JPH11335849A - Film forming device - Google Patents

Film forming device

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JPH11335849A
JPH11335849A JP16293298A JP16293298A JPH11335849A JP H11335849 A JPH11335849 A JP H11335849A JP 16293298 A JP16293298 A JP 16293298A JP 16293298 A JP16293298 A JP 16293298A JP H11335849 A JPH11335849 A JP H11335849A
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JP
Japan
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shower head
film forming
deposition
preventing plate
sticking preventing
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Application number
JP16293298A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukio Fukunaga
Kuniaki Horie
Tsutomu Nakada
勉 中田
邦明 堀江
由紀夫 福永
Original Assignee
Ebara Corp
株式会社荏原製作所
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent products from being stuck to a shower head itself and to easily and speedily execute the maintenance of a device by providing a sticking preventing board covering the face opposite to a substrate in a nozzle sheet freely attachably and detachably.
SOLUTION: At the time of cleaning or exchanging a sticking preventing board 42, a fastening tool such as a bolt fastening a shower head 26 is unfastened, then an arm 52 is held, and the arm 52 is raised. In this way, the upper end part of a film forming chamber 15 is released, and moreover, the fixing of the sticking preventing board 42 is released. The sticking preventing board 42 is taken out from the upper end part of the shower head 26, and the stuck products and the vicinity thereof are cleaned. After that, the shower head 26 is lowered, and, while the sticking preventing board 42 is held, flanges 14a and 26a are connected with each other to compose a film forming chamber 15. In this way, the sticking preventing board 42 is not fixed by a bolt or the like and is fixed so as to be held between the shower head 26 and a film forming vessel 14, the operation of the fixing and release of the sticking preventing board 42 is easy, and the fixing strength thereof is also high.
COPYRIGHT: (C)1999,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、成膜装置に関し、 BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a film-forming apparatus,
特に、チタン酸バリウム/ストロンチウム等の高誘電体又は強誘電体薄膜を形成するのに好適な成膜装置に関する。 Particularly, regarding suitable deposition apparatus for forming a high dielectric or ferroelectric thin film such as barium titanate / strontium.

【0002】 [0002]

【従来の技術】半導体集積回路の高集積度化に伴い、誘電率が300程度であるチタン酸バリウム(BaTi With the higher integration of semiconductor integrated circuits, barium titanate dielectric constant of about 300 (BaTi
3 )、あるいはチタン酸ストロンチウム(SrTiO 3 O 3), or strontium titanate (SrTiO 3)
又はこれらの混合物であるチタン酸バリウムストロンチウム等の金属酸化物薄膜材料が有望視されている。 Or a metal oxide thin film material, such as barium strontium titanate are promising mixtures thereof. このような素材の成膜を行なう方法として化学気相成長(C As a method for forming a film of such material chemical vapor deposition (C
VD)が有望とされている。 VD) have been promising. この場合、原料ガスとして、常温で固体のBa(DPM) 2 ,Sr(DPM) 2などを有機溶剤(例えばTHFなど)に溶解させたものを加熱して気化するようにしている。 In this case, as the material gas, and so as to heat vaporizing those solid Ba (DPM) 2, Sr ( DPM) 2 and the like is dissolved in an organic solvent (e.g., THF, etc.) at room temperature.

【0003】図6は、例えば、チタン酸バリウム/ストロンチウム等の高誘電体又は強誘電体薄膜を形成するための成膜装置の構成を示す図であり、例えば、液状の原料を気化する気化器10の下流側に原料ガス配管12を介して成膜容器14により成膜室15が設けられ、さらにその下流側の排気配管18に真空ポンプ16が配置されて排気経路が構成されている。 [0003] FIG. 6 is, for example, a diagram showing the configuration of a deposition apparatus for forming a high dielectric or ferroelectric thin film such as barium titanate / strontium, e.g., vaporizer for vaporizing a liquid raw material deposition chamber 15 by a film forming chamber 14 through the raw-gas pipe 12 is provided downstream of the 10, and a further vacuum pump 16 is disposed the exhaust path to exhaust pipe 18 on the downstream side. 成膜室15には、酸素等の酸化ガスを供給する酸化ガス配管20が接続されている。 The film forming chamber 15, the oxidizing gas pipe 20 for supplying an oxidizing gas such as oxygen is connected.

