JPH11330125A - キャピラリ、バンプ形成方法、並びに電子部品及びその製造方法 - Google Patents

キャピラリ、バンプ形成方法、並びに電子部品及びその製造方法

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JPH11330125A
JPH11330125A JP10155250A JP15525098A JPH11330125A JP H11330125 A JPH11330125 A JP H11330125A JP 10155250 A JP10155250 A JP 10155250A JP 15525098 A JP15525098 A JP 15525098A JP H11330125 A JPH11330125 A JP H11330125A
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bump
wire
electrode
capillary
ball
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Tsutomu Sakatsu
務 坂津
Kozo Komatsu
耕三 小松
Shinji Tezuka
伸治 手塚
Toshiaki Iwabuchi
寿章 岩渕
Satoshi Kuwazaki
聡 桑崎
Hideaki Okura
秀章 大倉
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、電極パッドの面積が縮小化して
も、ボールと電極パッドとの良好な接続特性と信頼性を
確保することが可能なキャピラリ及びバンプ形成方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】 底面が円周状の縁部から中心部のホール
に向かってすり鉢状に凹むテーパ形状をなしているキャ
ピラリ12を使用して、ボール16を電極パッド10に
押圧し超音波加振し、ワイヤバンプ18を形成する。こ
のときのエネルギーの伝達と塑性変形の分布は、キャピ
ラリ12底面のテーパ形状に規定されて電極パッド10
の中央部に集中するため、ワイヤバンプ18と電極パッ
ド10との円環状の接合エリア20は、たとえ電極パッ
ド10の面積が従来よりも小さくても、電極パッド10
内に納まってしまう。従って、実質的な接合面積が十分
に確保されて接合強度が向上し、良好な接続特性と信頼
性が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はキャピラリ、バンプ
形成方法、並びに電子部品及びその製造方法に係り、特
に半導体実装分野においてフリップチップ接続を行う際
に使用されるキャピラリ、バンプ形成方法、並びに電子
部品及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】先ず、本発明に関連する先行技術の幾つ
かを紹介する。例えば特開平4−130634号公報に
記載の「バンプ電極の形成方法」においては、バンプ電
極の形状を安定化させ、ワイヤの切断部と底部との圧着
不良を防止することが可能なバンプ電極の形成方法を提
供することを目的として、キャピラリにより電極パッド
にボールを圧着した後、この圧着位置からキャピラリを
垂直上方向、水平方向、垂直下方向および上記水平方向
と逆の水平方向に移動させることによりキャピラリの位
置を圧着位置から水平方向にわずかに移動させた後、キ
ャピラリの先端を圧着したボールに押し当てることによ
り圧着したボールから延びたワイヤを圧潰切断すること
を特徴とする。
【0003】また、特開昭62−115748号公報に
記載の「金バンプ形成法」においては、複数個の端子電
極が形成された半導体基板を加熱する工程と、キャピラ
リ中を通したAu(金)線の先端を球状にする工程と、
端子電極中の少なくとも一電極上に球状のAu先端部を
キャピラリによつて押圧すると同時に超音波振動を印加
して圧着する工程と、キャピラリを押し当てたままこの
キャピラリを水平方向に移動する工程と、Au線が供給
される方向と逆方向に張力を与えてこのAu線を切断す
る工程と、キャピラリを上昇させ圧着部から引き離す工
程とを有することを特徴とする。
【0004】また、特開平5−166811号公報に記
載の「半田バンプの形成方法」においては、IC(集積
回路)等の半導体部品のアルミ電極にAuのスタッドバ
ンプをワイヤボンダで形成し、その上に半田でスタッド
バンプを形成することで拡散防止のバリアメタルの形成
を省略することを目的として、IC等の半導体部品のA
l(アルミニウム)電極にAuのスタッドバンプをまず
形成し、さらにその上に半田のスタッドバンプを形成す
ることを特徴とする。
【0005】また、特開平9−69539号公報記載の
「バンプ形成方法及び半導体装置」においては、バンプ
形成方法及び半導体装置に関し、バンプを低コストで形
成すると共に、バンプを用いた半導体装置の信頼性を向
上させることを目的として、基板に設けられた電極パッ
ド上に第1のバンプを形成する工程と、この基板上を絶
縁膜で覆う工程と、第1のバンプの表面を露出させ、絶
縁膜と第1のバンプとを平坦化する工程と、露出した第
1のバンプの表面に第2のバンプを形成する工程を有す
ることを特徴とする。
【0006】一般のワイヤバンプの製造方法には、次の
ような方法がある。 (1) キャピラリ中を通したワイヤの先端を溶融して
形成したボールをキャピラリによって電極パッドに圧着
した後、そのままキャピラリを引き上げることによりワ
イヤを引っ張って切断し、バンプを形成する。いわゆる
引きちぎり法である。
【0007】(2) キャピラリ中を通したワイヤの先
端を溶融して形成したボールをキャピラリによって電極
パッドに圧着した後、2回目のボンディング動作を少し
ずらした位置に行うことによりワイヤを切断し、バンプ
形成する。例えば上記特開平4−130634号に係る
「バンプ電極の形成方法」が該当する。
【0008】(3) キャピラリ中を通したワイヤの先
端を溶融して形成したボールをキャピラリによって電極
パッドに圧着した後、キャピラリを押し当てたまま水平
方向に移動することによりワイヤを切断し、バンプを形
成する。例えば上記特開昭62−115748号に係る
「金バンプ形成法」が該当する。
【0009】但し、これらのワイヤバンプの製造方法に
おいては、ワイヤの切断方法は互いに異なるものの、い
ずれの場合も、図10(a)、(b)に示されるよう
に、半導体チップに配置されている例えば正方形状の電
極パッド100上方において、キャピラリ102の中心
に開口されたホールにワイヤ104を通し、更にこのワ
イヤ104の先端部を放電等によって溶融して、ボール
106を形成した後、キャピラリ12を下降させ、この
キャピラリ102の底面によってボール104を電極パ
ッド100に圧着し、ワイヤバンプ108を形成すると
いう点は共通している。
【0010】そして、このとき、ワイヤバンプ108と
電極パッド100とが金属同士の固相拡散接合をなす接
合エリア120は、円環状に形成される。この円環状の
接合エリア120は、キャピラリ102の底面によって
ボール106を電極パッド100に圧着し、例えば超音
波加する際のエネルギーの伝達と塑性変形の偏りによっ
て発生する。
【0011】また、上記従来のワイヤバンプの製造方法
によって電極パッド上にバンプを形成した半導体チップ
は、例えばプリント配線基板等の実装基板にフリップチ
ップ接続される。即ち、図11(a)に示されるよう
に、半導体チップ130の電極形成面の複数の電極パッ
ド132上にそれぞれワイヤバンプ134を形成した
後、この半導体チップ130をフェイスダウンに裏返し
て実装基板136に対向させ、半導体チップ130の複
数の電極パッド132上のワイヤバンプ134と実装基
板136の配線層の複数の電極パッド138とを対峙さ
せる。
【0012】次いで、図11(b)に示されるように、
半導体チップ130を下降させ、半導体チップ130の
複数のワイヤバンプ134を実装基板136の複数の電
極パッド138に接触させると共に、ワイヤバンプ13
4を溶融し、この溶融したワイヤバンプ140を介して
半導体チップ130の複数の電極パッド132と実装基
板136の複数の電極パッド138とを一括してフリッ
プチップ接続する。
【0013】また、信頼性向上等を目的とする2段構造
のバンプ形成方法においては、Auバンプを電極パッド
上に形成した後、このAuバンプ上に直接に接して半田
バンプを形成している。例えば上記特開平5−1668
11号に係る「半田バンプの形成方法」や特開平9−6
9539号に係る「バンプ形成方法及び半導体装置」が
該当する。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記図10
(a)、(b)に示されるような従来のワイヤバンピン
グ法において、半導体チップにおける素子の高集積化、
高密度化等に伴って電極パッドの面積が小さくなる場合
には、図10(c)に示されるように、キャピラリ10
2の平坦な底面の中心を相対的に小面積の電極パッド1
00aの中央部に一致させてワイヤバンプ108を形成
すると、従来の円環状の接合エリア120が小面積の電
極パッド100aをはみ出してしまい、ワイヤバンプ1
08と電極パッド100aとの実質的な接合エリア12
