JPH11345956A - 撮像装置 - Google Patents

撮像装置

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JPH11345956A
JPH11345956A JP11061576A JP6157699A JPH11345956A JP H11345956 A JPH11345956 A JP H11345956A JP 11061576 A JP11061576 A JP 11061576A JP 6157699 A JP6157699 A JP 6157699A JP H11345956 A JPH11345956 A JP H11345956A
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JP
Japan
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base
heat
imaging device
photoelectric conversion
cooling
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JP11061576A
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Mitsuji Kitani
充志 木谷
Kenji Kajiwara
賢治 梶原
Yoshinori Shimamura
吉則 島村
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Canon Inc
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Publication date
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/29Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
    • G01T1/2914Measurement of spatial distribution of radiation
    • G01T1/2921Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions; Radio-isotope cameras
    • G01T1/2928Static instruments for imaging the distribution of radioactivity in one or two dimensions; Radio-isotope cameras using solid state detectors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16Measuring radiation intensity
    • G01T1/20Measuring radiation intensity with scintillation detectors
    • G01T1/2018Scintillation-photodiode combinations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

(57)【要約】 【課題】小型・軽量化に適し、取扱いが容易な撮像装
置、可搬性に優れ、所謂、カセッテとして使用するのに
好適な撮像装置、駆動あるいは各種処理用に利用される
ような、ICの発熱による問題、更には、光電変換素子
の配置された位置による熱の影響の問題を解決して、よ
り安定して、正確で解像度の高い撮像を行うことができ
る撮像装置を提供する。 【解決手段】 基体と、該基体上に配された光電変換素
子と、該光電変換素子に関連して前記基体に設けられた
半導体素子と、該半導体素子からの熱を外部に放出する
ための冷熱素子とを有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、撮像装置に関し、
更に詳しくは、デジタル複写機、スキャナー、医療用画
像入力器、非破壊検査器の画像入力部などに好適に用い
ることができる撮像装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種の撮像装置は、例えば、医療また
は非破壊検査のための画像入力部に用いられる。これら
では、X線やγ線などの放射線源からの放射線を被写体
に照射し、被写体の透過線量に応じて、蛍光板などの波
長変換体で、受光部の感光波長域に波長変換し、これを
受光素子により、電気信号に変換して、電気情報として
画像情報を得るのである。
【0003】このような撮像装置の一例を図6に示す。
図6において、1は蛍光板、2は光電変換素子、3はセ
ンサー基板、4はスペーサー、5はフレキシブル回路基
板であるTABフィルム、6は電子部品(半導体回路素
子)、7は防湿フィルム、8は基台、9は装置筐体、9
aは枠体、9bはグリッドとしての蓋体、9cは底部、
10は接着剤層、11は読み出し用などの駆動IC、1
2は放熱シート、13は駆動回路基板、14は放熱フィ
ン、15はスペーサー、Wは荷重(または放射線)方向
である。
【0004】撮像装置は、図6に示すように、光電変換
素子2と蛍光板1を組み合わせて構成される。光電変換
素子2は、光電変換層として、例えば、非晶質シリコン
(以下a−Si膜と称する)が利用されている。これ
は、大面積のガラス基板のような、センサー基板3に容
易に形成することが可能であること、更には、光電変換
素子2としてばかりでなく、スイッチング素子としての
スイッチTFTの半導体材料としても用いることが可能
である点で、好適だからである。
【0005】また、これは、a−Siを半導体材料に用
いる場合に、光電変換素子2と、そのスイッチTFT
(図示せず)とを、同時にガラス基板2b上に形成する
ことが可能なために、光電変換素子2の半導体材料とし
て、広く利用されている。
【0006】ここでは、光電変換素子2を形成した基板
(センサー基板)3には、半導体との化学作用がないこ
と、半導体形成プロセスの温度に耐えること、寸法安定
性があることなどの必要から、上述のガラス基板が多く
用いられる。また、蛍光板1には、金属化合物の蛍光材
料を樹脂板に塗布したものが用いられる。なお、蛍光板
1と光電変換素子2との間隔は、光電変換素子2の画素
寸法(百数十μm)に比べて、十分小さい値(例えば、
十数μm程度)に保持する必要があるので、実用上は、
蛍光板1とガラス基板3とを接着剤で接着する方法が採
用されている。
【0007】また、光電変換素子2または蛍光板1に耐
湿性が求められる場合は、不透湿かつX線透過性フィル
ム(例えば、Al蒸着フィルムなど)の防湿フィルム7
を用いて、蛍光板1と光電変換素子2とを覆い、密封し
ている。更に、光電変換素子2を形成したセンサー基板
3の裏面に、スペーサー15を介して、光電変換素子2
を駆動し、読出しなどを行うための駆動回路基板13を
装着して、これに駆動用の半導体回路素子(電子部品)
6を装着した上で、基板3を基台8の表面に、接着剤層
10を介して、固定している。そして、その上で、保持
部材としての装置筐体9の底部9cに、スペーサー4を
介して、基台8を取り付けている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来、この種の撮像装
置には、定置式のX線撮像装置への利用のみならず、よ
り迅速に、かつ、高精度な撮影を可能にするために、近
年、小型で軽量な可搬型のものが求められるようになっ
てきた。
【0009】しかしながら、上記の構成の場合、運搬時
に加わる衝撃からセンサー基板3などを保護する目的
で、あるいは、図6の符号Wで示されるような、X線撮
影時に加わる荷重(主に、被写体である人体の荷重な
ど)で、装置筐体9の蓋体9bが変形するのを防止する
目的で、基台8、装置筐体9自体を強固にする必要があ
る。
【0010】更に、フレキシブル回路基板5上の、読出
し用ICなどの駆動IC11を含むIC(集積回路素
子)からの放熱のために、放熱フィンのような放熱部材
14などを設けることが考えられている。また、放射線
照射は、駆動回路基板13上の半導体回路素子(電子部
品)6やフレキシブル回路基板5上の駆動IC11を含
む駆動回路の誤動作、あるいは、半導体回路素子5の破
壊を起こす場合があるので、駆動回路やIC部分を、X
線から遮蔽するために、特別の部材を用いることが考え