【0004】成膜室15には、図7に詳細に示すように、基板Wを加熱・保持する基板保持台22と、これに対向してノズル孔24より原料ガスや酸化ガスを噴射するシャワーヘッド26が設けられている。 [0004] film-forming chamber 15, as shown in detail in FIG. 7, a shower for injecting a substrate holder 22 for heating and holding the substrate is W, the raw material gas and oxidizing gas from the nozzle hole 24 to face thereto head 26 is provided. このシャワーヘッド26は、成膜室15の上端開口部をメタルシール28を介して気密的に封止している。 The shower head 26 is sealed hermetically seal the top opening of the film forming chamber 15 through the metal seal 28. なお、シャワーヘッド26には、反応ガス供給管30が接続され、この反応ガス供給管30に原料ガス配管12及び酸化ガス配管20が接続されているとともに、この周囲にはヒータ3 Incidentally, the shower head 26, the reaction gas supply pipe 30 is connected, together with the reaction gas supply pipe 30 raw-gas pipe 12 and the oxidizing gas pipe 20 is connected, this around the heater 3
2が配置されている。 2 is arranged.

【0005】これにより、成膜室15の内部に搬送した基板Wを基板保持台22上に載置し、この基板保持台2 [0005] Thus, the substrate W is transported to the inside of the film forming chamber 15 is placed on the substrate holder 22, the substrate holder 2
2に内蔵されたヒータによって基板Wを所定温度に加熱しつつ、成膜室15の上部に設置したシャワーヘッド2 While heating the substrate W to a predetermined temperature by to heater built in the 2, the shower head 2 was placed on top of the film forming chamber 15
6のノズル孔24から原料ガスと酸化ガスとの混合ガスを基板Wに向けて噴射して、基板Wの表面に薄膜を成長させ、反応後のガスを排気配管18から外部に排気するようにしている。 6 mixed gas from the nozzle hole 24 and the raw material gas and the oxidizing gas is injected toward the substrate is W, the thin film is grown on the surface of the substrate W, the gas after the reaction so as to exhaust from the exhaust pipe 18 to the outside ing.

【0006】このようにして基板W上に薄膜を成長させると、同時に基板の周囲や成膜室の内壁、さらにはシャワーヘッドのノズル板面にも反応生成物が付着する。 [0006] In this way grow a thin film on the substrate W, the inner wall of the surrounding or the film forming chamber of the substrate at the same time, and even adheres reaction products on the nozzle plate surface of the shower head. このような反応は温度が高い場合に起きやすいので、図7 Because such reactions are likely to occur when the temperature is high, FIG. 7
に示すように、シャワーヘッド26等の所定箇所に熱媒体流路34を設け、この熱媒体流路34に熱媒体入口配管36及び熱媒体出口配管38を介してオイル等の熱媒体を流し、シャワーヘッド26の表面に生成物が付着しないように温度調節していた。 As shown in the heat medium passage 34 is provided at a predetermined position such as a showerhead 26, flowing a thermal medium such as oil through the heat medium inlet pipe 36 and the heat medium outlet pipe 38 to the heat medium passage 34, the product had a temperature adjusted so as not to adhere to the surface of the shower head 26.

【0007】しかしながら、このように温度調節を行っても、付着物の生成を完全に防止するのは困難である。 However, even if in this way the temperature control, it is difficult to completely prevent the formation of deposits.
このような付着物は時間の経過とともに剥離してパーティクルとなり、成膜の品質を低下させたり、ガス流路に堆積して装置の円滑な稼動を妨げる等の弊害をもたらすので、付着物を所定のタイミングで洗浄する必要がある。 Such deposits become particles by peeling with time, or reduce the quality of the film formation, so detrimental such impede the smooth operation of the apparatus by depositing the gas flow path, given the deposit it is necessary to wash with the timing.