0aはその接合面積が小さくなる。このため、接合強度
が弱くなり、ワイヤバンプ108と電極パッド100a
との接続に関する信頼性が低下するという問題が生じ
る。
【0015】特に、ワイヤとして半田ワイヤを使用する
半田ワイヤボンディングの場合、現在においては40μ
mφのワイヤを用いて150μmピッチ程度のバンプを
形成することが可能であるが、半田ワイヤの径が40μ
mφよりも更に細くなると、ワイヤ強度が急激に弱くな
るために、信頼性の高い微細なバンプの形成が困難にな
るという問題がある。また、こうして微細なバンプ形成
ができないために、半田ワイヤバンプは、電極パッド間
のピッチがある程度よりも大きな半導体チップにしか使
用されず、微細ピッチの半導体チップを実装する際には
使用できないという問題もある。
【0016】また、上記図11(a)、(b)に示され
るような従来の半導体チップの実装基板へのフリップチ
ップ接続において、半導体チップに形成される素子の高
集積化、高密度化に伴って電極パッド間のピッチが狭く
なる場合には、図11(c)、(d)に示されるよう
に、半導体チップ130の相対的に小面積の電極パッド
132a上に形成するワイヤバンプ134aの大きさも
従来のワイヤバンプ134より小さくしなければなら
ず、この小さなワイヤバンプ134aを溶融したワイヤ
バンプ140を介して半導体チップ130の電極パッド
132aと実装基板136の相対的に小面積の電極パッ
ド138aとを溶融接続した際の接続間ギャップは、従
来の図11(b)に示すG1から電極パッドの微細ピッ
チ化が進んだ図11(d)に示すG2へと狭くなる。そ
して、この半導体チップ130と実装基板136とのギ
ャップが狭くなると、接続プロセスが難しくなったり、
接続後の熱応力に対して信頼性が低下したりするなどの
問題が生じる。
【0017】また、上記従来のAuバンプ上に直接に半
田バンプが形成されている2段構造のバンプ形成方法に
おいては、半田バンプ側が実装基板の配線パターンの電
極パッドに接して接続されることになるため、この半田
バンプの溶融接続の際に半田が実装基板の電極パッドに
濡れ広がって、バンプ量にばらつきが生じることにな
る。このとき、実装基板の電極パッドの設計仕様は半田
の濡れ広がりまでをも想定した高精度な寸法に製作する
のは事実上困難であるため、バンプ量のばらつきによっ
て半導体チップと実装基板とのギャップがばらつき、両
者間の接続不良が発生するなどの危険がある。
【0018】そこで本発明は、上記問題点を鑑みてなさ
れたもので、電極パッドの面積が縮小化しても、ボール
と電極パッドとの良好な接続特性と信頼性を確保するこ
とが可能なキャピラリ及びバンプ形成方法を提供するこ
とを第1の目的とする。
【0019】また、電極パッド間のピッチが微細化して
も、それに対応した微細なバンプを形成する一方、半導
体チップと実装基板とのギャップを広くして、接続プロ
セスを容易にすると共に、接続後の熱応力に対する信頼
性を向上させることが可能な電子部品及びその製造方法
を提供することを第2の目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の本発
明に係るキャピラリ、バンプ形成方法、並びに電子部品
及びその製造方法により達成される。即ち、請求項1に
係るキャピラリは、ワイヤを通すホールと、このホール
を通ったワイヤの先端部を溶融して形成したボールを電
極パッドに押圧する底面と、を有するキャピラリであっ
て、その底面が円周状の縁部から中心部のホールに向か
ってすり鉢状に凹むテーパ形状をなしていることを特徴
とする。このように請求項1に係るキャピラリにおいて
は、そのキャピラリの底面が円周状の縁部から中心部の
ホールに向かってすり鉢状に凹むテーパ形状をなしてい
ることにより、このテーパ形状の底面を用いてボールを
電極パッドに押圧し超音波加振する際のエネルギーの伝
達と塑性変形の分布が円環状の接合エリアの中心部へ集
中するため、たとえ電極の面積が小さい場合であって
も、円環状の接合エリアが電極内に納まってしまう。従
って、ボールと電極との実質的な接合面積が十分に確保
され、両者の接合強度が向上して、良好な接続特性と信
頼性が得られる。
【0021】また、請求項2に係るキャピラリは、ワイ
ヤを通すホールと、このホールを通ったワイヤの先端部
を溶融して形成したボールを電極パッドに押圧する底面
と、を有するキャピラリであって、ホール内のワイヤに
熱風を吹き付ける熱風供給孔が設置されていることを特
徴とする。
【0022】このように請求項2に係るキャピラリにお
いては、ホール内のワイヤに熱風を吹き付ける熱風供給
孔が設置されていることにより、ワイヤの先端部を溶融
して形成したボールを電極パッドに押圧してバンプを形
成した後、バンプに接続しているワイヤに熱風供給孔か
ら熱風を吹き付けると、この熱風が吹き付けられた箇所
のワイヤの結晶状態が変化して、ワイヤが破断され易く
なるため、バンプに接続しているワイヤ残部が必要十分
な長さになるように破断位置をコントロールすることが
可能になる。
【0023】また、請求項3に係るバンプ形成方法は、
ワイヤバンピング法により電子部品の電極上にバンプを
形成するバンプ形成方法であって、請求項1記載のキャ
ピラリを用いて、このキャピラリのホールを通したワイ
ヤの先端部を溶融してボールを形成した後、キャピラリ
の円周状の縁部から中心部のホールに向かってすり鉢状
に凹んでいる底面によりボールを電極に押圧し超音波加
振して、バンプを形成することを特徴とする。
【0024】このように請求項3に係るバンプ形成方法
においては、請求項1に係るキャピラリを用いて、キャ
ピラリの円周状の縁部から中心部のホールに向かってす
り鉢状に凹んでいる底面によりボールを電極に押圧し超
音波加振することにより、その際のエネルギーの伝達と
塑性変形の分布を円環状の接合エリアの中心部へ集中さ
せることが可能になるため、たとえ電極の面積が小さい
場合であっても、円環状の接合エリアが電極内に納まっ
てしまう。従って、ボールと電極との実質的な接合面積
が十分に確保され、両者の接合強度が向上して、良好な
接続特性と信頼性が得られる。
【0025】また、請求項4に係るバンプ形成方法は、
ワイヤバンピング法により電子部品の電極上にバンプを
形成するバンプ形成方法であって、キャピラリのホール
を通したワイヤの先端部を溶融してボールを形成した
後、このボールをキャピラリの平坦な底面により電極に
押圧し超音波加振する際に、キャピラリの位置をずらし
て複数回ボールを電極に押圧し超音波加振して、バンプ
を形成することを特徴とする。
【0026】このように請求項4に係るバンプ形成方法
においては、キャピラリの平坦な底面によりボールを電
極に押圧し超音波加振する際に、キャピラリの位置をず
らして複数回ボンディングすることにより、たとえ電極
の面積が円環状の接合エリアよりも相対的に小さい場合
であっても、ボールと電極との実質的な接合面積を増大
させることが可能になるため、両者の接合強度が向上し
て、良好な接続特性と信頼性が得られる。
【0027】また、請求項5に係るバンプ形成方法は、
上記請求項4記載のバンプ形成方法において、キャピラ
リの位置をずらして複数回押圧及び超音波加振を行う際
に、最初にキャピラリの底面の中心を電極の中央部から
一の方向にずらしてボールを押圧し超音波加振してバン
プを形成し、次にキャピラリの底面の中心を電極の中央
部から一の方向と反対側にずらしてバンプを押圧し超音
波加振することを特徴とする。
【0028】このように請求項5に係るバンプ形成方法
においては、キャピラリの位置をずらして複数回ボンデ
ィングする際に、先ずキャピラリの底面の中心を電極の
中央部からずらしてボンディングすることにより、たと
え電極の面積が小さい場合であっても、接合エリアを電
極内で非対称に形成して、電極を対称的に分割したとき
にそのーつのエリア内での接合面積比率が高くなるよう
にし、次に反対側にずらしてボンディングすることによ
り、他のエリア内での接合面積比率が高くなるようにし
て、最初のボンディングの際の未接合エリアを埋めるこ
とが可能になるため、全体としての接合エリアが増大
し、ボールと電極との接合強度が向上して、良好な接続
特性と信頼性が得られる。
【0029】また、請求項6に係るバンプ形成方法は、
上記請求項4記載のバンプ形成方法において、キャピラ
リの位置をずらして複数回押圧及び超音波加振を行う際
に、最初にキャピラリの底面の中心を電極の略中央部に
一致させてボールを押圧し超音波加振してバンプを形成
し、次にこのバンプに接続するワイヤを切断した後、キ
ャピラリの平坦な底面をバンプの略中心部に当てて押圧
し超音波加振することを特徴とする。
【0030】このように請求項6に係るバンプ形成方法
においては、キャピラリの位置をずらして複数回ボンデ
ィングする際に、先ず従来通りにキャピラリの底面の中
心を電極の略中央部に一致させてボールを押圧し超音波
加振してバンプを形成することにより、電極の面積が円
環状の接合エリアよりも相対的に小さい場合には、円環
状の接合エリアが電極を多少はみ出すものの、次にキャ
ピラリの平坦な底面をバンプの略中心部に当てて押圧し
超音波加振することにより、電極の略中央部の未接合エ
リアが接合エリアになるため、全体としての接合エリア
が増大し、ボールと電極との接合強度が向上して、良好