られている。このため、例えば、基台8にPb板を被覆
するようにして、放射線照射による問題を生じないよう
な構成が採用される。しかしながら、このような構成
は、撮像装置の小型、軽量化を妨げる結果を招くことに
なる。
【0011】従って、運搬時に加わる衝撃からセンサー
基板3などを保護すること、また、X線撮影時に加わる
ような荷重により、装置筐体9が変形し、光電変換素子
などに悪影響を与えるのを防止することなどを配慮した
上で、しかも、如何にして、小型化、軽量化をはかり、
容易に運搬可能な構成にするかが、当面の課題となって
いる。
【0012】即ち、上述の例で言えば、光電変換素子2
を形成したセンサー基板3を保持する基台8、これを固
定する装置筐体9の底部9c、それらの外周にある装置
筐体9の枠体9a、駆動IC11の放熱部材14、X線
遮蔽部材用のPb板(図示せず)などの、重量の大きな
部材の存在が軽量化を妨げており、また、上記部品の点
数、例えば、駆動IC11、特に、読出し用ICには、
アナログ信号を読み出す場合の温度特性を一定にするた
め、1個のICに対応して1個の放熱部材14を設ける
ことから、部品点数が多くなり、小型化を阻害してい
た。
【0013】図2は、撮像装置を放射線撮影用のカセッ
テとして用いた場合の、別の一例を示す概略断面図であ
る。装置筐体9は、外枠に蓋体(グリット)9bをビス
留めした構成であり、カセッテ内の点線枠で囲われた領
域Aに、放射線固体撮像部がある。放射線固体撮像部の
概略は、図3の模式的断面図、および、図4の概略的上
面図において、それぞれ、図解されている。ここには、
上面が受光部となる光電変換素子を有するセンサー基板
3があり、そこに、光電変換素子2とTFT素子(図示
せず)とが形成された画素領域B1〜B4を有する。セ
ンサー基板3とそれを保持するための基台8とは、接着
剤16で、互いに固定されている。前記センサー基板3
は、二次元方向に画素ピッチが合うよう位置合わせさ
れ、前記基台8上に固定される。これは、小型基板を複
数個、配列させて、大判化するといった、製造歩留まり
の良さを目的として、行われている。従って、歩留まり
の良い1枚の大面積基板が製造可能であれば、基台のな
い構成であっても良い。なお、放射線を可視光に変換す
る蛍光板1には、CaWO4 やGd2 2 S:Tb3+
どの粒状の蛍光材を樹脂板に塗布したものが用いられ
る。
【0014】符号17は、光電変換素子2及びTFT素
子を駆動させるための入力信号とX線情報を読み取った
出力信号とを、センサー基板3外にある、入力あるいは
出力システムにおいて、やり取りする引き出し電極部で
ある。引き出し電極部17は、フレキシブル回路基板5
を介して、プリント回路基板13Aへと接続されてい
る。該フレキシブル回路基板5には、入力信号あるいは
出力信号処理回路を備えた駆動IC11が搭載されてい
る。また、引き出し電極部17とフレキシブル回路基板
5の接合部には、引き出し電極部17の電蝕を防止する
ために、封止材18が設けられており、この封止材に
は、一般に、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂が用いられる。
【0015】不透湿かつ放射線透過性の性質を持った、
金属フィルムなどの防湿フィルム7は、前述の通り、例
えば、Al蒸着フィルムなどで形成される。金属フィル
ムは、蛍光板1上に、接着剤16Aを介して、設けられ
ている。なお、光電変換素子2及びTFT素子に対して
防湿あるいは電磁波遮蔽が求められる場合に、金属フィ
ルムが、蛍光板1と光電変換素子2及びTFT素子を密
閉する目的で、用いられている。更に、蛍光板1と光電
変換素子2及びTFT素子の密閉をより確実にするた
め、前記金属フィルム上からセンサー基板3までの間
を、封止材19で充填する。
【0016】上記の構成をとる放射線固体撮像部(領域
A)は、カセッテ内で、支持柱20に支えられ、接着剤
あるいは粘着剤、または、粘着剤あるいは接着剤の順
で、それらを両面に有する固定材(スペーサ)21によ
り、支持柱20ならびにグリッドである蓋体9bを固定
している。フレキシブル回路基板5やプリント回路基板
13Aは各々、取り付け板22にビス留めすることで、
装置筐体9に固定される。
【0017】また、フレキシブル回路基板5に搭載され
た駆動IC11の発熱を考慮して、取り付け板22は、
装置筐体9への熱伝導路を担い、更に、カセッテ内の空
気循環を良くするために、装置筐体9には、多くの通気
口23を備えるという放熱対策がなされている。
【0018】上記の構成を持った撮像装置においても、
放射線源から被写体を透過してカセッテ内に入射した放
射線を、蛍光板内で、可視光(センサ感光波長)へと変
換する。さらに、変換された可視光は、蛍光板直下の接
着剤を透過し、センサー基板上に形成された光電変換素
子に入射される。そして、これを光電変換し、二次元画
像へと出力する。
【0019】なお、図5に示されるように、光の透過
性、光電変換素子及びTFT素子への機械的衝撃、及
び、電蝕の防止を考慮に入れ、センサー基板上面に透明
ガラス基板24を設けてもよい。
【0020】前記固体撮像部は、パッケージ内での撮像
部上面の固定を除いて、前記放射線撮像部と同様の方式
で、筐体9に固定されている。なお、撮像部上面と筐体
9との固定は、筐体9上面にビス留めすることで取り付
けられた抑え板25で、透明ガラス基板25上の画素領
域に相当しない外側の領域を抑える。
【0021】上述の大画面イメージセンサーは、被写体
の画像情報を、レンズ及びプリズムなどの光学系を介し
て、あるいは、直接、光電変換素子へ入射させ、二次元
画像へと出力する。
【0022】しかしながら、装置筐体9に通気口23を
設けたとしても、内部の空気を効率良く放出又は変換し
なければ、充分な冷却が行い難く、また、強制的な空気
の循環を採用する場合は、ファンなどの別の手段を必要
とするために、可搬性のある、小型・軽量化した装置に
おいて、不適当である。
【0023】また、光電変換部の温度分布は暗電流の変
化をもたらすので、通気口23からの冷却により、通気
口23近傍と、それから離れた場所とで、光電変換素子
の特性が変化してしまい、正確な光電変換を行うことが
できなくなる場合がある。
【0024】本発明は、上述した従来の欠点を改善する
ために成されたもので、その第1の目的は、小型・軽量
化に適し、取扱いが容易な撮像装置を提供することであ
る。
【0025】本発明の第2の目的は、可搬性に優れ、所
謂、カセッテとして使用するのに好適な撮像装置を提供
することである。
【0026】本発明の第3の目的は、駆動あるいは各種
処理用に利用されるような、ICの発熱による問題、更
には、光電変換素子の配置された位置による熱の影響の
問題を解決して、より安定して正確な撮像を行うことが
できる撮像装置を提供することである。
【0027】本発明の第4の目的は、より小型で、より
効率良く、放熱を行うことが可能で、かつ、部品点数が
減少し、軽量化をはかることが可能な撮像装置を提供す
ることである。
【0028】また、本発明の第5の目的は、解像度が高
く、高SN比で、高階調の画像情報入力を行い得る撮像
装置を提供することである。
【0029】
【課題を解決するための手段】このため、本発明の撮像
装置では、基体と、該基体上に配された光電変換素子
と、該光電変換素子に関連して設けられた半導体素子
と、該半導体素子からの熱を外部に放出するための冷熱
素子とを有することを特徴とする。なお、その他の特徴
については、以下に述べる実施の形態において説明す
る。
【0030】
【発明の実施の形態】以下、本発明を必要に応じて図面
を参照しながら説明する。
【0031】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態を示す撮像装置の模式的断面図であり、
光電変換素子を有するガラス基板を、金属製基台に保持
し、この基台中に、冷熱素子として、熱伝導素子である
ヒートパイプを設けた構成になっている。なお、図7
は、図1に示される撮像装置の模式的斜視図、図8は本
発明における金属製の基台7における電子部品等の配置
例を示す模式的断面図である。
【0032】図1において、符号1は蛍光板、2は光電
変換素子(センサー)、3はセンサー基板で、ここで
は、ガラス基板である。11aは読出しIC、11bは
ドライバーIC、8は駆動回路基板および装置筐体9の
底部を兼ねた基台で、その基材は、金属製であり、特
に、この実施の形態では、Alが用いられていて、上述
の駆動回路基板における回路素子(後述)から発生する
熱を、基台を通じて伝達できるように構成している。
