトキシシラン、γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリt−ブトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチ
ルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリt−ブトキシシラン、
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリエトキシシラン;上記シラン化合物の部
分加水分解物、それらの混合物。
Phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxy Hydrosilane, trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane,
Trifluoropropyltri-t-butoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyl Trimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ -Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane , Γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane,
β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; partial hydrolysates of the above silane compounds, and mixtures thereof.

【0034】上記シリコーンとしては、3次元架橋型シ
ロキサンを10モル%以上含有させることが好ましい。
更に良好な硬度及び平滑性を確保するためには、2次元
架橋型シロキサンを60モル%以上含有させることが好
ましい。また、シリコーン分子のケイ素原子に結合した
有機基が光励起により水酸基に置換される速度を速める
ためには、シリコーン分子のケイ素原子に結合する有機
基がn−プロピル基又はフェニル基からなるシリコーン
を用いることが好ましい。シロキサン結合を有するシリ
コーンに代えて、シラザン結合を有するオルガノポリシ
ラザン化合物を用いることもまた可能である。
It is preferable that the silicone contains three-dimensionally crosslinked siloxane in an amount of 10 mol% or more.
In order to further secure good hardness and smoothness, it is preferable that the two-dimensionally crosslinked siloxane is contained in an amount of 60 mol% or more. Further, in order to increase the rate at which the organic group bonded to the silicon atom of the silicone molecule is replaced with a hydroxyl group by photoexcitation, a silicone in which the organic group bonded to the silicon atom of the silicone molecule is an n-propyl group or a phenyl group is used. Is preferred. It is also possible to use an organopolysilazane compound having a silazane bond instead of the silicone having a siloxane bond.

【0035】上記ケイ素化合物(b−2)としては、上
記シリコーン又はシリコーン前駆体のほかに、シリカ又
はシリカ前駆体を挙げることができる。上記シリカ前駆
体としては、反応によりシリカを構成する物質であれば
特に限定されず、例えば、テトラエトキシシラン、テト
ライソプロポキシシラン、テトラn−プロポキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン及びそ
れらの加水分解物であるシラノール、又は、平均分子量
3000以下のポリシロキサン等を挙げることができ
る。
As the silicon compound (b-2), silica or a silica precursor can be mentioned in addition to the silicone or the silicone precursor. The silica precursor is not particularly limited as long as it is a substance constituting silica by a reaction, and examples thereof include tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetrabutoxysilane, tetraethoxysilane, and tetramethoxysilane. And silanol which is a hydrolyzate thereof, and polysiloxane having an average molecular weight of 3000 or less.

【0036】上記光触媒作用物質(b−1)と上記ケイ
素化合物(b−2)とから光触媒性材料(b)を調製す
るにあたっては、上記光触媒作用物質(b−1)と上記
ケイ素化合物(b−2)とを均一に配合することが好ま
しい。そのため、上記光触媒作用物質(b−1)と上記
ケイ素化合物(b−2)とは、分散状(ディスパージョ
ン)、溶液、又は、粉体の形態で適用されることが好ま
しい。例えば、上記光触媒作用物質(b−1)とシリカ
粒子とを分散状とするためには、両者を混合して溶媒中
に投入し、界面活性剤、凍結防止剤、消泡剤、pH調整
剤等のその他の添加剤を必要に応じて添加した後、サン
ドミル、ボールミル、ペイントシェーカー、ジェットミ
ル、グラインドミル、三本ロール、ニーダー等で攪拌、
分散する方法を採用することができる。また、液状のケ
イ素化合物(b−2)と光触媒作用物質(b−1)とを
混合する場合には、液状ケイ素化合物(b−2)に光触
媒作用物質(b−1)を投入し、上記したと同様の方法
で攪拌、分散することにより均一に混合することができ
る。
In preparing the photocatalytic material (b) from the photocatalytic substance (b-1) and the silicon compound (b-2), the photocatalytic substance (b-1) and the silicon compound (b) are prepared. -2) is preferably blended uniformly. Therefore, the photocatalytic substance (b-1) and the silicon compound (b-2) are preferably applied in the form of a dispersion, a solution, or a powder. For example, in order to disperse the photocatalytic substance (b-1) and the silica particles, they are mixed and put into a solvent, and a surfactant, an antifreezing agent, an antifoaming agent, and a pH adjuster are used. After adding other additives as necessary, such as a sand mill, ball mill, paint shaker, jet mill, grind mill, three rolls, stirring with a kneader,
A dispersing method can be adopted. When the liquid silicon compound (b-2) and the photocatalytic substance (b-1) are mixed, the photocatalytic substance (b-1) is charged into the liquid silicon compound (b-2), and The mixture can be uniformly mixed by stirring and dispersing in the same manner as described above.

