JPH1138201A - Antireflection film and image display device using the same - Google Patents

Antireflection film and image display device using the same

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JPH1138201A
JPH1138201A JP9197615A JP19761597A JPH1138201A JP H1138201 A JPH1138201 A JP H1138201A JP 9197615 A JP9197615 A JP 9197615A JP 19761597 A JP19761597 A JP 19761597A JP H1138201 A JPH1138201 A JP H1138201A
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refractive index
index layer
layer
film
antireflection film
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Tsukasa Yamada
司 山田
Tomokazu Yasuda
知一 安田
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the film strength and durability of a low-refractive index layer and to obtain high anti-reflection efficiency by strictly regulating the film thicknesses and refractive indices of respectively layers. SOLUTION: A middle-refractive index layer, high-refractive index layer and low-refractive index layer are successively formed from a base material side toward an air surface on the front surface of a transparent base material. The middle-refractive index layer contains the metal oxide selected from aluminum, etc., and the high-refractive index layer contains titanium oxide. The low-refractive index layer contains particulates consisting of a polymer of a fluorine-contained monomer and microvoids which do not scatter light. The refractive indices and film thicknesses of the respective layers are in ranges of the middle-refractive index layer: n3=1.60×1.70, hλ/4×0.8<n3d3<hλ/4λ1.2, the high-refractive index layer: n2=1.90 to 2.20, hλ/4×0.8<n2d2<hλ/4×1.2, the low-refractive index layer: n1=1.37 to 1.46, hλ/4×0.8<n1d1<hλ/4×1.2, where (h) and (k) respectively denote 1, 2 or 3 and (n) and (d) respectively denote the refractive indices and layer thicknesses (nm) of the respectively refractive index layers.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置(L
CD)、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプ
レイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)等の画像表示装置の画像表示表面の反射率
の低下に有効な反射防止膜及び反射防止膜を有する画像
表示装置に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display (L).
CD), a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescent display (ELD), and an image having an antireflection film effective for lowering the reflectance of an image display surface of an image display device. It relates to a display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、可視光(約400〜700nm)
のような広い波長領域を有する光に対する反射防止膜と
しては、金属酸化物等の金属化合物の透明薄膜を積層さ
せた多層膜が用いられてきた。反射防止膜として、多層
膜の代わりに低屈折率の単層膜を用いた場合、単色光に
対しては有効であるものの、ある程度広い波長領域を有
する光に対して単層膜は有効な反射防止効果を示さな
い。前記の多層膜では、積層数が多いほど波長領域の広
い光に対しても有効な反射防止膜となる。そのため、従
来の反射防止膜には、物理又は化学蒸着法等の手段によ
って金属酸化物等を3層以上積層したものが用いられて
きた。しかしながら、多層構造の反射防止膜を蒸着で形
成するためには、予め最適に設計された各層の屈折率と
膜厚との関係に従い、その膜厚を高精度に制御した物理
蒸着をその層の数だけ行う必要があり、煩雑で非常に高
コストなものである。また、表面の耐傷性あるいは指紋
付着性等の対汚染性の改善のためには例えば新たに含フ
ッ素樹脂からなる層を設ける必要がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, visible light (about 400 to 700 nm)
As an antireflection film for light having a wide wavelength range as described above, a multilayer film in which a transparent thin film of a metal compound such as a metal oxide is laminated has been used. When a single-layer film having a low refractive index is used instead of a multilayer film as an antireflection film, it is effective for monochromatic light, but a single-layer film is effective for light having a wide wavelength range to some extent. Does not show a protective effect. In the above-described multilayer film, the more the number of layers, the more effective the antireflection film for light having a wider wavelength range. Therefore, as the conventional antireflection film, a film obtained by laminating three or more layers of metal oxide or the like by means such as physical or chemical vapor deposition has been used. However, in order to form an antireflection film having a multilayer structure by vapor deposition, physical vapor deposition whose thickness is controlled with high precision in accordance with the relationship between the refractive index and the film thickness of each layer that has been optimally designed in advance is performed on the layer. It needs to be performed in a number of times, and is complicated and very expensive. Further, in order to improve the anti-contamination property such as scratch resistance or fingerprint adhesion of the surface, it is necessary to newly provide a layer made of a fluorine-containing resin, for example.

【0003】上述のような多層膜による方法の他に、空
気との界面から膜厚方向に屈折率が徐々に変化するよう
な膜によって反射防止効果を得る方法が、知られてい
る。例えば、特開平2−245702号公報には、ガラ
ス基板とMgF2 の中間の屈折率を持つSiO2 超微粒
子と、MgF2 超微粒子とを混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にSiO
2 の混合比を減少させてMgF2 の混合比を増加させる
ことにより、塗布層内の屈折率の変化を大きくさせると
共に、塗布層と空気、及び塗布層とガラス基板の界面に
おける屈折率変化を緩やかにすることによって、反射防
止効果が得られることが記載されている。このように形
成された反射防止膜は、その底面とガラス表面との屈折
率の変化が小さいので、高い反射防止効果を示す。
In addition to the above-described method using a multilayer film, a method for obtaining an antireflection effect by a film whose refractive index gradually changes in the film thickness direction from the interface with air is known. For example, JP-A-2-245702 discloses that an ultrafine particle of SiO 2 having an intermediate refractive index between a glass substrate and MgF 2 and an ultra fine particle of MgF 2 are mixed and applied to a glass substrate, and then applied from the glass substrate surface. SiO gradually toward the film surface
By decreasing the mixing ratio of 2 to increase the mixing ratio of MgF 2, with greatly changes in the refractive index of the coating layer, the coating layer and the air, and the refractive index change at the interface between the coating layer and the glass substrate It is described that an anti-reflection effect can be obtained by making it gentle. The thus formed anti-reflection film exhibits a high anti-reflection effect because the change in the refractive index between the bottom surface and the glass surface is small.

【0004】また、特開平5−13021号公報には、
エチルシリケート中に分散したMgF2 、SiO2 を有
する超微粒子を用いた二層からなる反射防止膜が開示さ
れている。例えば、第一層は、MgF2 /SiO2 が7
/3の層で、第二層は、MgF2 /SiO2 が1/1の
層で、第一層の屈折率が1.42そして第二層の屈折率
が1.44である。従って、屈折率変化は大きいとは言え
ず、充分な反射防止効果は得られない。
[0004] Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-13021 discloses that
An antireflection film comprising two layers using ultrafine particles having MgF 2 and SiO 2 dispersed in ethyl silicate is disclosed. For example, the first layer is composed of 7 MgF 2 / SiO 2.
The second layer is a layer in which MgF 2 / SiO 2 is 1/1, the refractive index of the first layer is 1.42, and the refractive index of the second layer is 1.44. Therefore, the change in the refractive index cannot be said to be large, and a sufficient antireflection effect cannot be obtained.

【0005】また、特開平7−92305号公報には、
コア部とその周囲のシェル部からなる屈折率1.428
の超微粒子からなり、空気と微粒子とから形成された表
面が凹凸の上層部(低屈折率)と、微粒子のみから形成
された下層部とからなる反射防止膜が開示されている。
そして、上記超微粒子のコア部が、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸、トリフルオロエチルアクリレート、
N−イソブトキシメチルアクリルアミドから形成され、
シェル部がスチレン、アクリル酸、アクリル酸ブチルか
ら形成されている。
[0005] Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-92305 discloses that
Refractive index of 1.428 consisting of core and surrounding shell
An anti-reflection film is disclosed which comprises an upper layer portion (low refractive index) having irregularities on the surface formed of air and fine particles and a lower layer portion formed only of fine particles.
And the core of the ultrafine particles is methyl methacrylate, methacrylic acid, trifluoroethyl acrylate,
Formed from N-isobutoxymethylacrylamide,
The shell part is formed from styrene, acrylic acid, and butyl acrylate.

【0006】更に、特開平7−168006号公報に
は、空気と微粒子(例、MgF2 )とから形成された表
面が凹凸の上層部(低屈折率)、微粒子のみの中層部
(中屈折率)、及び微粒子とバインダーから形成された
下層部とからなる反射防止膜が開示されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-168006 discloses that the surface formed of air and fine particles (eg, MgF 2 ) has an irregular upper layer portion (low refractive index) and a fine particle only middle layer portion (medium refractive index). ), And an antireflection film comprising fine particles and a lower layer portion formed of a binder.

【0007】しかしながら、前記の特開平2−2457
02号公報、特開平5−13021号公報、特開平7−
92305号公報及び特開平7−168006号公報に
記載の反射防止膜は、空気に対する屈折率が膜厚方向に
徐々に変化する原理を利用したものである。これらの反
射防止膜は、その作成に、煩雑な操作と、熟練した技術
が必要であり、また得られる膜も満足な反射防止効果が
得られていない。
[0007] However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-2457.
02, JP-A-5-13021, JP-A-7-
The antireflection films described in JP-A-92305 and JP-A-7-168006 utilize the principle that the refractive index to air gradually changes in the thickness direction. These antireflection films require complicated operations and skillful techniques for their preparation, and the obtained films do not have a satisfactory antireflection effect.

【0008】発明者らは、平均粒径が200nm以下で
ある含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子を含み、
微粒子が少なくとも2個以上に積み重なることによって
微粒子同士の間に平均してミクロボイドを含有した膜に
より低屈折率層の形成が可能であり、該低屈折層を含ん
だ反射防止膜を形成することで低屈折率膜を形成可能な
ことを見いだした。
The inventors include fine particles comprising a polymer of a fluorine-containing monomer having an average particle size of 200 nm or less,
By stacking at least two fine particles, it is possible to form a low-refractive-index layer by a film containing microvoids on average between the fine particles, and by forming an antireflection film including the low-refractive layer. It has been found that a low refractive index film can be formed.

【0009】しかし、単に微粒子同士を積層しただけで
は粒子間の付着性が不十分であるため、膜強度が十分で
なく、更には、該層と下層との付着性が十分でないた
め、剥がれ等が起こるという問題があった。
However, simply laminating the fine particles does not provide sufficient adhesion between the particles, resulting in insufficient film strength. Further, the adhesion between the layer and the lower layer is not sufficient, resulting in peeling. There was a problem that happened.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ミクロボイ
ドを含有した低屈折率層を含んでなる反射防止膜におい
て、その低屈折率層の膜強度、耐久性を改良し、各層の
膜厚および屈折率を厳密に規定することにより、高い反
射防止効果を示す反射防止膜を提供することを目的とす
る。また本発明は、光を散乱しないミクロボイド(以
下、単にミクロボイドと省略)を含有した低屈折率層を
含んでなる反射防止膜において、その低屈折率層の膜強
度、耐久性を改良し、各層の膜厚および屈折率を厳密に
規定することにより、高い反射防止効果を示す反射防止
膜を備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an antireflection film comprising a low refractive index layer containing microvoids, which improves the film strength and durability of the low refractive index layer, and improves the film thickness and the thickness of each layer. An object of the present invention is to provide an antireflection film that exhibits a high antireflection effect by strictly defining a refractive index. The present invention also provides an antireflection film comprising a low-refractive-index layer containing microvoids that do not scatter light (hereinafter, simply referred to as microvoids). An object of the present invention is to provide an image display device provided with an anti-reflection film exhibiting a high anti-reflection effect by strictly defining the film thickness and the refractive index.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上述の課題は下記の反射
防止膜によって解決される。 (1)透明基材の表面の少なくとも一方に、基材側から
空気面に向かって順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折
率層を形成した反射防止膜であって、各層がそれぞれ少
なくとも1種類の2個以上の重合性基を有するモノマー
からなるポリマーを含有しており、該ポリマーは各層を
形成した後重合されたものであり、中屈折率層がアルミ
ニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン、亜
鉛、錫から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を含
み、高屈折率層が酸化チタンを含み、低屈折率層が含フ
ッ素モノマーの重合体からなる微粒子と光を散乱しない
ミクロボイドを含み、各層の屈折率、膜厚が以下の範囲
であることを特徴とする反射防止膜。 中屈折率層 n3=1.60〜1.70 hλ/4×0.8<n3 d3 <hλ/4×1.2 高屈折率層 n2=1.90〜2.20 kλ/4×0.8<n2d2<kλ/4×1.2 低屈折率層 n1=1.37〜1.46 λ/4×0.8<n1d1<λ/4×1.2 (上記式に於て、hは1、2又は3を表わし、n3 は中
屈折率層の屈折率を表わし、d3 は中屈折率層の層厚(n
m)を表わし、kは1、2又は3を表わし、n2は高屈折
率層の屈折率を表わし、d2は高屈折率層の層厚(nm)を
表わし、n1は低屈折率層の屈折率を表わし、そしてd
1は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。)
The above-mentioned problems are solved by the following antireflection film. (1) An antireflection film in which a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are formed on at least one of the surfaces of the transparent substrate in order from the substrate side to the air surface, and each layer is The polymer contains at least one kind of monomer having two or more polymerizable groups, and the polymer is polymerized after forming each layer, and the medium refractive index layer is made of aluminum, titanium, zirconium, antimony. Contains at least one metal oxide selected from zinc and tin, the high refractive index layer contains titanium oxide, and the low refractive index layer contains fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids that do not scatter light, An antireflection film, wherein the refractive index and the film thickness of each layer are in the following ranges. Medium refractive index layer n3 = 1.60-1.70 hλ / 4 × 0.8 <n3 d3 <hλ / 4 × 1.2 High refractive index layer n2 = 1.90-2.20 kλ / 4 × 0.8 <n2d2 <kλ / 4 × 1.2 Low refractive index layer n1 = 1.37-1.46 λ / 4 × 0.8 <n1d1 <λ / 4 × 1.2 (In the above formula, h represents 1, 2 or 3, and n3 is medium refraction. Represents the refractive index of the refractive index layer, and d3 is the thickness of the medium refractive index layer (n
m), k represents 1, 2 or 3, n2 represents the refractive index of the high refractive index layer, d2 represents the layer thickness (nm) of the high refractive index layer, and n1 represents the refractive index of the low refractive index layer. Represents the rate, and d
1 represents the thickness (nm) of the low refractive index layer. )