【0033】更に、符号5はフレキシブル回路基板とし
てのTABフィルム、6はTABフィルム上に実装され
た光電変換素子2の駆動用、読取り用の電子部品(例え
ば、半導体回路素子)、9aは装置筐体9の枠体、9b
は光電変換素子2上の保護を兼ねた装置筐体9の蓋体
(グリッド)、10はセンサー基板3と蛍光板1との接
着剤層、26はその一部を基台8に埋め込まれ、他部を
装置筐体9外に突出させたヒートパイプである。なお、
符号4はガラス基板3を基台8に固定するスペーサー、
符号26aはヒートパイプ26の放熱部である。
【0034】図8には、基台8の裏面に構成される駆動
回路部の電子部品などの配置例が示されており、ここ
で、符号27は基台8の金属基材(Al)であり、28
は回路配線、29a、29bは、金属基材27と回路配
線28とがショートしないように、金属基材27に設け
た絶縁膜である。また、30は配線28上のソルダーレ
ジスト、28aは半田付けのための導体部、31は電子
部品6のための半田である。このように、駆動回路は、
金属基材27上に絶縁膜を塗布し、更に、その上に配線
28を形成することにより構成されるので、基台8が駆
動回路基板を兼用している。
【0035】なお、実際には、絶縁膜上にCu箔を接着
し、このCu箔をパターン加工することにより、配線の
導体部28aを形成し、この上に、電子部品6を半田付
けするか、あるいは、配線部材であるFPCなどを接続
する端子部分を残して、ソルダーレジスト30を塗布し
て、固定する。また、必要に応じて、前記端子部分に
は、表面処理(例えば、半田めっきなどの処理)を行
い、駆動回路が形成してもよい。そして、更に、半田付
け部(導体部)28aに電子部品6を半田付けすること
になる。
【0036】なお、本発明における基台8(これは駆動
回路基板を兼ねている)の基材を、Pbにすることによ
り、あるいは、Pbを表面(ガラス基板3側)に被覆す
ることにより、駆動回路上の電子部品に対する放射線の
影響を遮蔽することが可能になり、放射線遮蔽材と一体
化した構成にできるために、軽量化が可能となる。
【0037】また、駆動回路基板を兼ねた基台8の基材
が金属製であり、この基台8中に、冷熱変換素子である
ヒートパイプ26の一部を配することで、読出しIC、
ドライバーICなどから発生する熱を、装置筐体9の外
部に逃すことができる。即ち、基台8内では、ヒートパ
イプ26中の液体を気化させることにより、ICなどか
ら出た熱を、放熱部26aまで運ぶ。放熱部26aでは
熱を外部に放熱するので、気化した液体は、熱を奪われ
て、再び、液状となり、基台8内部に戻って、繰り返
し、吸熱・放熱作用を行うことが可能になる。
【0038】このような構成にすることで、基台8の基
材の熱容量を大きくすることなく、効果的に放熱が行
え、IC間の温度差を小さくすることが可能になる。こ
のために、性能を損なうことなく、撮像装置の軽量化、
小型化に大きく寄与することができる。また、基台8が
効率良く冷却されることで、光電変換素子自体の温度が
安定し、その結果、安定した画像情報の読み取りを行う
ことができる。
【0039】(第2の実施の形態)図9には、ヒートパ
イプを用いた本発明の第2の実施の形態が示されてい
る。ここでは、図9の模式的断面図に示されるように、
ヒートパイプ26は、その一端を基台8中に、その他端
をフィンなどの放熱手段を有する放熱部26aとして構
成される。また、装置筐体9と基台8とは、断熱部材3
2によって、断熱されている。
【0040】IC11のような発熱源から発せられた熱
エネルギーは、基台8とIC11とが接した状態で配置
されているので、基台8に伝達され、ヒートパイプ26
を通して、放熱部26aから外部に放出される。図示の
ように、ヒートパイプ26は、装置筐体9と非接触であ
り、また、基台8は、断熱部材32により装置筐体9と
熱的に絶縁してあるので、装置筐体9の温度が、撮像装
置の使用によっても、上昇しないか、ほとんど上昇しな
いように、することができる。また、図示されるよう
に、放熱部26aを装置筐体9から突出しないようにす
ることで、取扱いに際しても、熱い部分がない。特に、
人体のX線撮影などの場合、撮像装置の一部に体の一部
が触れることが多い事例では、このように、放熱部を内
設することで、接触の可能性を減少させ、より安心、安
全に撮影を進めることができる。
【0041】(第3の実施の形態)図10は、本発明の
第3の実施の形態を示す模式的斜視図である。ここで
は、ヒートパイプの代わりに、冷熱素子として冷熱変換
素子であるペルチェ素子33を採用しており、これを駆
動IC11と接するように、装置筐体9の枠体9a内に
設けている。これによって、ペルチェ素子33による、
読出しIC、ドライバーICを効果的に冷却することが
できる。つまり、駆動IC11からの熱を、装置筐体9
外に逃がしている。この場合も、前記の実施の形態と同
様に、軽量化を阻害することなく、ICなどの温度上昇
を抑えることが可能になる。
【0042】図11及び図12は、撮像装置を、その側
面の2方向からみた模式的断面図であり、また、図1
3、図14は、撮像部の下面方向と上面方向とからみた
模式的平面図である。この実施の形態では、撮像装置
を、医療用放射線撮像装置のカセッテの形で、図解して
いる。図中の33はペルチェ素子である。図15は、一
段のペルチェ素子の構成である。これは、Bi2 Te3
のような熱電半導体で作られるp型33a及びn型33
bのチップを、平面状に多数、交互に配置し、互いにオ
ーミック電極34によって、電気的に直列に接続し、こ
れを、その表面を電気的に絶縁したアルミニウム・窒化
アルミのような、スペーサー(固定材)を挟んで、固定
する。このスペーサーの熱伝導率は、可能な限り大きい
ものを使用するのが好ましい。上側スペーサー35に冷
却するもの、下側スペーサー36に放熱するものを取り
付ける。図のように、ペルチェ素子33に電流を流す
と、pおよびnの両素子共に、多数キャリヤが左から右
に移動し、その時、電流と共に熱流も運ぶ。このため、
上側の温度は下がり、下側の温度は上がる。
【0043】なお、この実施の形態では、センサー基板
3を固定した基台8の裏面に、ペルチェ素子33の冷却
サイドが接続され、基台裏面に、複数個、配列されてい
る。これで、基台8から間接的に大面積のセンサー基板
の冷却を行う。図13では、ペルチェ素子の配列が画素
領域Bを含み、該領域Bより大きな面積領域をカバーし
ている。実際は、画素領域Bのみ冷却すれば良いので、
ペルチェ素子33の配列は、冷却能力が十分であれば、
画素領域B内のみでの配置が好ましい。
【0044】上記方法において、いくつかの対策を施す
ことより、更なる冷却能力の向上を達成できる。それは
基台からセンサー基板までの熱伝達路の熱抵抗値の低減
である。熱は、ペルチェ素子、基台、基台とセンサー基
板間の接着剤、センサー基板の順序で伝達される。一般
に、熱抵抗値の低減は、構成部材の熱伝導率や形状(断
面積・伝達方向の長さ)、構成部材間の接触方法に左右
される。抵抗値の低減には、高い熱伝導率の材料で構成
され、且つ、長さはできるだけ短く、断面積の大きい形
状をとる構成部材であること、また、構成部材間の微細
領域での密着性を良くすることが好ましい。
【0045】具体的には、基台、センサー基板に、鉄・
ステンレス・アルミニウム・銅・黄銅・鉛・マグネシウ
ム合金などの金属及び合金材料、炭化シリコン・ベリリ
ヤ・窒化アルミニウム・ボロンナイトライドなどのセラ
ミックス材料、グラファイトシートなどの有機樹脂、酸
化アルミニウム・ITOなどの金属酸化物が最適であっ
て、常温時の熱伝導率が10W/m・℃以上の材料が良
い。
【0046】センサー基板は、半導体層を成膜する都合
上、ガラス基板を使用している。一方、基台は、複数の
センサー基板が二次元方向に画素ピッチが合うように、
固定されている。そのため、高温時に、貼り合わせ部の
ピッチサイズが変わらぬように、センサー基板と基台の
熱膨張係数を合わせ、できれば、同一材料を選択するこ
とが好ましい。ガラスは熱伝導率が約3W/m・℃と低
く、熱伝導が悪い。そこで、このように低熱伝導率の部
材には、先に記した10W/m・℃以上の材料、例え
ば、アルミニウム・クロム・ITOなどの金属あるいは
金属酸化物を、蒸着・めっき法によって、構成部材表面
にコーティングを施すのであるが、基台は、表裏面の全
域に、センサー基板は、その裏面、少なくとも画素領域
に、当該処理を行うのがよい。これより、表面の熱抵抗
値を低減させ、構成部材の表面を熱伝達路とする。
【0047】センサー基板と基台、基台とペルチェ素子
の接続に関しては、当然のことながら、熱伝導性の良い
