JPH11349507A - 高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその誘導体の組成物、それらの製造方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤 - Google Patents
高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその誘導体の組成物、それらの製造方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤Info
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- JPH11349507A JPH11349507A JP10159656A JP15965698A JPH11349507A JP H11349507 A JPH11349507 A JP H11349507A JP 10159656 A JP10159656 A JP 10159656A JP 15965698 A JP15965698 A JP 15965698A JP H11349507 A JPH11349507 A JP H11349507A
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Abstract
もよく、洗浄・乳化力に優れた高級第2級アルコールア
ルコキシレート又はその誘導体の組成物、それらの製造
方法、それらを用いた洗浄剤と乳化剤の提供。 【解決手段】 一般式1 (R1 、R2 はアルキル基を表し、R1 とR2 の炭素数
合計は7〜29で、R2 の炭素数はR1 の炭素数以上で
あり、Aは低級アルキレン基、nは平均1〜50で、n
が2以上の場合AOは1種類以上で、2種類以上の場合
全体で平均n個である)の高級第2級アルコールアルコ
キシレートのうち、R1 がメチル基であるもの(X)3
0〜90mol%とR1 がC2以上であるもの(Y)7
0〜10mol%からなる組成物において、C8〜30
でα−オレフィン/インナーオレフィンモル比が80/
20〜0/100であるオレフィン混合物とC2〜8の
(ポリ)アルキレングリコールとを付加させた高級第2
級アルコールアルコキシレート組成物、そのアルキレン
オキサイド付加物組成物。
Description
ールアルコキシレートまたはその誘導体の組成物、それ
らの製造方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳
化剤に関するものである。
ノールエトキシレート、高級第1級アルコールエトキシ
レート、脂肪酸エトキシレート等がある。このうち、ア
ルキルフェノールエトキシレート、特にノニルフェノー
ルエトキシレートは、生分解性に乏しいことから環境に
対して、悪影響を及ぼすので、規制される方向にある。
また、高級第1級アルコールエトキシレートについて
は、流動点が高く、室温で固化するばかりでなく、浸透
力など、界面活性能も不十分で、さらに洗浄力や乳化力
も十分とはいえない。その他の非イオン界面活性剤につ
いても、例えば、脂肪酸エトキシレートは、加水分解す
るので、アルカリ性で使用できないなどの使用の制限が
あるものもある上、性能的にも充分なものはない。
級アルコールエトキシレートは、流動点が低く、取り扱
いが容易で、浸透力も良好で、泡切れも良く、洗浄力や
乳化力に優れ、有用である。しかしながら、従来の製造
方法は、炭素原子数8〜20の炭化水素の1種または2
種以上の混合物からなる直鎖パラフィンを液相酸化して
得られる、ランダム第2級アルコールにルイス酸触媒を
用いて、エチレンオキサイドを付加して、低エチレンオ
キサイド付加物を得、この反応混合物から未反応アルコ
ールを回収して、さらに、塩基性触媒を用いてエチレン
オキサイドを付加するものである。かかる製造方法で
は、エトキシレートを製造するのに1回のエチレンオキ
サイドの付加のみならず、触媒除去、蒸留、さらにエチ
レンオキサイドを付加することが必要であり、そのプロ
セスは非常に複雑であった。
アリールスルホン酸塩、高級第1級アルコール硫酸エス
テル塩、高級第1級アルキルエーテル硫酸エステル塩な
どがある。このうち、アルキルアリールスルホン酸塩、
特に直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩は、生分解性に
乏しいことから環境に対して、悪影響を及ぼすので、規
制される方向にある。また、アルキルアリールスルホン
酸塩、高級第1級アルコール硫酸エステル塩などは、水
の硬度の影響を受け易く、水溶性も乏しい。高級第1級
アルキルエーテル硫酸エステル塩については、粘度が高
く、ゲル化し易いばかりでなく、表面張力や浸透力など
の界面活性能も不十分で、さらに洗浄力や乳化力も十分
とはいえない。その他の陰イオン界面活性剤について
も、性能的にも充分なものはない。
2級アルキルエーテル硫酸エステル塩は、低粘度でゲル
化し難いので、取り扱いし易く、表面張力、浸透力も良
好で、泡切れも良く、洗浄力、乳化力に優れ、有用であ
る。しかしながら、従来の製造方法は、炭素原子数8〜
20の炭化水素の1種または2種以上の混合物からなる
直鎖パラフィンを液相酸化して得られる、ランダム第2
級アルコールにルイス酸触媒を用いて、エチレンオキサ
イドを付加して、低エチレンオキサイド付加物を得、こ
の反応混合物から未反応アルコールを回収して、さら
に、塩基性触媒を用いてエチレンオキサイドを付加し、
次いでクロルスルホン酸または無水硫酸を用いて硫酸化
するものである。かかる製造方法では、高級第2級アル
キルエーテル硫酸エステル塩を製造するのに、1回のエ
チレンオキサイドの付加のみならず、触媒除去、蒸留、
さらにエチレンオキサイドを付加してから、硫酸化する
ことが必要であり、そのプロセスはやはり非常に複雑な
ものであった。
目的とするところは、新規な高級第2級アルコールアル
コキシレートまたはその誘導体の組成物、それらの製造
方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤を提
供することにある。
いやすく、浸透力も良好で、泡切れもよく、洗浄力およ
び乳化力に優れた高級第2級アルコールアルコキシレー
トまたはその誘導体の組成物、それらの製造方法、なら
びにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤を提供すること
にある。
高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその誘導
体の組成物、それらの製造方法、ならびにそれらを用い
た洗浄剤および乳化剤により達成される。
R1 の炭素原子数とR2 の炭素原子数の合計は7〜29
で、かつR2 の炭素原子数はR1 の炭素原子数以上であ
り、Aは低級アルキレン基を表し、nは平均で1〜50
である。ただし、nが2以上の場合には、AOで表され
るオキシアルキレン基の種類は1種類または2種類以上