【0037】また、上記シリカ又はシリカ前駆体は、例
えば、上記光触媒作用物質(b−1)との混合物を調製
し、必要に応じて加水分解させてシラノールを形成させ
た後、約100℃以上の温度で加熱してシラノールを脱
水縮重合させることにより、酸化チタンが無定形シリカ
で結着された光触媒性材料(b)を得ることができる。
The silica or the silica precursor is prepared, for example, by preparing a mixture with the photocatalytic substance (b-1) and, if necessary, hydrolyzing to form silanol. By heating at the above temperature to cause dehydration polycondensation of silanol, a photocatalytic material (b) in which titanium oxide is bound with amorphous silica can be obtained.

【0038】光触媒作用物質(b−1)として酸化チタ
ンを用い、ケイ素化合物(b−2)としてシリカを用い
る場合には、例えば、アナターゼ型又はルチル型酸化チ
タンの粒子とシリカ粒子とを含有する懸濁液を調製した
後、これを焼結する方法により光触媒性材料(b)を得
ることができる。また、シリカ前駆体と、結晶性酸化チ
タンゾルとの混合物を調製し、必要に応じて加水分解さ
せてシラノールを形成させた後、約100℃以上の温度
で加熱してシラノールを脱水縮重合させることにより、
酸化チタンが無定形シリカで結着された光触媒性材料
(b)を得ることができる。特にシラノールの脱水縮重
合温度を約200℃以上とすば、シラノールの重合度を
増加させ、光触媒性材料(b)の耐アルカリ性能を向上
させることができる。
When titanium oxide is used as the photocatalytic substance (b-1) and silica is used as the silicon compound (b-2), for example, particles of anatase or rutile titanium oxide and silica particles are contained. After preparing the suspension, the photocatalytic material (b) can be obtained by sintering the suspension. Further, a mixture of a silica precursor and a crystalline titanium oxide sol is prepared, and if necessary, hydrolyzed to form silanol, and then heated at a temperature of about 100 ° C. or more to cause dehydration polycondensation of silanol. By
A photocatalytic material (b) in which titanium oxide is bound with amorphous silica can be obtained. In particular, when the dehydration-condensation polymerization temperature of silanol is about 200 ° C. or more, the degree of polymerization of silanol can be increased, and the alkali resistance performance of the photocatalytic material (b) can be improved.

【0039】本発明において、光触媒性材料(b)を含
む実質的に透明な層(B)をフィルム(A)表面に形成
させる方法としては、上記フッ素樹脂からなるフィル
ム(A)の表面に光触媒性材料(b)を含む組成物を塗
布する方法、上記フィルム(A)の表面に光触媒性材
料(b)を含む組成物を熔射する方法等を採用すること
ができる。
In the present invention, as a method for forming a substantially transparent layer (B) containing the photocatalytic material (b) on the surface of the film (A), For example, a method of applying the composition containing the conductive material (b), a method of spraying the composition containing the photocatalytic material (b) on the surface of the film (A), and the like can be adopted.

【0040】上記フィルム(A)の表面に塗布する方法
としては、上記光触媒性材料(b)を含む組成物を、分
散状(ディスパージョン)、溶液、又は、粉体の形態に
した後、通常の塗布方法により、上記フィルム(A)の
片面又は両面に、既に述べたコロナ放電処理をしないか
又はした後に、塗布する。上記塗布方法としては特に限
定されず、例えば、バーコーター塗工、ハケ塗工、スプ
レー塗工、浸漬塗工、スピンコーティング、ダイコーテ
ィング、流し塗り、エアナイフコーティング、ブレード
コーティング等を挙げることができる。
As a method of applying the composition on the surface of the film (A), the composition containing the photocatalytic material (b) is formed into a dispersion (dispersion), a solution, or a powder, and then the composition is usually used. Is applied to one or both surfaces of the film (A) without or after performing the corona discharge treatment described above. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include bar coater coating, brush coating, spray coating, dip coating, spin coating, die coating, flow coating, air knife coating, and blade coating.