材質の他に、接続界面のミクロな凹凸によるエアーギャ
ップを極力少なくする、柔らかな材質が求められてい
る。この要求に応えるには、導熱樹脂を用いるのが好ま
しく、主に、シリコーングリースやシリコーンラバーを
用いる。さらに、高い熱伝導性が必要な場合は、半田・
導電ペーストや、先に記した10W/m・℃以上の材料
を、粉末状にし混入した接着剤・粘着剤を代表とする樹
脂を使用するのが好ましい。また、ペルチェ素子と基台
の接続には、直接、ペルチェ素子を基台上に成膜した構
成が良い。なお、構成部材の形状、寸法に関しては、市
場で求められる放射線撮像装置の大きさが多様であるた
め、具体的に限定することが難しい。
【0048】以上述べたことは、小型センサー基板を複
数個配列させ、大判化させた放射線撮像装置に関するも
のである。仮に1枚の大面積のセンサー基板が、作成可
能であれば、センサー基板裏面にペルチェ素子を接続す
れば良い。冷却効率の改善方法に関しては、先に述べた
ように、センサー基板を熱伝導性の高い構成部材に選択
すること、10W/m・℃以上の材料を、センサー基板
裏面、少なくとも画素領域にコーティング処理を行うこ
と、そして、センサー基板裏面とペルチェ素子の接続に
導熱樹脂を用いること、あるいは、直接、基板に成膜す
る方法を用いることがよい。
【0049】(第4の実施の形態)また、本発明の第4
の実施の形態では、図10に示されるように、熱を発生
する素子の近傍に、ペルチェ素子33を個別に配置する
ことが可能になるため、各素子間の温度差(ばらつき)
を、前述のヒートパイプ26の場合より、更に小さくす
ることが可能になり、基台8の基材の熱容量を大きくす
ることなく、十分な放熱効果が得られ、撮像装置の軽量
化、小型化を損なうことなく、画像信号のばらつきを、
更に小さくすることが可能である。
【0050】なお、ここでは、ペルチェ素子を用いた別
の一例について説明する。ペルチェ素子33は、基台8
の他に、防湿あるいは電磁波遮蔽を目的とした金属フィ
ルム7上にも複数個、設けてもよい。配置の一例とし
て、前述の図14の構成が挙げられる。ここでは、放射
線撮像部が上面方向から図解されている。ここでのペル
チェ素子33は、画素領域に入るX線情報を妨げないた
め、画素領域の外側にあり、また、均一な温度分布を
得、熱抵抗をなるべく低減させ、効率良い冷却を行うた
めに、画素領域になるべく近く、且つ、該領域を囲むよ
うに、配置・接続されている。その際、金属フィルム端
は、封止材19で覆われているので、封止材と画素領域
間に配置する。ペルチェ素子33と金属フィルム7の接
続には、導熱樹脂によって接続する方法あるいは直接、
金属フィルム上に成膜する方法を用いる。これより、金
属フィルム7を熱拡散板とし、金属フィルムを介して、
センサー基板3の上面を、均一に冷却することができ
る。なお、基板裏面部のペルチェ素子33の配置で、均
一な温度分布をもつ冷却能力があれば、上面からの冷却
手段は、あえて、行わなくても良い。
【0051】次に、ペルチェ素子の放熱サイドについて
述べる。既に示した図11〜図14において、ヒートパ
イプ26は、金属導体に比べ、非常に熱伝導率の良い熱
輸送用パイプである。ヒートパイプ26は、その一端側
をペルチェ素子33の放熱サイドに取り付け、その他端
を、高い熱伝導率をもつ部材で構成されている装置筐体
9に繋げている。装置筐体9には、マグネシウム合金・
アルミニウムなど、機械強度に優れ且つ熱伝導率が10
W/m・℃以上の材料を用いる。ヒートパイプ26は、
狭い装置筐体9の内部に設置しやすいように、変形自在
で、熱伝達路を自在に構成できることが望ましい。
【0052】なお、ヒートパイプとペルチェ素子間、ヒ
ートパイプと筐体間の接続方法を以下に記す。まず、ヒ
ートパイプとペルチェ素子間は、半田・導電ペーストや
先に記した10W/m・℃以上の材料を粉末状に混入し
た接着剤・粘着剤を介して、接続する。また、ヒートパ
イプ26と装置筐体9は、上記の取り付け方法の他に、
図16に記すように、取り付け金具37と装置筐体9の
間にヒートパイプ26を配置し、更に、シリコーンラバ
ーのような導熱性の樹脂38とゴム片39とで、両端か
ら挟み、ネジ40を閉めて、取り付け板の外圧で、装置
筐体9とヒートパイプ26を固定する。これより、ペル
チェ素子33で発生した熱は、ヒートパイプ26を介し
て、装置筐体9へと熱を伝達するようにしてもよい。
【0053】さて、これまで、センサー基板の冷却方法
を何点か述べてきたが、いくら冷却を行っても、所望の
温度範囲に保持することは重要である。そこで、冷却効
率を考え、センサー基板の保温方法の一例に関して説明
する。保温方法の考え方として、冷却を対象とする部品
(センサー基板)を、それ以上の温度にある部品と直
接、接触させないこと、対象となる冷却部品の周りは空
気対流の少ない密閉空間にすることが挙げられる。
【0054】図11、図12には、その保温構造が示さ
れている。ここでは、装置筐体9を支える支持柱20、
20aの内、外側の支持柱20は、筐体底面から上面へ
と接続されており、基台8を含めたセンサー基板3の4
辺を取り囲んでいる。支持柱20にはヒートパイプ2
6、フレキシブル回路基板5を通す穴が設けられてお
り、穴とヒートパイプ26、フレキシブル回路基板5の
隙間をなくすために、樹脂が充填されている。支持柱2
0とグリッド9bと装置筐体9とにより、基台8を含め
たセンサー基板3の占める空間の密閉性を達成してい
る。
【0055】撮像部は、接着剤あるいは粘着剤、粘着剤
あるいは接着剤の順で、それらを両面に有する固定材3
5、36を介して、グリッド9bと支持柱20に固定す
る。固定材35、36は熱伝導率の低い材質であり、例
えば、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂などの高分子材料を用いる。これより、センサー基
板3とグリッド9bと支持柱20との、不要な熱の行き
来を抑え、所望の冷却温度を維持することができる。
【0056】(第5の実施の形態)本発明による更に別
の撮像装置の一例を示す。なお、前述の実施の形態と同
一または同等のものに関しては、その説明を簡略化し、
若しくは、省略する。これは、図17、図18に示され
ており、これらは、装置側面の2方向からみた模式的断
面図である。
【0057】なお、この実施の形態では、前述の事例と
は、そのペルチェ素子33上に接続する冷却器、及び、
その放熱方法、更に、もう一つに、装置筐体の断熱方法
が異なる。そこで、その相違点に関してのみ述べる。前
述と同じ方法で、ペルチェ素子33上にヒートシンク4
1を取り付ける。ヒートシンク41の放熱は、基台裏面
部側については、装置筐体9の下部に設置された排気フ
ァン42により、強制空冷で行う。支持柱や筐体には穴
を設け、通風性を良くしており、一方、防湿膜としての
金属フィルム7上に取り付けられたヒートシンク41
は、その先端が、グリッド9bに設けられた穴より装置
筐体9の外部に露出しており、その部分より、自然空冷
で行う。以上、ヒートシンク41を介して、空気接触に
より、ペルチェ素子33から発生した熱を放出してい
る。
【0058】前述の例のように、ヒートパイプ26を通
じて、筐体表面で外気に放熱するのでなく、センサー基
板3の近傍で、ヒートシンク41を用いて、筐体内部で
放熱するため、その領域は、通風性を良好にするのが望
ましい。そこで、基台8を含めたセンサー基板3の上下
を、板状の断熱板43で挟み込む。この断熱板43の形
状は、4辺の支持柱44で囲われた枠形状と同じで、そ
の厚さは、ペルチェ素子33とヒートシンク41とを合
わせた高さ方向の長さより短い。また、断熱板43は、
ペルチェ素子33と支持柱44とセンサー基板3の固定
材35の領域で、刳り抜かれている。断熱板43は、ポ
リエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂など
の高分子材料を用いる。これら上下の断熱板と支持柱
で、センサー基板3の密閉を行い、センサー基板3の冷
却温度を所望の範囲内に保つことができる。
【0059】なお、本発明の撮像装置は、医療業界や映
像機器業界などの市場から高画質への要求を達成可能に
し、例えば、放射線撮影のための撮像装置に好適に使用
できる。このような使用において、撮像装置は、主に胸
部、胃部、乳房等のX線画像診断を対象に用いることが
可能になる。より具体的には、このような診断に際して
撮像装置は、100×100mm〜500×500mm
の受光領域を有する大面積のセンサー基板を用いられ、
検診部位の微細領域のわずかな影、濃度変化に注目し、