であってもよく、該オキシアルキレン基が2種類以上の
場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平均n個あ
ることを示す)で示される高級第2級アルコールアルコ
キシレートのうち、R1 がメチル基である高級第2級ア
ルコールアルコキシレート(X)30〜90mol%と
R1 が炭素原子数2以上のアルキル基である高級第2級
アルコールアルコキシレート(Y)70〜10mol%
からなる高級第2級アルコールアルコキシレート組成物
において、炭素原子数が8〜30でかつα−オレフィン
/インナーオレフィンのモル比が80/20〜0/10
0であるオレフィン混合物と、炭素原子数が2〜8の
(ポリ)アルキレングリコールとを付加させることによ
り得られることを特徴とする高級第2級アルコールアル
コキシレート組成物である。
リコールがエチレングリコールである前記組成物であ
る。
和することにより得られる高級第2級アルコールアルコ
キシレートの硫酸エステル塩組成物である。
2〜8のアルキレンオキサイドを付加することにより得
られる高級第2級アルコールアルコキシレートのアルキ
レンオキサイド付加物組成物である。
ドがエチレンオキサイドである前記組成物である。
することにより得られる高級第2級アルコールアルコキ
シレートのアルキレンオキサイド付加物の硫酸エステル
塩組成物である。
る洗浄剤である。
乳化剤である。
R1 の炭素原子数とR2 の炭素原子数の合計は7〜29
で、かつR2 の炭素原子数はR1 の炭素原子数以上であ
り、Aは低級アルキレン基を表し、nは平均で1〜50
である。ただし、nが2以上の場合には、AOで表され
るオキシアルキレン基の種類は1種類または2種類以上
であってもよく、該オキシアルキレン基が2種類以上の
場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平均n個あ
ることを示す)で示される高級第2級アルコールアルコ
キシレートのうち、R1 がメチル基である高級第2級ア
ルコールアルコキシレート(X)30〜90mol%と
R1 が炭素原子数2以上のアルキル基である高級第2級
アルコールアルコキシレート(Y)70〜10mol%
からなる高級第2級アルコールアルコキシレート組成物
の製造方法において、炭素原子数が8〜30でかつα−
オレフィン/インナーオレフィンのモル比が80/20
〜0/100であるオレフィン混合物と、炭素原子数が
2〜8の(ポリ)アルキレングリコールとを付加させる
ことを特徴とする高級第2級アルコールアルコキシレー
ト組成物の製造方法である。
た高級第2級アルコールアルコキシレート組成物を硫酸
化し中和することを特徴とする高級第2級アルコールア
ルコキシレートの硫酸エステル塩組成物の製造方法であ
る。
れた高級第2級アルコールアルコキシレート組成物と、
炭素原子数が2〜8のアルキレンオキサイドを付加する
ことを特徴とする高級第2級アルコールアルコキシレー
トのアルキレンオキサイド付加物組成物の製造方法であ
る。
た高級第2級アルコールアルコキシレートのアルキレン
オキサイド付加物組成物を硫酸化し中和することを特徴
とする高級第2級アルコールアルコキシレートアルキレ
ンオキサイド付加物の硫酸エステル塩組成物の製造方法
である。
R1 の炭素原子数とR2 の炭素原子数の合計は7〜29
で、かつR2 の炭素原子数はR1 の炭素原子数以上であ
り、Aは低級アルキレン基を表し、nは平均で1〜50
である。ただし、nが2以上の場合には、AOで表され
るオキシアルキレン基の種類は1種類または2種類以上
であってもよく、該オキシアルキレン基が2種類以上の
場合には、各種オキシアルキレン基が全体で平均n個あ
ることを示す)で示される高級第2級アルコールアルコ
キシレートのうち、R1 がメチル基である高級第2級ア
ルコールアルコキシレート(X)30〜90mol%と
R1 が炭素原子数2以上のアルキル基である高級第2級
アルコールアルコキシレート(Y)70〜10mol%
からなる高級第2級アルコールアルコキシレート組成
物、そのアルキレンオキサイド付加物組成物、およびそ
れらの硫酸エステル塩組成物、それらの製造方法、なら
びにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤である。
ルキレン基としては、炭素原子数2〜8、好ましくは炭
素原子数2〜4のアルキレン基である。従って、AOで
表されるオキシアルキレン基としては、例えば、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ
基、及びオクチルオキシ基等、好ましくは、エトキシ
基、プロポキシ基及びブトキシ基が挙げられる。また、
上記一般式(1)中のAOで定義したように、これらの
オキシアルキレン基は、1種類のみで構成されていても
よいほか、2種類以上で構成されていてもよい。オキシ
アルキレン基が2種類以上で構成される場合には、2種
類以上のオキシアルキレン基がランダムに配置されてい
てもよく、それぞれがブロックで配置されていてもよ
い。例えば、エトキシ基の長鎖の一部がプロポキシ基で
あるとした構成であってもよい。
るアルキル基は、好ましくは直鎖アルキル基であり、R
1 の炭素原子数とR2 の炭素原子数の合計は、7〜2
9、好ましくは9〜19で、かつR2 の炭素原子数がR
1 の炭素原子数以上(R1 の炭素原子数≦R2 の炭素原
子数)である。
0、好ましくは1〜20である。
レート組成物は、上記一般式(1)で表される高級第2
級アルコールアルコキシレートにおいて、R1 がメチル
基である高級第2級アルコールアルコキシレート(X)
30〜90mol%、好ましくは40〜80mol%
と、R1 が炭素原子数2以上のアルキル基である高級第
2級アルコールアルコキシレート(Y)70〜10mo
l%、好ましくは60〜20mol%とから構成されて
なるものである。高級第2級アルコールアルコキシレー
ト(X)と高級第2級アルコールアルコキシレート
(Y)の割合が上記の範囲内である高級第2級アルコー
ルアルコキシレート組成物は、低融点で水溶液にしたと
きのゲル化範囲がないかまたは極めて狭く、ハンドリン
グ性に優れ、高浸透性で、泡切れも良く、洗浄力や乳化
力に優れている。高級第2級アルコールアルコキシレー
ト(X)の割合が90mol%を超えると、得られる高
級第2級アルコールアルコキシレート組成物の流動点が
高くなり、洗浄力が低下する。これに対して、高級第2
級アルコールアルコキシレート(X)の割合が30mo
l%未満であると、界面活性剤としての性能は同等であ
るが、本発明の製造方法では、製造コストが高くなり、
経済的に有利とはならない。
キシレート組成物は、炭素原子数が8〜30の長鎖オレ
フィンでかつα−オレフィン/インナーオレフィンのモ
ル比が80/20〜0/100であるオレフィン混合物
と炭素原子数が2〜8の(ポリ)アルキレングリコール
とを酸触媒の存在下で付加反応させ、その生成物を蒸
留、抽出、その他の方法により分離することにより得ら