【0041】上記光触媒性材料(b)を含む組成物の塗
布量は、0.1〜5.0g/m2 (固形分)が好まし
い。0.1g/m2 未満であると、長期にわたる防曇性
を維持できなくなる傾向があり、5.0g/m2 を超え
ると透明性が悪くなる傾向がある。好ましくは、0.3
〜3.8g/m2 である。
The coating amount of the composition containing the photocatalytic material (b) is preferably 0.1 to 5.0 g / m 2 (solid content). If it is less than 0.1 g / m 2 , the antifogging property for a long time tends to be unable to be maintained, and if it exceeds 5.0 g / m 2 , transparency tends to be poor. Preferably, 0.3
33.8 g / m 2 .

【0042】上記層(B)は、100〜200℃で1〜
30分間、好ましくは120〜180℃で1〜15分間
熱処理を行うことにより形成する。上記熱処理の温度が
100℃未満であると、吸水時の表面硬度が低くなる傾
向があり、200℃を超えるとフィルム(A)にシワが
発生する傾向がある。また、熱処理の時間が1分間未満
であると吸水時の表面硬度が低くなる傾向があり、30
分間を超えると生産効率が悪くなる傾向がある。
The layer (B) is formed at 100 to 200 ° C.
It is formed by performing a heat treatment for 30 minutes, preferably at 120 to 180 ° C. for 1 to 15 minutes. If the temperature of the heat treatment is lower than 100 ° C., the surface hardness at the time of water absorption tends to decrease, and if it exceeds 200 ° C., the film (A) tends to wrinkle. If the heat treatment time is less than 1 minute, the surface hardness at the time of absorbing water tends to be low,
If the time exceeds minutes, the production efficiency tends to deteriorate.

【0043】このようにして形成された層(B)の厚さ
は、0.1〜2.0μm、好ましくは、0.2〜1.8
μmである。上記厚さが0.1μm未満であると長期に
わたる防曇性を維持できなくなる傾向があり、2.0μ
mを超えると透明性が悪くなる傾向がある。
The thickness of the layer (B) thus formed is 0.1 to 2.0 μm, preferably 0.2 to 1.8.
μm. If the thickness is less than 0.1 μm, the antifogging property for a long time tends to be unable to be maintained.
If it exceeds m, the transparency tends to deteriorate.

【0044】上記フィルム(A)の表面に上記光触媒性
材料(b)を含む組成物を熔射する方法は、上記組成物
を融点以上に瞬間的に加熱して熔融し、これを常温にお
いて吹きつけることにより行うことができる。
In the method of spraying the composition containing the photocatalytic material (b) on the surface of the film (A), the composition is instantaneously heated to a temperature equal to or higher than the melting point and melted. It can be done by attaching.

【0045】上記熔射法を更に具体的に説明する。燃焼
用ガスとしては、例えば、都市ガス、アセチレンガス等
の種々の燃焼ガスを用いることができる。これらは、例
えば、プラズマ熔射法等に比較すると熔融温度が300
0℃が限度である欠点があるが、低コストである利点を
最大限に生かすことができる。上記燃焼用ガスを用いて
上記組成物を融点以上に加熱することにより熔融する場
合には、上記燃焼ガスを燃焼させた火炎中に粒子状の組
成物を気体により搬送供給し、火炎前方に設置したフッ
素樹脂フィルムの表面上に吹きつける。上記燃焼ガスの
火炎とフッ素樹脂フィルムとの間隔は特に限定されない
が、通常、火炎の先端から20cm以下であることが好
ましく、燃焼ガスの火炎がフッ素樹脂フィルムに当たっ
ていてもよい。
The above-mentioned spraying method will be described more specifically. Various combustion gases such as city gas and acetylene gas can be used as the combustion gas. These have, for example, a melting temperature of 300 when compared to the plasma spraying method or the like.
Although there is a drawback that 0 ° C is the limit, the advantage of low cost can be maximized. When the composition is melted by heating the composition to a temperature equal to or higher than the melting point using the combustion gas, the particulate composition is transported and supplied by gas into the flame in which the combustion gas is burned, and installed in front of the flame. Sprayed on the surface of the fluorinated resin film. Although the distance between the flame of the combustion gas and the fluororesin film is not particularly limited, it is usually preferably 20 cm or less from the tip of the flame, and the flame of the combustion gas may hit the fluororesin film.