診断するにたる高感度・高解像度の像情報が提供可能で
ある。
【0060】通常のX線画像は、図19に示されるよう
に、X線源5001からのX線5004を被写体500
2に照射し、その透過光5005を撮像装置5003内
の受光部の光電変換素子で、電気信号に変換した後、得
ることができる。
【0061】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
小型、軽量化に適し、取扱いが容易な撮像装置を提供す
ることができる。また、本発明によれば、可搬性に優
れ、カセッテとしての使用が好適な撮像装置を提供する
ことができる。
【0062】特に、本発明によれば、光電変換素子など
の駆動IC、電気信号の処理ICなどの半導体素子を効
果的に冷却することで、半導体素子の特性を安定させる
ことができ、高SN比の信号出力を安定して行うことが
できる。
【0063】また、本発明によれば、半導体素子の発熱
に起因して、光電変換素子が配された受光部が加熱さ
れ、受光部の温度に不要な分布が生じないか、生じ難く
くなるため、より安定した正確な像情報を得ることがで
きる。そして、これによって、より高階調で高解像度な
高品質な像情報を得ることができる。
【0064】更に、本発明によれば、光電変換素子を有
するガラス基板の保持部材としての基台が、光電変換素
子の駆動のための駆動回路、そこに用いる電子部品の保
持体を兼ねると共に、それ自体で剛性のある金属部材、
例えば、AlあるいはPbなどにより構成することで、
全体の強度を落とすことなく、重量を減少させ、部品点
数が減少し、性能を損なうことなく、放射線源を用いた
撮像装置の軽量化、小型化が可能になる。
【0065】また、その基台の基材内、あるいは、これ
らを内装する装置筐体の枠体内にヒートパイプやペルチ
ェ素子などの冷熱変換素子を設けることで、搭載された
駆動IC、読出しIC、周辺回路から発生する熱を、効
果的に外部に逃がすことが可能になり、特に、基台の基
材にPbを採用することで、放射線遮蔽材を兼ね、体積
を大きくすることなく、効率良く、放熱を行うことが可
能になる。
【0066】更に、本発明によれば、センサー基板裏面
あるいはセンサー基板を固定する基台裏面上、少なくと
も、画素領域内にヒートパイプやペルチェ素子のような
冷熱変換素子を接続することで、大面積を均一な温度に
保ち冷却することができ、光電変換素子の熱雑音及び暗
電流を低減させ、高いS/N比で解像度の向上をはかる
ことができる。
【0067】また、放射線撮像装置のようなセンサー基
板上部に金属フィルムを備えた撮像装置において、金属
フィルム上の画素領域に対応しない領域(非画素領域)
にペルチェ素子を配列することで、センサー基板上面よ
り冷却を行い十分な冷却効果が得られ、更なる解像度の
向上をはかることができる。また、更にペルチェ素子よ
り発生した熱を、ヒートパイプやヒートシンクを介し
て、放熱することで、センサー基板・基台・接着剤など
の構成部材の高熱伝導化、構成部材間の導熱性樹脂等に
よる接触抵抗の低下、筐体、支持柱、グリッド、断熱材
を用いたセンサー基板の密閉構造により、所望部分の冷
却効率の向上を達成し、素子に必要な消費電力を低減さ
せ、稼動コストを安価なものとすることができる。ま
た、液体窒素や炭酸ガスによる気体を媒体とした冷却方
法に比べて、システムの規模が小さく、撮像装置の、よ
り一層の小型化とメンテナンス性の向上を図ることがで
きる。
【0068】加えて、本発明によれば、放熱部を筐体か
ら突出させずに構成することが可能になるので、被写体
に接触する外装部品である筐体及び外カバーを高温化す
ることなく、内部で発熱した熱を外部へ放熱することが
でき、身体に触れる頻度の高い、放射線センサー用カセ
ッテとして、安心して、適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す、冷熱素子を有する
撮像装置の模式的断面図である。
【図2】撮像装置の一例を説明するための模式的断面図
である。
【図3】撮像装置内の撮像部の一例を説明するための模
式的断面図である。
【図4】撮像装置内の撮像部の一例を説明するための模
式的平面図である。
【図5】撮像装置の一例を説明するための模式的断面図
である。
【図6】本発明に係わる、通常の撮像装置の模式的断面
図である。
【図7】撮像装置の模式的斜視図である。
【図8】回路部分の一例を説明するための模式的断面図
である。
【図9】本発明の別の実施の形態を示す、冷熱素子を有
する撮像装置の模式的断面図である。
【図10】本発明の更に別の実施の形態を示す撮像装置
の模式的斜視図である。
【図11】冷熱素子を有する撮像装置の模式的断面図で
ある。
【図12】冷熱素子を有する撮像装置の模式的断面図で
ある。
【図13】撮像部への冷熱素子の取付けの一例を説明す
る模式的平面図である。
【図14】撮像部への冷熱素子の取付けの一例を説明す
る模式的平面図である。
【図15】冷熱素子の一例を示す模式的断面図である。
【図16】冷熱素子の取付けの一例を示す模式的断面図
である。
【図17】本発明の別の実施例を示す、冷熱素子を有す
る撮像装置の模式的断面図である。
【図18】冷熱素子を有する撮像装置の模式的断面図で
ある。
【図19】撮像装置の使用の一例を説明するための模式
的斜視図である。
【符号の説明】
1 蛍光板 2 光電変換素子 3 センサー基板(ガラス基板) 4 スペーサー 5 フレキシブル回路基板(TABフィルム) 6 電子部品(半導体回路素子) 7 防湿フィルム(金属フィルム) 8 基台 9 装置筐体 9a 枠体 9b 蓋体(グリッド) 9c 底部 10 接着剤層 11 駆動IC 11a 読み出し用IC 11b ドライバーIC 12 放熱シート 13 回路基板 13A プリント回路基板 14 放熱部材(放熱フィン) 15 スペーサー 16、16A 接着剤 17 引き出し電極部 18、19 封止材 20 支持柱 21 固定材 22 取り付け板 23 通気口 24 透明ガラス基板 25 抑え板 26 ヒートパイプ 27 金属基材 28 回路配線 29a、29b 絶縁膜 30 ソルダーレジスト 31 半田 32 断熱部材 33 ペルチェ素子 33a p型チップ 33b n型チップ 34 オーミック電極 35 上側スペーサー(固定材) 36 下側スペーサー(固定材) 37 取り付け金具 38 樹脂 39 ゴム片 40 ネジ 41 ヒートシンク 42 排気ファン 43 断熱板 44 支持柱 W 荷重(放射線) A 領域 B、B1〜B4 画素領域
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H04N 5/335 H01L 23/46 B

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基体と、該基体上に配された光電変換素
    子と、該光電変換素子に関連して前記基体に設けられた
    半導体素子と、該半導体素子からの熱を外部に放出する
    ための冷熱素子とを有することを特徴とする撮像装置。
  2. 【請求項2】 前記基体は、基台上に載置され、該基台
    に前記冷熱素子が設けられていることを特徴とする請求
    項1に記載の撮像装置。
  3. 【請求項3】 前記光電変換素子の像情報入力側に、波
    長変換体を有することを特徴とする請求項1または2に
    記載の撮像装置。
  4. 【請求項4】 前記波長変換体は、蛍光体を含むことを
    特徴とする請求項3に記載の撮像装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体素子は、集積回路素子である
    ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の撮像
    装置。
  6. 【請求項6】 前記光電変換素子に対応して、スイッチ
    ング素子を装備したことを特徴とする請求項1〜5のい
    ずれかに記載の撮像装置。
  7. 【請求項7】 前記半導体素子は、複数、装備され、こ
    れら半導体素子に対応して、前記冷熱素子が設けられて
    いることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の
    撮像装置。
  8. 【請求項8】 前記冷熱素子は、前記光電変換素子が配
    された撮像部に対応して、設けられていることを特徴と
    する請求項1〜7のいずれかに記載の撮像装置。
  9. 【請求項9】 前記冷熱素子は、複数、装備されている
    ことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の撮像
    装置。
  10. 【請求項10】 少なくとも、前記光電変換素子が配さ
    れた前記基体と、前記半導体素子とを収容する筐体を有
    することを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の
    撮像装置。
  11. 【請求項11】 前記基体は、該基体が載置される基台
    を介して、前記筐体に設置されていることを特徴とする
    請求項10に記載の撮像装置。
  12. 【請求項12】 前記基台と前記筐体とは、熱的絶縁体
    を介して設置されていることを特徴とする請求項11に
    記載の撮像装置。
  13. 【請求項13】 前記光電変換素子上に防湿フィルムを
    有することを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記
    載の撮像装置。
  14. 【請求項14】 前記防湿フィルムが、金属を含むこと
    を特徴とする請求項13に記載の撮像装置。
  15. 【請求項15】 前記防湿フィルムを冷却するための冷
    熱素子が装備され散ることを特徴とする請求項13に記
    載の撮像装置。
  16. 【請求項16】 前記冷熱素子は、熱伝導率が10W/
    m・℃以上の材料を介して、被冷却側に接続されている
    ことを特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載の撮
    像装置。
  17. 【請求項17】 前記冷熱素子は、熱伝導素子を含むこ
    とを特徴とする請求項1〜16のいずれかに記載の撮像
    装置。
  18. 【請求項18】 前記熱伝導素子はヒートパイプを有す
    ることを特徴とする請求項17に記載の撮像装置。
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Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001318155A (ja) * 2000-02-28 2001-11-16 Toshiba Corp 放射線検出器、およびx線ct装置
WO2002012920A1 (fr) * 2000-08-03 2002-02-14 Hamamatsu Photonics K.K. Detecteur de rayonnement et panneau scintillateur et leurs procedes de fabrication
JP2002156457A (ja) * 2000-11-21 2002-05-31 Canon Inc X線画像撮影装置
JP2002214352A (ja) * 2001-01-19 2002-07-31 Canon Inc 放射線画像撮影装置
JP2003194951A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Canon Inc X線撮影装置
JP2004219318A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Hamamatsu Photonics Kk 放射線検出器
JP2005117258A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Olympus Corp 撮像装置
JP2005134396A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc 熱電冷却のための装置及び方法
JP2006242702A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線検出用カセッテ
JP2007256176A (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Shimadzu Corp 放射線検出装置
JP2007260092A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Fujifilm Corp 放射線画像情報撮影装置
JP2009018109A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Shimadzu Corp X線診断装置
JP2009082297A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
JP2009098134A (ja) * 2007-09-25 2009-05-07 Fujifilm Corp 画像検出器及び画像撮影システム
JP2009098136A (ja) * 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp 画像検出器及び画像撮影システム
JP2009147685A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Sony Corp 撮像素子ユニットおよび撮像装置
JP2010071931A (ja) * 2008-09-22 2010-04-02 Fujifilm Corp 放射線撮影装置
JP2010262134A (ja) * 2009-05-07 2010-11-18 Fujifilm Corp 放射線検出装置及び放射線画像撮影システム
US7893403B2 (en) 2007-09-14 2011-02-22 Fujifilm Corporation Radiation image capturing apparatus
JP2011053010A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Canon Inc 放射線撮影装置
JP2011059058A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
JP2011180264A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Fujifilm Corp 可搬型放射線撮影装置
JP2012042302A (ja) * 2010-08-18 2012-03-01 Fujifilm Corp 放射線撮影用カセッテ
JP2012103062A (ja) * 2010-11-09 2012-05-31 Toshiba Corp 放射線検出装置
US8294113B2 (en) 2007-09-28 2012-10-23 Fujifilm Corporation Image detecting device and image capturing system
JP2014025846A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
WO2015045237A1 (ja) * 2013-09-26 2015-04-02 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、その製造方法及び放射線検査装置
JP2015213756A (ja) * 2000-06-27 2015-12-03 キヤノン株式会社 放射線画像撮影装置
KR20160030454A (ko) * 2014-09-10 2016-03-18 캐논 가부시끼가이샤 방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템
JP2016171547A (ja) * 2015-03-16 2016-09-23 日本電気株式会社 固体撮像装置および固体撮像装置放熱方法
WO2023074123A1 (ja) * 2021-10-27 2023-05-04 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 半導体装置及び電子機器

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4442833B2 (ja) * 1998-08-04 2010-03-31 キヤノン株式会社 光電変換装置
US6617671B1 (en) 1999-06-10 2003-09-09 Micron Technology, Inc. High density stackable and flexible substrate-based semiconductor device modules