れるものである。
用される長鎖オレフィンは、炭素原子数が8〜30、好
ましくは炭素原子数が10〜20のエチレン系不飽和結
合を有する非環式炭化水素である。かかるオレフィンの
具体例としては、オクテン、デセン、ドデセン、テトラ
デセン、ヘキサデセン、オクタデセン、エイコセン、ド
コセン、テトラコセン、ヘキサコセン、オクタコセン、
及びトリアコセン、例えば、1−デセン、2−デセン、
1−ドデセン、2−ドデセン、3−ドデセン、4−ドデ
セン、5−ドデセン、1−テトラデセン、2−テトラデ
セン、及び1−ヘキサデセンなどが挙げられる。これら
のうち、デセン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセ
ン、オクタデセン、及びエイコセンが好ましく使用され
る。
において、α位に不飽和結合を有するα−オレフィン
と、インナー位(α位以外の位置)に二重結合を有する
インナーオレフィンとのモル比が80/20〜0/10
0、好ましくは50/50〜5/95の範囲にある混合
オレフィンとして使用するのが好適である。上記の範囲
内のモル比の混合オレフィンを用いることにより、本発
明の高級第2級アルコールアルコキシレート組成物を経
済的に有利に製造することができる。上記モル比が上記
下限に満たない場合は、オレフィンの反応性が低くなる
ため規模の大きな反応器を必要とするようになり、好ま
しくない。また、上記モル比が上限を超える場合は、付
加反応によって得られる高級第2級アルコールアルコキ
シレート組成物において、前記一般式(1)のR1 がメ
チル基である高級第2級アルコールアルコキシレート
(X)の含有量が上限である90mol%を超えるよう
になり、流動性、浸透性、洗浄力などの性能が低くなる
ため好ましくない。具体的には、例えば、α−オレフィ
ンを酸または塩基触媒の存在下に80〜200℃程度の
温度範囲で加熱処理してα−オレフィンの一部をインナ
ーオレフィンに異性化して両者の割合を上記範囲に調整
したオレフィン混合物、または市販のインナーオレフィ
ンとα−オレフィンとを上記範囲内の割合となるように
混合したオレフィン混合物を用いればよい。また、通
常、この付加反応では未反応のオレフィンが残るが、こ
の未反応オレフィンを回収し、循環・再使用する際に、
α−オレフィンとインナーオレフィンとの割合を上記範
囲内に調整すればよい。
アルキレングリコールは、炭素原子数が2〜8のものが
好ましい。かかる(ポリ)アルキレングリコールの具体
例としては、モノエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコ
ール、モノプロピレングリコール、ジプロピレングリコ
ール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジ
オール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオ
ール、1,6−ヘキサンジオール、パラキシレングリコ
ール、1,4−シクロヘキサンメタンジオールなどが挙
げられる。これらは、単独で用いてもよく、あるいは2
種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
記(ポリ)アルキレングリコールのモル比は、特に制限
されないが、好ましくは0.05〜20、より好ましく
は0.1〜10である。当該モル比が0.05未満の場
合には、高級第2級アルコールアルコキシレートの収率
が低下し、他方、20を超える場合には、反応器の容積
が大きくなり、経済的でないなど好ましくない。また、
上記オレフィン混合物と上記(ポリ)アルキレングリコ
ールを付加させる反応条件としては、反応温度が、通常
50〜250℃、好ましくは100〜200℃であり、
反応圧力は、減圧、常圧または加圧のいずれでもよい
が、常圧〜20kg/cm2 の範囲が望ましい。上記反
応温度が50℃未満の場合には、反応速度が遅くなりす
ぎ、他方、250℃を超える場合には、オレフィンの重
合、(ポリ)アルキレングリコールの分解、縮重合等が
起こり選択率が低下するなど好ましくない。
ングリコールの反応に用いる、酸触媒の具体例として
は、強酸性イオン交換樹脂、BEA型ゼオライト等の結
晶性アルミノシリケート、ドデシルベンゼンスルホン酸
などで挙げられるが、反応性からみて、好ましくは、結
晶性アルミノシリケートであり、なかでも特に、BEA
型ゼオライトが望ましい。
ン混合物に対し、1〜50重量%、好ましくは2〜30
重量%である。該触媒量が1重量%未満の場合には、十
分な触媒能が得られず付加反応が促進できず、他方、5
0重量%を超える場合には、さらなる添加に見合うだけ
の効果が得られず不経済となるなど好ましくない。
ルコキシレートのアルキレンオキサイド付加物組成物
は、上記の高級第2級アルコールアルコキシレート組成
物に炭素原子数が2〜8のアルキレンオキサイドをアル
カリ触媒存在下で付加反応させることにより得ることが
できる。
レートのアルキレンオキサイド付加物組成物に用いられ
るアルキレンオキサイドは、炭素原子数が2〜8、好ま
しくは2〜4である。かかるアルキレンオキサイドの具
体例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサ
イド、ブチレンオキサイド、スチレンオキサイド等が挙
げられる。
サイドの付加モル数は特に限定されないが、好ましくは
1〜30、より好ましくは4〜20である。また、この
アルキレンオキサイドを付加する条件としては、反応温
度が、通常50〜250℃、好ましくは100〜200
℃であり、反応圧力は、常圧または加圧のいずれでもよ
いが、常圧〜20kg/cm2 の範囲が望ましい。上記
反応温度が50℃未満の場合には、反応速度が遅くな
り、他方、250℃を超える場合には、分解および副生
成物の増加が起こるなど好ましくない。
リ金属またはアルカリ土類金属に属する元素の水酸化
物、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウムなどが挙げられる。入手のし易さおよび
反応性からみて、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどである。これらは、粉末でも、顆粒状で
も、さらには水溶液として添加し、脱水を行ってもよ
い。該アルカリ触媒の使用量としては、原料のアルコキ
シレートに対し、0.01〜2.0重量%、好ましくは
0.02〜0.5重量%がよい。
レートまたはそのアルキレンオキサイド付加物の硫酸エ
ステル塩組成物は、上記高級第2級アルコールアルコキ
シレート組成物またはそのアルキレンオキサイド付加物
の組成物をクロルスルホン酸または無水硫酸を用いて硫
酸化し、得られた反応液を塩基性物質で中和することに
より、または、上記高級第2級アルコールアルコキシレ
ート組成物またはそのアルキレンオキサイド付加物の組
成物を溶媒の存在下で硫酸化し、得られた反応液を塩基
性物質で中和し、さらに溶媒を除去することにより製造