な接続特性と信頼性が得られる。また、同時に、この2
回目のボンディングにおいて、キャピラリの底面の高さ
を制御することにより、バンプの高さのレベリングを行
うことも可能になる。なお、最初のボンディングの後
に、バンプに接続するワイヤを切断ワイヤを切断する方
法としては、例えば従来の引きちぎり法を用いればよ
い。
【0031】また、請求項7に係るバンプ形成方法は、
ワイヤバンピング法により電子部品の電極上にバンプを
形成するバンプ形成方法であって、ウェッジツールに斜
めに設けられた供給穴を通過したワイヤの先端部を溶融
してボールを形成した後、ウェッジツールの平坦な底面
によりボールを電極に押圧し超音波加振して、バンプを
形成することを特徴とする。
【0032】ウェッジツールに斜めに設けられた供給穴
を通過したワイヤの先端部をウェッジツールの平坦な底
面により電極に押圧し超音波加振するワイヤボンディン
グ法は従来よりあるが、この従来の方法と同様にしてワ
イヤ材を電極上に残すバンピング法を用いても、バンプ
高さが低くなるという問題が生じる。また、半田ワイヤ
を使用する場合には、放電によるボール形成プロセスに
おいてボール表面近傍に偏在する添加元素の効果を必要
とするが、ここではその効果を利用することができない
ため、Al電極上にの直接バンピングすることがができ
ないという問題も生じる。そこで、請求項7に係るバン
プ形成方法においては、ウェッジツールの斜めの供給穴
を通過したワイヤの先端部を溶融してボールを形成する
ことにより、半田ワイヤを使用する場合であっても、ボ
ール形成プロセスにおいてボール表面近傍に偏在する添
加元素の効果を利用することができるため、Al電極上
に直接バンピングすることが可能になる。
【0033】また、このボールを電極に押圧してバンプ
を形成することにより、バンプを必要十分な高さにする
ことも可能になる。更に、ウェッジツールの平坦な底面
によりボール全体を電極に押圧し超音波加振することに
より、接合エリアは円状になり、通常の円環状の場合よ
りも接合エリアが増大するため、バンプと電極との接合
強度が向上して、良好な接続特性と信頼性が得られる。
なお、ワイヤの切断は、バンプを形成した後、従来のワ
イヤボンディング法の場合と同様に、ワイヤを後退させ
て引きちぎることによって行えばよい。
【0034】また、請求項8に係るバンプ形成方法は、
ワイヤバンピング法により電子部品の電極上にバンプを
形成するバンプ形成方法であって、請求項2記載のキャ
ピラリを用いて、このキャピラリのホールを通したワイ
ヤの先端部を溶融してボールを形成した後、キャピラリ
の平坦な底面によりボールを電極に押圧し超音波加振し
てバンプを形成し、続いてこのバンプに接続しているワ
イヤに熱風供給孔から熱風を吹き付けて、ワイヤを所定
の位置において切断することを特徴とする。
【0035】このように請求項8に係るバンプ形成方法
においては、請求項2に係るキャピラリを用いて、バン
プ形成後、バンプに接続しているワイヤに熱風供給孔か
ら熱風を吹き付け、その箇所のワイヤの結晶状態を変化
させて、ワイヤを所定の位置において切断することによ
り、ワイヤの破断位置をコントロールすることが可能に
なるため、バンプに接続しているワイヤ残部の長さが必
要十分な長さに制御される。
【0036】また、請求項9に係る電子部品は、基板の
電極形成面上に配置された電極と、この電極上にワイヤ
バンピング法により形成された第1のバンプと、この第
1のバンプに接続している所定の長さのワイヤ残部と、
基板の電極形成面、電極、第1のバンプ、及びワイヤ残
部を被覆すると共に、このワイヤ残部の端部近傍を露出
させている所定の厚さの絶縁性の樹脂層と、ワイヤ残部
の露出している端部近傍及び周囲の樹脂層上にワイヤバ
ンピング法により形成され、ワイヤ残部を介して第1の
バンプに接続されている第2のバンプとを有することを
特徴とする。
【0037】このように請求項9に係る電子部品におい
ては、電極上に形成された第1のバンプと所定の厚さの
絶縁性の樹脂層上に形成された第2のバンプとがワイヤ
を介して接続されていることにより、電極上に樹脂層の
厚さと同等の高さをもってバンプが形成されていること
になるため、たとえ電極の微細ピッチ化の進展に伴って
電極上に形成するバンプの大きさを小さくしなければな
らない場合であっても、電子部品を実装基板に実装する
際の接続間ギャップを十分に確保することが可能にな
る。従って、接続プロセスが容易になると共に、接続後
の熱応力に対する信頼性が向上する。
【0038】また、請求項10に係る電子部品は、第1
の基板に配置されている電極上にワイヤバンピング法に
より形成されている第1のバンプと、第1の基板に対向
する第2の基板に配置されている電極上にワイヤバンピ
ング法により形成されている第2のバンプと、第1の基
板の第1のバンプと第2の基板の第2のバンプとを接続
させる半田ペーストとを有することを特徴とする。
【0039】このように請求項10に係る電子部品にお
いては、第1の基板の電極上に形成されている第1のバ
ンプと第2の基板の電極上に形成されている第2のバン
プとが半田ペーストを介して接続されていることによ
り、第1及び第2の基板の各電極上に形成されている第
1及び第2のバンプとして例えばAuワイヤバンプを使
用することが可能になるため、バンプの微細化を実現し
て電極の微細ピッチ化の進展等に対応することが可能に
なる。
【0040】また、対峙する第1の基板の第1のバンプ
と第2の基板の第2のバンプと間の間隔に多少のばらつ
きがあっても両バンプが半田ペーストによって接続され
ているため、良好な接続特性と信頼性が得られる。ま
た、半田が第1及び第2の基板の各電極上へ濡れ広がる
こともなくなるため、その濡れ広がりを想定して高精度
の寸法で電極を作製する必要もなくなる。更に、例えば
従来のAuバンプと半田バンプとの2段構造の場合より
も第1及び第2の基板の接続間ギャップを十分に確保す
ることが可能になるため、接続プロセスが容易になると
共に、接続後の熱応力に対する信頼性も向上する。
【0041】また、請求項11に係る電子部品の製造方
法は、請求項8記載のバンプ形成方法を用いて、キャピ
ラリのホールを通したワイヤの先端部を溶融して第1の
ボールを形成した後、キャピラリの平坦な底面により第
1のボールを基板に配置されている電極に押圧し超音波
加振して、第1のバンプを形成し、続いて、この第1の
バンプに接続しているワイヤに熱風供給孔から熱風を吹
き付けて、このワイヤを所定の位置において切断する工
程と、基板の電極形成面、電極、第1のバンプ、及びこ
の第1のバンプに接続しているワイヤ残部を、所定の厚
さの絶縁性の樹脂層によって被覆すると共に、この樹脂
層表面からワイヤ残部の切断部近傍を露出させる工程
と、キャピラリのホールを通したワイヤの先端部を溶融
して形成した第2のボールを、キャピラリの底面により
ワイヤ残部の露出している切断部近傍及び周囲の樹脂層
に押圧し超音波加振して、第2のバンプを形成する工程
とを有することを特徴とする。
【0042】このように請求項11に係る電子部品の製
造方法においては、請求項8記載のバンプ形成方法を用
いて、必要十分な長さのワイヤ残部が接続する第1のバ
ンプを形成した後、この十分に長いワイヤ残部を所定の
厚さの絶縁性の樹脂層によって被覆することによって固
定し、更にこの樹脂層表面から露出させたワイヤ残部の
切断部近傍及び周囲の樹脂層上に第2のバンプを形成す
ることにより、第1のバンプと所定の厚さの絶縁性の樹
脂層上に形成された第2のバンプとが長いワイヤ残部を
介して接続されている電子部品、即ち電極上に樹脂層の
厚さと同等の高さをもってバンプが形成されている電子
部品が容易に作製される。このため、たとえ電極の微細
ピッチ化の進展に伴って電極上に形成するバンプの大き
さを小さくしなければならない場合であっても、電子部
品を実装基板に実装する際の接続間ギャップを十分に確
保して、接続プロセスを容易にすると共に、接続後の熱
応力に対する信頼性を向上することが可能になる。
【0043】また、請求項12に係る電子部品の製造方
法は、第1の基板に配置されている電極上にワイヤバン
ピング法により第1のバンプを形成する工程と、第2の
基板に配置されている電極上にワイヤバンピング法によ
り第2のバンプを形成する工程と、第2のバンプを構成
する金属より低融点の半田ペーストを第2のバンプ上に
転写する工程と、第1の基板の第1のバンプを第2の基
板の第2のバンプに対峙させ、第1のバンプを第2のバ
ンプ上の半田ペーストに接触させた後、半田ペーストを
溶融させ、この半田ペーストを介して第1のバンプと第
2のバンプとを接続させることを特徴とする。
【0044】このように請求項12に係る電子部品の製
造方法においては、第2の基板の電極上に形成した第2
のバンプ上に半田ペーストを転写した後、この半田ペー
ストに第1の基板の電極上に形成した第1のバンプを接
触させ、半田ペーストを溶融させることにより、第1の
基板の電極上に形成されている第1のバンプと第2の基
板の電極上に形成されている第2のバンプとが半田ペー
ストを介して接続されている電子部品が容易に作製され
る。このため、第1及び第2のバンプとして例えばAu
ワイヤバンプを使用することが可能になり、電極の微細
ピッチ化の進展等に対応してバンプの微細化が実現され
る。
【0045】また、対峙する第1の基板の第1のバンプ