【0008】ところが、このような高・強誘電体の素材を含む生成物の化合物には蒸気圧が高いものがない場合が多く、特定のエッチングガス等を用いて生成物を気化しやすい物質に変化させ、また、成膜室の真空度を高めて排気するドライクリーニングが困難である。 [0008] However, in many cases there is nothing higher vapor pressure compounds of product containing materials such high-ferroelectric, the vaporized material susceptible product with a specific etching gas such as changing, also, dry cleaning of exhaust to increase the degree of vacuum in the deposition chamber is difficult. そのため、例えばシャワーヘッドを含む天板を外し、これを別の場所に移動して、シャワーヘッド自体の付着物の洗浄を行っていた。 Therefore, for example, remove the top plate including a shower head, and move it to another location has been performed cleaning of the shower head itself deposits.

【0009】 [0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記のような従来の方法においては、シャワーヘッド自体がかなり大きく重い上に、シャワーヘッドには、熱媒体配管、原料ガス配管及び酸化ガス配管が接続されているので、移動にはこれらの配管の着脱作業を伴う。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the conventional method as described above, on the shower head itself is heavy rather large, the shower head, the heat medium pipe, the raw-gas pipe and the oxidizing gas piping is connected since it is, it involves attaching and detaching of these pipes to move. また、シャワーヘッドを上方に置いてその下面を手作業で洗浄するのは、姿勢も悪く、作業性が良くないという問題があった。 Also, to clean the lower surface manually place the shower head upward, attitude or worse, there is a problem that poor workability.

【0010】本発明は、上記のような課題に鑑み、生成物がシャワーヘッド自体に付着するのを防止して、メンテナンスを容易且つ迅速に行えるようにした成膜装置を提供することを目的とする。 [0010] The present invention includes aims view of the above problems, the product is prevented from adhering to the shower head itself, to provide a film forming apparatus that can perform maintenance easily and quickly to.

【0011】 [0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明は、気密な成膜室を構成する成膜容器と、該成膜室内において基板を保持する基板保持台と、該基板保持台に対向するノズル板から原料ガスを搬送するシャワーヘッドとを備えた成膜装置において、前記ノズル板の基板対向面を覆う防着板が着脱自在に設けられていることを特徴とする成膜装置である。 Means for Solving the Problems The first aspect of the present invention, a film forming container constituting an airtight film forming chamber, and the substrate holder for holding a substrate in the film-forming chamber, the substrate holder a film forming apparatus having a shower head for conveying the raw material gas from the opposite nozzle plate, in the film forming apparatus characterized by deposition preventing plate for covering the substrate-facing surface of the nozzle plate is detachably provided is there.

【0012】防着板によりノズル板の基板対向面の成膜室内への露出を防止し、シャワーヘッドへの生成物の付着を防止することができる。 [0012] to prevent exposure to the deposition chamber of the substrate opposing surface of the nozzle plate by deposition preventing plate, it is possible to prevent adhesion of the product to the showerhead. 防着板に付着した生成物の除去は、防着板をノズル板から外して洗浄や交換を行なうことにより、作業性よく、容易且つ迅速に行なうことができる。 Removal of product adhering to the deposition preventing plate, by performing the cleaning or replacement by removing the deposition preventing plate from the nozzle plate, workability, can be carried out easily and quickly. ノズル板に形成されたノズル孔と対応する位置に貫通孔を形成して原料ガスの噴射を確保する。 Forming a through hole in a position corresponding to the nozzle holes formed in the nozzle plate to ensure the injection of the raw material gas. ノズル板の温度を調整する温度調節手段を設け、防着板を熱伝導性のよい素材で形成してノズル板に密着させれば、 The temperature adjusting means for adjusting the temperature of the nozzle plate is provided, if adhered to the nozzle plate preventing plate formed of a good material thermal conductivity,
防着板への付着を抑制して洗浄や交換作業のピッチを長くすることができる。 Adherence to preventing plate can be lengthened pitch to cleaning or replacement suppressed.