【0012】(2)透明基材の表面の少なくとも一方
に、基材側から空気面に向かって順に中屈折率層、高屈
折率層、低屈折率層を形成した反射防止膜であって、各
層がそれぞれ少なくとも1種類の2個以上の重合性基を
有するモノマーからなるポリマーを含有しており、中屈
折率層がアルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、ア
ンチモン、亜鉛、錫から選ばれる少なくとも1種の金属
酸化物を含み、高屈折率層が酸化チタンを含み、低屈折
率層が含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子と光を
散乱しないミクロボイドを含み、各層の屈折率、膜厚が
以下の範囲(A)であることを特徴とする反射防止膜。 (A)中屈折率層 n3=1.60〜1.70、d3=60〜110nm (A)高屈折率層 n2=1.90〜2.20、d2=90〜190nm (A)低屈折率層 n1=1.37〜1.46、d1=70〜130nm (上記式に於て、n3 は中屈折率層の屈折率を表わし、
d3 は中屈折率層の層厚(nm)を表わし、n2は高屈
折率層の屈折率を表わし、d2は高屈折率層の層厚(n
m)を表わし、n1は低屈折率層の屈折率を表わし、そ
してd1は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。)
(2) An antireflection film having a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer formed on at least one of the surfaces of the transparent substrate in order from the substrate side to the air surface, Each layer contains a polymer made of a monomer having at least one kind of two or more polymerizable groups, and the medium refractive index layer is made of at least one metal selected from aluminum, titanium, zirconium, antimony, zinc, and tin. The oxide has a high refractive index layer containing titanium oxide, the low refractive index layer contains fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids that do not scatter light, and the refractive index and film thickness of each layer are in the following ranges ( A) An anti-reflection film, characterized in that: (A) Medium refractive index layer n3 = 1.60-1.70, d3 = 60-110 nm (A) High refractive index layer n2 = 1.90-2.20, d2 = 90-190 nm (A) Low refractive index layer n1 = 1.37-1.46, d1 = 70-130 nm (wherein n3 represents the refractive index of the middle refractive index layer,
d3 represents the thickness (nm) of the middle refractive index layer, n2 represents the refractive index of the high refractive index layer, and d2 represents the thickness of the high refractive index layer (n
m), n1 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d1 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. )

【0013】(3)透明基材の表面の少なくとも一方
に、基材側から空気面に向かって順に中屈折率層、高屈
折率層、低屈折率層を形成した反射防止膜であって、各
層がそれぞれ少なくとも1種類の2個以上の重合性基を
有するモノマーからなるポリマーを含有しており、中屈
折率層がアルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、ア
ンチモン、亜鉛、錫から選ばれる少なくとも1種の金属
酸化物を含み、高屈折率層が酸化チタンを含み、低屈折
率層が含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子と光を
散乱しないミクロボイドを含み、各層の屈折率、膜厚が
以下の範囲(B)であることを特徴とする反射防止膜。 (B)中屈折率層 n3=1.60〜1.70、d3=180 〜330nm (B)高屈折率層 n2=1.90〜2.20、d2=90〜190nm (B)低屈折率層 n1=1.37〜1.46、d1=70〜130nm (上記式に於て、n3 は中屈折率層の屈折率を表わし、
d3 は中屈折率層の層厚(nm)を表わし、n2は高屈
折率層の屈折率を表わし、d2は高屈折率層の層厚(n
m)を表わし、n1は低屈折率層の屈折率を表わし、そ
してd1は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。)
(3) An antireflection film having a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer formed on at least one of the surfaces of the transparent substrate in order from the substrate side to the air surface, Each layer contains a polymer made of a monomer having at least one kind of two or more polymerizable groups, and the medium refractive index layer is made of at least one metal selected from aluminum, titanium, zirconium, antimony, zinc, and tin. The oxide has a high refractive index layer containing titanium oxide, the low refractive index layer contains fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids that do not scatter light, and the refractive index and film thickness of each layer are in the following ranges ( B) An antireflection film, characterized in that: (B) Medium refractive index layer n3 = 1.60-1.70, d3 = 180-330 nm (B) High refractive index layer n2 = 1.90-2.20, d2 = 90-190 nm (B) Low refractive index layer n1 = 1.37-1.46, d1 = 70-130 nm (wherein n3 represents the refractive index of the middle refractive index layer,
d3 represents the thickness (nm) of the middle refractive index layer, n2 represents the refractive index of the high refractive index layer, and d2 represents the thickness of the high refractive index layer (n
m), n1 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d1 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. )

【0014】(4)透明基材の表面の少なくとも一方
に、基材側から空気面に向かって順に中屈折率層、高屈
折率層、低屈折率層を形成した反射防止膜であって、各
層がそれぞれ少なくとも1種類の2個以上の重合性基を
有するモノマーからなるポリマーを含有しており、中屈
折率層がアルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、ア
ンチモン、亜鉛、錫から選ばれる少なくとも1種の金属
酸化物を含み、高屈折率層が酸化チタンを含み、低屈折
率層が含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子と光を
散乱しないミクロボイドを含み、各層の屈折率、膜厚が
以下の範囲(C)であることを特徴とする反射防止膜。 (C)中屈折率層 n1=1.60〜1.70、d1=60〜110nm (C)高屈折率層 n2=1.90〜2.20、d2=45〜90nm (C)低屈折率層 n3=1.37〜1.46、d3=70〜130nm (上記式に於て、n3 は中屈折率層の屈折率を表わし、
d3 は中屈折率層の層厚(nm)を表わし、n2は高屈
折率層の屈折率を表わし、d2は高屈折率層の層厚(n
m)を表わし、n1は低屈折率層の屈折率を表わし、そ
してd1は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。)
(4) An antireflection film having a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer formed on at least one of the surfaces of the transparent substrate in order from the substrate side to the air surface, Each layer contains a polymer made of a monomer having at least one kind of two or more polymerizable groups, and the medium refractive index layer is made of at least one metal selected from aluminum, titanium, zirconium, antimony, zinc, and tin. The oxide has a high refractive index layer containing titanium oxide, the low refractive index layer contains fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids that do not scatter light, and the refractive index and film thickness of each layer are in the following ranges ( C) An antireflection film, characterized in that: (C) Medium refractive index layer n1 = 1.60-1.70, d1 = 60-110 nm (C) High refractive index layer n2 = 1.90-2.20, d2 = 45-90 nm (C) Low refractive index layer n3 = 1.37-1.46, d3 = 70-130 nm (wherein n3 represents the refractive index of the middle refractive index layer,
d3 represents the thickness (nm) of the middle refractive index layer, n2 represents the refractive index of the high refractive index layer, and d2 represents the thickness of the high refractive index layer (n
m), n1 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d1 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer. )

【0015】(5)前記低屈折率層のミクロボイドの体
積分率が、0.05〜0.50の範囲にある前記(1)
または(2)または(3)または(4)に記載の反射防
止膜。 (6)前記含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子が
コア―シェル構造を有する前記(1)または(2)また
は(3)または(4)に記載の反射防止膜。 (7)前記反射防止膜のヘイズ値が3〜40%の範囲に
ある前記(1)または(2)または(3)または(4)
に記載の反射防止膜。 (8)前記(1)または(2)または(3)または
(4)に記載の反射防止膜を有することを特徴とする画
像表示装置。
(5) The micro-void volume fraction of the low refractive index layer is in the range of 0.05 to 0.50.
Or the antireflection film according to (2) or (3) or (4). (6) The antireflection film according to the above (1), (2), (3) or (4), wherein the fine particles comprising the polymer of the fluorine-containing monomer have a core-shell structure. (7) The above (1) or (2) or (3) or (4) wherein the haze value of the antireflection film is in the range of 3 to 40%.
2. The antireflection film according to 1. (8) An image display device comprising the antireflection film according to (1) or (2) or (3) or (4).

【0016】本発明の反射防止膜は、空気側から基板側
に向かって上記含フッ素重合体の微粒子とミクロボイド
からなる低屈折率層、それよりも高い屈折率を有する高
屈折率層、高屈折率層よりも屈折率が低く基板より屈折
率の高い中屈折率層の3層を含んでなる。また、前記
(1)に定義された層の屈折率と膜厚の関係は特開昭5
9−50401号公報に記載されているように光学的に
導くことができる。
The antireflection film of the present invention comprises, from the air side to the substrate side, a low refractive index layer composed of the above-mentioned fluoropolymer fine particles and microvoids, a high refractive index layer having a higher refractive index, and a high refractive index layer. And a medium refractive index layer having a lower refractive index than the refractive index layer and a higher refractive index than the substrate. The relationship between the refractive index and the film thickness of the layer defined in the above (1) is disclosed in
It can be guided optically as described in JP 9-50401.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の他の代表例
を図1に示す。中屈折率層8が透明フィルム(支持体)
12上に形成され、高屈折率層5が中屈折率層8上に形
成され、さらに低屈折率層1が高屈折率層5上に形成さ
れている。また、本発明の低屈折率層は少なくとも2個
の含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子が膜厚方向
に重ねられることにより、微粒子間にミクロボイド3が
形成されるたものである。粒子の大きさがほぼ同じであ
るので、ミクロボイドは、通常ボイドの大きさ、その間
隔において均一に形成されている。本発明の低屈折率層
はミクロでは微粒子であるが、マクロでは一つの層とみ
なすことができる。含フッ素モノマーの重合体からなる
微粒子は、一般に溶剤の除去または加熱により、溶融あ
るいは軟化して互いに密着する。あるいは、含フッ素モ
ノマーの重合体からなる微粒子が官能基(反応性基)を
有する場合には、官能基間の反応により粒子同士が結合
することができる。また含フッ素モノマーの重合体から
なる微粒子は、極く少量の少なくとも1種類の、2個以
上の重合性基を有するモノマーからなるポリマー4で強
固に密着されていることが必要である。また、高屈折層
は酸化チタン微粒子6を、中屈折層はアルミニウム、チ
タニウム、ジルコニウム、アンチモン、亜鉛または錫の
金属酸化物微粒子(好ましくは酸化チタンまたは酸化
錫)9を含んでいる。両層はそれぞれ少なくとも1種類
の2個以上の重合性基を有するモノマーからなるポリマ
ー7、10を含有している。ポリマー4、7、10は2
個以上の重合性基を有するモノマーから形成されるた
め、溶剤に不溶である。そのため、各層を形成した後、
モノマーを重合させてポリマーを形成させる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows another typical example of the antireflection film of the present invention. The middle refractive index layer 8 is a transparent film (support)
12, the high refractive index layer 5 is formed on the middle refractive index layer 8, and the low refractive index layer 1 is formed on the high refractive index layer 5. In the low refractive index layer of the present invention, microvoids 3 are formed between the fine particles by laminating fine particles made of a polymer of at least two fluorine-containing monomers in the thickness direction. Since the size of the particles is almost the same, the microvoids are usually formed uniformly in the size of the voids and at the intervals. The low-refractive-index layer of the present invention is fine particles in a micro structure, but can be regarded as one layer in a macro structure. Fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer are generally melted or softened by solvent removal or heating and adhere to each other. Alternatively, when the fine particles made of the polymer of the fluorine-containing monomer have a functional group (reactive group), the particles can be bonded to each other by a reaction between the functional groups. Further, the fine particles made of a polymer of the fluorine-containing monomer need to be firmly adhered to a very small amount of at least one kind of polymer 4 made of a monomer having two or more polymerizable groups. The high refractive layer contains titanium oxide fine particles 6 and the middle refractive layer contains metal oxide fine particles (preferably titanium oxide or tin oxide) 9 of aluminum, titanium, zirconium, antimony, zinc or tin. Both layers contain polymers 7, 10 each consisting of at least one monomer having two or more polymerizable groups. Polymers 4, 7, 10 are 2
Since it is formed from a monomer having two or more polymerizable groups, it is insoluble in solvents. Therefore, after forming each layer,
The monomers are polymerized to form a polymer.

【0018】本発明の低屈折率層の表面の空気の屈折率
は1であり、本発明の含フッ素モノマーの重合体からな
る微粒子の屈折率は空気の屈折率1よりも高く、一般に
1.25から1.46の間にある。そして本発明の低屈
折率層は、空気層の屈折率と微粒子自体の屈折率の間に
位置することになる。従って、本発明の低屈折率層の屈
折率は、含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子をよ
り小さくすることによって、素材の屈折率よりもミクロ
ボイドの体積分率の分だけ低くすることができる。含フ
ッ素モノマーの重合体からなる微粒子の平均粒径は、一
般に5〜200nmの範囲にあり、5〜50nmが好ま
しい。また低屈折率層の層厚は、一般に5〜400nm
の範囲にあり、50〜200nmが好ましい。
The refractive index of air on the surface of the low refractive index layer of the present invention is 1, and the refractive index of the fine particles comprising a polymer of the fluorine-containing monomer of the present invention is higher than the refractive index of air, generally 1. Between 25 and 1.46. The low refractive index layer of the present invention is located between the refractive index of the air layer and the refractive index of the fine particles themselves. Therefore, the refractive index of the low refractive index layer of the present invention can be made lower than the refractive index of the material by the volume fraction of microvoids by making the fine particles made of the polymer of the fluorine-containing monomer smaller. The average particle size of the fine particles made of the polymer of the fluorine-containing monomer is generally in the range of 5 to 200 nm, preferably 5 to 50 nm. The thickness of the low refractive index layer is generally 5 to 400 nm.
And the thickness is preferably 50 to 200 nm.

【0019】本発明において用いられる含フッ素モノマ
ーの重合体からなる微粒子の平均粒径は、5〜200n
mの範囲が一般的で、5〜100nmが好ましく、5〜
50nmが特に好ましい。このような微粒子は、例え
ば、ポリマーラテックスから得られる。微粒子の粒径が
増大すると膜表面での散乱が増加し、200nmを超え
ると散乱光に色付きが生じ、好ましくない。本発明の反
射防止膜に使用される含フッ素モノマーの重合体として
は、結晶性、非晶性のいずれのものも用いることができ
る。これまで結晶性を有する含フッ素モノマーの重合体
は光線透過率を低減させるために光学材料の膜としては
用いることができなかったが、光の波長よりも充分に小
さな粒径を有する微粒子を用いることによって、結晶性
を有するものであっても光線透過率を低減すること無く
反射防止膜として用いることができる。本発明における
含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子のガラス転移
温度(Tg)は70℃以上が好ましく、100℃が特に
好ましい。尚、上限は用いる基材によっても異なるが2
00℃以下が好ましい。Tgが室温未満の場合は、微粒
子が過度に軟化するために破壊され易く、このためミク
ロボイドが消失して屈折率が上昇する。含フッ素モノマ
ーの重合体からなる微粒子として、Tgの異なる二種以
上の含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子を用いる
ことができる。その場合、Tgの差は少なくとも5℃以
上が一般的で、20℃以上が好ましい。
The average particle diameter of the fine particles made of the fluoromonomer polymer used in the present invention is 5 to 200 n.
m is generally in the range of 5 to 100 nm, preferably 5 to 100 nm.
50 nm is particularly preferred. Such fine particles are obtained, for example, from a polymer latex. When the particle size of the fine particles increases, scattering on the film surface increases. When the particle size exceeds 200 nm, the scattered light becomes undesirably colored. As the polymer of the fluorine-containing monomer used in the antireflection film of the present invention, any of a crystalline polymer and an amorphous polymer can be used. Until now, a polymer of a fluorine-containing monomer having crystallinity could not be used as a film of an optical material in order to reduce light transmittance, but use fine particles having a particle size sufficiently smaller than the wavelength of light Thus, even a film having crystallinity can be used as an anti-reflection film without reducing light transmittance. The glass transition temperature (Tg) of the fine particles made of the polymer of the fluorine-containing monomer in the present invention is preferably 70 ° C. or more, and particularly preferably 100 ° C. The upper limit varies depending on the base material used, but is 2
00 ° C or lower is preferred. When the Tg is lower than room temperature, the fine particles are excessively softened and thus are easily broken, so that microvoids disappear and the refractive index increases. As the fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer, fine particles made of a polymer of two or more kinds of fluorine-containing monomers having different Tg can be used. In that case, the difference in Tg is generally at least 5 ° C., and preferably at least 20 ° C.