と第2の基板の第2のバンプと間の間隔に多少のばらつ
きがあっても両バンプが半田ペーストによって接続され
ているため、良好な接続特性と信頼性が得られる。ま
た、半田が第1及び第2の基板の各電極上へ濡れ広がる
こともなくなるため、その濡れ広がりを想定して高精度
の寸法で電極を作製する必要もなくなる。更に、例えば
従来のAuバンプと半田バンプとの2段構造の場合より
も第1及び第2の基板の接続間ギャップを十分に確保す
ることが可能になるため、接続プロセスが容易になると
共に、接続後の熱応力に対する信頼性も向上する。
【0046】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明の実施の形態を説明する。 (第1の実施形態)図1(a)、(b)はそれぞれ本発
明の第1の実施形態に係るバンプ形成方法を説明するた
めの概略図であり、各図において、上段にはキャピラリ
及び電極パッド等の断面を示し、下段には電極パッドの
平面を示す。
【0047】図1(a)に示すように、半導体チップに
配置されている例えば正方形状の電極パッド10上方に
おいて、キャピラリ12の中心に開口されたホールにワ
イヤ14を通した後、このワイヤ14の先端部を放電等
によって溶融して、ボール16を形成する。なお、ここ
で、電極パッド10は、半導体チップにおける素子の高
集積化、高密度化等に伴って、その面積は従来の場合よ
りも小さくなっているものとする。また、ここで使用す
るキャピラリ12は、その底面が円周状の縁部から中心
部のホールに向かってすり鉢状に凹むテーパ形状をなし
ている点に特徴がある。
【0048】次いで、図1(b)に示すように、キャピ
ラリ12を下降させてボンディングを行う。即ち、キャ
ピラリ12のテーパ形状の底面によってボール16を電
極パッド10に押圧し、更に超音波加振して、ワイヤバ
ンプ18を形成する。このとき、キャピラリ12の底面
が円周状の縁部から中心部のホールに向かってすり鉢状
に凹むテーパ形状をなしているため、このテーパ形状の
底面を用いてボール16を電極パッド10に押圧し超音
波加振する際のエネルギーの伝達と塑性変形の分布は、
電極パッド10の中央部に集中する。従って、ワイヤバ
ンプ18と電極パッド10と金属同士の固相拡散接合を
なす円環状の接合エリア20は、電極パッド10の面積
が従来の場合よりも小さくなっていても、この小さな電
極パッド10内に納まってしまう。
【0049】次いで、図示はしないが、ワイヤバンプ1
8に接続しているワイヤ14を、例えば従来の引きちぎ
り法を用いて切断する。
【0050】以上のように本実施例によれば、底面が円
周状の縁部から中心部のホールに向かってすり鉢状に凹
むテーパ形状をなしているキャピラリ12を使用し、そ
のテーパ形状の底面によってボール16を電極パッド1
0に押圧し超音波加振してワイヤバンプ18を形成する
ことにより、その際のエネルギーの伝達と塑性変形の分
布を電極パッド10の中央部に集中して、円環状の接合
エリア20を従来よりも小さな電極パッド10内に納め
てしまうことが可能になるため、ワイヤバンプ18と電
極パッド10との実質的な接合面積を十分に確保して両
者の接合強度を向上させ、良好な接続特性と信頼性を得
ることができる。
【0051】(第2の実施形態)図2(a)、(b)は
それぞれ本発明の第2の実施形態に係るバンプ形成方法
を説明するための概略図であり、各図において、上段に
はキャピラリ及び電極パッド等の断面を示し、下段には
電極パッドの平面を示す。なお、上記図1に示す構成要
素と同一の要素には同一の符号を付して説明を省略す
る。
【0052】上記図1(a)に示す場合と同様にして、
半導体チップに配置されている正方形状の電極パッド1
0上方において、キャピラリ22の中心に開口されたホ
ールにワイヤ14を通した後、このワイヤ14の先端部
を放電等によって溶融して、ボールを形成する。なお、
ここで、電極パッド10は、その面積が従来の場合より
も小さくなっているものとするが、ここで使用するキャ
ピラリ22は、従来のものと同様に、その底面は中心部
のホールを除いて平坦になっている。
【0053】次いで、図2(a)に示すように、キャピ
ラリ22を下降させて、第1回目のボンディングを行
う。即ち、キャピラリ22の平坦な底面によってボール
を電極パッド10に押圧し、更に超音波加振して、ワイ
ヤバンプ24を形成する。このとき、ボールを押圧する
キャピラリ22の底面の中心を電極パッド10の中央部
から一の方向にずらして押圧し超音波加振する。こうし
て、接合エリア26aを電極パッド10内に非対称に形
成し、電極パッド10を対称的に分割したときにそのー
つのエリア(図2(a)の下段に示す正方形状の電極パ
ッド10の左上半分)内における接合面積の比率が高く
なるようにする。
【0054】次いで、図2(b)に示すように、第2回
目のボンディングを行う。即ち、キャピラリ22の底面
の中心を電極パッド10の中央部から一の方向と反対側
にずらしてワイヤバンプ24を押圧し超音波加振する。
こうして、接合エリア26bを電極パッド10内に非対
称に形成し、電極パッド10を対称的に分割したときに
他のエリア(図2(b)の下段に示す正方形状の電極パ
ッド10の右下半分)内における接合面積の比率が高く
なるようにする。即ち、第1回目のボンディングによっ
て接合エリア26aを形成した際の未接合エリアを埋め
るように、第2回目のボンディングによって接合エリア
26bを形成する。
【0055】従って、上記図10(a)〜(c)を用い
て説明した従来の場合、即ちキャピラリ102の平坦な
底面の中心を小面積の電極パッド100aの中央部に一
致させてボールを押圧し超音波加振してワイヤバンプ1
08を形成する際に、従来の円環状の接合エリア120
が電極パッド100aをはみ出して、ワイヤバンプ10
8と電極パッド100aとの実質的な接合エリア120
aの接合面積が小さくなってしまう場合と比較すると、
2度のボンディングによって形成される接合エリア26
a、26bの全体としての面積は増大する。
【0056】次いで、図示はしないが、ワイヤバンプ2
4に接続しているワイヤ14を、例えば従来の引きちぎ
り法を用いて切断する。
【0057】以上のように本実施例によれば、第1回目
のボンディングにおいて、キャピラリ22の底面の中心
を電極パッド10の中央部からずらしてボール16を押
圧し超音波加振してワイヤバンプ24を形成することに
より、接合エリア26aを電極パッド10内に非対称に
形成し、更に、第2回目のボンディングにおいて、反対
側にずらしてワイヤバンプ24を押圧し超音波加振する
ことにより、第1回目のボンディングにおける未接合エ
リアを埋めるように接合エリア26bを非対称に形成す
る。こうして、2度のボンディングによって形成される
接合エリア26a、26bを増大させることが可能にな
るため、ワイヤバンプ24と電極パッド10との実質的
な接合面積を十分に確保して両者の接合強度を向上さ
せ、良好な接続特性と信頼性を得ることができる。
【0058】(第3の実施形態)図3(a)、(b)、
(c)はそれぞれ本発明の第3の実施形態に係るバンプ
形成方法を説明するための概略図であり、各図におい
て、上段にはキャピラリ及び電極パッド等の断面を示
し、下段には電極パッドの平面を示す。なお、上記図1
に示す構成要素と同一の要素には同一の符号を付して説
明を省略する。
【0059】上記図1(a)に示す場合と同様にして、
半導体チップに配置されている正方形状の電極パッド1
0上方において、キャピラリ22の中心に開口されたホ
ールにワイヤ14を通した後、このワイヤ14の先端部
を放電等によって溶融して、ボールを形成する。なお、
ここで、電極パッド10は、その面積が従来の場合より
も小さくなっているものとするが、ここで使用するキャ
ピラリ22は、従来のものと同様、その底面は中心部の
ホールを除いて平坦になっている。
【0060】次いで、図3(a)に示すように、キャピ
ラリ22を下降させて、第1回目のボンディングを行
う。即ち、キャピラリ22の平坦な底面によってボール
を電極パッド10に押圧し、更に超音波加振して、ワイ
ヤバンプ28を形成する。このとき、従来の場合と同様
にして、ボールを押圧するキャピラリ22の底面の中心
を電極パッド10の中央部に一致させて押圧し超音波加
振する。但し、電極パッド10の面積が従来の場合より
も小さくなっているため、円環状の接合エリア30aは
電極パッド10を多少はみ出してしまう。
【0061】次いで、図3(b)に示すように、例えば
従来の引きちぎり法を用いて、ワイヤバンプ28に接続
しているワイヤ14を切断する。
【0062】次いで、図3(c)に示すように、第2回
目のボンディングを行う。即ち、キャピラリ22の底面
の中心を電極パッド10の中央部から少しずらして、キ
ャピラリ22の平坦な底面をワイヤバンプ28の略中心
部、即ちワイヤバンプ28に接続しているワイヤ残部1
4aに当てて押圧し超音波加振する。こうして、第1回
目のボンディングの際には未接合エリアであった電極パ
ッド10の中央部に接合エリア30bを形成する。
【0063】従って、上記図10(a)〜(c)を用い
て説明した従来の場合、即ちキャピラリ102の平坦な
底面の中心を小面積の電極パッド100aの中央部に一
致させてボールを押圧し超音波加振してワイヤバンプ1
08を形成する際に、従来の円環状の接合エリア120
が電極パッド100aをはみ出して、ワイヤバンプ10