【0013】請求項2に記載の発明は、前記防着板は、 [0013] According to a second aspect of the invention, the deposition preventing plate,
周縁部を前記成膜容器とシャワーヘッドによって挟持されて固定されていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置である。 It is film forming apparatus according to claim 1, characterized in that is fixed by being sandwiched by the peripheral portion wherein the deposition container and a shower head. これにより、シャワーヘッドの着脱によって防着板の着脱が同時に行われ、防着板の着脱作業と固定の構造が簡単になる。 Thus, attachment and detachment of the deposition preventing plate is performed simultaneously by attachment and detachment of the shower head, attachment and detachment of the attachment protection plate and the structure of the fixed is simplified. 防着板を弾性部材を介して固定することにより、許容寸法精度への要求を低減し、 The deposition preventing plate by fixing through the elastic member, to reduce the demand for allowable dimensional accuracy,
強固な固定が可能となる。 Strong fixation is possible.

【0014】請求項3に記載の発明は、前記防着板が弾性変形した状態でシャワーヘッドに密着するようになっていることを特徴とする請求項3に記載の成膜装置である。 [0014] According to a third aspect of the invention, a film forming apparatus according to claim 3, wherein the deposition preventing plate is characterized in that is adapted to close contact with the shower head in an elastically deformed state. これにより、防着板自体の弾性力で防着板をノズル板に強固に密着させることができる。 Thus, it is possible to strongly adhere the deposition preventing plate to the nozzle plate by the elastic force of the deposition preventing plate itself.

【0015】請求項4に記載の発明は、前記防着板の温度を調整する温度調節手段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置である。 [0015] According to a fourth aspect of the invention, a film formation apparatus according to claim 1, characterized in that the temperature adjusting means for adjusting the temperature of the deposition preventing plate is provided. これにより、 As a result,
防着板の温度調節を厳密に行うことができ、防着板への付着物の量を減少させることができる。 Temperature regulation of the deposition preventing plate can be precisely performed, and the amount of deposits on the deposition preventing plate can be reduced.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1 DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, FIG. 1 the embodiment of the present invention
乃至図5を参照して説明する。 To be described with reference to FIG. 図1は、本発明の第1の実施の形態を示すもので、成膜室15の内部には、基板Wを保持し加熱する基板保持台22が収納されている。 Figure 1 shows a first embodiment of the present invention, inside the film forming chamber 15, substrate holder 22 for heating holding the substrate W is housed.
成膜室15の上方には、基板保持台22に対向して、多数のノズル孔24を有するシャワーヘッド26が配置されている。 Above the film forming chamber 15, to face the substrate holding table 22, a shower head 26 having a plurality of nozzle holes 24 are arranged. このシャワーヘッド26は、メタルシール2 The shower head 26, the metal seal 2
8を介してフランジ部14a,26aをボルト等で締結することにより、成膜室15の上部を気密に覆っている。 Flanges 14a through 8, by entering into 26a by bolts or the like, it covers hermetically the top of the film forming chamber 15.

【0017】シャワーヘッド26のノズル板27には熱媒体流路34が設けられ、この熱媒体流路34に熱媒体入口配管36及び熱媒体出口配管38を介して所定温度のオイル等の熱媒体を流す熱媒体循環装置(図示略)が設けられている。 The heat medium channel 34 is provided in the nozzle plate 27 of the shower head 26, the heat medium such as oil of a predetermined temperature in the heat medium flow path 34 through the heat medium inlet pipe 36 and the heat medium outlet pipe 38 heat medium circulating device (not shown) is provided to flow. この熱媒体循環装置は、所定箇所の温度センサの指示値を基にノズル板27の表面温度を一定に維持するように制御する制御機構を備えている。 The heat medium circulating apparatus is provided with a control mechanism for controlling so as to maintain the surface temperature of the nozzle plate 27 fixed on the basis of the instruction value of the temperature sensor in a predetermined position.