【0020】本発明の微粒子を形成する含フッ素重合体
のモノマー単位はモノマーがフッ素原子を含有している
ものであれば特に制限はない。これらのモノマーの具体
例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフル
オロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオ
ロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ
ブタジエン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3
−ジオキソールなど)、アクリルまたはメタクリル酸の
部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリール
エステル類(例えば下記一般式で表される化合物)、完
全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部
分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化
ビニルケトン類等であり、これらの任意のモノマーを任
意の比率で組み合わせて共重合により目的のポリマーを
得ることができる。
The monomer unit of the fluoropolymer forming the fine particles of the present invention is not particularly limited as long as the monomer contains a fluorine atom. Specific examples of these monomers include, for example, fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3
-Dioxole, etc.), acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters (e.g., compounds represented by the following general formula), fully or partially fluorinated vinyl ethers, fully or partially fluorinated vinyl esters And fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the desired polymer can be obtained by copolymerization by combining any of these monomers at any ratio.

【0021】[0021]

【化1】 Embedded image

【0022】式中、R1 は水素原子、炭素数1ないし3
のアルキル基またはハロゲン原子を表す。Rfは完全ま
たは部分フッ素化されたアルキル基、アルケニル基、ヘ
テロ環またはアリール基を表す。R2 およびR3 はそれ
ぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、ヘテ
ロ環、アリール基または上記Rfで定義される基を表
す。R1 、R2 、R3 およびRfはそれぞれフッ素原子
以外の置換基を有していても良い。また、R2 、R3
よびRfの任意の2つ以上の基が互いに結合して環構造
を形成しても良い。
In the formula, R 1 is a hydrogen atom, having 1 to 3 carbon atoms.
Represents an alkyl group or a halogen atom. Rf represents a completely or partially fluorinated alkyl group, alkenyl group, heterocycle or aryl group. R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a heterocyclic ring, an aryl group or a group defined by Rf. R 1 , R 2 , R 3 and Rf may each have a substituent other than a fluorine atom. Further, any two or more groups of R 2 , R 3 and Rf may be bonded to each other to form a ring structure.

【0023】[0023]

【化2】 Embedded image

【0024】式中、Aは完全または部分フッ素化された
n価の有機基を表す。R4 は水素原子、炭素数1ないし
3のアルキル基またはハロゲン原子を表す。R4 はフッ
素原子以外の置換基を有していても良い。nは2ないし
8の整数を表す。
In the formula, A represents a fully or partially fluorinated n-valent organic group. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or a halogen atom. R 4 may have a substituent other than a fluorine atom. n represents an integer of 2 to 8.

【0025】以下に本発明の微粒子に好ましく用いられ
るモノマーの例を挙げるが、本発明はこれらの具体的構
造に限定されるものではない。
Examples of the monomer preferably used for the fine particles of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these specific structures.

【0026】[0026]

【化3】 Embedded image

【0027】[0027]

【化4】 Embedded image

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】[0029]

【化6】 Embedded image

【0030】[0030]

【化7】 Embedded image

【0031】(但し、xは1〜4の整数である)(Where x is an integer of 1 to 4)

【0032】また、上記の含フッ素モノマーの他に粒子
の硬度、形状、表面特性、粒子径、粒度分布等を制御す
る目的でフッ素原子を含有しないモノマーを併用しても
良い。併用可能なモノマー単位には特に制限はなく、通
常のラジカル重合またはイオン重合法で共重合可能なも
のであれば、好適に用いることができる。この様なモノ
マーの好ましい例として、例えば、オレフィン類(エチ
レン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、6−ヒドロキシ−1−ヘキセン、
シクロペンタジエン、4−ペンテン酸、8−ノネン酸メ
チル、ビニルスルホン酸、トリメチルビニルシラン、ト
リメトキシビニルシランなど)、不飽和カルボン酸およ
びその塩類(アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
マレイン酸、アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸アン
モニウム、イタコン酸カリウムなど)、β−不飽和カル
ボン酸のエステル類(メチルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、
2−クロロエチルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、2−シアノエチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメ
タクリレート、グリシジルメタクリレート、グリセリン
モノメタクリレート、2−アセトキシエチルメタクリレ
ート、フェニルメタクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルメタクリレート、2−メトキシエチルメタクリレー
ト、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレー
ト(付加モル数=2ないし100のもの)、ω−ヒドロ
キシポリエチレングリコールメタクリレート(付加モル
数=2ないし100のもの)、ω−ヒドロキシポリプロ
ピレングリコールメタクリレート(付加モル数=2ない
し100のもの)、3−N,N−ジメチルアミノプロピ
ルメタクリレート、クロロ−3−N,N,N−トリメチ
ルアンモニオプロピルメタクリレート、2−カルボキシ
エチルメタクリレート、3−スルホプロピルメタクリレ
ート、4−オキシスルホブチルメタクリレート、マレイ
ン酸モノブチル、マレイン酸ジメチル、イタコン酸モノ
メチル、イタコン酸ジブチル、3−トリメトキシシリル
プロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、2−
イソシアナトエチルメタクリレートなど)、不飽和カル
ボン酸のアミド類(アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N,N−ジメチルアク
リルアミド、N−メチル−N−ヒドロキシエチルメタク
リルアミド、N−tertブチルアクリルアミド、N−
tertオクチルメタクリルアミド、N−シクロヘキシ
ルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−
(2−アセトアセトキシエチル)アクリルアミド、N−
アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミ
ド、イタコン酸ジアミド、N−メチルマレイミド、2−
アクリルアミド−メチルプロパンスルホン酸など)、不
飽和ニトリル類(アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ルなど)、スチレン誘導体類(スチレン、ビニルトルエ
ン、p−tertブチルスチレン、ビニル安息香酸メチ
ル、α−メチルスチレン、p−クロロメチルスチレン、
ビニルナフタレン、p−ヒドロキシメチルスチレン、p
−スチレンスルホン酸ナトリウム塩、p−スチレンスル
フィン酸カリウム塩、p−アミノメチルスチレンな
ど)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、ブチ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルな
ど)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルクロロ酢酸ビ
ニルなど)、その他の重合性単量体(N−ビニルイミダ
ゾール、4−ビニルピリジン、N−ビニルピロリドンな
ど)などを挙げることができる。但し、これらのモノマ
ーは粒子の屈折率を上昇させない必要最小量を共重合し
て用いることが望ましい。
Further, in addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer, a monomer containing no fluorine atom may be used in combination for the purpose of controlling the hardness, shape, surface characteristics, particle size, particle size distribution and the like of the particles. There are no particular restrictions on the monomer units that can be used in combination, and any monomer unit that can be copolymerized by ordinary radical polymerization or ionic polymerization can be suitably used. Preferred examples of such monomers include, for example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, butadiene, vinyl chloride, vinylidene chloride, 6-hydroxy-1-hexene,
Cyclopentadiene, 4-pentenoic acid, methyl 8-nonenoate, vinylsulfonic acid, trimethylvinylsilane, trimethoxyvinylsilane, etc., unsaturated carboxylic acids and salts thereof (acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid,
Maleic acid, sodium acrylate, ammonium methacrylate, potassium itaconate, etc., esters of β-unsaturated carboxylic acids (methyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate,
2-chloroethyl acrylate, benzyl acrylate, 2-cyanoethyl acrylate, methyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, glycerin monomethacrylate, 2-acetoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-methoxy Ethyl methacrylate, ω-methoxypolyethylene glycol methacrylate (additional moles = 2 to 100), ω-hydroxypolyethylene glycol methacrylate (additional moles = 2 to 100), ω-hydroxypolypropylene glycol methacrylate (additional moles = 2 to 100), 3-N, N-dimethylaminopropyl methacrylate, chloroform -3-N, N, N-trimethylammoniopropyl methacrylate, 2-carboxyethyl methacrylate, 3-sulfopropyl methacrylate, 4-oxysulfobutyl methacrylate, monobutyl maleate, dimethyl maleate, monomethyl itaconate, dibutyl itaconate, 3-trimethoxysilylpropyl methacrylate, allyl methacrylate, 2-
Amides of unsaturated carboxylic acids (acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N-hydroxyethylmethacrylamide, N-tertbutylacrylamide, N −
tert-octyl methacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-
(2-acetoacetoxyethyl) acrylamide, N-
Acryloyl morpholine, diacetone acrylamide, itaconic acid diamide, N-methylmaleimide, 2-
Acrylamide-methylpropanesulfonic acid, etc.), unsaturated nitriles (acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.), styrene derivatives (styrene, vinyltoluene, p-tertbutylstyrene, methyl vinylbenzoate, α-methylstyrene, p-chloro) Methyl styrene,
Vinylnaphthalene, p-hydroxymethylstyrene, p
-Sodium styrenesulfonate, potassium p-styrenesulfinate, p-aminomethylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, benzoate) Examples thereof include vinyl acid, vinyl salicylate vinyl chlorovinyl acetate, and the like, and other polymerizable monomers (such as N-vinyl imidazole, 4-vinyl pyridine, and N-vinyl pyrrolidone). However, it is desirable that these monomers are copolymerized and used in a necessary minimum amount which does not increase the refractive index of the particles.

【0033】また、上記の単官能モノマーに加え、任意
の多官能モノマーを共重合することで粒子の硬度、溶剤
に対する膨潤を制御することができる。用いる多官能モ
ノマーには特に制限はなく市販、または合成の一分子中
に複数個の重合性不飽和基を有するものであればこれを
好適に使用できる。形成される低屈折層の屈折率低下の
観点から、この多官能モノマーを先に例示したフッ素原
子を含有する多官能モノマーから選択しても良い。該多
官能モノマーの具体例としては、例えばオレフィン類
(ブタジエン、ペンタジエン、1,4−ジビニルシクロ
ヘキサン、1,2,5−トリビニルシクロヘキサンな
ど)、アクリル酸およびメタクリル酸のエステル類(エ
チレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、1,2,4−シクロヘキサンテトラメタクリレー
トなど)、スチレン誘導体(1,4−ジビニルベンゼ
ン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエス
テルなど)、ビニルスルホン類(ジビニルスルホンな
ど)、アクリルアミド類(メチレンビスアクリルアミ
ド、ジアクリロイルピペラジンなど)、メタクリルアミ
ド類(メチレンビスメタクリルアミド、ジメタクリロイ
ルピペラジンなど)などを挙げることができる。
Further, by copolymerizing an arbitrary polyfunctional monomer in addition to the above monofunctional monomer, the hardness of the particles and the swelling with respect to the solvent can be controlled. The polyfunctional monomer to be used is not particularly limited and may be suitably used as long as it is commercially available or has a plurality of polymerizable unsaturated groups in one molecule of the synthesis. From the viewpoint of lowering the refractive index of the low refractive layer to be formed, the polyfunctional monomer may be selected from the fluorine-containing polyfunctional monomers exemplified above. Specific examples of the polyfunctional monomer include, for example, olefins (butadiene, pentadiene, 1,4-divinylcyclohexane, 1,2,5-trivinylcyclohexane and the like), esters of acrylic acid and methacrylic acid (ethylene glycol diacrylate) Ethylene glycol dimethacrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, pentaerythritol hexaacrylate, 1,2,4-cyclohexanetetramethacrylate), styrene derivatives (1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoate) Acid-2-acryloylethyl ester, etc.), vinyl sulfones (divinyl sulfone, etc.), acrylamides (methylenebisacrylamide, diacryloylpiperazine, etc.), methacrylamides (methylenebismethacrylamide, dimethacryloylpiperazine, etc.) and the like. Can be.

【0034】含フッ素モノマーの重合体からなる粒子
は、フッ素原子を多く含有し素材の低屈折率化に貢献す
るコア部と、比較的フッ素原子の含有量に乏しいシェル
部からなるコア−シェル構造を有することが好ましい。
このため、シェル部は、微粒子間または微粒子と下層と
の密着性を改善することができる様に、シェル部表面に
アクリロイル基、エポキシ基、イソシアナート基等の官
能基を有していても良い。
Particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer have a core-shell structure comprising a core portion containing a large amount of fluorine atoms and contributing to lowering the refractive index of the material, and a shell portion having a relatively low content of fluorine atoms. It is preferable to have
For this reason, the shell portion may have a functional group such as an acryloyl group, an epoxy group, or an isocyanate group on the surface of the shell portion so that the adhesion between the fine particles or between the fine particles and the lower layer can be improved. .

【0035】以下に、本発明で用いられる重合体微粒子
の例を示す。本発明はこれら具体的構造に限定されるも
のではない。( )内は重合体中の各モノマー成分の重
量%を示す。 FP−1 FM−2/1,4−ジビニルベンゼン(85/15)の
共重合体。 平均粒子径=47nm。 FP−2 FM−27の重合体。 平均粒子径=49nm。 FP−3 FM−1/メタクリル酸メチル/1,2,4−シクロヘ
キサントリメタクリレート(75/15/10)の共重
合体。 平均粒子径=43nm。 FP−4 FM−4/メタクリル酸メチル/エチレングリコールジ
アクリレート(60/15/15)の共重合体。 平均粒子径=47nm。 FP−5 FM−3/FM−5/ジビニルベンゼン(60/20/
20)の共重合体。 平均粒子径=45nm。 FP−6 FM−25/FM−27(60/40)の共重合体。 平均粒子径=45nm。 FP−7 FM−3/FM−5/2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト/1,2,5−トリビニルシクロヘキサン(60/2
0/10/10)の共重合体。 平均粒子系=38nm。
Hereinafter, examples of the polymer fine particles used in the present invention will be described. The present invention is not limited to these specific structures. () Indicates the weight% of each monomer component in the polymer. FP-1 A copolymer of FM-2 / 1,4-divinylbenzene (85/15). Average particle size = 47 nm. FP-2 A polymer of FM-27. Average particle size = 49 nm. FP-3 A copolymer of FM-1 / methyl methacrylate / 1,2,4-cyclohexanetrimethacrylate (75/15/10). Average particle size = 43 nm. FP-4 A copolymer of FM-4 / methyl methacrylate / ethylene glycol diacrylate (60/15/15). Average particle size = 47 nm. FP-5 FM-3 / FM-5 / divinylbenzene (60/20 /
20) The copolymer of). Average particle size = 45 nm. FP-6 A copolymer of FM-25 / FM-27 (60/40). Average particle size = 45 nm. FP-7 FM-3 / FM-5 / 2-hydroxyethyl acrylate / 1,2,5-trivinylcyclohexane (60/2
0/10/10) copolymer. Average particle system = 38 nm.