FR2806807B1 (fr) * 2000-03-21 2002-10-11 Commissariat Energie Atomique Detecteur de rayonnement a jonction semi-conductrice pour la mesure de forts debits de dose de rayonnement x ou gamma
JP4447752B2 (ja) * 2000-08-03 2010-04-07 浜松ホトニクス株式会社 放射線検出器
DE10100679A1 (de) * 2001-01-09 2002-07-11 Abb Research Ltd Träger für Bauelemente der Mikrosystemtechnik
KR100369811B1 (ko) * 2001-01-30 2003-01-29 삼성전자 주식회사 상변화를 이용한 열 전달 매체를 구비한 광소자 모듈
US7104686B2 (en) 2001-05-30 2006-09-12 Canon Kabushiki Kaisha Radiographic apparatus
JP2003060948A (ja) * 2001-06-05 2003-02-28 Seiko Precision Inc 固体撮像装置
JP2003066151A (ja) * 2001-08-30 2003-03-05 Acrorad Co Ltd 放射線画像検出装置
US7030387B2 (en) 2002-10-18 2006-04-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. Continuous moisture getter for solid state detector
US7317190B2 (en) * 2004-09-24 2008-01-08 General Electric Company Radiation absorbing x-ray detector panel support
US7189972B2 (en) * 2004-10-04 2007-03-13 General Electric Company X-ray detector with impact absorbing cover
US7866163B2 (en) * 2004-10-04 2011-01-11 General Electric Company Radiographic detector docking station with dynamic environmental control
US7046764B1 (en) 2004-10-04 2006-05-16 General Electric Company X-ray detector having an accelerometer
US7342998B2 (en) * 2004-11-18 2008-03-11 General Electric Company X-ray detector quick-connect connection system
US7581885B2 (en) 2004-11-24 2009-09-01 General Electric Company Method and system of aligning x-ray detector for data acquisition
US7381964B1 (en) 2004-11-24 2008-06-03 General Electric Company Method and system of x-ray data calibration
KR100741089B1 (ko) * 2005-12-05 2007-07-20 삼성에스디아이 주식회사 방열구조 및 이를 구비한 플라즈마 디스플레이 장치
DE102006010004B4 (de) * 2006-03-03 2016-10-13 Siemens Healthcare Gmbh Röntgendetektor
US7834325B2 (en) * 2006-03-24 2010-11-16 Fujifilm Corporation Radiation image information capturing apparatus and method of detecting temperature of amplifier thereof
US7926173B2 (en) * 2007-07-05 2011-04-19 Occam Portfolio Llc Method of making a circuit assembly
US7495227B2 (en) * 2007-07-10 2009-02-24 General Electric Company Digital x-ray detectors
US8711447B2 (en) * 2010-05-19 2014-04-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Image scanning apparatus and image forming apparatus
US8829454B2 (en) * 2012-02-27 2014-09-09 Analog Devices, Inc. Compact sensor module
JP6121114B2 (ja) * 2012-08-01 2017-04-26 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置
US8680475B2 (en) 2012-08-08 2014-03-25 General Electric Company Digital X-ray detector assembly with elastomeric backscatter shield
CN103720484B (zh) 2012-10-12 2018-02-23 Ge医疗系统环球技术有限公司 介入探测器的无冷却器冷却系统与方法
US9116022B2 (en) 2012-12-07 2015-08-25 Analog Devices, Inc. Compact sensor module
US9397134B1 (en) 2013-02-07 2016-07-19 Google Inc. Methods and devices configured to provide selective heat transfer of an integrated circuit
JP2015038435A (ja) * 2013-08-19 2015-02-26 株式会社東芝 放射線検出器
KR20180063756A (ko) * 2016-12-02 2018-06-12 삼성전자주식회사 인쇄회로기판, 및 이를 가지는 솔리드 스테이트 드라이브 장치

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4230945A (en) 1978-04-24 1980-10-28 Meir Vladimir A Device for detecting ionizing radiation
JPS593069B2 (ja) * 1982-06-07 1984-01-21 Nippon Denki Kk
JPS63284485A (en) 1987-05-15 1988-11-21 Shimadzu Corp Radiation image receiving device
JPH01114780A (en) * 1987-10-28 1989-05-08 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd X-ray detecting device
FR2625332A1 (fr) 1987-10-27 1989-06-30 Walter Jean Jacques Capteur pour gamma camera, scanner et radiologie numerique
JP3284585B2 (ja) * 1992-04-10 2002-05-20 ソニー株式会社 電子機器の冷却装置
JPH05333157A (ja) * 1992-05-28 1993-12-17 Shimadzu Corp 放射線検出器
US5596200A (en) 1992-10-14 1997-01-21 Primex Low dose mammography system