することができる。
高級第2級アルコールアルコキシレート組成物またはそ
のアルキレンオキサイド付加物の組成物中に、クロルス
ルホン酸を公知の方法、例えば、直接もしくは空気、不
活性ガスなどを同伴させて滴下し、または特公平1−3
6823号公報に記載の方法によりラインミキサー付外
部循環が備えられた硫酸化装置などを利用して混合する
ことによって、バッチ式で硫酸化を行う。クロルスルホ
ン酸の滴下時間は1〜2時間、反応温度は−20〜30
℃、特に0〜20℃が適している。
知の方法、例えば、特公昭51−17538号公報に記
載の方法により、並流薄膜反応器を用い高級第2級アル
コールアルコキシレート組成物またはそのアルキレンオ
キサイド付加物の組成物を薄膜状に流下し、不活性ガス
により希釈した無水硫酸ガスを並流させ気液接触させる
ことにより、連続式で硫酸化を行う。不活性ガスの速度
は毎秒20〜70m、ガス中の無水硫酸濃度は1〜10
容量%、高級第2級アルコールアルコキシレートに対す
る無水硫酸のモル比は0.95〜1.2が望ましい。反
応温度は−20〜60℃、特に0〜30℃が望ましい。
率で高品質の本発明による高級第2級アルコールアルコ
キシレートまたはそのアルキレンオキサイド付加物の硫
酸エステル塩組成物を製造することが可能である。使用
する溶媒の種類としては、クロロホルム、四塩化炭素、
塩化エチル、塩化エチレン、1,1,1−トリクロロエ
タン、1,1,1,2−テトラクロロエタンなどの塩素
系溶媒、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、
シクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒、ジエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテルなどのエーテル系溶媒などが
挙げられる。溶媒濃度は反応溶液中の10〜90重量%
が望ましい。溶媒濃度が10重量%未満では溶媒使用の
効果がえられず、90重量%を超えると反応効率が悪く
なり収率の低下などを招くので好ましくない。
カリ金属水酸化物、より好ましくは、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム、アルカリ土
類金属の酸化物および水酸化物、より好ましくは、酸化
マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化カルシウムお
よび水酸化カルシウム、アンモニア、アルカノールアミ
ン、より好ましくは、モノ−、ジ−およびトリエタノー
ルアミン、並びに1アルキル基について1〜4の炭素原
子を含む第一、第二および第三級アルキルアミンであ
る。
キシレートまたはその誘導体の組成物の用途としては、
例えば、非イオン界面活性剤としての使用のほか、アニ
オン界面活性剤、カチオン界面活性剤の製造原料などと
して使用できるが、低流動点で、取り扱いしやすく、浸
透力も良好で、泡切れもよく、洗浄力や乳化力に優れて
いることから、洗浄剤および乳化剤としての使用が望ま
しい。
レートまたはその誘導体の組成物を洗浄剤とする場合、
上記高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその
誘導体の組成物を単独で用いてもよいが、公知の洗浄剤
用界面活性剤を併用してもよい。このような界面活性剤
としては、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸塩、ア
ルキル硫酸エステル塩、α−オレフィンスルホン酸塩、
アルキルスルホン酸塩、脂肪族アミドスルホン酸塩、ジ
アルキルスルホコハク酸塩、アルキルエーテル硫酸エス
テル塩などの陰イオン界面活性剤、アルキルアミン塩、
第4級アンモニウム塩などの陽イオン界面活性剤、アル
キルベタインなどの両性イオン界面活性剤などが挙げら
れる。
レートまたはそのアルキレンオキサイド付加物の組成物
は、公知の非イオン界面活性剤、例えば、高級第1級ア
ルコールエトキシレートなどについても、本発明の洗浄
剤の本来の性能を損なわない範囲で併用することが可能
である。
レートまたはアルキレンオキサイド付加物の硫酸エステ
ル塩組成物は、公知の陰イオン界面活性剤、例えば、ア
ルキルアリールスルホン酸塩、高級第1級アルコール硫
酸エステル塩、高級第1級アルキルエーテル硫酸エステ
ル塩などについても、本発明の洗浄剤の性能を損なわな
い範囲で併用することが可能である。
剤に使用されている種々の添加剤を加えることができ
る。このような添加剤としては、例えば、アルカリ剤、
ビルダー、香料、蛍光増白剤、着色剤、起泡剤、泡安定
剤、つや出し剤、殺菌剤、漂白剤、酵素、防腐剤、染
料、溶剤などが挙げられる。
器、容器、雑貨器具、食品、ビルメインテナンス製品、
住居、家具、自動車、航空機、金属製品などの洗浄剤、
シャンプー、ボディシャンプーなどとして有効に用いる
ことができる。
コキシレートまたはその誘導体の組成物を乳化剤とする
場合、上記高級第2級アルコールアルコキシレート化合
物組成物を単独で用いてもよいが、公知の乳化剤を含有
していてもよい。例えば、乳化剤として一般に使用され
ている陰イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、非イ
オン界面活性剤あるいは両性イオン界面活性剤を併用す
ることができる。
は、特に制限はなく、鉱物油、動植物油、合成油などを
使用することができる。これらは、単独でも、あるいは
2種以上混合して使用することもできる。鉱物油の例と
しては、例えば、スピンドル油、マシン油、流動パラフ
ィンなどを挙げることができる。動植物油の例として
は、牛脂、豚脂、魚油、鯨油、ナタネ油、ゴマ油、ヤシ
油、大豆油、パーム油、ツバキ油、ヒマシ油などを挙げ
ることができる。
料および乳化重合用乳化剤などに用いることができる。
明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでは
ない。なお、以下の実施例において、前記一般式(1)
の中のnが1であるものを高級第2級アルコールアルコ
キシレートと称し、nが2以上であるものを高級第2級
アルコールアルコキシレートアルキレンオキサイド付加
物と称する。
VALFOR CP811 BL−25)5重量%に
て、150℃10時間液相で反応させることにより得ら
れたドデセン異性体混合物(1−ドデセン 25mol
%、インナードデセン 75mol%からなる)810
g(4.82mol)、モノエチレングリコール 90
0g(14.52mol)および触媒としてPQ社製B
EA型ゼオライト(商品名:VALFOR CP 81
1 BL−25)100gを、撹拌翼および還流冷却器
を備えた3000mlのガラス製反応器に仕込み、気相
部を窒素で置換した後、常圧で窒素雰囲気に保持した。
ついで、回転数を600rpmとして撹拌しながら、1
50℃まで昇温後、同温度で3時間反応させた後、反応
液を室温まで冷却し、上層のドデセン相を分離し、蒸留