【0036】FP−8 FM−4/FM−14/アクリル酸/メチレンビスアク
リルアミド(60/10/5/25)の共重合体。 平均粒子径=33nm。 FP−9 FM−4/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/1,
4―ジビニルベンゼン(75/5/20)の共重合体。 平均粒子径=33nm。 FP−10 FM−4/FM−24/2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート(75/5/20)の共重合体。 平均粒子径=39nm。 FP−11 FM−4/FM−14/メタクリル酸/1,2,4−シ
クリヘキサントリメタクリレート/メチレンビスアクリ
ルアミド(60/10/5/25)の共重合体。 平均粒子径=33nm。 FP−12 FM−14/イタコン酸モノメチル/NK ESTER
M40G(新中村化学製)/ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート(80/5/5/10)の共重合体。 平均粒子径=31nm。 FP−13 FM−24/PE350G(日本油脂製)(90/1
0)の共重合体。 平均粒子径=29nm。 FP−14 FM−24/ペンタエリスリトールテトラアクリレート
/PP−800(日本油脂製)(80/15/5)の共
重合体。 平均粒子径=33nm。 FP−15 FM−25/FM−28/NK ESTER M230
G(新中村化学製)(70/20/10)の共重合体。 平均粒子径=29nm。 FP−16 FM−27/NK ESTER M230G(新中村化
学製)(90/10)の共重合体。 平均粒子径=27nm。
FP-8 A copolymer of FM-4 / FM-14 / acrylic acid / methylenebisacrylamide (60/10/5/25). Average particle size = 33 nm. FP-9 FM-4 / 2-hydroxyethyl methacrylate / 1
Copolymer of 4-divinylbenzene (75/5/20). Average particle size = 33 nm. FP-10 A copolymer of FM-4 / FM-24 / 2-hydroxyethyl methacrylate (75/5/20). Average particle size = 39 nm. FP-11 A copolymer of FM-4 / FM-14 / methacrylic acid / 1,2,4-cyclohexanetrimethacrylate / methylenebisacrylamide (60/10/5/25). Average particle size = 33 nm. FP-12 FM-14 / Monomethyl itaconate / NK ESTER
A copolymer of M40G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical) / pentaerythritol tetraacrylate (80/5/5/10). Average particle size = 31 nm. FP-13 FM-24 / PE350G (manufactured by NOF Corporation) (90/1
0) Copolymer. Average particle size = 29 nm. A copolymer of FP-14 FM-24 / pentaerythritol tetraacrylate / PP-800 (manufactured by NOF Corporation) (80/15/5). Average particle size = 33 nm. FP-15 FM-25 / FM-28 / NK ESTER M230
G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co.) (70/20/10). Average particle size = 29 nm. A copolymer of FP-16 FM-27 / NK ESTER M230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical) (90/10). Average particle size = 27 nm.

【0037】含フッ素モノマーの重合体の屈折率は、フ
ッ素原子の含有量に比例してほぼ直線的に低下し、低屈
折率層の屈折率はミクロボイドの含有量の増加と共にさ
らに低下する。この両方の含有量を増加させることによ
り、低屈折率層の屈折率を充分に低くすることができ
る。従って、含フッ素モノマーの重合体は、一般に0.
30重量分率以上(好ましくは、0.30〜0.75重
量分率、特に0.35〜0.75重量分率)のフッ素原
子を含み、低屈折率層が、一般に0.05〜0.50体
積分率のミクロボイドを含み、さらに0.10〜0.5
0体積分率が好ましく、特に0.10〜0.28体積分
率が好ましい。
The refractive index of the polymer of the fluorine-containing monomer decreases almost linearly in proportion to the content of fluorine atoms, and the refractive index of the low refractive index layer further decreases as the content of microvoids increases. By increasing the content of both, the refractive index of the low refractive index layer can be sufficiently reduced. Therefore, the polymer of the fluorinated monomer is generally 0.1.
The low-refractive-index layer contains a fluorine atom in an amount of 30% by weight or more (preferably 0.30 to 0.75% by weight, particularly 0.35 to 0.75% by weight), and the low refractive index layer generally has a content of 0.05 to 0%. Containing 0.50 volume fraction microvoids and 0.10 to 0.5
0 volume fraction is preferred, and 0.10 to 0.28 volume fraction is particularly preferred.

【0038】単分散の粒径を有する微粒子を最密充填し
た場合には、微粒子間に26%(0.26体積分率)の
ミクロボイドが形成され、単純立方充填とした場合は4
8%に増える。実際の系(低屈折率層)では、粒径にあ
る程度の分布が存在するために、これらの値通りにはな
らない。また、低屈折率層を形成する条件(即ち、微粒
子同士の融着方法や融着条件)によっても空隙率は変化
する。ミクロボイドの含有量が高すぎると、膜の機械的
強度が低下するため、ミクロボイドの体積分率は0.5
0以下とするのが好ましい。極少量の2個以上の重合性
基を有するモノマーを用いる場合には、該モノマーと微
粒子との比率によって空隙率は変化する。このようにし
て形成されたミクロボイドが、数十〜数百nm(光の波
長以下)の大きさであれば、素材を屈折率の点から選択
し、そして形成されるミクロボイドの体積分率を調節す
ることにより、目的の屈折率を有する透明な膜を形成す
ることができる。
When fine particles having a monodispersed particle size are closest packed, microvoids of 26% (0.26 volume fraction) are formed between the fine particles.
Increase to 8%. In an actual system (low-refractive index layer), these values are not satisfied because there is a certain distribution of the particle diameter. The porosity also changes depending on the conditions for forming the low-refractive-index layer (that is, the method of fusing the particles and the conditions for fusing). If the content of microvoids is too high, the mechanical strength of the film decreases, so that the volume fraction of microvoids is 0.5%.
It is preferably 0 or less. When a very small amount of a monomer having two or more polymerizable groups is used, the porosity changes depending on the ratio between the monomer and the fine particles. If the microvoids thus formed have a size of several tens to several hundreds of nm (less than the wavelength of light), the material is selected from the viewpoint of the refractive index, and the volume fraction of the formed microvoids is adjusted. By doing so, a transparent film having a target refractive index can be formed.

【0039】本発明で用いられる2個以上の重合性基を
有するモノマーとしては、微粒子層を形成後にUV、電
子線、熱等で重合するものであれば特に制限はない。2
個以上の重合性基を有するモノマーの添加量としては、
微粒子間の密着が得られる必要最低限の量が用いられ、
一般に25重量%以下が好ましく、特に10重量%以下
が好ましい。2個以上の重合性基を有するモノマーの例
としては例えば、(メタ)アクリル酸エステル類(エチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−シク
ロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ
メタクリレート、UV−6300B(日本合成化学製)
など)、スチレン誘導体(1,4−ジビニルベンゼン、
4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステ
ル、1,4−ジビニルシクロヘキサノンなど)、ビニル
スルホン類(ジビニルスルホンなど)、アクリルアミド
類(メチレンビスアクリルアミドなど)、メタクリルア
ミド類などの他、多官能エポキシ化合物(デナコールE
X−313、デナコールEX−521(共に長瀬化成
製))などが好ましく用いられるが特にこれに限定され
ない。あるいは一分子中に例えばイソシアナート基を有
する2官能アクリレート化合物(UV−8000B(日
本合成化学製)など)も好ましく用いることができる。
なお、これらの重合性基を有するモノマーは重合開始剤
(イルガキュア907(日本チバガイギー(株)製、K
AYACURE EPA(日本化薬製)など)、光重合
促進剤(KAYACURE EPA、KAYACURE
DETX(共に日本化薬製)など)、光カチオン重合
剤(CYRACUERE UVI−6990、UVI−
6974(共にユニオンカーバイド製)、ジフェニルヨ
ードニウム ヘキサフロロフォスフェート(東京化成
製)、RHODORSIL PHOTOINITIAT
OR 2074(ローヌプーランジャパン製)など)等
重合を促進する化合物と併用することが好ましい。
The monomer having two or more polymerizable groups used in the present invention is not particularly limited as long as it is polymerized by UV, electron beam, heat or the like after forming the fine particle layer. 2
As the addition amount of the monomer having at least two polymerizable groups,
The minimum amount required to obtain adhesion between the fine particles is used,
Generally, it is preferably at most 25% by weight, particularly preferably at most 10% by weight. Examples of monomers having two or more polymerizable groups include, for example, (meth) acrylates (ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexanetetramethacrylate, UV-6300B (manufactured by Nippon Gohsei)
Styrene derivatives (1,4-divinylbenzene,
4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone, etc., vinyl sulfones (divinyl sulfone, etc.), acrylamides (methylenebisacrylamide, etc.), methacrylamides, etc., as well as polyfunctional epoxy compounds (Denacol E
X-313, Denacol EX-521 (both manufactured by Nagase Kasei) and the like are preferably used, but not particularly limited thereto. Alternatively, a bifunctional acrylate compound having, for example, an isocyanate group in one molecule (eg, UV-8000B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical)) can also be preferably used.
In addition, these monomers having a polymerizable group are a polymerization initiator (IRGACURE 907 (manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd., K
AYACURE EPA (manufactured by Nippon Kayaku), photopolymerization accelerators (KAYACURE EPA, KAYACURE)
DETX (both manufactured by Nippon Kayaku), etc., cationic photopolymerizer (CYRACURE UVI-6990, UVI-
6974 (both manufactured by Union Carbide), diphenyliodonium hexafluorophosphate (manufactured by Tokyo Kasei), RHODORSIL PHOTOINITIAT
It is preferably used in combination with a compound that promotes polymerization, such as OR 2074 (Rhone Poulin Japan).

【0040】低屈折率層には更に少量のポリマーバイン
ダを添加することができる。但し、微粒子間に形成され
るミクロボイドを埋め過ぎないように、微粒子間の密着
が得られる必要最低限の量用いる必要がある。バインダ
の好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ポリオ
キシエチレン等の水溶性樹脂;ポリメチルメタクリレー
ト、ポリメチルアクリレート等のアクリル系樹脂、ジア
セチルセルロース、ニトロセルロース等のセルロース誘
導体、ポリエステル、アルキド樹脂、繊維素系重合体、
ウレタン樹脂およびこれらを硬化せしめる各種の硬化
剤、硬化性官能基を有する組成物などを挙げることがで
きるが特にこれらに限定されない。
A small amount of a polymer binder can be further added to the low refractive index layer. However, it is necessary to use the minimum amount necessary for obtaining the adhesion between the fine particles so as not to overfill the microvoids formed between the fine particles. Preferred examples of the binder include a water-soluble resin such as polyvinyl alcohol and polyoxyethylene; an acrylic resin such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; a cellulose derivative such as diacetyl cellulose and nitrocellulose; a polyester; an alkyd resin; Polymer,
Examples thereof include, but are not particularly limited to, urethane resins, various curing agents for curing them, and compositions having a curable functional group.

【0041】さらに有機置換されたケイ素系化合物をこ
れに含めることができる。これらのケイ素系化合物は一
般式:
Further, an organic-substituted silicon-based compound can be included therein. These silicon compounds have the general formula:

【0042】R11aR12bSiX4−(a+b) (ここでR11及びR12は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイルないしシアノで置換さ
れた炭化水素基を表わし、Xは、アルコキシル基、アル
コキシアルコキシル基、ハロゲン原子ないしアシルオキ
シ基から選ばれた加水分解可能な基を表わし、a+bが
1または2である条件下で、a及びbはそれぞれ0、1
または2である。)で表わされる化合物ないしはその加
水分解生成物である。
R 11 aR 12 bSiX 4- (a + b) (where R 11 and R 12 are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a carbon substituted with halogen, epoxy, amino, mercapto, methacryloyl or cyano, respectively) X represents a hydrogen group, X represents a hydrolyzable group selected from an alkoxyl group, an alkoxyalkoxyl group, a halogen atom and an acyloxy group, and under the condition that a + b is 1 or 2, a and b each represent 0, 1
Or 2. ) Or a hydrolysis product thereof.

【0043】含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子
が水分散物である場合には、上記水溶性樹脂の使用が好
ましい。含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子が有
機溶媒に分散されている場合には、用いられる溶媒に充
分に溶解し、微粒子や支持体との親和性があり、透明性
の高いもの(即ち上記アクリル系樹脂及びセルロース誘
導体)が好ましく用いられる。
When the fine particles comprising the polymer of the fluorine-containing monomer are an aqueous dispersion, the use of the above water-soluble resin is preferred. When the fine particles made of the polymer of the fluorine-containing monomer are dispersed in an organic solvent, the fine particles are sufficiently dissolved in the solvent used, have an affinity for the fine particles and the support, and have high transparency (that is, the acrylic resin). Resins and cellulose derivatives) are preferably used.

【0044】中屈折率層に分散される無機系微粒子の好
ましい無機化合物としては、アルミニウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、アンチモン、亜鉛、錫などの金属元
素の酸化物を挙げることができる。これらの化合物は、
微粒子状で、即ち粉末ないしは水および/またはその他
の溶媒中へのコロイド状分散体として、市販されてい
る。これらをさらに上記の有機材料または有機ケイ素化
合物中に混合分散して使用することもできる。
Preferred inorganic compounds of the inorganic fine particles dispersed in the medium refractive index layer include oxides of metal elements such as aluminum, titanium, zirconium, antimony, zinc and tin. These compounds are
It is commercially available in particulate form, ie, as a powder or as a colloidal dispersion in water and / or other solvents. These can be further mixed and dispersed in the above-mentioned organic material or organosilicon compound for use.

【0045】また、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、
それ自身が液状である無機系材料(例、各種元素のアル
コキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化
合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリマー)を挙
げることができる。これらの好適な例としては、チタン
テトラエトキシド、チタンテトラ−i−プロポキシド、
チタンテトラ−n−プロポキシド、チタンテトラ−n−
ブトキシド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタン
テトラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシ
ド、アルミニウムトリ−i−プロポキシド、アルミニウ
ムトリブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチ
モントリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、
ジルコニウムテトラ−i−プロポキシド、ジルコニウム
テトラ−n−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−n−
ブトキシド、ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド及
びジルコニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属ア
ルコレート化合物;ジイソプロポキシチタニウムビス
(アセチルアセトネート)、ジブトキシチタニウムビス
(アセチルアセトネート)、ジエトキシチタニウムビス
(アセチルアセトネート)、ビス(アセチルアセトンジ
ルコニウム)、アルミニウムアセチルアセトネート、ア
ルミニウムジ−n−ブトキシドモノエチルアセトアセテ
ート、アルミニウムジ−i−プロポキシドモノメチルア
セトアセテート及びトリ−n−ブトキシドジルコニウム
モノエチルアセトアセテートなどのキレート化合物;さ
らには炭酸ジルコニールアンモニウムあるいはジルコニ
ウムを主成分とする活性無機ポリマーなどを挙げること
ができる。上記に述べた他に、屈折率が比較的低いが上
記の化合物と併用できるものとしてとくに各種のアルキ
ルシリケート類もしくはその加水分解物、微粒子状シリ
カとくにコロイド状に分散したシリカゲルも使用するこ
とができる。
In addition, it is capable of forming a film and can be dispersed in a solvent.
Inorganic materials that are liquid themselves (eg, alkoxides of various elements, salts of organic acids, coordination compounds (eg, chelate compounds) bonded to coordination compounds, and active inorganic polymers) can be given. Preferred examples of these include titanium tetraethoxide, titanium tetra-i-propoxide,
Titanium tetra-n-propoxide, titanium tetra-n-
Butoxide, titanium tetra-sec-butoxide, titanium tetra-tert-butoxide, aluminum triethoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum tributoxide, antimony triethoxide, antimony tributoxide, zirconium tetraethoxide,
Zirconium tetra-i-propoxide, zirconium tetra-n-propoxide, zirconium tetra-n-
Metal alcoholate compounds such as butoxide, zirconium tetra-sec-butoxide and zirconium tetra-tert-butoxide; diisopropoxytitanium bis (acetylacetonate), dibutoxytitanium bis (acetylacetonate), diethoxytitanium bis (acetylacetate) Chelate compounds such as bis (acetylacetonate zirconium), aluminum acetylacetonate, aluminum di-n-butoxide monoethylacetoacetate, aluminum di-i-propoxide monomethylacetoacetate and tri-n-butoxide zirconium monoethylacetoacetate. And an active inorganic polymer containing zirconyl ammonium carbonate or zirconium as a main component. In addition to those described above, various alkyl silicates or hydrolysates thereof, particularly fine particles of silica, particularly silica gel dispersed in a colloidal form can be used as those having a relatively low refractive index but which can be used in combination with the above compounds. .