JP3310404B2 (ja) * 1993-07-23 2002-08-05 浜松ホトニクス株式会社 冷却型固体撮像装置
US5596228A (en) * 1994-03-10 1997-01-21 Oec Medical Systems, Inc. Apparatus for cooling charge coupled device imaging systems
JP3957803B2 (ja) * 1996-02-22 2007-08-15 キヤノン株式会社 光電変換装置

Cited By (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001318155A (ja) * 2000-02-28 2001-11-16 Toshiba Corp 放射線検出器、およびx線ct装置
JP2015213756A (ja) * 2000-06-27 2015-12-03 キヤノン株式会社 放射線画像撮影装置
WO2002012920A1 (fr) * 2000-08-03 2002-02-14 Hamamatsu Photonics K.K. Detecteur de rayonnement et panneau scintillateur et leurs procedes de fabrication
US7019302B2 (en) 2000-08-03 2006-03-28 Hamamatsu Photonics K.K. Radiation detector, scintillator panel, and methods for manufacturing same
JP2002156457A (ja) * 2000-11-21 2002-05-31 Canon Inc X線画像撮影装置
JP2002214352A (ja) * 2001-01-19 2002-07-31 Canon Inc 放射線画像撮影装置
JP2003194951A (ja) * 2001-12-28 2003-07-09 Canon Inc X線撮影装置
JP2004219318A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Hamamatsu Photonics Kk 放射線検出器
JP2005117258A (ja) * 2003-10-06 2005-04-28 Olympus Corp 撮像装置
JP2005134396A (ja) * 2003-10-28 2005-05-26 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc 熱電冷却のための装置及び方法
JP4576205B2 (ja) * 2003-10-28 2010-11-04 ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー X線検出器の温度を調整する熱電冷却装置及び方法
JP2006242702A (ja) * 2005-03-02 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線検出用カセッテ
JP2007256176A (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Shimadzu Corp 放射線検出装置
JP2007260092A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Fujifilm Corp 放射線画像情報撮影装置
JP2009018109A (ja) * 2007-07-13 2009-01-29 Shimadzu Corp X線診断装置
US7893403B2 (en) 2007-09-14 2011-02-22 Fujifilm Corporation Radiation image capturing apparatus
JP2009098134A (ja) * 2007-09-25 2009-05-07 Fujifilm Corp 画像検出器及び画像撮影システム
JP2009082297A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
JP2009098136A (ja) * 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp 画像検出器及び画像撮影システム
US8294113B2 (en) 2007-09-28 2012-10-23 Fujifilm Corporation Image detecting device and image capturing system
JP4733092B2 (ja) * 2007-09-28 2011-07-27 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影装置
US8222612B2 (en) 2007-09-28 2012-07-17 Fujifilm Corporation Radiation image capturing apparatus
JP4543339B2 (ja) * 2007-12-14 2010-09-15 ソニー株式会社 撮像装置
US8106952B2 (en) 2007-12-14 2012-01-31 Sony Corporation Imaging device unit and imaging apparatus
JP2009147685A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Sony Corp 撮像素子ユニットおよび撮像装置
JP2010071931A (ja) * 2008-09-22 2010-04-02 Fujifilm Corp 放射線撮影装置
JP2010262134A (ja) * 2009-05-07 2010-11-18 Fujifilm Corp 放射線検出装置及び放射線画像撮影システム
JP2011053010A (ja) * 2009-08-31 2011-03-17 Canon Inc 放射線撮影装置
JP2011059058A (ja) * 2009-09-14 2011-03-24 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
JP2011180264A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Fujifilm Corp 可搬型放射線撮影装置
JP2012042302A (ja) * 2010-08-18 2012-03-01 Fujifilm Corp 放射線撮影用カセッテ
JP2012103062A (ja) * 2010-11-09 2012-05-31 Toshiba Corp 放射線検出装置
JP2014025846A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Fujifilm Corp 放射線画像撮影装置
WO2015045237A1 (ja) * 2013-09-26 2015-04-02 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、その製造方法及び放射線検査装置
KR20160030454A (ko) * 2014-09-10 2016-03-18 캐논 가부시끼가이샤 방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템
JP2016057204A (ja) * 2014-09-10 2016-04-21 キヤノン株式会社 放射線撮像装置および放射線撮像システム
JP2016171547A (ja) * 2015-03-16 2016-09-23 日本電気株式会社 固体撮像装置および固体撮像装置放熱方法
WO2023074123A1 (ja) * 2021-10-27 2023-05-04 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 半導体装置及び電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
US6323891B1 (en) 2001-11-27
EP0943931A3 (en) 2000-08-23
EP0943931A2 (en) 1999-09-22

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