【0018】成膜室15の内部には、シャワーヘッド2 [0018] In the inside of the deposition chamber 15, the shower head 2
6のノズル板27の基板に対向する面(下面)26bに密着するように円板状の防着板42が設置されている。 Deposition preventing plate 42 disc-shaped so as to be in close contact with the opposite surfaces (the lower surface) 26b is installed in 6 of the substrate of the nozzle plate 27.
この防着板42は、強度を維持する程度の厚さを有し、 The deposition preventing plate 42 has a thickness sufficient to maintain strength,
熱伝導性の良い金属等の素材から形成され、ノズル板2 It is formed of a material of good thermal conductivity metal, the nozzle plate 2
7の各ノズル孔24に対応する位置にノズル板27を貫通する貫通孔44が設けられている。 Through holes 44 penetrating the nozzle plate 27 at positions corresponding to the respective nozzle holes 24 of 7 is provided. 防着板42の外径は成膜室15の内径よりも大きく設定されており、周縁部は、板ばね46を介して凹条部40の底面とノズル板27の下面の間に固定されている。 The outer diameter of the deposition preventing plate 42 is set larger than the inner diameter of the film forming chamber 15, the peripheral portion is fixed between the lower surface of the bottom surface and the nozzle plate 27 of the concave portion 40 through the plate spring 46 there. 板ばね46は、その弾性変形による防着板42の固定力が所定の強度になるように設定されている。 Leaf spring 46, the fixing force of the deposition preventing plate 42 is set so as to have a predetermined intensity by elastic deformation thereof.

【0019】成膜室15の側方には、先端にシャワーヘッド把持機構を有するアーム52が支柱50に昇降自在に設けられ、シャワーヘッド昇降機構54が構成されている。 [0019] On the side of the film forming chamber 15, the arm 52 having a shower head gripping mechanism is provided vertically movably on the strut 50 to the distal end, the shower head elevating mechanism 54 is constructed. シャワーヘッド26に接続された原料ガス配管1 The raw-gas pipe connected to the shower head 26 1
2、酸化ガス配管20及び熱媒体配管36,38はそれぞれフレキシブル管で構成されており、シャワーヘッド昇降機構54によるシャワーヘッド26の昇降が阻害されないようになっている。 2, the oxidizing gas pipe 20 and the heat medium pipe 36, 38 is composed of a flexible tube, respectively, so that the lifting of the shower head 26 according to the shower head lifting mechanism 54 is not hindered.

【0020】次に、上記実施の形態の成膜装置の作用について説明する。 Next, a description will be given of the operation of the film deposition apparatus of the above embodiment. 先ず、図1に実線で示すように、シャワーヘッド26を成膜室15の上端に固定し、防着板4 First, as shown by the solid line in FIG. 1, to secure the showerhead 26 to the upper end of the film forming chamber 15, a deposition preventing plate 4
2を成膜室15とシャワーヘッド26の間に挟んでノズル板27に密着させて固定した状態で、保持台22上に基板Wを載置し、所定温度に加熱する。 2 while fixing in close contact with the nozzle plate 27 sandwiched between the film forming chamber 15 and the shower head 26, by placing the substrate W on the holding table 22 is heated to a predetermined temperature. そして、シャワーヘッド26のノズル孔24から防着板42の貫通孔4 The through-hole 4 of the preventing plate 42 from the nozzle holes 24 of the shower head 26
4を介して原料ガスと酸化ガスとの混合ガスを基板に向けて搬送し、真空ポンプで排気しながら成膜を行なう。 4 through the mixed gas of the source gas and the oxidizing gas transported toward the substrate, a film is formed while evacuating by a vacuum pump.

【0021】ノズル板27の熱媒体流路には、ノズル板27の温度を成膜反応が起こりにくい所定の温度にするように熱媒体流路34に熱媒体が供給される。 [0021] The heat medium channel of the nozzle plate 27, the heat medium is supplied to the heat medium passage 34 so as to a predetermined temperature at which the temperature hardly causes deposition reaction of the nozzle plate 27. 防着板4 Preventing plate 4
2はノズル板27に密着しており、両者の間の熱伝導性は良好に維持されているので、防着板42の表面温度もノズル板27とほぼ同じ温度に維持されている。 2 is in close contact with the nozzle plate 27, since the thermal conductivity between them is maintained satisfactorily, and is maintained substantially the same temperature as the surface temperature nozzle plate 27 of the deposition preventing plate 42. しかしながら、成膜処理を繰り返すうちに防着板42の表面にも生成物が徐々に堆積する。 However, the product on the surface of the deposition preventing plate 42 is gradually deposited while repeating the film formation process.