【0046】これらの無機微粒子は平均粒径10〜100 n
mで分散されていることが好ましい。平均粒径が100 n
mを越えると散乱強度が増加し、膜自身が白色となり透
明性が低下する。具体的には塗膜のヘイズ値を3%以下
に抑えることが必要である。
These inorganic fine particles have an average particle size of 10 to 100 n.
Preferably, m is dispersed. Average particle size 100 n
If it exceeds m, the scattering intensity increases, the film itself becomes white, and the transparency decreases. Specifically, it is necessary to suppress the haze value of the coating to 3% or less.

【0047】中屈折層に用いる2個以上の重合性基を有
するモノマー、およびポリマーバインダとしては低屈折
率層に用いるものと同じものを用いることができる。ま
た、有機材料として比較的高い屈折率を有するポリマー
バインダ、例えば、熱可塑性樹脂(例、ポリスチレン、
ポリスチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン以外の芳香環、複素環、脂環式環状基を有するポリマ
ー、またはフッ素以外のハロゲン基を有するポリマ
ー);熱硬化性樹脂組成物(例、メラミン樹脂、フェノ
ール樹脂、ないしエポキシ樹脂などを硬化剤とする樹脂
組成物);ウレタン形成性組成物(例、脂環式ないしは
芳香族イソシアネートおよびポリオールの組み合わ
せ);およびラジカル重合性組成物(上記の化合物(ポ
リマー等)に二重結合を導入することにより、ラジカル
硬化を可能にした変性樹脂またはプレポリマーを含む組
成物)などを用いることができる。高い皮膜形成性を有
する材料が好ましい。
As the monomer having two or more polymerizable groups and the polymer binder used for the middle refractive layer, the same ones as used for the low refractive index layer can be used. Further, a polymer binder having a relatively high refractive index as an organic material, for example, a thermoplastic resin (eg, polystyrene,
Polystyrene copolymer, polycarbonate, polymer having an aromatic ring, heterocycle, alicyclic group other than polystyrene, or polymer having a halogen group other than fluorine); thermosetting resin composition (eg, melamine resin, phenol resin) Or a resin composition using an epoxy resin or the like as a curing agent); a urethane-forming composition (eg, a combination of an alicyclic or aromatic isocyanate and a polyol); and a radically polymerizable composition (the above compound (eg, polymer)) A composition containing a modified resin or a prepolymer, which is capable of radical curing by introducing a double bond into it. Materials having high film forming properties are preferred.

【0048】高屈折率層に必要な屈折率は1.90〜2.20で
あるため有機バインダ中に分散される無機微粒子のうち
少なくともアナターゼ型酸化チタン(屈折率2.52)また
はルチル型酸化チタン(屈折率2.76)を含むことが必要
であるが、中屈折率層で示した無機微粒子および無機材
料を併用することに特に制限はない。重合性バインダ、
およびポリマーバインダとしては中屈折率層に用いるも
のと同じものを用いることができる。
Since the refractive index required for the high refractive index layer is 1.90 to 2.20, at least anatase type titanium oxide (refractive index 2.52) or rutile type titanium oxide (refractive index 2.76) among the inorganic fine particles dispersed in the organic binder. However, there is no particular limitation on using the inorganic fine particles and the inorganic material shown in the middle refractive index layer together. Polymerizable binder,
As the polymer binder, the same one as used for the medium refractive index layer can be used.

【0049】本発明で用いる透明基材は通常、透明フィ
ルムである。透明フィルムを形成する材料としては、セ
ルロース誘導体(例、ジアセチルセルロース、トリアセ
チルセルロース(TAC)、プロピオニルセルロース、
ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース
及びニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネー
ト(例、米国特許番号3023101号に記載のも
の)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−
4,4’−ジカルボキシレート及び特公昭48−404
14号公報に記載のポリエステル)、ポリスチレン、ポ
リオレフィン(例、ポリエチレン、ポリプロピレン及び
ポリメチルペンテン)、ポリメチルメタクリレート、シ
ンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイ
ミド及びポリオキシエチレンを挙げることができる。ト
リアセチルセルロース、ポリカーボネート及びポリエチ
レンテレフタレートが好ましい。透明フィルムの屈折率
は1.40〜1.60が好ましい。
The transparent substrate used in the present invention is usually a transparent film. Examples of the material for forming the transparent film include cellulose derivatives (eg, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose (TAC), propionyl cellulose,
Butyrylcellulose, acetylpropionylcellulose and nitrocellulose), polyamide, polycarbonate (eg, those described in U.S. Pat. No. 3,023,101), polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, poly-1,4-cyclohexanediene) Methylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-
4,4'-dicarboxylate and JP-B-48-404
No. 14), polystyrene, polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene and polymethylpentene), polymethylmethacrylate, syndiotactic polystyrene, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide and polyoxyethylene Can be mentioned. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The refractive index of the transparent film is preferably from 1.40 to 1.60.

【0050】本発明の反射防止膜は、表面にアンチグレ
ア機能(即ち、入射光を表面で散乱させて膜周囲の景色
が膜表面に移るのを防止する機能)を有するように処理
することができる。例えば、このような機能を有する反
射防止膜は、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成
し、そしてその表面に反射防止膜(例、低屈折率層等)
を形成することにより得られる。上記微細な凹凸の形成
は、例えば、無機又は有機の微粒子を含む層を透明フィ
ルム表面に形成することにより行なわれる。あるいは、
含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子とは異なる、
50nm〜2μmの粒径を有する微粒子を低屈折率層形
成用塗布液に、含フッ素モノマーの重合体からなる微粒
子の0.1〜50重量%の量で導入し、反射防止膜の最
上層に凹凸を形成しても良い。アンチグレア機能を有す
る(即ち、アンチグレア処理された)反射防止膜は、一
般に、4〜40%のヘイズを有する。
The antireflection film of the present invention can be treated so that the surface has an antiglare function (that is, a function of scattering incident light on the surface to prevent a scene around the film from shifting to the film surface). . For example, an antireflection film having such a function forms fine irregularities on the surface of a transparent film, and forms an antireflection film (eg, a low refractive index layer, etc.) on the surface.
Is obtained. The formation of the fine irregularities is performed, for example, by forming a layer containing inorganic or organic fine particles on the surface of the transparent film. Or,
Different from fine particles consisting of a polymer of a fluorine-containing monomer,
Fine particles having a particle diameter of 50 nm to 2 μm are introduced into the coating solution for forming a low refractive index layer in an amount of 0.1 to 50% by weight of the fine particles comprising a polymer of a fluorine-containing monomer, and the fine particles have Irregularities may be formed. Anti-reflection coatings having anti-glare function (ie, anti-glare treatment) generally have a haze of 4 to 40%.

【0051】本発明の反射防止膜(アンチグレア機能を
有する反射防止膜が好ましい)は、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置
(CRT)等の画像表示装置に組み込むことができる。
このような反射防止膜を有する画像表示装置は、入射光
の反射が防止され、視認性が格段に向上する。本発明の
反射防止膜を備えた液晶表示装置(LCD)は、たとえ
ば、下記の構成を有する。透明電極を有する一対の基板
とその間に封入された液晶からなる液晶セル、及び液晶
セルの両側に配置された偏光板からなる液晶表示装置で
あって、少なくとも一方の偏光板が表面に本発明の反射
防止膜を備えている液晶表示装置。
The antireflection film of the present invention (preferably an antireflection film having an antiglare function) is used for a liquid crystal display (LC).
D), an image display device such as a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT).
In the image display device having such an antireflection film, reflection of incident light is prevented, and visibility is remarkably improved. A liquid crystal display (LCD) provided with the antireflection film of the present invention has, for example, the following configuration. A liquid crystal cell comprising a pair of substrates having transparent electrodes and a liquid crystal sealed between them, and a liquid crystal display device comprising a polarizing plate disposed on both sides of the liquid crystal cell, wherein at least one of the polarizing plates has a surface of the present invention. A liquid crystal display device having an anti-reflection film.

【0052】本発明においては、中間層としてハードコ
ート層、帯電防止層等を、透明フィルム上に設けること
もできる。ハードコート層としては、アクリル系、ウレ
タン系、エポキシ系のポリマー及び/又はオリゴマー及
びモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)の他に、シリカ系
の材料を単独または併用することができる。
In the present invention, a hard coat layer, an antistatic layer and the like as an intermediate layer may be provided on a transparent film. As the hard coat layer, in addition to acrylic-based, urethane-based, and epoxy-based polymers and / or oligomers and monomers (eg, ultraviolet curable resins), silica-based materials can be used alone or in combination.

【0053】本発明の低屈折率層には、表面に滑り性を
付与して耐傷性を良化させるために、少なくとも一つの
任意の潤滑剤を添加してもよい。潤滑剤に特に限定はな
く、例えばシリコンオイルのようなポリオルガノシロキ
サン(ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサ
ン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチルフェニルシ
ロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン等)、
天然ワックス(カルナウバワックス、キャンデリラワッ
クス、ホホバ油、ライスワックス、木ろう、蜜ろう、ラ
ノリン、鯨ろう、モンタンワックス)、石油ワックス
(パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス
等)、あるいは合成ワックスとしてポリエチレンワック
ス、フィッシャー・トロプシュワックス、高級脂肪酸ア
ミド(ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、N,
N’−メチレンビスステアリン酸アミド等)、高級脂肪
酸エステル(ステアリン酸メチル、ステアリン酸ブチ
ル、グリセリンモノステアラート、ソルビタンモノオレ
アート等)、高級脂肪酸金属塩(ステアリン酸亜鉛
等)、下記一般式で表されるフッ素系潤滑剤(直鎖型パ
ーフルオロポリエーテル、側鎖型パーフルオロポリエー
テル等)およびその誘導体(アルコール変性パーフルオ
ロポリエーテル、イソシアネート変性パーフルオロポリ
エーテル等)等を挙げることができる。
At least one optional lubricant may be added to the low refractive index layer of the present invention in order to impart a slip property to the surface and improve the scratch resistance. There is no particular limitation on the lubricant, and for example, polyorganosiloxanes such as silicone oil (polydimethylsiloxane, polydiethylsiloxane, polydiphenylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, alkyl-modified polydimethylsiloxane, etc.),
Natural wax (carnauba wax, candelilla wax, jojoba oil, rice wax, wood wax, beeswax, lanolin, whale wax, montan wax), petroleum wax (paraffin wax, microcrystalline wax, etc.), or polyethylene wax as synthetic wax , Fischer-Tropsch wax, higher fatty acid amides (stearic acid amide, oleic acid amide, N,
N'-methylenebisstearic acid amide, etc.), higher fatty acid esters (methyl stearate, butyl stearate, glycerin monostearate, sorbitan monooleate, etc.), metal salts of higher fatty acids (zinc stearate, etc.), represented by the following general formula The fluorinated lubricants (linear perfluoropolyethers, side chain perfluoropolyethers, etc.) and their derivatives (alcohol-modified perfluoropolyethers, isocyanate-modified perfluoropolyethers, etc.) can be exemplified. .

【0054】本発明においては、表面に滑り性を付与し
て耐傷性を良化させるために、低屈折率層の上に上記の
うち少なくとも一つの潤滑剤を用いた膜厚50nm以下
の潤滑層を設けてもよい。該潤滑剤層は、膜形成性を付
与するために適当なポリマー等を併用してもよい。潤滑
剤層は、本発明における多孔質含フッ素ポリマー層の反
射特性に影響を与えないようにするため、膜厚が光の波
長より十分に小さくなければならない。従って、膜厚は
10nm以下が好ましい。また、表面が少なくとも潤滑
剤の単分子層で完全に被覆されている必要があるため、
膜厚は2nm以上が好ましい。
In the present invention, a lubricating layer having a thickness of 50 nm or less using at least one of the above lubricants on the low refractive index layer in order to impart a slipperiness to the surface and improve scratch resistance. May be provided. The lubricant layer may be used in combination with a suitable polymer or the like to impart film forming properties. The thickness of the lubricant layer must be sufficiently smaller than the wavelength of light so as not to affect the reflection characteristics of the porous fluoropolymer layer in the present invention. Therefore, the thickness is preferably 10 nm or less. Also, since the surface must be completely covered with at least a monolayer of lubricant,
The thickness is preferably 2 nm or more.

【0055】本発明の中屈折率層、高屈折率層、低屈折
率層、および中間層、潤滑層は一般によく知られた方
法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、
カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコ
ート法、グラビアコート法、或いは米国特許第2,68
1,294号明細書に記載のホッパーを使用するエクス
トルージョンコート法等により塗布することができる。
また必要に応じて、米国特許第2,761,791号、
3,508,947号、2,941,898号、及び
3,526,528号明細書、原崎勇次著「コーティン
グ工学」253頁(1973年朝倉書店発行)等に記載
された方法により2層以上の層を同時に塗布することが
できる。
The medium refractive index layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer, the intermediate layer, and the lubricating layer of the present invention can be formed by a generally known method such as a dip coating method, an air knife coating method, and the like.
Curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, or US Pat. No. 2,68
It can be applied by an extrusion coating method using a hopper described in Japanese Patent No. 1,294, specification.
Also, if necessary, U.S. Pat. No. 2,761,791,
No. 3,508,947, 2,941,898 and 3,526,528, two or more layers according to the method described in Yuji Harazaki, “Coating Engineering”, p. 253 (published by Asakura Shoten in 1973). Layers can be applied simultaneously.