8と電極パッド100aとの実質的な接合エリア120
aの接合面積が小さくなってしまう場合と比較すると、
2度のボンディングによって形成される接合エリア30
a、30bの全体としての面積は増大する。
【0064】以上のように本実施例によれば、第1回目
のボンディングにおいて、キャピラリ22の底面の中心
を電極パッド10の中央部に一致させてボールを押圧し
超音波加振してワイヤバンプ28を形成することによ
り、円環状の接合エリア30aが電極パッド10を多少
はみ出すものの、第2回目のボンディングにおいて、キ
ャピラリ22を少しずらして、キャピラリ22の平坦な
底面をワイヤバンプ28の略中心部から延びているワイ
ヤ残部14aに当てて押圧し超音波加振するすることに
より、第1回目のボンディングにおける未接合エリアで
あった電極パッド10の中央部に接合エリア30bを形
成する。こうして、2度のボンディングによって形成さ
れる接合エリア30a、30bを増大させることが可能
になるため、ワイヤバンプ28と電極パッド10との実
質的な接合面積を十分に確保して両者の接合強度を向上
させ、良好な接続特性と信頼性を得ることができる。
【0065】しかも、この2回目のボンディングにおい
て、ワイヤバンプ28の略中心部から延びているワイヤ
残部14aにキャピラリ22の底面を当てて押圧する際
に、そのキャピラリ22の底面の高さを制御することに
より、ワイヤバンプ28の高さのレベリングを行うこと
もできる。
【0066】(第4の実施形態)図4(a)は本発明の
第4の実施形態に係るバンプ形成方法を説明するための
概略断面図であり、図4(b)は比較のために従来のウ
ェッジボンディング法を示す概略断面図である。
【0067】従来のウェッジボンディング法において
は、図4(b)に示すように、ウェッジツール32に斜
めに設けられた供給穴を通過したワイヤ34の先端部を
ウェッジツール32の平坦な底面により電極パッド(図
示せず)に押圧し超音波加振している。従って、この従
来のウェッジボンディング法と同様にして、ワイヤ材を
電極パッド上に残すバンピング法を用いることが考えら
れる。
【0068】しかし、その場合は、電極パッド上に形成
されるバンプの高さが低くなるという問題が生じる。ま
た、ワイヤ34として半田ワイヤを使用する場合には、
放電によるボール形成プロセスにおいてボール表面近傍
に偏在する添加元素の効果を利用することができないた
め、Alからなる電極パッド上には直接バンピングする
ことができないという問題も生じる。
【0069】そこで、本実施形態に係るバンプ形成方法
においては、先ず、図4(a)に示すように、ウェッジ
ツール32の斜めの供給穴を通過したワイヤ34の先端
部を放電等によって溶融して、ボール36を形成する。
次いで、ウェッジツール32を下降させてボンディング
を行う。即ち、ウェッジツール32の平坦な底面によっ
てボール36を電極パッド(図示せず)に押圧し、更に
超音波加振して、ワイヤバンプ(図示せず)を形成す
る。その後、ワイヤバンプに接続しているワイヤ34を
切断するが、このワイヤ34の切断は、従来のウェッジ
ボンディング法と同様に、ワイヤ34を後退させて引き
ちぎることによって行う。
【0070】以上のように本実施例によれば、従来のウ
ェッジボンディングにボール36を形成するプロセスを
付加することにより、たとえワイヤ34が半田ワイヤで
あっても、ボール形成プロセスにおいてボール表面近傍
に偏在する添加元素の効果を利用することができるた
め、電極パッドがAlからなる場合であってもこのAl
電極パッド上に直接バンピングすることができる。ま
た、ボール36を電極パッドに押圧し超音波加振してワ
イヤバンプを形成するため、このワイヤバンプを必要十
分な高さに調整することもできる。
【0071】更に、ウェッジツール32の平坦な底面に
よりボール36の全体を電極パッドに押圧し超音波加振
するため、接合エリアは円状になり、通常のキャピラリ
を使用する場合の円環状の接合エリアよりも接合エリア
が増大するため、ワイヤバンプと電極パッドとの接合強
度を向上させて、良好な接続特性と信頼性を得ることが
できる。
【0072】(第5の実施形態)図5(a)、(b)は
それぞれ本発明の第5の実施形態に係るバンプ形成方法
を説明するための概略断面図であり、図5(c)は比較
のために従来のバンプ形成方法を示す概略断面図であ
る。なお、上記図1に示す構成要素と同一の要素には同
一の符号を付して説明を省略する。
【0073】従来のバンプ形成方法においては、図5
(c)に示すように、電極パッド100上にワイヤバン
プ108を形成した後、キャピラリ102を引き上げる
際に同時にワイヤ104をクランプ等によって引張るこ
とにより、ボール形成時に脆弱化したネック部において
ワイヤ104を切断している。しかし、この方法におい
ては、ワイヤバンプ108に接続するワイヤ残部104
aの長さを必要十分な長さに制御することができない。
【0074】そこで、本実施形態に係るバンプ形成方法
においては、従来のキャピラリに改良を加え、キャピラ
リ38のホール内のワイヤ14に熱風を吹き付ける熱風
供給孔40が開口されているキャピラリ38を使用す
る。そして、従来の場合と同様にして、半導体チップに
配置されている電極パッド10上方において、キャピラ
リ38のホールにワイヤ14を通した後、このワイヤ1
4の先端部を放電等によって溶融して、ボール(図示せ
ず)を形成する。続いて、キャピラリ38を下降させ、
キャピラリ38の底面によってボールを電極パッドに押
圧し超音波加振して、ワイヤバンプ42を形成する。
【0075】次いで、キャピラリ38に開口した熱風供
給孔40からホール内のワイヤ14に熱風を吹き付け、
その箇所のワイヤ14の結晶状態を変化させて、破断さ
れ易いように脆弱化する。
【0076】次いで、キャピラリ38を引き上げる際に
同時にワイヤ14をクランプ等によって引張ることによ
り、熱風を吹き付けて脆弱化した箇所においてワイヤ1
4を切断する。こうして、ワイヤバンプ42に接続して
いるワイヤ残部14bの長さを必要十分な長さに制御す
る。
【0077】以上のように本実施例によれば、ホール内
のワイヤ14に熱風を吹き付ける熱風供給孔40が開口
されたキャピラリ38を使用し、ワイヤバンプ42を形
成した後、熱風供給孔40からホール内のワイヤ14に
熱風を吹き付け、その箇所のワイヤ14の結晶状態を変
化させて脆弱化させることにより、ワイヤ14の破断位
置をコントロールすることが可能になるため、ワイヤバ
ンプ42に接続しているワイヤ残部14bの長さを必要
十分な長さに制御することができる。
【0078】なお、上記実施形態においては、図5
(a)、(b)に示されるように、熱風供給孔40はキ
ャピラリ38の上部に開口されているが、この熱風供給
孔40の開口位置を変えることにより、ワイヤ14の破
断位置を更にコントロールすることも可能である。ま
た、ワイヤバンプ42を形成した直後の状態において、
キャピラリ38のホール内のワイヤ14に熱風を吹き付
けているが、ワイヤバンプ42を形成した後、キャピラ
リ38のみを所定の高さまで引き上げた段階において、
熱風供給孔40からホール内のワイヤ14に熱風を吹き
付けることにより、ワイヤ14の破断位置を更にコント
ロールすることも可能である。
【0079】(第6の実施形態)図6は本発明の第6の
実施形態に係る電子部品を示す概略断面図であり、図7
(a)、(b)、(c)はそれぞれ図6に示す電子部品
の製造方法を説明するための概略工程断面図である。
【0080】図6に示すように、半導体チップ50の電
極形成面には複数の電極パッド52が配置され、これら
の電極パッド52上にはそれぞれ第1のワイヤバンプ5
4が形成されている。そして、これらの第1のワイヤバ
ンプ54からは十分な長さのワイヤ残部56が上方に延
びている。また、半導体チップ50の電極形成面、そこ
に配置された複数の電極パッド52、これらの電極パッ
ド52上にそれぞれ形成された第1のワイヤバンプ5
4、これらの第1のワイヤバンプ54からそれぞれ上方
に延びている十分な長さのワイヤ残部56は、各ワイヤ
残部56の先端部を除いて、絶縁性の樹脂層58によっ
て被覆されている。また、樹脂層58から露出している
ワイヤ残部56の先端部及びその周囲の樹脂層58上に
は、第2のワイヤバンプ60がそれぞれ形成されてい
る。即ち、電極パッド52上に形成された第1のワイヤ
バンプ54と樹脂層58上に形成された第2のワイヤバ
ンプ60とが十分な長さのワイヤ残部56を介して接続
されている。従って、電極パッド上に単一のバンプが形
成されているだけの通常の場合やバンプを2段に重ねた
2段構造のバンプの場合と比較すると、電極パッド52
に第1のワイヤバンプ54及びワイヤ残部56を介して
接続された第2のワイヤバンプ60は、樹脂層58の厚
さだけ十分に高くすることが可能である。
【0081】次に、図6に示す電子部品の製造方法を、
図7(a)、(b)、(c)を用いて説明する
【0082】先ず、上記第5の実施形態において図5
(a)、(b)を用いて説明したように、熱風を吹き付
ける熱風供給孔が開口されているキャピラリ(図示せ
ず)を使用して、半導体チップ50の電極形成面に配置
されている電極パッド52上方において、キャピラリの
ホールに通したワイヤの先端部を放電等によって溶融
し、ボール(図示せず)を形成した後、キャピラリを下