【0022】そこで、定期的にあるいは必要に応じて、 [0022] Accordingly, periodically or as needed,
防着板42の表面の洗浄又は交換を以下のようにして行なう。 Cleaning or replacement of the surface of the deposition preventing plate 42 carried out as follows. 先ず、内部の真空を解除し、シャワーヘッド26 First of all, to release the inside of the vacuum, the shower head 26
を止めていたボルト等の締結具を外してから、アーム5 After removing the fasteners such as bolts that had stopped, the arm 5
2でシャワーヘッド26を把持し、アーム52を上昇させる。 Holding the shower head 26 at 2, raising the arm 52. これにより、成膜室15の上端部が開放させられると同時に、防着板42の固定が解除される。 Thus, at the same time the upper end portion of the film forming chamber 15 is caused to open, fixed deposition preventing plate 42 is released.

【0023】この状態で、防着板42をシャワーヘッド26の上端部から取り出し、これの下面に付着した生成物を洗浄し、また、防着板42の上面及びノズル板27 [0023] In this state, removed preventing plate 42 from the upper end of the shower head 26, washing the product adhering to the lower surface of this, also, the upper surface and the nozzle plate 27 of the deposition preventing plate 42
の下面を簡単に洗浄した後、シャワーヘッド26を下降させ、防着板42を挟んで固定しつつフランジ14a, After a brief wash the lower surface, lowers the showerhead 26, the flange 14a while fixing across the deposition preventing plate 42,
26aどうしを連結し、成膜室15を構築する。 How to connect the 26a, to build a film-forming chamber 15. なお、 It should be noted that,
上記のように同じ防着板42を洗浄して用いる替わりに、別の清浄な防着板42を用意しておき、これを交換して用いても良い。 Instead of using by washing the same deposition preventing plate 42 as described above, are prepared a deposition preventing plate 42 of another clean, it may be used to replace it. この場合は洗浄する時間を省いて装置の再立ち上げまでの時間を短縮することができる。 In this case, it is possible to shorten the time to re-launch the device by omitting the time for cleaning.

【0024】このように、この実施の形態の装置では、 [0024] Thus, in the apparatus of this embodiment,
防着板42をボルト等によって固定しておらず、シャワーヘッド26と成膜容器14で挟み付けて固定しているので、防着板42の固定と解除の作業が容易であり、また、固定強度も高い。 The deposition preventing plate 42 not fixed with bolts or the like, since the fixed clamped in the shower head 26 and the film deposition chamber 14, it is easy to work fixing the release of preventing plate 42, also fixed strength is also high. また、防着板42はシャワーヘッド26に比較して薄く軽量であり、出し入れや取り扱いが容易で洗浄作業も効率良く行える。 Further, deposition preventing plate 42 is a thin and light compared to the shower head 26, also can be efficiently and easily out and handling cleaning operations. そして、防着板4 Then, preventing plate 4
2をシャワーヘッド26と切り離して扱うことができるので、シャワーヘッド26を成膜室15から大きく引き離す必要がない。 Since 2 can be the handle separately from the shower head 26, there is no need to separate large shower head 26 from the film forming chamber 15. 従って、シャワーヘッド26の移動をこれに接続された各種のフレキシブル配管の許容する範囲で済ませることができる。 Therefore, it is possible to dispense the movement of the shower head 26 in the allowable range of the connected various flexible pipes thereto.

【0025】図2及び図3は、本発明の第2の実施の形態の成膜装置を示すもので、この実施の形態の防着板6 FIG. 2 and FIG. 3 shows a film formation apparatus of the second embodiment of the present invention, deposition preventing plate of the present embodiment 6
0は中心に対して回転対称に湾曲している。 0 is curved in rotational symmetry with respect to the center. これは、中心(頂端)に設けたピン64によりシャワーヘッド26 This shower head 26 by a pin 64 provided at the center (apex)
の下面に取り付けられ、これを板ばね46を保持する凹条部40に下降させることにより、弾性変形してノズル板27面に密着するようになっている。 Attached to the lower surface, by lowering this to a concave portion 40 for holding the leaf spring 46, comes into close contact with the nozzle plate 27 side is elastically deformed.