【0046】上記燃焼ガスの温度は、上記組成物が含有
する光触媒性材料(b)を構成する光触媒作用物質(b
−1)及び/又はケイ素化合物(b−2)の融点によっ
て適宜変更することができ、例えば、光触媒作用物質
(b−1)が酸化チタンである場合には、酸化チタンの
融点を考慮して1000〜3000℃が、光触媒活性の
低下が少なく、より好ましい。
The temperature of the combustion gas depends on the photocatalytic substance (b) constituting the photocatalytic material (b) contained in the composition.
-1) and / or the melting point of the silicon compound (b-2). For example, when the photocatalytic substance (b-1) is titanium oxide, the melting point of titanium oxide is taken into consideration. 1000-3000 degreeC has a small fall of a photocatalytic activity, and is more preferable.

【0047】上記吹きつけ時の速度は特に限定されない
が、通常、100〜1000m/秒の範囲がよく、好ま
しくは300〜650m/秒である。また、熔射量は特
に限定されないが、通常、0.1〜40g/m2 がよ
い。熔射を受けるフィルム(A)の温度は、室温に保た
れるのが好ましいが、通常、80〜130℃程度に加熱
されることとなる。しかしながら、このような温度によ
っては、フィルム(A)が熔射によって影響を受けるこ
とはない。
The speed at the time of the above-mentioned spraying is not particularly limited, but is usually in the range of 100 to 1000 m / sec, preferably 300 to 650 m / sec. Further, the amount of thermal spraying is not particularly limited, but is usually preferably 0.1 to 40 g / m 2 . The temperature of the film (A) to be sprayed is preferably kept at room temperature, but is usually heated to about 80 to 130 ° C. However, depending on such a temperature, the film (A) is not affected by the spraying.

【0048】本発明の農業用防曇性フィルムを構成する
層(B)は、光励起に応じて、水濡れ性が、対水接触角
に換算して10°以下となるような性質を有する。この
ような性質を有するものが本発明の農業用防曇性フィル
ムであって、本発明の農業用防曇性フィルムは、このよ
うな性質を付与するために光励起を行った後のもののみ
に限定されるものではない。上記対水接触角に換算して
10°を超える水濡れ性であると、本発明の目的を達成
することができないので、上記範囲に限定される。本明
細書において、「対水接触角」とは、協和界面化学社
製、接触角計CA−DT・A型を用いて、温度25℃、
湿度22%RHで測定した数値を意味する。
The layer (B) constituting the antifogging film for agriculture of the present invention has such a property that the water wettability becomes 10 ° or less in terms of a contact angle with water in response to light excitation. Those having such properties are the agricultural anti-fog films of the present invention, and the agricultural anti-fog films of the present invention are only those obtained after photoexcitation to impart such properties. It is not limited. If the water wettability exceeds 10 ° in terms of the contact angle with respect to water, the object of the present invention cannot be achieved, so that it is limited to the above range. In the present specification, the term “contact angle with water” means a temperature of 25 ° C. using a contact angle meter CA-DT · A type manufactured by Kyowa Interface Chemical Co., Ltd.
It means a value measured at a humidity of 22% RH.

【0049】上記光励起は、上記光触媒性材料(b)の
バンドギャップエネルギーより高いエネルギーの波長を
もった任意の光源を利用することにより行うことができ
る。例えば、酸化チタンのように光励起波長が紫外線領
域に位置する場合には、太陽光に含まれる紫外線を好適
に用いることができる。屋内や夜間においては、人工光
源により光励起を行うことができる。また、蛍光灯に含
まれる微弱な紫外線でも容易に光励起を行うことができ
る。
The photoexcitation can be carried out by using any light source having a wavelength of energy higher than the band gap energy of the photocatalytic material (b). For example, when the photoexcitation wavelength is located in the ultraviolet region as in the case of titanium oxide, ultraviolet light contained in sunlight can be suitably used. In a room or at night, light excitation can be performed by an artificial light source. Further, light excitation can be easily performed even with weak ultraviolet light contained in a fluorescent lamp.