降させ、キャピラリの底面によってボールを電極パッド
52に押圧し超音波加振する。こうして、半導体チップ
50の電極形成面に配置されている複数の電極パッド5
2上にそれぞれ第1のワイヤバンプ54を形成する。
【0083】続いて、キャピラリに開口した熱風供給孔
からホール内のワイヤに熱風を吹き付け、その箇所のワ
イヤの結晶状態を変化させて脆弱化した後、キャピラリ
を引き上げる際に同時にワイヤをクランプ等によって引
張って、熱風を吹き付けて脆弱化した箇所においてワイ
ヤを切断する。こうして、第1のワイヤバンプ54に接
続している十分な長さのワイヤ残部56を形成する(図
7(a)参照)。
【0084】次いで、基体全面に所定の厚さの絶縁性の
樹脂層58を形成して、ワイヤ残部56を固定すると共
に、その樹脂層58表面からワイヤ残部56の先端部を
露出させる(図7(b)参照)。
【0085】次いで、再びキャピラリ(図示せず)のホ
ールに通したワイヤの先端部を放電等によって溶融し、
ボール(図示せず)を形成した後、キャピラリを下降さ
せ、キャピラリの底面によってボールをワイヤ残部56
の露出している先端部及びその周囲の樹脂層58に押圧
し超音波加振する。こうして、各ワイヤ残部56にそれ
ぞれ接続する第2のワイヤバンプ60を形成する。即
ち、半導体チップ50の電極形成面に配置されている複
数の電極パッド52に第1のワイヤバンプ54と十分な
長さのワイヤ残部56を介して接続する第2のワイヤバ
ンプ60をそれぞれ形成する(図7(c)参照)。
【0086】以上のように本実施例によれば、半導体チ
ップ50の電極形成面に配置された電極パッド52上に
形成された第1のワイヤバンプ54と所定の厚さの絶縁
性の樹脂層58上に形成された第2のバンプ60とがワ
イヤ残部56を介して接続されていることにより、電極
パッド52上に樹脂層58の厚さと同等の高さをもって
第2のワイヤバンプ60が形成されていることになるた
め、たとえ電極パッド52の微細ピッチ化の進展に伴っ
て電極パッド52上に形成するバンプの大きさを小さく
しなければならない場合であっても、第1及び第2のワ
イヤバンプ54、60としてAuワイヤバンプを用いる
ことによりその微細化を達成する一方で、実装基板に実
装する際の接続間ギャップを樹脂層58の厚さ以上に十
分に確保することが可能になる。即ち、ワイヤ残部56
の長さと樹脂層58の厚さとを所望の値に制御すること
により、従来のバンプを2段に重ねた2段構造のバンプ
の場合より遥かに大きな接続間ギャップをとることが可
能になる。従って、接続プロセスを容易にすることがで
きると共に、接続後の熱応力に対する信頼性を向上させ
ることができる。
【0087】(第7の実施形態)図8は本発明の第7の
実施形態に係る電子部品を示す概略断面図であり、図9
(a)、(b)、(c)はそれぞれ図8に示す電子部品
の製造方法を説明するための概略工程断面図である。
【0088】図8に示すように、例えばプリント配線基
板等の実装基板70の配線層の複数の電極パッド72上
にはそれぞれ第1のワイヤバンプ74が形成されてい
る。また、半導体チップ76の電極形成面にも複数の電
極パッド78が配置され、これらの電極パッド78上に
もそれぞれ第2のワイヤバンプ80が形成されている。
そして、この半導体チップ76が実装基板70に対して
フェイスダウンに対向すると共に、半導体チップ76の
複数の電極パッド78上の第2のワイヤバンプ80と実
装基板70の複数の電極パッド72上の第1のワイヤバ
ンプ74とが、これら第1及び第2のワイヤバンプ7
4、80よりも融点の低い金属ペースである半田ペース
ト82によって接続されている。
【0089】従って、半導体チップ76の複数の電極パ
ッド78上に単に第2のワイヤバンプ80が形成されて
いるだけの通常の場合やバンプを2段に重ねた2段構造
のバンプの場合と比較すると、第1のワイヤバンプ74
と第2のワイヤバンプ80との間に半田ペースト82が
介在している分だけ半導体チップ76と実装基板70と
接続間ギャップが遥かに大きくなる。
【0090】次に、図8に示す電子部品の製造方法を、
図9(a)、(b)、(c)を用いて説明する先ず、通
常のキャピラリ(図示せず)を使用して、プリント配線
基板等の実装基板70の配線層の複数の電極パッド72
上方において、キャピラリのホールに通したワイヤの先
端部を放電等によって溶融し、ボール(図示せず)を形
成した後、キャピラリを下降させ、キャピラリの底面に
よってボールを電極パッド72に押圧し超音波加振す
る。こうして、実装基板70の配線層の複数の電極パッ
ド72上にそれぞれ第1のワイヤバンプ74を形成す
る。
【0091】続いて、これらの第1のワイヤバンプ74
上に、第1のワイヤバンプ74よりも融点の低い金属ペ
ースである半田ペースト82を転写して、第1のワイヤ
バンプ74の先端に盛る。この半田ペースト82の形成
は、例えば均一の厚さの半田ペースト溜まりに第1のワ
イヤバンプ74を押し当てる方法などによって実現され
る(図9(a)参照)。
【0092】次いで、図示はしないが、通常のキャピラ
リを使用して、半導体チップ76の電極形成面の複数の
電極パッド78上方において、ワイヤの先端部を放電等
によって溶融して形成したボールを電極パッド78に押
圧し超音波加振て、複数の電極パッド78上にそれぞれ
第2のワイヤバンプ80を形成する。
【0093】次いで、この半導体チップ76をフェイス
ダウンに裏返しして実装基板70に対向させ、半導体チ
ップ76の複数の電極パッド78上の第2のワイヤバン
プ80と実装基板70の複数の電極パッド72上の第1
のワイヤバンプ74とを互いに対峙させる(図9(b)
参照)。
【0094】次いで、半導体チップ76をその高さを制
御しながら下降させ、半導体チップ76の複数の第2の
ワイヤバンプ80を実装基板70の複数の第1のワイヤ
バンプ74の先端に盛られた半田ペースト82に接触さ
せた後、半田ペースト82を溶融させる。こうして、こ
の半田ペースト82を介して、半導体チップ76の複数
の第2のワイヤバンプ80と実装基板70の複数の第1
のワイヤバンプ74とを一括してフリップチップ接続す
る(図9(c)参照)。
【0095】以上のように本実施例によれば、半導体チ
ップ76の複数の電極パッド78上の第2のワイヤバン
プ80と実装基板70の複数の電極パッド72上の第1
のワイヤバンプ74とが半田ペースト82によって接続
されていることにより、従来のAuバンプと半田バンプ
との2段構造の場合よりも、第1及び第2のワイヤバン
プ74、80の間に半田ペースト82が介在している分
だけ半導体チップ76と実装基板70と接続間ギャップ
が大きくなるため、たとえ半導体チップ76の電極パッ
ド78の微細ピッチ化の進展に伴ってこれらの電極パッ
ド78上に形成するバンプの大きさを小さくしなければ
ならない場合であっても、第1及び第2のワイヤバンプ
74、80としてAuワイヤバンプを用いることにより
その微細化を達成する一方で、半導体チップ76と実装
基板70と接続間ギャップを十分に大きく確保すること
が可能になる。従って、接続プロセスを容易にすること
ができると共に、接続後の熱応力に対する信頼性を向上
させることができる。
【0096】また、対峙する半導体チップ76の複数の
第2のワイヤバンプ80と実装基板70の複数の第1の
ワイヤバンプ74との間隔に多少のばらつきがあって
も、これら第1及び第2のワイヤバンプ74、80が半
田ペースト82によって互いに接続されるため、良好な
接続特性と信頼性を得ることができる。
【0097】また、半田ペースト82を転写して実装基
板70の第1のワイヤバンプ74の先端に盛った後、こ
の半田ペースト82を溶融させて、この半田ペースト8
2と半導体チップ76の第2のワイヤバンプ80とを接
続させるため、半田が第1及び第2のワイヤバンプ7
4、80上へ直接に濡れ広がることもなくなり、その濡
れ広がりを想定して高精度の寸法で半導体チップ76の
電極パッド78や実装基板70の電極パッド72を作製
する必要もなくなる。
【0098】
【発明の効果】以上詳細に説明した通り、本発明に係る
キャピラリ、バンプ形成方法、並びに電子部品及びその
製造方法によれば、次のような効果を奏することができ
る。即ち、請求項1に係るキャピラリによれば、そのキ
ャピラリの底面が円周状の縁部から中心部のホールに向
かってすり鉢状に凹むテーパ形状をなしていることによ
り、このテーパ形状の底面を用いてボールを電極に押圧
し超音波加振してバンプを形成する際のエネルギーの伝
達と塑性変形の分布が円環状の接合エリアの中心部へ集
中するため、たとえ電極の面積が小さい場合であって
も、バンプと電極との円環状の接合エリアを電極内に納
めることが可能になる。従って、ボールと電極との実質
的な接合面積を十分に確保して、両者の接合強度を向上
させることが可能になり、良好な接続特性と信頼性を得
ることができる。
【0099】また、請求項2に係るキャピラリによれ
ば、ホール内のワイヤに熱風を吹き付ける熱風供給孔が
設置されていることにより、ワイヤの先端部を溶融して
形成したボールを電極に押圧してバンプを形成した後、
このバンプに接続しているワイヤにキャピラリに設置さ
れている熱風供給孔から熱風を吹き付けて、その箇所の
ワイヤの結晶状態を変化させワイヤを破断され易くする
ことが可能になるため、バンプに接続しているるワイヤ