した。未反応のドデセンを留出した後、減圧度2mmH
gで129〜131℃の沸点範囲で第2級ドデカノール
エトキシレート組成物 155gを得た。
ト組成物のエトキシレート部位のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図1)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置がエトキシ化された第2級アルコールエトキシレート
組成物(一般式(1)中のR1 がメチル基であるエトキ
シレート)(上記高級第2級アルコールアルコキシレー
ト化合物(X);以下、同様)の割合が71mol%で
あった。この第2級アルコールエトキシレート組成物に
ついて、JIS K−2269に基づき、流動点を測定
したところ、−20℃以下であった。
算出方法 1.15ppm付近の2重線の積分値(R1 がメチル基
である場合のR1 のメチル基のプロトン):a 0.9ppm付近の3重線の積分値(R1 が炭素原子数
が2以上のアルキル基である場合のR1 の末端メチル基
および、全てのR2 の末端のメチル基のプロトン):b 高級第2級アルコールアルコキシレート化合物(X)の
割合:c c=2a/(a+b) NMR測定方法 機種:Varian UNITY Plus400
(400MHz) 溶媒:CDCl3 +0.03%TMS:SAMPLE=
99:1 積算回数:161 H−NMR測定後に表示される条件は、以下の通りと
した。
ION DATA PROCESSING FT SIZE 65536 TOTAL ACQUISITION TIME 1m
inutes.実施例2 第2級ドデカノールエトキシレートエチレン
オキサイド付加物組成物 実施例1で得られた第2級ドデカノールモノエトキシレ
ート155g(0.67mol)および触媒として水酸
化ナトリウム0.2gをステンレス製オートクレーブに
仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素にて1.0
kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、エチレンオキ
サイド217g(4.93mol)を3時間でオートク
レーブに導入した。導入後、さらに1時間、150℃に
保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージした
後、一般式(1)のnが平均8.4の第2級ドデカノー
ルエトキシレートエチレンオキサイド付加物組成物を得
た。
トエチレンオキサイド付加物組成物のエトキシレート部
位のアルキル鎖炭素付加位置については、 1H−NMR
分析(図2)により、アルキル末端メチル基のプロトン
比より求めた結果、2の位置がエトキシ化された第2級
アルコールエトキシレートエチレンオキサイド付加物の
割合は、72mol%であった。エトキシ化位置の算出
方法およびNMR測定方法は、実施例1と同様に行っ
た。
シレート組成物 1−テトラデセンをPQ社製BEA型ゼオライト(商品
名:VALFOR CP 811 BL−25)5重量
%にて、150℃13Hrs液相で反応させることによ
り得られた、テトラデセン異性体混合物(1−テトラデ
セン 20mol%、インナーテトラデセン 80mo
l%からなる)810g(4.13mol)、モノエチ
レングリコール 900g(14.52mol)、およ
び触媒としてPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:V
ALFOR CP 811 BL−25)100gを、
撹拌翼および還流冷却器を備えた3000mlのガラス
製反応器に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で
窒素雰囲気に保持した。ついで、回転数を600rpm
として撹拌しながら、150℃まで昇温後、同温度で3
時間反応させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のテ
トラデセン相を分離し、蒸留した。
度5mmHgで170〜174℃の沸点範囲で第2級テ
トラデカノールエトキシレート組成物 102gを得
た。
レート組成物のエトキシレート部位のアルキル鎖炭素付
加位置については、 1H−NMR分析(図3)により、
アルキル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2
の位置がエトキシ化された第2級アルコールエトキシレ
ートの割合は69mol%であった。なお、エトキシ化
位置の算出方法およびNMR測定方法は、実施例1と同
様に行った。この第2級アルコールエトキシレート組成
物について、JIS K−2269に基づき、流動点を
測定したところ、−10℃であった。
シレートエチレンオキサイド付加物組成物 実施例3で得られた第2級テトラデカノールエトキシレ
ート組成物102g(0.40mol)および触媒とし
て水酸化ナトリウム0.2gをステンレス製オートクレ
ーブに仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素にて
1.0kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、エチレ
ンオキサイド150g(3.42mol)を3時間でオ
ートクレーブに導入した。導入後、さらに1時間、15
0℃に保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力をパー
ジした後、一般式(1)のnが平均9.6の第2級テト
ラデカノールエトキシレートエチレンオキサイド付加物
組成物を得た。
デカノールエトキシレートエチレンオキサイド付加物組
成物のエトキシレート部位のアルキル鎖炭素付加位置に
ついては、 1H−NMR分析(図4)により、アルキル
末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位置が
エトキシ化された第2級アルコールエトキシレートエチ
レンオキサイド付加物組成物の割合は、66mol%で
あった。エトキシ化位置の算出方法およびNMR測定方
法は、実施例1と同様に行った。
ートエチレンオキサイド付加物 n−ドデカノール320g(1.7mol)および触媒
として水酸化ナトリウム0.2gをステンレス製オート
クレーブに仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素
にて1.0kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、エ
チレンオキサイド680g(15.5mol)を3時間
でオートクレーブに導入した。導入後、さらに1時間、
150℃に保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力を
パージした後、一般式(1)のnが平均9.0の第1級
ドデカノールエトキシレートエチレンオキサイド付加物