【0050】アナターゼ型酸化チタンは、波長387n
m以下、ルチル型酸化チタンは、413nm以下、酸化
錫は、344nm以下、酸化亜鉛は、387nm以下の
紫外線で光励起することができる。紫外線光源として
は、蛍光灯、白熱電灯、メタルハライドランプ、水銀ラ
ンプ等の室内照明灯を用いることができる。上記光励起
は、表面の対水接触角が、約10°以下、好ましくは約
5°以下、特に約0°以下になるまで行う。一般的に
は、0.001mW/cm2 の紫外線照度で光励起をす
れば、数日で対水接触角を0°にすることができる。
The anatase type titanium oxide has a wavelength of 387 n.
m or less, rutile-type titanium oxide can be photoexcited with ultraviolet light of 413 nm or less, tin oxide can be 344 nm or less, and zinc oxide can be photoexcited with ultraviolet rays of 387 nm or less. As the ultraviolet light source, indoor lighting such as a fluorescent lamp, an incandescent lamp, a metal halide lamp, and a mercury lamp can be used. The photoexcitation is carried out until the surface has a contact angle with water of about 10 ° or less, preferably about 5 ° or less, particularly about 0 ° or less. In general, if photoexcitation is performed with an ultraviolet illuminance of 0.001 mW / cm 2 , the contact angle with water can be reduced to 0 ° in several days.

【0051】[0051]

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0052】実施例1 フッ素樹脂としてETFE(ダイキン工業社製、ネオフ
ロンETFE)を330℃の樹脂温度で押出成形し、厚
さ60μmのフィルムを製膜した。得られたフィルムの
片面に窒素ガス雰囲気下において荷電密度190W/m
2 の条件でコロナ放電処理を行った。該処理面に超親水
性を有する光触媒コーティング材(東陶機器社製、酸化
チタン含有シリコーン剤)で表面処理し、120℃で1
時間加熱乾燥した。その後、太陽光を1週間照射し、試
験片を作製した。
Example 1 ETFE (Neoflon ETFE, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) as a fluororesin was extruded at a resin temperature of 330 ° C. to form a 60 μm thick film. One side of the obtained film has a charge density of 190 W / m under a nitrogen gas atmosphere.
The corona discharge treatment was performed under the conditions of 2 . The treated surface is surface-treated with a photocatalytic coating material having super hydrophilicity (manufactured by Totoki Kiki Co., Ltd., a titanium oxide-containing silicone agent).
Heat drying for hours. Thereafter, the specimen was irradiated with sunlight for one week to produce a test piece.

【0053】得られた試験片に関し、下記に示す試験を
行った。結果を表1に示した。実施例1で得られた試験
片は以下の試験方法により評価した。 剥離前対水接触角:協和界面化学社製、接触角計CA−
DT・A型を用いて、温度25℃、湿度22%RHで測
定した。
The following test was performed on the obtained test piece. The results are shown in Table 1. The test pieces obtained in Example 1 were evaluated by the following test methods. Water contact angle before peeling: Kyowa Interface Chemical Co., Ltd., contact angle meter CA-
The measurement was performed at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 22% RH using a DT · A type.

【0054】剥離前初期防曇性:内径6cm、深さ7c
mのガラスビンに純水100mlを入れ、その口を防曇
性フィルムの防曇層を内側にして封止した。このビンを
40℃のウォーターバス中にフィルム面が4/10の傾
斜角になるようにした。30分のちの防曇層表面の曇り
及び水滴の付着状態を目視により観察し以下の基準によ
り評価した。曇り、水滴がまったく付着せず完全に防曇
性を有するものを「5」、曇り、水滴の付着面積が10
%未満であるものを「4」、曇り、水滴の付着面積が1
0%以上〜40%未満の範囲にあるものを「3」、曇
り、水滴の付着面積が40%以上〜70%未満の範囲に
あるものを「2」、曇り、水滴の付着面積が70%以上
でまったく防曇性がないものを「1」とした。
Initial antifogging property before peeling: inner diameter 6 cm, depth 7 c
100 ml of pure water was placed in a glass bottle having a diameter of m, and the mouth was sealed with the anti-fog layer of the anti-fog film inside. The bottle was placed in a water bath at 40 ° C. so that the film surface had an inclination angle of 4/10. After 30 minutes, the fogging on the surface of the antifogging layer and the state of adhesion of water droplets were visually observed and evaluated according to the following criteria. "5" indicates that the film has complete anti-fogging property without clouding or water droplets attached thereto, and the cloudy or water-dropping adhesion area is 10
% Is less than "4" and the area of cloudiness and water droplets is 1
"3" for those in the range of 0% or more to less than 40%, and "2" for those in the range of 40% to less than 70% that are cloudy and water droplets, and 70% in the area of cloudy and water droplets. Those having no anti-fogging property were designated "1".