【0056】[0056]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例1 (1)帯電防止用導電性微粒子の作成 7重量%の塩化第二錫水和物と0.7重量%の三塩化ア
ンチモンを含むエタノール溶液に1Nの水酸化ナトリウ
ム水溶液をpHが3になるまで滴下し、コロイド状酸化
第二錫と酸化アンチモンの共沈殿を得た。得られた沈殿
物を50℃で24時間放置し、赤褐色のコロイド状沈殿
を得た。更に過剰なイオンを除くため沈殿に水を加え、
赤褐色コロイド状沈殿を遠心分離によって水洗した。こ
のコロイド状沈殿を水に再分散した15重量%の分散液
を、600℃に加熱した焼却炉に噴霧し、一次粒径0.
005μmの酸化錫/酸化アンチモン複合物の微粒子粉
末を得た。 (2)ハードコート層の塗設 25重量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、25重量部のウレタンオリゴマー(商品名:UV−
6300B(日本合成化学製))と2重量部の光重合開
始剤(商品名:イルガキュア907(チバガイギー
製))と1重量部の光増感剤(商品名:KAYACUR
E DETX(日本化薬製))を50重量部のトルエン
に溶解した後、10重量部の上記導電性微粒子を横型サ
ンドミルで分散し、ハードコート層塗布液を作成した。
この塗布液を、90μmの厚みを有するTACフィルム
に室温でバーコーターを用いて塗布、95℃で乾燥後、
すぐさま12W/cmの高圧水銀灯を用いて1分間UV
照射し、架橋して膜厚7.1μmの導電性ハードコート
層を形成した。 (3)中屈折率層の塗設 2重量部の酸化チタン粒子(石原産業TTO−51
A)、3重量部のPHOSPHANOL RD−720
(東邦化学製)、5重量部のジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレートを50重量部のトルエン、40重量部
のシクロヘキサノンと混合した後、ボールミルにて24
時間分散し酸化チタンの分散液を作成した。これに0.
2重量部の光重合開始剤(商品名:イルガキュア907
(チバガイギー製))と0.05重量部の光増感剤(商
品名:KAYACURE DETX(日本化薬製))を
添加しハードコート層の上にスピンコータを用いて塗布
し、115℃で乾燥した後に紫外線照射して、中屈折率
層(屈折率:1.68、層厚:76nm)を形成した。
The present invention will be described below in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1 (1) Preparation of Antistatic Conductive Fine Particles A 1N aqueous sodium hydroxide solution having a pH of 3 was added to an ethanol solution containing 7% by weight of stannic chloride hydrate and 0.7% by weight of antimony trichloride. , To obtain a coprecipitate of colloidal stannic oxide and antimony oxide. The obtained precipitate was left at 50 ° C. for 24 hours to obtain a red-brown colloidal precipitate. Further water is added to the precipitate to remove excess ions,
The red-brown colloidal precipitate was washed with water by centrifugation. This colloidal precipitate was redispersed in water and a 15% by weight dispersion was sprayed into an incinerator heated to 600 ° C. to obtain a primary particle size of 0.1%.
A fine powder of tin oxide / antimony oxide composite of 005 μm was obtained. (2) Coating of hard coat layer 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 25 parts by weight of urethane oligomer (trade name: UV-
6300B (manufactured by Nippon Gohsei), 2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 1 part by weight of a photosensitizer (trade name: KAYACUR)
E DETX (manufactured by Nippon Kayaku) was dissolved in 50 parts by weight of toluene, and then 10 parts by weight of the conductive fine particles were dispersed by a horizontal sand mill to prepare a hard coat layer coating solution.
This coating solution was applied to a TAC film having a thickness of 90 μm using a bar coater at room temperature, and dried at 95 ° C.
Immediately 1 minute UV using 12W / cm high pressure mercury lamp
Irradiation and crosslinking were performed to form a 7.1 μm-thick conductive hard coat layer. (3) Coating of middle refractive index layer 2 parts by weight of titanium oxide particles (Ishihara Sangyo TTO-51)
A) 3 parts by weight of PHOSPHANOL RD-720
(Toho Chemical) 5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate was mixed with 50 parts by weight of toluene and 40 parts by weight of cyclohexanone.
The mixture was dispersed for a time to prepare a dispersion of titanium oxide. 0.
2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907)
(Manufactured by Ciba-Geigy)) and 0.05 parts by weight of a photosensitizer (trade name: KAYACURE DETX (manufactured by Nippon Kayaku)), and applied onto the hard coat layer using a spin coater, and dried at 115 ° C. Thereafter, ultraviolet irradiation was performed to form a medium refractive index layer (refractive index: 1.68, layer thickness: 76 nm).

【0057】(4)高屈折率層の塗設 8重量部の酸化チタン粒子(石原産業TTO−51
A)、1.7重量部のPHOSPHANOL RD−7
20(東邦化学製)、0.3重量部のペンタエリスリト
ールテトラアクリレートを50重量部のトルエン、40
重量部のシクロヘキサノンと混合した後、ボールミルに
て24時間分散し酸化チタンの分散液を作成した。これ
に0.2重量部の光重合開始剤(商品名:イルガキュア
907(チバガイギー製))と0.05重量部の光増感
剤(商品名:カヤキュア−DETX(日本化薬製))を
添加し上記で形成した中屈折層の上にスピンコータを用
いて塗布し、115℃で乾燥した後に紫外線照射して、
高屈折率層(屈折率:2.10、層厚:121nm)を
形成した。 (5)低屈折率層の塗設 ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート(FM−
4)/1,4−ジビニルベンゼン/2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート/メタクリル酸の乳化共重合によって
得た含フッ素モノマーの重合体(重量比75/20/3
/2)からなる微粒子(平均粒径:30nm、屈折率:
1.422)と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート(屈折率:1.535)を混合して得た塗布液
(固形分:1重量%;含フッ素モノマーの重合体からな
る微粒子/バインダ=84/16、重量比)を、高屈折
率層上にスピンコータを用いて塗布し、115℃で乾燥
した後に塗布膜に紫外線照射することで、含フッ素モノ
マーの重合体からなる微粒子とごく少量のバインダから
なる膜厚91nmの低屈折率層を形成した。低屈折率層
の屈折率(nlayer)は、別に作成したTACフィルムに
低屈折率層を塗設した膜の反射率(R)及びTACフィ
ルム(透明支持体)の屈折率(nbase)から下記式より
求めた。
(4) Coating of High Refractive Index Layer 8 parts by weight of titanium oxide particles (Ishihara Sangyo TTO-51)
A) 1.7 parts by weight of PHOSPHANOL RD-7
20 (manufactured by Toho Chemical), 0.3 parts by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 50 parts by weight of toluene, 40 parts by weight
After mixing with parts by weight of cyclohexanone, the mixture was dispersed in a ball mill for 24 hours to prepare a dispersion of titanium oxide. 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 0.05 parts by weight of a photosensitizer (trade name: Kayacure-DETX (manufactured by Nippon Kayaku)) are added thereto. Then, it is applied using a spin coater on the middle refraction layer formed above, dried at 115 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays.
A high refractive index layer (refractive index: 2.10, layer thickness: 121 nm) was formed. (5) Coating of low refractive index layer Hexafluoroisopropyl methacrylate (FM-
4) A polymer of a fluorine-containing monomer obtained by emulsion copolymerization of 1,4-divinylbenzene / 2-hydroxyethyl methacrylate / methacrylic acid (weight ratio 75/20/3)
/ 2) (average particle size: 30 nm, refractive index:
1.422) and dipentaerythritol hexaacrylate (refractive index: 1.535) to obtain a coating solution (solid content: 1% by weight; fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer / binder = 84/16). , Weight ratio) on the high refractive index layer using a spin coater, and drying at 115 ° C., and then irradiating the coating film with ultraviolet light, thereby comprising fine particles composed of a polymer of a fluorine-containing monomer and a very small amount of a binder. A low refractive index layer having a thickness of 91 nm was formed. The refractive index (nlayer) of the low refractive index layer is calculated from the reflectance (R) of the film obtained by coating the low refractive index layer on a separately prepared TAC film and the refractive index (nbase) of the TAC film (transparent support) as follows. I asked more.

【0058】[0058]

【数1】 (Equation 1)

【0059】低屈折率層のミクロボイドの体積分率(V
layer)は、低屈折率層の屈折率(nlayer )とTACフ
ィルムの屈折率(nbase)から下記式より求めた。Vla
yer =(nlayer −nbase)/(1−nbase)上記膜の
屈折率は1.397であり約0.11体積分率のミクロ
ボイドを含有していることが示唆された。 (5)反射防止効果評価 (4)で形成した塗膜の反射率特性を分光光度計(日本
分光製V−550)により、400から700nmの波
長領域における光学材料の低屈折率層側の面の入射角5
°における反射率を測定した。その性能は450nmか
ら650nmの波長領域において反射率0.2%未満で
あり、また400から450nm、650から700n
mの波長域において1.0%未満であり、従来用いられ
てきた物理蒸着による多層膜の反射防止膜と同等以上の
性能を有することがわかった。 (6)膜強度評価 (4)の膜を温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿
した後、低屈折率層表面に先端0.05mmRのサファ
イア針を垂直に当て、10cmの長さを0から100g
の連続荷重となるよう60cm/分の速度で引っかい
た。この試料をライトテーブルの上で目視で観察し、引
っかき傷の見え始めたときの荷重を引っかき強度とし
た。引っ掻き強度は約50gであり物理蒸着による多層
反射防止膜同等の膜強度有していた。また、JIS54
00に記載の鉛筆硬度計にて引っ掻いたところ3Hの膜
強度を有しており十分な強度があることがわかった。さ
らに、#0000スチールウールで100g/cm2
圧力で60cm/分の速度で引っ掻いたが傷は認められ
ず、十分な耐傷性を有していることがわかった。
The volume fraction of microvoids in the low refractive index layer (V
layer) was determined from the following formula from the refractive index (nlayer) of the low refractive index layer and the refractive index (nbase) of the TAC film. Vla
yer = (nlayer-nbase) / (1-nbase) The refractive index of the film was 1.397, suggesting that it contained microvoids of about 0.11 volume fraction. (5) Evaluation of antireflection effect The reflectance characteristic of the coating film formed in (4) was measured by a spectrophotometer (V-550 manufactured by JASCO Corporation) on the surface of the optical material on the low refractive index layer side in a wavelength region of 400 to 700 nm. Incident angle of 5
The reflectance in ° was measured. Its performance is less than 0.2% reflectivity in the wavelength range of 450 nm to 650 nm, and 400 to 450 nm, 650 to 700 n.
It is less than 1.0% in the wavelength region of m, and it has been found that it has a performance equal to or higher than that of a conventional multi-layer antireflection film formed by physical vapor deposition. (6) Evaluation of film strength After humidifying the film of (4) at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, a sapphire needle with a tip of 0.05 mmR was vertically applied to the surface of the low refractive index layer, and the length was 10 cm. 0 to 100g
Was scratched at a speed of 60 cm / min so that the continuous load was obtained. This sample was visually observed on a light table, and the load at which scratches began to appear was defined as the scratch strength. The scratch strength was about 50 g, and had a film strength equivalent to a multilayer antireflection film formed by physical vapor deposition. In addition, JIS54
When scratched with a pencil hardness tester described in No. 00, the film had a film strength of 3H and was found to have sufficient strength. Further, the film was scratched with # 0000 steel wool at a pressure of 100 g / cm 2 at a speed of 60 cm / min, but no scratch was observed, indicating that the film had sufficient scratch resistance.

【0060】実施例2 (1)ハードコート層の塗設 25重量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、25重量部のウレタンオリゴマー(商品名:UV−
1700B(日本合成化学製))と3重量部の光重合開
始剤(商品名:イルガキュア907(チバガイギー
製))と1重量部の光増感剤(商品名:KAYACUR
E DETX(日本化薬製))を50重量部のトルエン
に溶解した後、実施例1に記載の導電性微粒子10重量
部を横型サンドミルで分散し、ハードコート層塗布液を
作成した。この塗布液を、100μmの厚みを有するP
ETフィルムに室温でバーコーターを用いて塗布、12
5℃で乾燥後、すぐさま12W/cmの高圧水銀灯を用
いて1分間UV照射し、架橋して膜厚7.0μmの導電
性ハードコート層を形成した。 (2)中屈折率層の塗設 6重量部の酸化チタン粒子(石原産業TTO−51
A)、9重量部のPHOSPHANOL RD−720
(東邦化学製)、15重量部のジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートを70重量部のトルエンと混合した
後、ボールミルにて24時間分散し酸化チタンの分散液
を作成した。これに0.2重量部の光重合開始剤(商品
名:イルガキュア907(チバガイギー製))と0.0
5重量部の光増感剤(商品名:カヤキュア−DETX
(日本化薬製))を添加しハードコート層の上にスピン
コータを用いて塗布し、120℃で乾燥した後に紫外線
照射して、中屈折率層(屈折率:1.68、層厚:23
5nm)を形成した。 (3)高屈折率層の塗設 7重量部の酸化チタン粒子(石原産業TTO−51
A)、2.5重量部のPHOSPHANOL RD−7
20(東邦化学製)、0.5重量部のジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートを90重量部のトルエンと混
合した後、ボールミルにて24時間分散し酸化チタンの
分散液を作成した。これに0.2重量部の光重合開始剤
(商品名:イルガキュア907(チバガイギー製))と
0.05重量部の光増感剤(商品名:カヤキュア−DE
TX(日本化薬製))を添加し上記で形成した中屈折層
の上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥し
た後に紫外線照射して、高屈折率層(屈折率:2.1
0、層厚:124nm)を形成した。
Example 2 (1) Coating of Hard Coat Layer 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 25 parts by weight of a urethane oligomer (trade name: UV-
1700B (manufactured by Nippon Gohsei), 3 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 1 part by weight of a photosensitizer (trade name: KAYACUR)
After E DETX (manufactured by Nippon Kayaku) was dissolved in 50 parts by weight of toluene, 10 parts by weight of the conductive fine particles described in Example 1 were dispersed by a horizontal sand mill to prepare a coating solution for a hard coat layer. This coating solution is coated with P having a thickness of 100 μm.
Apply to ET film with bar coater at room temperature, 12
Immediately after drying at 5 ° C., UV irradiation was performed for 1 minute using a high-pressure mercury lamp of 12 W / cm, followed by crosslinking to form a conductive hard coat layer having a thickness of 7.0 μm. (2) Coating of middle refractive index layer 6 parts by weight of titanium oxide particles (Ishihara Sangyo TTO-51)
A), 9 parts by weight of PHOSPHANOL RD-720
After mixing 15 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate with 70 parts by weight of toluene, the mixture was dispersed in a ball mill for 24 hours to prepare a titanium oxide dispersion. 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 0.0 parts by weight
5 parts by weight of a photosensitizer (trade name: Kayacure-DETX)
(Manufactured by Nippon Kayaku)), applied onto the hard coat layer using a spin coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet light to obtain a medium refractive index layer (refractive index: 1.68, layer thickness: 23).
5 nm). (3) Coating of high refractive index layer 7 parts by weight of titanium oxide particles (Ishihara Sangyo TTO-51)
A), 2.5 parts by weight of PHOSPHANOL RD-7
After mixing 20 parts (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) and 0.5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate with 90 parts by weight of toluene, the mixture was dispersed in a ball mill for 24 hours to prepare a dispersion of titanium oxide. 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 0.05 parts by weight of a photosensitizer (trade name: Kayacure-DE)
TX (manufactured by Nippon Kayaku)) is applied onto the middle refractive layer formed above using a spin coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to form a high refractive index layer (refractive index: 2.1).
0, layer thickness: 124 nm).