を得た。
ート組成物 1−ドデセン810g(4.82mol)、モノエチレ
ングリコール 900g(14.52mol)、および
触媒としてPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:VA
LFOR CP 811 BL−25)100gを、撹
拌翼および還流冷却器を備えた3000mlのガラス製
反応器に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で窒
素雰囲気に保持した。ついで、回転数を600rpmと
して撹拌しながら、150℃まで昇温後、同温度で3時
間反応させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のドデ
セン相を分離し、蒸留した。未反応のドデセンを留出し
た後、減圧度2mmHgで129〜131℃の沸点範囲
で第2級ドデカノールエトキシレート 255gを得
た。
ト組成物のエトキシレート部位のアルキル鎖炭素付加位
置については、 1H−NMR分析(図5)により、アル
キル末端メチル基のプロトン比より求めた結果、2の位
置がエトキシ化された第2級アルコールモノエトキシレ
ートの割合が94mol%であった。エトキシ化位置の
算出方法およびNMR測定方法は、実施例1と同様に行
った。
ートエチレンオキサイド付加物 比較例2で得られた第2級ドデカノールモノエトキシレ
ート255g(1.1mol)および触媒として水酸化
ナトリウム0.2gをステンレス製オートクレーブに仕
込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素にて1.0k
g/cm2 Gとし、150℃に昇温後、エチレンオキサ
イド358g(8.14mol)を3時間でオートクレ
ーブに導入した。導入後、さらに1時間、150℃に保
持した後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージした
後、一般式(1)のnが平均8.4の第2級ドデカノー
ルエトキシレートエチレンオキサイド付加物を得た。
トエチレンオキサイド付加物組成物のエトキシレート部
位のアルキル鎖炭素付加位置については、 1H−NMR
分析(図6)により、アルキル末端メチル基のプロトン
比より求めた結果、2の位置がエトキシ化された第2級
アルコールエトキシレートが、93mol%であった。
エトキシ化位置の算出方法およびNMR測定方法は、実
施例1と同様に行った。
ート硫酸エステル塩組成物 実施例1で得られた第2級ドデカノールエトキシレート
組成物を内径5mm、長さ100cmの円管状の反応帯
域を形成する反応管を用い、その上部の液溜を経て反応
管上部に設けた堰より反応管の内壁に沿って、毎分1
6.2gの速度で薄膜状に流下させた。同時に反応管上
部に設けたノズルより、窒素ガスで希釈した無水硫酸を
流入させた。流入させた全窒素ガスの反応管における流
速を毎秒30mとし、流入させた全混合ガス中の無水硫
酸の濃度を4容量%とした。また、流下させた無水硫酸
と流下させた第2級ドデカノールエトキシレートとのモ
ル比を1.1とした。エトキシレートと無水硫酸の反応
で発生した反応熱は、反応管の外側を流れる冷媒により
除去し、15℃に保った。反応管を出た流体は、サイク
ロンにより窒素ガスと反応生成物に分離した。反応生成
物は、直ちに水酸化ナトリウム水溶液により中和し、硫
酸エステル塩の約25%水溶液を得た。
ト硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖
炭素付加位置については、 1H−NMR分析(図7)に
より、アルキル末端メチル基のプロトン比より求めた結
果、2の位置が硫酸エステル化された第2級ドデカノー
ルエトキシレート硫酸エステル塩の割合は、66mol
%であった。
ートエチレンオキサイド付加物硫酸エステル塩組成物 実施例1の中間品である第2級ドデカノールエトキシレ
ート組成物155g(0.67mol)および触媒とし
て水酸化ナトリウム0.2gをステンレス製オートクレ
ーブに仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素にて
1.0kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、エチレ
ンオキサイド62g(1.41mol)を3時間でオー
トクレーブに導入した。導入後、さらに1時間、150
℃に保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力をパージ
した後、オキシエチレン基が平均3.1molの第2級
ドデカノールエトキシレートエチレンオキサイド付加物
組成物を得た。
ドデカノールエトキシレートエチレンオキサイド付加物
組成物217g(0.67mol)を500mlフラス
コに仕込み、10℃に冷却した。この中にクロルスルホ
ン酸86.3g(0.74mol)を約1時間かけて滴
下した。滴下中、液温は10〜15℃に維持した。クロ
ルスルホン酸滴下後、反応液中に窒素ガスを流し、副生
の塩化水素ガスを除去し、次いで、20℃以下に温度を
維持しながら、反応液を水酸化ナトリウム溶液中に滴下
して中和し、硫酸エステル塩の約25%水溶液を得た。
トエチレンオキサイド付加物組成物硫酸エステル塩組成
物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位置について
は、1H−NMR分析(図8)により、アルキル末端メ
チル基のプロトン比より求めた結果、2の位置が硫酸エ
ステル化された第2級ドデカノールエチレンオキサイド
付加物硫酸エステル塩の割合は、75mol%であっ
た。硫酸エステル塩の位置の算出方法およびNMR測定
方法は、実施例1と同様に行った。
シレート硫酸エステル塩組成物 1−ヘキサデセンをPQ社製BEA型ゼオライト(商品
名:VALFOR CP 811 BL−25)5重量
%にて、150℃13Hrs処理することにより得られ
た、ヘキサデセン異性体混合物(1−ヘキサデセン 2
0mol%、インナーヘキサデセン 80mol%から
なる)810g(3.62mol)、モノエチレングリ
コール 900g(14.52mol)、および触媒と
してPQ社製BEA型ゼオライト(商品名:VALFO
R CP 811 BL−25)100gを、撹拌翼お
よび還流冷却器を備えた3000mlのガラス製反応器
に仕込み、気相部を窒素で置換した後、常圧で窒素雰囲
気に保持した。ついで、回転数を600rpmとして撹
拌しながら、150℃まで昇温し、同温度で3時間反応
させた後、反応液を室温まで冷却し、上層のヘキサデセ
ン相を分離し、蒸留した。未反応のヘキサデセンを留出
した後、減圧度2mmHgで160〜165℃の沸点範
囲で第2級ヘキサデカノールエトキシレート組成物 9
5gを得た。
ト組成物80g(0.28mol)および溶媒として塩
化エチレン400gを1リットルフラスコに仕込み10
℃に冷却した。この中にクロルスルホン酸36g(0.