残部が必要十分な長さになるように破断位置をコントロ
ールすることができる。
【0100】また、請求項3に係るバンプ形成方法によ
れば、上記請求項1に係るキャピラリを用いて、キャピ
ラリの円周状の縁部から中心部のホールに向かってすり
鉢状に凹んでいる底面によりボールを電極に押圧し超音
波加振することにより、その際のエネルギーの伝達と塑
性変形の分布を円環状の接合エリアの中心部へ集中させ
ることが可能になるため、たとえ電極の面積が小さい場
合であっても、円環状の接合エリアを電極内に納めるこ
とが可能になる。従って、ボールと電極との実質的な接
合面積を十分に確保して、両者の接合強度を向上させる
ことが可能になり、良好な接続特性と信頼性を得ること
ができる。
【0101】また、請求項4に係るバンプ形成方法によ
れば、キャピラリの平坦な底面によりボールを電極に押
圧し超音波加振する際に、キャピラリの位置をずらして
複数回ボンディングすることにより、たとえ電極の面積
が円環状の接合エリアよりも相対的に小さい場合であっ
ても、ボールと電極との実質的な接合面積を増大させる
ことが可能になるため、両者の接合強度を向上させて、
良好な接続特性と信頼性を得ることができる。
【0102】また、請求項5に係るバンプ形成方法によ
れば、上記請求項4記載のバンプ形成方法において、キ
ャピラリの位置をずらして複数回ボンディングする際
に、先ずキャピラリの底面の中心を電極の中央部からず
らしてボンディングすることにより、最初の接合エリア
を電極内で非対称に形成した後、次に反対側にずらして
ボンディングして、最初のボンディングの際の未接合エ
リアを埋めるため、たとえ電極の面積が小さい場合であ
っても、全体としての接合エリアを増大させることが可
能になり、ボールと電極との接合強度を向上させて、良
好な接続特性と信頼性を得ることができる。
【0103】また、請求項6に係るバンプ形成方法によ
れば、上記請求項4記載のバンプ形成方法において、キ
ャピラリの位置をずらして複数回ボンディングする際
に、先ず従来通りにキャピラリの底面の中心を電極の略
中央部に位置させてボールを押圧し超音波加振してバン
プを形成した後、次にキャピラリの底面をバンプの略中
心部に当てて押圧し超音波加振することにより、たとえ
電極の面積が小さくなって、最初のボンディングの際の
円環状の接合エリアが電極を多少はみ出す場合であって
も、その電極の略中央部の未接合エリアが次のボンディ
ングによって接合エリアになるため、全体としての接合
エリアを増大させて、ボールと電極との接合強度を向上
させ、良好な接続特性と信頼性を得ることができる。ま
た、同時に、この2回目のボンディングにおいて、キャ
ピラリの底面の高さを制御することにより、バンプの高
さのレベリングを行うことも可能になる。
【0104】また、請求項7に係るバンプ形成方法によ
れば、ウェッジツールの斜めの供給穴を通過したワイヤ
の先端部を溶融してボールを形成することにより、半田
ワイヤを使用する場合であっても、ボール形成プロセス
においてボール表面近傍に偏在する添加元素の効果を利
用することができるため、Al電極上に直接バンピング
することができ、またこのボールを電極に押圧してバン
プを形成することにより、バンプを必要十分な高さにす
ることもでき、更にウェッジツールの平坦な底面により
ボール全体を電極に押圧し超音波加振することにより、
通常の円環状の場合よりも接合エリアが増大するは円状
になるため、バンプと電極との接合強度を向上させて、
良好な接続特性と信頼性を得ることができる。
【0105】また、請求項8に係るバンプ形成方法によ
れば、上記請求項2に係るキャピラリを用いて、バンプ
形成後、バンプに接続しているワイヤに熱風供給孔から
熱風を吹き付け、その箇所のワイヤの結晶状態を変化さ
せて、ワイヤを所定の位置において切断することによ
り、ワイヤの破断位置をコントロールすることが可能に
なるため、バンプに接続しているワイヤ残部の長さを必
要十分な長さに制御することができる。
【0106】また、請求項9に係る電子部品によれば、
電極上に形成された第1のバンプと所定の厚さの絶縁性
の樹脂層上に形成された第2のバンプとが所定の長さの
ワイヤを介して接続されていることにより、電極上に樹
脂層の厚さと同等の高さをもってバンプが形成されてい
ることになるため、たとえ電極の微細ピッチ化の進展に
伴って電極上に形成するバンプの大きさ小さくしなけれ
ばならない場合であっても、電子部品を実装基板に実装
する際の接続間ギャップを十分に確保することが可能に
なる。従って、接続プロセスを容易にすることができる
と共に、接続後の熱応力に対する信頼性を向上させるこ
とができる。
【0107】また、請求項10に係る電子部品によれ
ば、第1の基板の電極上に形成されている第1のバンプ
と第2の基板の電極上に形成されている第2のバンプと
が半田ペーストを介して接続されていることにより、第
1及び第2の基板の各電極上に形成されている第1及び
第2のバンプとして例えばAuワイヤバンプを使用する
ことが可能になるため、バンプの微細化を実現して電極
の微細ピッチ化の進展等に対応することができる。ま
た、対峙する第1の基板の第1のバンプと第2の基板の
第2のバンプとの間の間隔に多少のばらつきがあって
も、両バンプが半田ペーストによって接続されているた
め、良好な接続特性と信頼性を得ることができる。ま
た、半田が第1及び第2の基板の各電極上へ濡れ広がる
こともなくなるため、その濡れ広がりを想定して高精度
の寸法で電極を作製する必要もなくなる。更に、従来の
Auバンプと半田バンプとの2段構造の場合よりも第1
及び第2の基板の接続間ギャップを十分に確保すること
が可能になるため、接続プロセスを容易にすることがで
きると共に、接続後の熱応力に対する信頼性を向上させ
ることができる。
【0108】また、請求項11に係る電子部品の製造方
法によれば、上記請求項8記載のバンプ形成方法を用い
て、必要十分な長さのワイヤ残部が接続する第1のバン
プを形成した後、この長いワイヤ残部を所定の厚さの絶
縁性の樹脂層によって被覆することによって固定し、更
にこの樹脂層表面から露出させたワイヤ残部の切断部近
傍及び周囲の樹脂層上に第2のバンプを形成することに
より、第1のバンプと所定の厚さの絶縁性の樹脂層上に
形成された第2のバンプとが長いワイヤ残部を介して接
続されている電子部品、即ち電極上に樹脂層の厚さと同
等の高さをもってバンプが形成されている電子部品を容
易に作製することが可能になるため、たとえ電極の微細
ピッチ化の進展に伴って電極上に形成するバンプの大き
さを小さくしなければならない場合であっても、電子部
品を実装基板に実装する際の接続間ギャップを十分に確
保し、接続プロセスを容易にすることができると共に、
接続後の熱応力に対する信頼性を向上させることができ
る。
【0109】また、請求項12に係る電子部品の製造方
法によれば、第2の基板の電極上に形成した第2のバン
プ上に半田ペーストを転写した後、この半田ペーストに
第1の基板の電極上に形成した第1のバンプを接触さ
せ、半田ペーストを溶融させることにより、第1の基板
の電極上に形成されている第1のバンプと第2の基板の
電極上に形成されている第2のバンプとが半田ペースト
を介して接続されている電子部品を容易に作製すること
が可能になるため、第1及び第2のバンプとして例えば
Auワイヤバンプを使用することが可能になり、電極の
微細ピッチ化の進展等に対応してバンプの微細化を実現
することができる。また、対峙する第1の基板の第1の
バンプと第2の基板の第2のバンプとの間の間隔に多少
のばらつきがあっても、両バンプが半田ペーストによっ
て接続されているため、良好な接続特性と信頼性を得る
ことができる。また、半田が第1及び第2の基板の各電
極上へ濡れ広がることもなくなるため、その濡れ広がり
を想定して高精度の寸法で電極を作製する必要もなくな
る。更に、従来のAuバンプと半田バンプとの2段構造
の場合よりも第1及び第2の基板の接続間ギャップを十
分に確保することが可能になるため、接続プロセスを容
易にすることができると共に、接続後の熱応力に対する
信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)、(b)はそれぞれ本発明の第1の
実施形態に係るバンプ形成方法を説明するための概略図
であり、各図において、上段にはキャピラリ及び電極パ
ッド等の断面を示し、下段には電極パッドの平面を示
す。
【図2】図2(a)、(b)はそれぞれ本発明の第2の
実施形態に係るバンプ形成方法を説明するための概略図
であり、各図において、上段にはキャピラリ及び電極パ
ッド等の断面を示し、下段には電極パッドの平面を示
す。
【図3】図3(a)、(b)、(c)はそれぞれ本発明
の第2の実施形態に係るバンプ形成方法を説明するため
の概略図であり、各図において、上段にはキャピラリ及
び電極パッド等の断面を示し、下段には電極パッドの平
面を示す。
【図4】図4(a)は本発明の第4の実施形態に係るバ
ンプ形成方法を説明するための概略断面図であり、図4
(b)は比較のために従来のウェッジボンディング法を
示す概略断面図である。
【図5】図5(a)、(b)はそれぞれ本発明の第5の
実施形態に係るバンプ形成方法を説明するための概略断
面図であり、図5(c)は比較のために従来のバンプ形
成方法を示す概略断面図である。
【図6】図6は本発明の第6の実施形態に係る電子部品