【0055】剥離後対水接触角:防曇性フィルムの処理
面に粘着テープ(日東電工社製、セロハンテープ)を貼
着し、上から指で5回こすって密着させたのち、一気に
上記テープを剥離したものを試験片としたこと以外は上
記剥離前対水接触角の測定と同様にして行った。
Contact angle with water after peeling: An adhesive tape (Cellophane tape, manufactured by Nitto Denko Corporation) is adhered to the treated surface of the antifogging film, and rubbed five times with a finger from above to make it adhere to the tape. The measurement was performed in the same manner as in the above-mentioned measurement of the contact angle with water, except that a test piece was used after peeling.

【0056】剥離後初期防曇性:防曇性フィルムの処理
面に、粘着テープ(日東電工社製、セロハンテープ)を
粘着し、上から5回こすって密着させたのち、一気に上
記テープを剥離したものを試験片としたこと以外は上記
剥離前初期防曇性の測定と同様にして行った。
Initial antifogging property after peeling: Adhesive tape (Cellophane tape, manufactured by Nitto Denko Corporation) is adhered to the treated surface of the antifogging film, and rubbed 5 times from above to adhere, and then the tape is peeled off at once. The test was performed in the same manner as in the above-mentioned measurement of the initial antifogging property before peeling, except that the test piece was used as a test piece.

【0057】防汚染付着性:試験片の処理面を上にし、
ダイキン工業淀川製作所敷地内において、30°の傾斜
角で暴露試験に供した。暴露後1ヶ月後、2ヶ月後及び
3ヶ月後の汚れの付着具合を目視により観察し、下記の
評価基準により評価した。 ◎:まったく汚れが生じなかった。 ○:ほとんど汚れが生じなかった。 △:多少汚れが付着していた。 ×:かなり汚れが付着していた。
Stain resistance: The treated surface of the test piece is turned up,
The test was performed at an inclination angle of 30 ° on the site of Daikin Industries Yodogawa Works. One month, two months and three months after the exposure, the degree of adhesion of dirt was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. A: No stain was generated. :: Almost no stain was generated. Δ: Dirt was slightly adhered. X: Stain was considerably adhered.

【0058】実施例2 実施例1と同じ厚さ60μmのETFEフィルムを製膜
し、このフィルムの両面に対して窒素ガス雰囲気中で常
温常圧下で荷電密度190W/m2 の条件でコロナ放電
処理を行った。該処理面に、実施例1で使用した光触媒
コーティング材で両面処理し、120℃で1時間加熱乾
燥した。その後、太陽光を1週間照射した。得られた試
験片に関して実施例1と同様の試験を行った。結果を表
1に示した。
Example 2 An ETFE film having a thickness of 60 μm was formed as in Example 1, and both surfaces of the film were subjected to corona discharge treatment under a condition of a charge density of 190 W / m 2 under a normal temperature and normal pressure in a nitrogen gas atmosphere. Was done. The treated surface was treated on both sides with the photocatalyst coating material used in Example 1, and dried by heating at 120 ° C. for 1 hour. Thereafter, sunlight was irradiated for one week. The same test as in Example 1 was performed on the obtained test piece. The results are shown in Table 1.

【0059】実施例3 実施例1において窒素ガス雰囲気の代わりに空気雰囲気
でコロナ放電処理を行うこと以外は実施例1と同様にし
て試験片を作製し、実施例1と同様の試験を行った。結
果を表1に示した。
Example 3 A test piece was prepared in the same manner as in Example 1 except that corona discharge treatment was performed in an air atmosphere instead of a nitrogen gas atmosphere, and the same test as in Example 1 was performed. . The results are shown in Table 1.