【0026】この場合の素材の組合せとして、成膜室1 [0026] as a combination of this case material, the deposition chamber 1
5やシャワーヘッド26にステンレス鋼のような剛性が高いものを用い、防着板60として比較的柔らかくかつ熱伝導性の良いアルミニウム合金等を用いるのが好ましい。 Used as rigidity, such as stainless steel high 5 or shower head 26, it is preferable to use a relatively soft and a good thermal conductivity of aluminum alloy or the like as a deposition preventing plate 60. これにより、ノズル板27や防着板60の平坦度が完全でなくても、防着板60を防着板60自体の弾性力でシャワーヘッド26に密着させて、両者の伝熱性を確保することができる。 Accordingly, at less than full flatness of the nozzle plate 27 and the deposition preventing plate 60, a deposition preventing plate 60 by the elastic force of the deposition preventing plate 60 itself is brought into close contact with the shower head 26, to secure both the heat transfer be able to.

【0027】なお、このように熱膨張率の異なる材料を使用した時には、図3に示すように、防着板60の端面と凹条部40の底部との間にクリアランスSを設けることで、両者の熱膨張差を吸収することができる。 [0027] Note that when using materials of different thermal expansion coefficient in this manner, as shown in FIG. 3, by providing the clearance S between the bottom end face and the concave portion 40 of the deposition preventing plate 60, it can absorb the thermal expansion difference therebetween. このときピン64を中心に熱膨張差は半径方向に均一に広がることになるので、各ノズル位置のずれを小さくすることができる。 Since the thermal expansion difference at this time around the pin 64 will be spread uniformly in the radial direction, it is possible to reduce the deviation of each nozzle position. また図4のように、図2と同様に湾曲した防着板60が該防着板60自体の弾性力に抗して、シャワーヘッド26と成膜容器14で挟み込むことによりシャワーヘッド26に完全に密着するように構成すれば、図4に示すように、板ばね46を省略することもできる。 Also as shown in Figure 4, deposition preventing plate 60 which is curved in the same manner as FIG. 2 against the elastic force of-proof attachment plate 60 itself, entirely to the shower head 26 by sandwiching the shower head 26 and the film deposition chamber 14 if configured so as to be in close contact with, as shown in FIG. 4, it is also possible to omit the plate spring 46.

【0028】図5は、本発明の第3の実施の形態の成膜装置を示すもので、この実施の形態の防着板70には、 [0028] FIG. 5 shows a film formation apparatus of the third embodiment of the present invention, the deposition preventing plate 70 in this embodiment,
内部にノズル板27と同様の熱媒体流路72が設けられている。 Similar heat medium channel 72 and the nozzle plate 27 is provided inside. 防着板70はその外周端面が成膜室15の外に露出するような大きさに設定されている。 Preventing plate 70 is the outer peripheral end face thereof is set to a size such as to be exposed to the outside of the deposition chamber 15. そして、防着板70はシャワーヘッド26のフランジ26aと成膜容器14のフランジ14aにそれぞれシール部材28を介して挟み付けられ、ボルト等により固定されている。 The deposition preventing plate 70 is pinched through the respective seal member 28 to the flange 14a of the flange 26a and the film deposition chamber 14 of the shower head 26, and is fixed by bolts or the like.

【0029】熱媒体流路72は、防着板70の外周端面に設けられた熱媒体入口配管74、熱媒体出口配管76 The heat medium channel 72, the heat medium inlet pipe 74 provided on the outer peripheral end surface of the deposition preventing plate 70, the heat medium outlet pipe 76
に連通しており、図示しない熱媒体循環装置はクイックカプラ78a,78bを介してこれらの配管に着脱自在に接続されている。 It communicates with the heating medium circulating device (not shown) is detachably connected to these pipes through quick coupler 78a, a 78b.