31mol)を約1時間かけて滴下した。滴下中、液温
は10〜15℃に維持した。クロルスルホン酸滴下後、
反応液中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガスを除去
し、次いで、20℃以下に温度を維持しながら、反応液
を水酸化ナトリウム溶液中に滴下して中和し、塩化エチ
レンを除去して、硫酸エステル塩の約25%水溶液を得
た。
レート硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキ
ル鎖炭素付加位置については、 1H−NMR分析(図
9)により、アルキル末端メチル基のプロトン比より求
めた結果、2の位置が硫酸エステル化された第2級ヘキ
サデカノールエトキシレート硫酸エステル塩の割合は、
61mol%であった。硫酸エステル塩の位置の算出方
法およびNMR測定方法は、実施例1と同様に行った。
トエチレンオキサイド付加物硫酸エステル塩 第1級アルコール(n−ドデカノールとn−テトラデカ
ノール混合物)593g(3.08mol)および触媒
として水酸化ナトリウム0.2gをステンレス製オート
クレーブに仕込み、窒素置換後、反応器内の圧力を窒素
にて1.0kg/cm2 Gとし、150℃に昇温後、エ
チレンオキサイド407g(9.25mol)を3時間
でオートクレーブに導入した。導入後、さらに1時間、
150℃に保持した後、室温まで冷却し、内部の圧力を
パージした後、エチレンオキサイドが平均3.0mol
付加した、第1級アルコールエトキシレートエチレンオ
キサイド付加物を得た。
レンオキサイド付加物200g(0.62mol)を5
00mlフラスコに仕込み10℃に冷却した。この中に
クロルスルホン酸79.0g(0.68mol)を約1
時間かけて滴下した。滴下中、液温は10〜15℃に維
持した。クロルスルホン酸滴下後、反応液中に窒素ガス
を流し、副生の塩化水素ガスを除去し、次いで、20℃
以下に温度を維持しながら、反応液を水酸化ナトリウム
水溶液中に滴下して中和し、第1級アルコールエトキシ
レートエチレンオキサイド付加物硫酸エステル塩の約2
5%水溶液を得た。
ート硫酸エステル塩組成物 比較例2で得られた第2級ドデカノールエトキシレート
255g(1.11mol)および溶媒として塩化エチ
レン510gを1リットルフラスコに仕込み10℃に冷
却した。この中にクロルスルホン酸142g(1.22
mol)を約1時間かけて滴下した。滴下中、液温は1
0〜15℃に維持した。クロルスルホン酸滴下後、反応
液中に窒素ガスを流し、副生の塩化水素ガスを除去し、
次いで、20℃以下に温度を維持しながら、反応液を水
酸化ナトリウム水溶液中に滴下して中和し、硫酸エステ
ル塩の約25%水溶液を得た。
ト硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖
炭素付加位置については、 1H−NMR分析(図10)
により、アルキル末端メチル基のプロトン比より求めた
結果、2の位置が硫酸エステル化された第2級ドデカノ
ールエトキシレート硫酸エステル塩の割合は、94mo
l%であった。硫酸エステル塩の位置の算出方法および
NMR測定方法は、実施例1と同様に行った。
質について、下記の物性および界面特性の測定を行なっ
たところ、表1の結果が得られた。
で測定された。
拠して測定した。
5℃で日本毛織20オンスローラークロスウール片 9
0×10mmを用いて測定した(活性剤濃度:0.1重
量%)。
号を用いて測定した(活性剤濃度:0.25重量%)。
5℃で測定した(活性剤濃度:0.1重量%)。
て、下記の測定を行ったところ、表2の結果が得られ
た。
た。
た水溶液粘度より求めた。
用いて25℃で測定した(活性剤濃度:0.1重量
%)。
性剤濃度:0.25重量%)。
下記洗浄力の評価を行ったところ、表3の結果が得られ
た。
かき混ぜ式洗浄力試験器(Terg−O−tomete
r)を用いて、下記の条件でテストした。
布、人工汚染布および洗浄後の洗浄布の反射率を各試験
片の布1枚につき3ヶ所測定し、その平均値から下記式
より洗浄力(%)を算出した。
汚染布の反射率、およびRw:洗浄布の反射率]
化力の評価を行ったところ、表4の結果が得られた。
55ml、油分40mlの混合液に合成したサンプルを
5ml添加し、十分に混合した後、静置する。5分後に
水または油層の分離状態を観察する。乳化状態の区分に
より次のように評価した。
シレート組成物のエトキシレート部位のアルキル鎖炭素
付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
シレートエチレンオキサイド付加物組成物のエトキシレ
ート部位のアルキル鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H
−NMR分析データである。
トキシレート組成物のエトキシレート部位のアルキル鎖
炭素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データで
ある。
トキシレートエチレンオキサイド付加物組成物のエトキ
シレート部位のアルキル鎖炭素付加位置の算出に用いた
1H−NMR分析データである。
シレート組成物のエトキシレート部位のアルキル鎖炭素
付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析データであ
る。
シレートエチレンオキサイド付加物組成物のエトキシレ
ート部位のアルキル鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H
−NMR分析データである。
シレート硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩のアル
キル鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分析デ
ータである。
シレートエチレンオキサイド付加物組成物硫酸エステル
塩組成物の硫酸エステル塩のアルキル鎖炭素付加位置の
算出に用いた 1H−NMR分析データである。
トキシレート硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル塩の