【0061】(4)低屈折率層の塗設 ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート(FM−
4)/1,4−ジビニルベンゼン/2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート/メタクリル酸の乳化共重合によって得
た含フッ素モノマーの重合体(重量比75/20/3/
2)からなる微粒子(平均粒径:30nm、屈折率:
1.420)と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート(屈折率:1.535)を混合して得た塗布液
(固形分:1重量%;含フッ素モノマーの重合体からな
る微粒子/バインダ=84/16、重量比)を、高屈折
率層上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥
した後に塗布膜に紫外線照射することで、含フッ素モノ
マーの重合体からなる微粒子とごく少量のバインダから
なる膜厚91nmの低屈折率層を形成した。低屈折率層
の屈折率(nlayer)およびミクロボイドの体積分率(V
layer)は、別に作成したTACフィルムに低屈折率層を
塗設した膜の反射率(R)及びTACフィルム(透明支
持体)の屈折率(nbase)から実施例1と同様に求め
た。上記膜の屈折率は1.410であり約0.08体積
分率のミクロボイドを含有していることが示唆された。 (5)反射防止効果評価 実施例1と同様に形成した塗膜の反射率特性を測定し
た。その性能は450nmから700nmの波長領域に
おいて反射率0.5%未満であり、従来用いられてきた
物理蒸着による多層膜の反射防止膜と同等以上の性能を
有することがわかった。 (6)膜強度評価 実施例1と同様に膜のサファイヤ針引っ掻き強度、鉛筆
硬度計、スチールウール擦り試験を行った。サファイヤ
針引っ掻き強度は約50g、鉛筆硬度は3H、スチール
ウール擦り試験では傷が認められず、十分な耐傷性を有
していることがわかった。
(4) Coating of Low Refractive Index Layer Hexafluoroisopropyl methacrylate (FM-
4) A polymer of a fluorine-containing monomer obtained by emulsion copolymerization of 1,4-divinylbenzene / 2-hydroxyethyl acrylate / methacrylic acid (weight ratio 75/20/3 /
Fine particles composed of 2) (average particle diameter: 30 nm, refractive index:
1.4420) and dipentaerythritol hexaacrylate (refractive index: 1.535) to obtain a coating solution (solid content: 1% by weight; fine particles composed of a polymer of a fluorine-containing monomer / binder = 84/16). , Weight ratio) on the high refractive index layer using a spin coater, and drying at 120 ° C., and then irradiating the coating film with ultraviolet light, thereby comprising fine particles composed of a polymer of a fluorine-containing monomer and a very small amount of a binder. A low refractive index layer having a thickness of 91 nm was formed. The refractive index of the low refractive index layer (nlayer) and the volume fraction of microvoids (V
layer) was determined in the same manner as in Example 1 from the reflectance (R) of a film obtained by coating a low refractive index layer on a separately prepared TAC film and the refractive index (nbase) of the TAC film (transparent support). The refractive index of the film was 1.410, suggesting that it contained microvoids of about 0.08 volume fraction. (5) Evaluation of antireflection effect The reflectance characteristics of the coating film formed in the same manner as in Example 1 were measured. Its performance was less than 0.5% in the wavelength region of 450 nm to 700 nm, and it was found that it had performance equal to or higher than that of a conventionally used multi-layer antireflection film formed by physical vapor deposition. (6) Evaluation of film strength In the same manner as in Example 1, the film was subjected to a sapphire needle scratching strength, a pencil hardness tester, and a steel wool rubbing test. The sapphire needle scratching strength was about 50 g, the pencil hardness was 3H, no scratch was observed in a steel wool rub test, and it was found that the steel had sufficient scratch resistance.

【0062】比較例1 実施例1に記載のハードコート塗布物上に、以下に示す
中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を実施例1と同様
に塗布し、同様の評価を行った。 (1)中屈折率層の塗設 7重量部の酸化チタン粒子(石原産業TTO−51
A)、8重量部のPHOSPHANOL RD−720
(東邦化学製)、15重量部のジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートを70重量部のトルエンと混合した
後、ボールミルにて24時間分散し酸化チタンの分散液
を作成した。これに0.2重量部の光重合開始剤(商品
名:イルガキュア907(チバガイギー製))と0.0
5重量部の光増感剤(商品名:カヤキュア−DETX
(日本化薬製))を添加しハードコート層の上にスピン
コータを用いて塗布し、120℃で乾燥した後に紫外線
照射して、中屈折率層(屈折率:1.73、層厚:23
5nm)を形成した。 (2)高屈折率層の塗設 7重量部の酸化チタン粒子(石原産業TTO−51
A)、2.5重量部のPHOSPHANOL RD−7
20(東邦化学製)、0.5重量部のジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートを90重量部のトルエンと混
合した後、ボールミルにて24時間分散し酸化チタンの
分散液を作成した。これに0.2重量部の光重合開始剤
(商品名:イルガキュア907(チバガイギー製))と
0.05重量部の光増感剤(商品名:カヤキュア−DE
TX(日本化薬製))を添加し上記で形成した中屈折層
の上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥し
た後に紫外線照射して、高屈折率層(屈折率:2.1
0、層厚:124nm)を形成した。
Comparative Example 1 The following medium refractive index layer, high refractive index layer, and low refractive index layer were applied on the hard coat coating material described in Example 1 in the same manner as in Example 1, and the same evaluation was performed. went. (1) Coating of middle refractive index layer 7 parts by weight of titanium oxide particles (Ishihara Sangyo TTO-51)
A), 8 parts by weight of PHOSPHANOL RD-720
After mixing 15 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate with 70 parts by weight of toluene, the mixture was dispersed in a ball mill for 24 hours to prepare a titanium oxide dispersion. 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 0.0 parts by weight
5 parts by weight of a photosensitizer (trade name: Kayacure-DETX)
(Manufactured by Nippon Kayaku)), applied onto the hard coat layer by using a spin coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to obtain a medium refractive index layer (refractive index: 1.73, layer thickness: 23).
5 nm). (2) Coating of high refractive index layer 7 parts by weight of titanium oxide particles (Ishihara Sangyo TTO-51)
A), 2.5 parts by weight of PHOSPHANOL RD-7
After mixing 20 parts (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.) and 0.5 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate with 90 parts by weight of toluene, the mixture was dispersed in a ball mill for 24 hours to prepare a dispersion of titanium oxide. 0.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy)) and 0.05 parts by weight of a photosensitizer (trade name: Kayacure-DE)
TX (manufactured by Nippon Kayaku)) is applied onto the above-formed middle refractive layer using a spin coater, dried at 120 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to form a high refractive index layer (refractive index: 2.1).
0, layer thickness: 124 nm).

【0063】(3)低屈折率層の塗設 ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート(FM−
4)/1,4−ジビニルベンゼン/2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート/メタクリル酸の乳化共重合(重量比7
5/20/3/2)によって得た含フッ素モノマーの重
合体からなる微粒子(平均粒径:30nm、屈折率:
1.420)と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート(屈折率:1.535)を混合して得た塗布液
(固形分:1重量%;含フッ素モノマーの重合体からな
る微粒子/バインダ=84/16、重量比)を、高屈折
率層上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥
した後に塗布膜に紫外線照射することで、含フッ素モノ
マーの重合体からなる微粒子とごく少量のバインダから
なる膜厚91nmの低屈折率層を形成した。低屈折率層
の屈折率(nlayer)およびミクロボイドの体積分率(V
layer)は、別に作成したTACフィルムに低屈折率層を
塗設した膜の反射率(R)及びTACフィルム(透明支
持体)の屈折率(nbase)から実施例1と同様に求め
た。上記膜の屈折率は1.410であり約0.08体積
分率のミクロボイドを含有していることが示唆された。 (4)反射防止効果評価 実施例1と同様に形成した塗膜の反射率特性を測定し
た。その性能は450nmから700nmの波長領域に
おいて反射率0.1〜0.7%であり、一部の波長で従
来用いられてきた物理蒸着による多層膜の反射防止膜に
劣ることがわかった。
(3) Coating of Low Refractive Index Layer Hexafluoroisopropyl methacrylate (FM-
4) Emulsion copolymerization of 1,4-divinylbenzene / 2-hydroxyethyl acrylate / methacrylic acid (weight ratio 7
5/20/3/2) (fine particles comprising a polymer of a fluorine-containing monomer (average particle size: 30 nm, refractive index:
1.4420) and dipentaerythritol hexaacrylate (refractive index: 1.535) to obtain a coating solution (solid content: 1% by weight; fine particles composed of a polymer of a fluorine-containing monomer / binder = 84/16). , Weight ratio) on the high refractive index layer using a spin coater, and drying at 120 ° C., and then irradiating the coating film with ultraviolet light, thereby comprising fine particles composed of a polymer of a fluorine-containing monomer and a very small amount of a binder. A low refractive index layer having a thickness of 91 nm was formed. The refractive index of the low refractive index layer (nlayer) and the volume fraction of microvoids (V
layer) was determined in the same manner as in Example 1 from the reflectance (R) of a film obtained by coating a low refractive index layer on a separately prepared TAC film and the refractive index (nbase) of the TAC film (transparent support). The refractive index of the film was 1.410, suggesting that it contained microvoids of about 0.08 volume fraction. (4) Evaluation of antireflection effect The reflectance characteristics of the coating film formed in the same manner as in Example 1 were measured. The performance was 0.1 to 0.7% in the wavelength region of 450 nm to 700 nm, and it was found that the reflectance was inferior to the conventional multi-layer antireflection film formed by physical vapor deposition at some wavelengths.

【0064】比較例2 実施例1に記載のハードコート層、中屈折率層、高屈折
率層塗設物上に、低屈折率層を実施例1と同様に塗布
し、同様の評価を行った。 (1)低屈折率層の塗設 ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート(FM−
4)/1,4−ジビニルベンゼン/ヒドロキシエチルア
クリレート/メタクリル酸の乳化共重合によって得た含
フッ素モノマーの重合体からなる微粒子(平均粒径:3
0nm、屈折率:1.420)と、アロニックスM−1
01(屈折率:1.545)を混合して得た塗布液(固
形分:1重量%;含フッ素モノマーの重合体からなる微
粒子/バインダ=84/16、重量比)を、高屈折率層
上にスピンコータを用いて塗布し、120℃で乾燥した
後に塗布膜に紫外線照射することで、含フッ素モノマー
の重合体からなる微粒子とごく少量のバインダからなる
膜厚91nmの低屈折率層を形成した。低屈折率層の屈
折率(nlayer)およびミクロボイドの体積分率(Vlaye
r)は、別に作成したTACフィルムに低屈折率層を塗設
した膜の反射率(R)及びTACフィルム(透明支持
体)の屈折率(nbase)から実施例1と同様に求めた。
上記膜の屈折率は1.420であり約0.09体積分率
のミクロボイドを含有していることが示唆された。 (2)膜強度評価 実施例1と同様に膜のサファイヤ針引っ掻き強度、鉛筆
硬度計、スチールウール擦り試験を行った。サファイヤ
針引っ掻き強度は約30g、鉛筆硬度はH、スチールウ
ール擦り試験では傷が認められ、実施例に対して明らか
に耐傷性が劣ることがわかった。
Comparative Example 2 A low refractive index layer was applied in the same manner as in Example 1 on the hard coat layer, medium refractive index layer, and high refractive index layer coated product described in Example 1, and the same evaluation was performed. Was. (1) Coating of low refractive index layer Hexafluoroisopropyl methacrylate (FM-
4) Fine particles comprising a polymer of a fluorine-containing monomer obtained by emulsion copolymerization of 1,4-divinylbenzene / hydroxyethyl acrylate / methacrylic acid (average particle size: 3
0 nm, refractive index: 1.420) and Aronix M-1
01 (refractive index: 1.545) was mixed with a coating liquid (solid content: 1% by weight; fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer / binder = 84/16, weight ratio) to a high refractive index layer. A low-refractive-index layer having a thickness of 91 nm formed of fine particles composed of a polymer of a fluorine-containing monomer and a very small amount of a binder is formed by applying a spin coater thereon, drying the coating film at 120 ° C., and then irradiating the coating film with ultraviolet rays. did. The refractive index of the low refractive index layer (nlayer) and the volume fraction of microvoids (Vlaye
r) was determined in the same manner as in Example 1 from the reflectance (R) of a film in which a low refractive index layer was coated on a separately prepared TAC film and the refractive index (nbase) of the TAC film (transparent support).
The refractive index of the film was 1.420, suggesting that it contained microvoids of about 0.09 volume fraction. (2) Evaluation of film strength In the same manner as in Example 1, the film was subjected to a sapphire needle scratching strength, a pencil hardness tester, and a steel wool rubbing test. The sapphire needle scratching strength was about 30 g, the pencil hardness was H, and scratches were observed in a steel wool rub test. It was found that the scratch resistance was clearly inferior to those of the examples.

【0065】実施例3 (1)反射防止偏光板の作成 実施例1で作成した反射防止膜を用い、反射防止層が塗
設された面が上になるようにして偏光板を作成した。 (2)液晶テレビへの実装 シャープ(株)製TFT型液晶カラーテレビ6E―C3
の偏光板をはがして上記偏光板を剥がした偏光板と偏光
軸が同じになるように貼り付けた。 (3)反射防止効果評価 上記液晶テレビの黒表示での反射率特性を実施例1と同
様に測定した。その性能は450nmから700nmの
波長領域において反射率0.5%未満であり、従来用い
られてきた物理蒸着による多層膜の反射防止膜と同等以
上の性能を有することがわかった。 (4)膜強度評価 実施例1と同様に膜のサファイヤ針引っ掻き強度、鉛筆
硬度計、スチールウール擦り試験を行った。サファイヤ
針引っ掻き強度は約50g、鉛筆硬度は3H、スチール
ウール擦り試験では傷が認められず、液晶テレビの部材
として十分な強度を有していることがわかった。
Example 3 (1) Preparation of Antireflection Polarizing Plate Using the antireflection film prepared in Example 1, a polarizing plate was prepared with the surface on which the antireflection layer was applied facing upward. (2) Mounting on LCD TVs Sharp Corporation's TFT LCD color TV 6E-C3
The polarizing plate was peeled off and the polarizing plate was peeled off and the polarizing plate was attached so that the polarizing axis would be the same. (3) Evaluation of antireflection effect The reflectance characteristics of the liquid crystal television in black display were measured in the same manner as in Example 1. Its performance was less than 0.5% in the wavelength region of 450 nm to 700 nm, and it was found that it had performance equal to or higher than that of a conventionally used multi-layer antireflection film formed by physical vapor deposition. (4) Evaluation of Film Strength In the same manner as in Example 1, the film was subjected to a sapphire needle scratching strength, a pencil hardness tester, and a steel wool rubbing test. The sapphire needle scratching strength was about 50 g, the pencil hardness was 3H, no scratch was observed in a steel wool rub test, and it was found that the sapphire needle had sufficient strength as a member of a liquid crystal television.