【0030】この実施の形態の成膜装置においては、熱媒体流路72内に、例えば加熱オイル等の温度調節された熱媒体を流すことにより、防着板70の温度調節を行うことができる。 [0030] In the film forming apparatus of this embodiment, the heat medium flow path 72, for example by flowing a temperature-controlled heating medium such as heating oil, it is possible to adjust the temperature of the deposition preventing plate 70 . 従って、防着板70に付着する生成物の量を減少させ、洗浄や交換のためのピッチを長くすることができる。 Therefore, the amount of product adhering to the deposition preventing plate 70 is reduced, the pitch for cleaning or replacement can be prolonged.

【0031】 [0031]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば、シャワーヘッドのノズル板面を、取り外しやハンドリングが容易な防着板で覆い、防着板をノズル板から外して洗浄や交換を行なうことにより、付着した生成物の除去を作業性よく行うことができる。 As described in the foregoing, according to the present invention, the nozzle plate surface of the shower head, covered with removable and handling easy deposition preventing plate, the cleaning or replacement by removing the deposition preventing plate from the nozzle plate by performing, it can be performed with high workability removal of adhered product. 従って、生成物がシャワーヘッド自体に付着するのを防止して、メンテナンスを容易且つ迅速に行うことができる。 Thus, the product is prevented from adhering to the shower head itself, it is possible to perform maintenance easily and quickly.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の第1の実施の形態の成膜装置を示す断面図である。 1 is a sectional view showing a film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施の形態の成膜装置を示す断面図である。 2 is a sectional view showing a film formation apparatus of the second embodiment of the present invention.

【図3】図2に示す第2の実施の形態の組立後の要部を示す図である。 3 is a diagram illustrating the main portion after assembly of the second embodiment shown in FIG.

【図4】本発明の第2の実施の形態の変形例を示す図である。 4 is a diagram showing a modification of the second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第3の実施の形態を示す断面図である。 5 is a cross-sectional view showing a third embodiment of the present invention.

【図6】成膜装置の全体構成を示す図である。 6 is a diagram showing the overall configuration of a film forming apparatus.

【図7】従来例を示す概略断面図である。 7 is a schematic sectional view showing a conventional example.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

14 成膜容器 15 成膜室 22 基板保持台 24 ノズル孔 26 シャワーヘッド 27 ノズル板 28 メタルシール 34,72 熱媒体流路 36.36,74,76 熱媒体配管 40 凹条部 42 防着板 44,62 貫通孔 46 板ばね(付勢手段) 64 芯出しピン 14 deposition container 15 deposition chamber 22 a substrate holder 24 nozzle holes 26 showerhead 27 nozzle plate 28 metal seal 34,72 heat medium flow 36.36,74,76 heat medium pipe 40 recessed streak 42 deposition preventing plate 44 , 62 through holes 46 a leaf spring (urging means) 64 centering pin

Claims (4)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 気密な成膜室を構成する成膜容器と、 該成膜室内において基板を保持する基板保持台と、 該基板保持台に対向するノズル板から原料ガスを搬送するシャワーヘッドとを備えた成膜装置において、 前記ノズル板の基板対向面を覆う防着板が着脱自在に設けられていることを特徴とする成膜装置。 1. A a film forming container constituting an airtight film forming chamber, and the substrate holder for holding a substrate in the film-forming chamber, and a shower head for conveying the raw material gas from a nozzle plate facing the substrate holder in the deposition apparatus having a deposition apparatus characterized by deposition preventing plate for covering the substrate-facing surface of the nozzle plate is detachably provided.
  2. 【請求項2】 前記防着板は、周縁部を前記成膜容器とシャワーヘッドによって挟持されて固定されていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 Wherein said deposition preventing plate, the deposition apparatus according to claim 1, characterized in that it is fixed by being sandwiched by the peripheral portion wherein the deposition container and a shower head.
  3. 【請求項3】 前記防着板が弾性変形した状態でシャワーヘッドに密着するようになっていることを特徴とする請求項2に記載の成膜装置。 3. A film forming apparatus according to claim 2, wherein the deposition preventing plate is characterized in that is adapted to close contact with the shower head in an elastically deformed state.
  4. 【請求項4】 前記防着板の温度を調整する温度調節手段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。 4. The deposition apparatus according to claim 1, characterized in that is provided a temperature adjusting means for adjusting the temperature of said deposition preventing plate.
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