【0060】比較例1 特開昭59−179685号公報の実施例1記載の製造
法に準じて防曇剤を製造した。すなわち、ビニルトリメ
トキシシランと酢酸ビニルとの共重合体をケン化して得
られる、シリル基をビニルシラン単位として0.5モル
%含有し、酢酸ビニル単位のケン化度が99.0モル
%、重合度700の変性PVAを得た。変性PVAに対
して1.5%の水酸化ナトリウム水溶液に変性PVAが
10%になるように溶解させて変性PVAの水溶液を得
た。この水溶液の所定量にシリカの所定量を加えて攪拌
して均一にし、防曇剤を得た。この防曇剤を、実施例1
で作製したコロナ放電処理済のETFEフィルムの表面
に、バーコーターにより、熱処理したのちの防曇層が
0.5g/m2 となるように塗工した。なお、シリカは
コロイダルシリカ(日産化学工業社製、スノーテックス
−O、固形分濃度6.2%、平均粒径100μm)を用
いた。つぎに150℃で3分間熱処理を行い、試験片を
作製し、実施例1と同様の試験を行い、結果を表1に示
した。
Comparative Example 1 An antifogging agent was produced according to the production method described in Example 1 of JP-A-59-179885. That is, a copolymer of vinyltrimethoxysilane and vinyl acetate obtained by saponification contains 0.5 mol% of silyl groups as vinyl silane units, the degree of saponification of vinyl acetate units is 99.0 mol%, and A modified PVA having a degree of 700 was obtained. The modified PVA was dissolved in a 1.5% aqueous sodium hydroxide solution with respect to the modified PVA so that the modified PVA became 10% to obtain an aqueous solution of the modified PVA. A predetermined amount of silica was added to a predetermined amount of this aqueous solution, and the mixture was stirred to be uniform, thereby obtaining an antifogging agent. This antifogging agent was prepared in Example 1
The surface of the ETFE film having been subjected to the corona discharge treatment prepared in the above was coated with a bar coater so that the anti-fogging layer after the heat treatment became 0.5 g / m 2 . The silica used was colloidal silica (Snowtex-O manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content concentration 6.2%, average particle size 100 μm). Next, heat treatment was performed at 150 ° C. for 3 minutes to prepare a test piece, and the same test as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1.

【0061】比較例2 実施例1において、フッ素系樹脂としてFEP(ダイキ
ン工業社製、ネオフロンFEP)を390℃の樹脂温度
で押出し、厚さ100μmのフィルムを製膜した。得ら
れたフィルムの片面に酢酸ビニル蒸気を0.5%含有す
る窒素ガス雰囲気下において、荷電密度124W/m2
の条件でコロナ放電処理を行った。該処理面に、比較例
1で得られた防曇剤をバーコーターにより、熱処理した
のちの防曇層が0.5g/m2 となるように塗工した。
150℃で3分間熱処理を行い、試験片を作製し、実施
例1と同様の試験を行い、結果を表1に示した。
Comparative Example 2 In Example 1, FEP (Neoflon FEP, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) was extruded as a fluororesin at a resin temperature of 390 ° C. to form a film having a thickness of 100 μm. Under a nitrogen gas atmosphere containing 0.5% of vinyl acetate vapor on one side of the obtained film, the charge density was 124 W / m 2.
The corona discharge treatment was performed under the following conditions. The anti-fogging agent obtained in Comparative Example 1 was applied to the treated surface by a bar coater so that the anti-fogging layer after heat treatment became 0.5 g / m 2 .
A heat treatment was performed at 150 ° C. for 3 minutes to prepare a test piece, and the same test as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1.