【0066】比較例3 シャープ(株)製TFT型液晶カラーテレビ6E―C3
の偏光板を剥がし、偏光板(サンリッツ製)を剥がした
偏光板と偏光軸が同じになるように貼り付けた。実施例
3と同様に反射率、強度評価をおこなった。 (1)反射防止効果評価 上記液晶テレビの黒表示での反射率特性を実施例1と同
様に測定した。その性能は450nmから700nmの
波長領域において反射率5.2%であり、反射防止膜を
実装しないものに比べて明らかに悪かった。 (2)膜強度評価 実施例1と同様に膜のサファイヤ針引っ掻き強度、鉛筆
硬度計、スチールウール擦り試験を行った。サファイヤ
針引っ掻き強度は約50g、鉛筆硬度は3H、スチール
ウール擦り試験では傷が認められず、液晶テレビの部材
として十分な強度を有していることがわかった。
Comparative Example 3 TFT type liquid crystal color television 6E-C3 manufactured by Sharp Corporation
Was peeled off, and the polarizing plate (manufactured by Sanritz) was peeled off, and the polarizing plate was attached so that the polarizing axis was the same. The reflectance and the strength were evaluated in the same manner as in Example 3. (1) Evaluation of Antireflection Effect The reflectance characteristics of the liquid crystal television in black display were measured in the same manner as in Example 1. Its performance was 5.2% in the wavelength region of 450 nm to 700 nm, which was clearly worse than that without the antireflection film. (2) Evaluation of film strength In the same manner as in Example 1, the film was subjected to a sapphire needle scratching strength, a pencil hardness tester, and a steel wool rubbing test. The sapphire needle scratching strength was about 50 g, the pencil hardness was 3H, no scratch was observed in a steel wool rub test, and it was found that the sapphire needle had sufficient strength as a member of a liquid crystal television.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】実施例4 (1)CRTへの実装 Sony(株)製CRT(Muliscan17sF)
の半面に実施例2で作成した反射防止膜を市販のアクリ
ル系粘着剤で貼り付けた。 (2)反射防止効果評価 上記CRTを黒表示にし、垂線方向から10度の角度で
600cd/m2の光を当てて画面を観察した。上記C
RTはアンチグレア処理されていろため反射防止膜を貼
っていない面では光源の形は映らないが、画面が全体的
に白っぽくなり黒輝度の明らかな低下が認められた。一
方、反射防止膜を貼合した半面では、黒輝度の低下の割
合は貼合していない面に比べて明らかによく、反射防止
膜として十分な性能を有していることがわかった。
Embodiment 4 (1) Mounting on CRT CRT (Muliscan17sF) manufactured by Sony Corporation
The antireflection film prepared in Example 2 was stuck on one half of the surface with a commercially available acrylic pressure-sensitive adhesive. (2) Evaluation of Antireflection Effect The CRT was displayed in black, and the screen was observed by irradiating 600 cd / m2 light at an angle of 10 degrees from the perpendicular direction. The above C
RT does not show the shape of the light source on the surface on which the antireflection film is not applied because it has been subjected to anti-glare treatment, but the entire screen becomes whitish, and a clear decrease in black luminance was observed. On the other hand, on the half surface where the anti-reflection film was bonded, the rate of reduction in black luminance was clearly better than that of the surface where the anti-reflection film was not bonded, indicating that the anti-reflection film had sufficient performance.

【0069】[0069]

【発明の効果】表1から明らかなように、透明基材の表
面の少なくとも一方に、基材側から空気面に向かって順
に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を形成した反射
防止膜であって、各層がそれぞれ少なくとも1種類の2
個以上の重合性基を有するモノマーからなるポリマーを
含有しており、中屈折率層がアルミニウム、チタニウ
ム、ジルコニウム、アンチモン、亜鉛、錫から選ばれる
少なくとも1種の金属酸化物を含み、高屈折率層が酸化
チタンを含み、低屈折率層が含フッ素モノマーの重合体
からなる微粒子と光を散乱しないミクロボイドを含み、
各層の屈折率、膜厚を厳密に規定することにより多層無
機蒸着反射防止膜を凌駕する性能をもち、強度の優れた
反射防止膜を塗布で形成可能となる。
As is clear from Table 1, a medium refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer were formed on at least one of the surfaces of the transparent substrate in order from the substrate side to the air surface. An anti-reflection film, wherein each layer has at least one kind of 2
A polymer comprising a monomer having at least two polymerizable groups, wherein the middle refractive index layer contains at least one metal oxide selected from aluminum, titanium, zirconium, antimony, zinc and tin, and has a high refractive index The layer contains titanium oxide, the low refractive index layer contains fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids that do not scatter light,
By strictly defining the refractive index and the film thickness of each layer, it is possible to form an antireflection film having excellent strength, which is superior to that of a multilayer inorganic vapor deposition antireflection film, by coating.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反射防止膜の代表例を示す。FIG. 1 shows a typical example of an antireflection film of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 低屈折率層 2 含フッ素微粒子 3 ミクロボイド 4、7、10 バインダ 5 高屈折率層 6、9 金属酸化物微粒子 8 中屈折率層 11 ハードコート層 12 透明フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Low refractive index layer 2 Fluorine-containing fine particles 3 Microvoid 4, 7, 10 Binder 5 High refractive index layer 6, 9 Metal oxide fine particles 8 Medium refractive index layer 11 Hard coat layer 12 Transparent film

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基材の表面の少なくとも一方に、基
材側から空気面に向かって順に中屈折率層、高屈折率
層、低屈折率層を形成した反射防止膜であって、各層が
それぞれ少なくとも1種類の2個以上の重合性基を有す
るモノマーからなるポリマーを含有しており、該ポリマ
ーは各層を形成した後重合されたものであり、中屈折率
層がアルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチ
モン、亜鉛、錫から選ばれる少なくとも1種の金属酸化
物を含み、高屈折率層が酸化チタンを含み、低屈折率層
が含フッ素モノマーの重合体からなる微粒子と光を散乱
しないミクロボイドを含み、各層の屈折率、膜厚が以下
の範囲であることを特徴とする反射防止膜。 中屈折率層 n3=1.60〜1.70 hλ/4×0.8<n3d3<hλ/4×1.2 高屈折率層 n2=1.90〜2.20 kλ/4×0.8<n2d2<kλ/4×1.2 低屈折率層 n1=1.37〜1.46 λ/4×0.8<n1d1<λ/4×1.2 (上記式に於て、hは1、2又は3を表わし、n3 は中
屈折率層の屈折率を表わし、d3 は中屈折率層の層厚
(nm)を表わし、kは1、2又は3を表わし、n2は
高屈折率層の屈折率を表わし、d2は高屈折率層の層厚
(nm)を表わし、n1は低屈折率層の屈折率を表わ
し、そしてd1は低屈折率層の層厚(nm)を表わす。
また、λは設計波長(nm)を表し500から600の
範囲にある。)
1. An antireflection film having a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer formed on at least one of the surfaces of a transparent substrate in order from the substrate side to the air surface. Contains a polymer composed of a monomer having at least one kind of two or more polymerizable groups, and the polymer is polymerized after forming each layer, and the medium refractive index layer is formed of aluminum, titanium, zirconium. Containing at least one metal oxide selected from antimony, zinc and tin, the high refractive index layer containing titanium oxide, and the low refractive index layer containing fine particles made of a polymer of a fluorine-containing monomer and microvoids that do not scatter light. An antireflection film, wherein the refractive index and the film thickness of each layer are in the following ranges. Medium refractive index layer n3 = 1.60-1.70 hλ / 4 × 0.8 <n3d3 <hλ / 4 × 1.2 High refractive index layer n2 = 1.90-2.20 kλ / 4 × 0.8 <n2d2 <kλ / 4 × 1 .2 low refractive index layer n1 = 1.37-1.46 .lambda. / 4.times.0.8 <n1d1 <.lambda. / 4.times.1.2 (in the above formula, h represents 1, 2 or 3, and n3 is a medium refractive index. Represents the refractive index of the layer, d3 represents the thickness (nm) of the medium refractive index layer, k represents 1, 2 or 3, n2 represents the refractive index of the high refractive index layer, and d2 represents the high refractive index layer. , N1 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d1 represents the layer thickness (nm) of the low refractive index layer.
Λ represents the design wavelength (nm) and is in the range of 500 to 600. )
【請求項2】 中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を
形成した反射防止膜であって、各層がそれぞれ中屈折率
層、高屈折率層、低屈折率層の屈折率、膜厚が以下
(A)、(B)または(C)の範囲であることを特徴と
する請求項1記載の反射防止膜。 (A)中屈折率層 n3=1.60〜1.70、d3=60〜110nm (A)高屈折率層 n2=1.90〜2.20、d2=90〜190nm (A)低屈折率層 n1=1.37〜1.46、d1=70〜130nm (B)中屈折率層 n3=1.60〜1.70、d3=180 〜330nm (B)高屈折率層 n2=1.90〜2.20、d2=90〜190nm (B)低屈折率層 n1=1.37〜1.46、d1=70〜130nm (C)中屈折率層 n1=1.60〜1.70、d1=60〜110nm (C)高屈折率層 n2=1.90〜2.20、d2=45〜90nm (C)低屈折率層 n3=1.37〜1.46、d3=70〜130nm
2. An antireflection film having a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, wherein each layer has a refractive index of a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer, respectively. 2. The anti-reflection coating according to claim 1, wherein the thickness is in the range of (A), (B) or (C). (A) Medium refractive index layer n3 = 1.60-1.70, d3 = 60-110 nm (A) High refractive index layer n2 = 1.90-2.20, d2 = 90-190 nm (A) Low refractive index layer n1 = 1.37-1.46, d1 (B) Medium refractive index layer n3 = 1.60-1.70, d3 = 180-330 nm (B) High refractive index layer n2 = 1.90-2.20, d2 = 90-190 nm (B) Low refractive index layer n1 = 1.37 1.46, d1 = 70-130 nm (C) Medium refractive index layer n1 = 1.60-1.70, d1 = 60-110 nm (C) High refractive index layer n2 = 1.90-2.20, d2 = 45-90 nm (C) Low refractive index Layer n3 = 1.37-1.46, d3 = 70-130 nm
【請求項3】 前記低屈折率層の光を散乱しないミクロ
ボイドの体積分率が、0.05〜0.50の範囲にある
請求項1または2記載の反射防止膜。
3. The antireflection film according to claim 1, wherein the volume fraction of the microvoids in the low refractive index layer that does not scatter light is in the range of 0.05 to 0.50.
【請求項4】 前記含フッ素モノマーの重合体からなる
微粒子がコア―シェル構造を有する請求項1または2記
載の反射防止膜。
4. The antireflection film according to claim 1, wherein the fine particles comprising the polymer of the fluorine-containing monomer have a core-shell structure.
【請求項5】 前記反射防止膜のヘイズ値が3〜40%
の範囲にある請求項1または2記載の反射防止膜。
5. The haze value of the antireflection film is 3% to 40%.
The antireflection film according to claim 1 or 2, wherein
【請求項6】 請求項1または2記載の反射防止膜を有
することを特徴とする画像表示装置。
6. An image display device comprising the antireflection film according to claim 1 or 2.
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0962789A2 (en) * 1998-06-05 1999-12-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
EP1089093A2 (en) * 1999-09-28 2001-04-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, polarizing plate comprising the same, and image display device using the anti-reflection film or the polarizing plate
JP2001324604A (en) * 2000-03-07 2001-11-22 Fukuvi Chem Ind Co Ltd Antireflection film having non-glare function
JP2002277609A (en) * 2001-01-15 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection coating, antireflection film, image display and method for producing those
JP2002361767A (en) * 2001-04-06 2002-12-18 Dainippon Printing Co Ltd Fine particle layer laminated film and optically functional material using the same
WO2006027859A1 (en) * 2004-09-07 2006-03-16 Teijin Limited Transparent electroconductive laminate and transparent touch panel
JP2007169563A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Daicel Chem Ind Ltd Antireflective film and composition for forming the same
JP2010084067A (en) * 2008-10-01 2010-04-15 Teijin Dupont Films Japan Ltd Optical base film
WO2012157706A1 (en) * 2011-05-17 2012-11-22 キヤノン電子株式会社 Optical filter, optical device, electronic device, and antireflection complex
US9188708B2 (en) 2008-10-17 2015-11-17 Hitachi Chemical Company, Ltd. Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5622564B2 (en) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 Photosensitive composition, pattern forming material, and photosensitive film using the same, pattern forming method, pattern film, low refractive index film, optical device, and solid-state imaging device
JP5922013B2 (en) * 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 Optical member set and solid-state imaging device using the same

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0962789A2 (en) * 1998-06-05 1999-12-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
EP0962789A3 (en) * 1998-06-05 2003-07-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
US6917400B2 (en) 1999-09-28 2005-07-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, polarizing plate comprising the same, and image display device using the anti-reflection film or the polarizing plate
EP1089093A2 (en) * 1999-09-28 2001-04-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, polarizing plate comprising the same, and image display device using the anti-reflection film or the polarizing plate
EP1089093A3 (en) * 1999-09-28 2003-10-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, polarizing plate comprising the same, and image display device using the anti-reflection film or the polarizing plate
US6791649B1 (en) 1999-09-28 2004-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film, polarizing plate comprising the same, and image display device using the anti-reflection film or the polarizing plate
JP2001324604A (en) * 2000-03-07 2001-11-22 Fukuvi Chem Ind Co Ltd Antireflection film having non-glare function
JP2002277609A (en) * 2001-01-15 2002-09-25 Dainippon Printing Co Ltd Antireflection coating, antireflection film, image display and method for producing those
JP2002361767A (en) * 2001-04-06 2002-12-18 Dainippon Printing Co Ltd Fine particle layer laminated film and optically functional material using the same
WO2006027859A1 (en) * 2004-09-07 2006-03-16 Teijin Limited Transparent electroconductive laminate and transparent touch panel
JP2007169563A (en) * 2005-12-26 2007-07-05 Daicel Chem Ind Ltd Antireflective film and composition for forming the same
JP2010084067A (en) * 2008-10-01 2010-04-15 Teijin Dupont Films Japan Ltd Optical base film
US9188708B2 (en) 2008-10-17 2015-11-17 Hitachi Chemical Company, Ltd. Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member
WO2012157706A1 (en) * 2011-05-17 2012-11-22 キヤノン電子株式会社 Optical filter, optical device, electronic device, and antireflection complex
US9316766B2 (en) 2011-05-17 2016-04-19 Canon Denshi Kabushiki Kaisha Optical filter, optical device, electronic device and anti-reflection composite
JP6006718B2 (en) * 2011-05-17 2016-10-12 キヤノン電子株式会社 Optical filter, optical device, electronic device, and antireflection composite

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