アルキル鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H−NMR分
析データである。
キシレート組成物硫酸エステル塩組成物の硫酸エステル
塩のアルキル鎖炭素付加位置の算出に用いた 1H−NM
R分析データである。
Claims (12)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 、R2 はアルキル基を表し、R1 の炭素原
子数とR2 の炭素原子数の合計は7〜29で、かつR2
の炭素原子数はR1 の炭素原子数以上であり、Aは低級
アルキレン基を表し、nは平均で1〜50である。ただ
し、nが2以上の場合には、AOで表されるオキシアル
キレン基の種類は1種類または2種類以上であってもよ
く、該オキシアルキレン基が2種類以上の場合には、各
種オキシアルキレン基が全体で平均n個あることを示
す)で示される高級第2級アルコールアルコキシレート
のうち、R1 がメチル基である高級第2級アルコールア
ルコキシレート(X)30〜90mol%とR1 が炭素
原子数2以上のアルキル基である高級第2級アルコール
アルコキシレート(Y)70〜10mol%からなる高
級第2級アルコールアルコキシレート組成物において、
炭素原子数が8〜30でかつα−オレフィン/インナー
オレフィンのモル比が80/20〜0/100であるオ
レフィン混合物と、炭素原子数が2〜8の(ポリ)アル
キレングリコールとを付加させることにより得られるこ
とを特徴とする高級第2級アルコールアルコキシレート
組成物。 - 【請求項2】 前記(ポリ)アルキレングリコールがエ
チレングリコールである請求項1記載の組成物。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の組成物を硫酸化
し中和することにより得られる高級第2級アルコールア
ルコキシレートの硫酸エステル塩組成物。 - 【請求項4】 請求項1または2記載の組成物に炭素原
子数が2〜8のアルキレンオキサイドを付加することに
より得られる高級第2級アルコールアルコキシレートの
アルキレンオキサイド付加物組成物。 - 【請求項5】 前記アルキレンオキサイドがエチレンオ
キサイドである請求項4記載の組成物。 - 【請求項6】 請求項4または5記載の組成物を硫酸化
し中和することにより得られる高級第2級アルコールア
ルコキシレートのアルキレンオキサイド付加物の硫酸エ
ステル塩組成物。 - 【請求項7】 請求項1〜6記載の組成物を含有してな
る洗浄剤。 - 【請求項8】 請求項1〜6記載の組成物を含有してな
る乳化剤。 - 【請求項9】 一般式(1) 【化2】 (式中、R1 、R2 はアルキル基を表し、R1 の炭素原
子数とR2 の炭素原子数の合計は7〜29で、かつR2
の炭素原子数はR1 の炭素原子数以上であり、Aは低級
アルキレン基を表し、nは平均で1〜50である。ただ
し、nが2以上の場合には、AOで表されるオキシアル
キレン基の種類は1種類または2種類以上であってもよ
く、該オキシアルキレン基が2種類以上の場合には、各
種オキシアルキレン基が全体で平均n個あることを示
す)で示される高級第2級アルコールアルコキシレート
のうち、R1 がメチル基である高級第2級アルコールア
ルコキシレート(X)30〜90mol%とR1 が炭素
原子数2以上のアルキル基である高級第2級アルコール
アルコキシレート(Y)70〜10mol%からなる高
級第2級アルコールアルコキシレート組成物の製造方法
において、炭素原子数が8〜30でかつα−オレフィン
/インナーオレフィンのモル比が80/20〜0/10
0であるオレフィン混合物と、炭素原子数が2〜8の
(ポリ)アルキレングリコールとを付加させることを特
徴とする高級第2級アルコールアルコキシレート組成物
の製造方法。 - 【請求項10】 請求項9記載の製造方法により得られ
た高級第2級アルコールアルコキシレート組成物を硫酸
化し中和することを特徴とする高級第2級アルコールア
ルコキシレートの硫酸エステル塩組成物の製造方法。 - 【請求項11】 請求項9記載の製造方法により得られ
た高級第2級アルコールアルコキシレート組成物と、炭
素原子数が2〜8のアルキレンオキサイドを付加するこ
とを特徴とする高級第2級アルコールアルコキシレート
のアルキレンオキサイド付加物組成物の製造方法。 - 【請求項12】 請求項11記載の製造方法により得ら
れた高級第2級アルコールアルコキシレートのアルキレ
ンオキサイド付加物組成物を硫酸化し中和することを特
徴とする高級第2級アルコールアルコキシレートアルキ
レンオキサイド付加物の硫酸エステル塩組成物の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10159656A JPH11349507A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその誘導体の組成物、それらの製造方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10159656A JPH11349507A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその誘導体の組成物、それらの製造方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11349507A true JPH11349507A (ja) | 1999-12-21 |
Family
ID=15698480
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10159656A Pending JPH11349507A (ja) | 1998-06-08 | 1998-06-08 | 高級第2級アルコールアルコキシレートまたはその誘導体の組成物、それらの製造方法、ならびにそれらを用いた洗浄剤および乳化剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11349507A (ja) |
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