【0062】比較例3 実施例1と同じETFEに紫外線遮断剤(TiO2 )を
0.1重量%混合してペレット化した。このペレットを
330℃で押出成形し、厚さ60μmのフィルムを製膜
した。得られたフィルムの片面に窒素ガス雰囲気下で常
温常圧下で荷電密度180W/m2 の条件でコロナ放電
処理を行った。該処理面に、比較例1で得た防曇剤をバ
ーコーターにより、熱処理した後の防曇層が0.5g/
2 となるように塗工した。150℃で3分間熱処理を
行い試験片を作製した。得られた試験片に関し、実施例
1と同様の試験を行った。結果を表1に示した。
Comparative Example 3 The same ETFE as in Example 1 was mixed with 0.1% by weight of an ultraviolet ray blocking agent (TiO 2 ) to form a pellet. The pellet was extruded at 330 ° C. to form a film having a thickness of 60 μm. One surface of the obtained film was subjected to a corona discharge treatment under a nitrogen gas atmosphere under normal temperature and normal pressure at a charge density of 180 W / m 2 . On the treated surface, the anti-fogging layer obtained after heat-treating the anti-fogging agent obtained in Comparative Example 1 with a bar coater was 0.5 g /
It was coated in such a way that m 2. A heat treatment was performed at 150 ° C. for 3 minutes to prepare a test piece. The same test as in Example 1 was performed on the obtained test piece. The results are shown in Table 1.

【0063】比較例4 光触媒コーティング材による表面処理を行わなかったこ
と以外は実施例1と同様にして試験片を作製し、実施例
1と同様の試験を行い、結果を表1に示した。
Comparative Example 4 A test piece was prepared in the same manner as in Example 1 except that the surface treatment with the photocatalytic coating material was not performed, and the same test as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明の農業用防曇性フィルムは、上述
の構成よりなるので、防曇効果の持続性と耐久性とに優
れ、しかも優れた防汚染付着性を併せ有している。ま
た、本発明の農業用防曇性フィルムと同一の構成を有す
る防曇性フィルムは、上述の優れた効果を利用して、太
陽電池等のカバー材等としても優れた性能を発揮する。
Since the agricultural anti-fog film of the present invention has the above-mentioned constitution, it has excellent durability and durability of the anti-fog effect, and also has excellent anti-fouling adhesion. In addition, the antifogging film having the same configuration as the agricultural antifogging film of the present invention exhibits excellent performance as a cover material of a solar cell or the like by utilizing the above-described excellent effects.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フッ素樹脂からなるフィルム(A)の少
なくとも一方の表面に、光触媒作用物質(b−1)及び
ケイ素化合物(b−2)からなる光触媒性材料(b)を
含む実質的に透明な層(B)が形成されてなる農業用防
曇性フィルムであって、前記ケイ素化合物(b−2)
は、シリコーン若しくはシリコーン前駆体又はシリカ若
しくはシリカ前駆体からなるものであり、前記層(B)
は、光励起に応じて、対水接触角に換算して10°以下
の水濡れ性を発現するものであることを特徴とする農業
用防曇性フィルム。
1. A substantially transparent film containing a photocatalytic substance (b-1) and a silicon compound (b-2) on at least one surface of a film (A) composed of a fluororesin. An antifogging film for agricultural use having a layer (B) formed thereon, wherein the silicon compound (b-2)
Is composed of silicone or a silicone precursor or silica or a silica precursor, and the layer (B)
Is an antifogging film for agricultural use, which exhibits water wettability of 10 ° or less in contact with water in response to light excitation.
【請求項2】 光触媒作用物質(b−1)は、酸化チタ
ン、酸化鉄、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、酸
化スズ、酸化ビスマス、酸化ルテニウム、酸化亜鉛及び
酸化ストロンチウムからなる群から選択された少なくと
も1種の化合物である請求項1記載の農業用防曇性フィ
ルム。
2. The photocatalytic substance (b-1) is at least one selected from the group consisting of titanium oxide, iron oxide, tungsten oxide, zirconium oxide, tin oxide, bismuth oxide, ruthenium oxide, zinc oxide and strontium oxide. The agricultural antifogging film according to claim 1, which is a compound of a kind.
【請求項3】 光触媒作用物質(b−1)は、アナター
ゼ型酸化チタンである請求項2記載の農業用防曇性フィ
ルム。
3. The antifogging film for agricultural use according to claim 2, wherein the photocatalytic substance (b-1) is an anatase type titanium oxide.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003319721A (en) * 2002-05-02 2003-11-11 Kazariichi:Kk Paper mulch sheet
US8043668B2 (en) 2006-11-02 2011-10-25 Asahi Glass Company, Limited Method for production of an ethylene/tetrafluorideethylene copolymer molded product
CN108432507A (en) * 2018-06-11 2018-08-24 宁波瑞凌节能环保创新与产业研究院 A kind of Agricultural greenhouse film with radiation cooling function

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