を示す概略断面図である。
【図7】図7(a)、(b)、(c)はそれぞれ図6に
示す電子部品の製造方法を説明するための概略工程断面
図である。
【図8】図8は本発明の第7の実施形態に係る電子部品
を示す概略断面図である。
【図9】図9(a)、(b)、(c)はそれぞれ図8に
示す電子部品の製造方法を説明するための概略工程断面
図である。
【図10】図10(a)、(b)はそれぞれ従来のバン
プ形成方法を説明するための概略図であり、図10
(c)は電極パッドの面積が小さくなる場合の従来のバ
ンプ形成方法を説明するための概略図であり、各図にお
いて、上段にはキャピラリ及び電極パッド等の断面を示
し、下段には電極パッドの平面を示す。
【図11】図11(a)、(b)はそれぞれ従来の電子
部品の製造方法を説明するための概略図であり、図10
(c)、(d)はそれぞれ電極パッドの面積が小さくな
る場合の従来の電子部品の製造方法を説明するための概
略図である。
【符号の説明】
10 電極パッド 12 キャピラリ 14 ワイヤ 16 ボール 18 ワイヤバンプ 20 接合エリア 22 キャピラリ 24 ワイヤバンプ 26a 接合エリア 26b 接合エリア 28 ワイヤバンプ 30a 接合エリア 30b 接合エリア 32 ウェッジツール 34 ワイヤ 36 ボール 38 キャピラリ 40 熱風供給孔 42 ワイヤバンプ 50 半導体チップ 52 電極パッド 54 第1のワイヤバンプ 56 ワイヤ残部 58 樹脂層 60 第2のワイヤバンプ 70 実装基板 72 電極パッド 74 第1のワイヤバンプ 76 半導体チップ 78 電極パッド 80 第2のワイヤバンプ 82 半田ペースト 100 電極パッド 100a 電極パッド 102 キャピラリ 104 ワイヤ 106 ボール 108 ワイヤバンプ 120 接合エリア 120a 接合エリア 130 半導体チップ 132 電極パッド 132a 電極パッド 134 ワイヤバンプ 134a ワイヤバンプ 136 実装基板 138 電極パッド 138a 電極パッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩渕 寿章 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 桑崎 聡 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 大倉 秀章 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワイヤを通すホールと、前記ホールを通
    った前記ワイヤの先端部を溶融して形成したボールを電
    極パッドに押圧する底面と、を有するキャピラリであっ
    て、 前記底面が、円周状の縁部から中心部の前記ホールに向
    かってすり鉢状に凹むテーパ形状をなしていることを特
    徴とするキャピラリ。
  2. 【請求項2】 ワイヤを通すホールと、前記ホールを通
    った前記ワイヤの先端部を溶融して形成したボールを電
    極パッドに押圧する底面とを有するキャピラリであっ
    て、 前記ホール内のワイヤに熱風を吹き付ける熱風供給孔が
    設置されていることを特徴とするキャピラリ。
  3. 【請求項3】 ワイヤバンピング法により電子部品の電
    極上にバンプを形成するバンプ形成方法であって、 請求項1記載のキャピラリを用いて、前記キャピラリの
    ホールを通したワイヤの先端部を溶融してボールを形成
    した後、前記キャピラリの円周状の縁部から中心部の前
    記ホールに向かってすり鉢状に凹んでいる底面により前
    記ボールを前記電極に押圧し超音波加振して、バンプを
    形成することを特徴とするバンプ形成方法。
  4. 【請求項4】 ワイヤバンピング法により電子部品の電
    極上にバンプを形成するバンプ形成方法であって、 キャピラリのホールを通したワイヤの先端部を溶融して
    ボールを形成した後、前記ボールを前記キャピラリの平
    坦な底面により前記電極に押圧し超音波加振する際に、
    前記キャピラリの位置をずらして複数回前記ボールを前
    記電極に押圧し超音波加振して、バンプを形成すること
    を特徴とするバンプ形成方法。
  5. 【請求項5】 請求項4記載のバンプ形成方法におい
    て、 前記キャピラリの位置をずらして複数回押圧及び超音波
    加振を行う際に、最初に前記キャピラリの底面の中心を
    前記電極の中央部から一の方向にずらして前記ボールを
    押圧し超音波加振してバンプを形成し、次に前記キャピ
    ラリの底面の中心を前記電極の中央部から前記一の方向
    と反対側にずらして前記バンプを押圧し超音波加振する
    ことを特徴とするバンプ形成方法。
  6. 【請求項6】 請求項4記載のバンプ形成方法におい
    て、 前記キャピラリの位置をずらして複数回押圧及び超音波
    加振を行う際に、最初に前記キャピラリの底面の中心を
    前記電極の略中央部に一致させて前記ボールを押圧し超
    音波加振してバンプを形成し、次に前記バンプに接続す
    るワイヤを切断した後、前記キャピラリの平坦な底面を
    前記バンプの略中心部に当てて押圧し超音波加振するこ
    とを特徴とするバンプ形成方法。
  7. 【請求項7】 ワイヤバンピング法により電子部品の電
    極上にバンプを形成するバンプ形成方法であって、 ウェッジツールに斜めに設けられた供給穴を通過したワ
    イヤの先端部を溶融してボールを形成した後、前記ウェ
    ッジツールの平坦な底面により前記ボールを前記電極に
    押圧し超音波加振して、バンプを形成することを特徴と
    するバンプ形成方法。
  8. 【請求項8】 ワイヤバンピング法により電子部品の電
    極上にバンプを形成するバンプ形成方法であって、 請求項2記載のキャピラリを用いて、前記キャピラリの
    ホールを通したワイヤの先端部を溶融してボールを形成
    した後、前記キャピラリの平坦な底面により前記ボール
    を前記電極に押圧し超音波加振してバンプを形成し、続
    いて前記バンプに接続している前記ワイヤに熱風供給孔
    から熱風を吹き付けて、前記ワイヤを所定の位置におい
    て切断することを特徴とするバンプ形成方法。
  9. 【請求項9】 基板の電極形成面上に配置された電極
    と、 前記電極上にワイヤバンピング法により形成された第1
    のバンプと、 前記第1のバンプに接続している所定の長さのワイヤ残
    部と、 前記基板の電極形成面、前記電極、前記第1のバンプ、
    及び前記ワイヤ残部を被覆すると共に、前記ワイヤ残部
    の端部近傍を露出させている所定の厚さの絶縁性の樹脂
    層と、 前記ワイヤ残部の露出している端部近傍及び周囲の前記
    樹脂層上にワイヤバンピング法により形成され、前記ワ
    イヤ残部を介して前記第1のバンプに接続されている第
    2のバンプと、 を有することを特徴とする電子部品。
  10. 【請求項10】 第1の基板に配置されている電極上に
    ワイヤバンピング法により形成されている第1のバンプ
    と、 前記第1の基板に対向する第2の基板に配置されている
    電極上にワイヤバンピング法により形成されている第2
    のバンプと、 前記第1の基板の前記第1のバンプと前記第2の基板の
    前記第2のバンプとを接続させる半田ペーストと、 を有することを特徴とする電子部品。
  11. 【請求項11】 請求項8記載のバンプ形成方法を用い
    て、前記キャピラリのホールを通したワイヤの先端部を
    溶融して第1のボールを形成した後、前記キャピラリの
    底面により前記第1のボールを基板に配置されている電
    極に押圧し超音波加振して、第1のバンプを形成し、続
    いて、前記第1のバンプに接続している前記ワイヤに熱
    風供給孔から熱風を吹き付けて、前記ワイヤを所定の位
    置において切断する工程と、 前記基板の電極形成面、前記電極、前記第1のバンプ、
    及び前記第1のバンプに接続しているワイヤ残部を、所
    定の厚さの絶縁性の樹脂層によって被覆すると共に、前
    記樹脂層表面から前記ワイヤ残部の切断部近傍を露出さ
    せる工程と、 前記キャピラリの前記ホールを通したワイヤの先端部を
    溶融して形成した第2のボールを、前記キャピラリの底
    面により前記ワイヤ残部の露出している切断部近傍及び
    周囲の前記樹脂層に押圧し超音波加振して、第2のバン
    プを形成する工程と、 を有することを特徴とする電子部品の製造方法。
  12. 【請求項12】 第1の基板に配置されている電極上に
    ワイヤバンピング法により第1のバンプを形成する工程
    と、 第2の基板に配置されている電極上にワイヤバンピング
    法により第2のバンプを形成する工程と、 前記第2のバンプを構成する金属より低融点の半田ペー
    ストを前記第2のバンプ上に転写する工程と、 前記第1の基板の前記第1のバンプを前記第2の基板の
    前記第2のバンプに対峙させ、前記第1のバンプを前記
    第2のバンプ上の前記半田ペーストに接触させた後、前
    記半田ペーストを溶融させ、前記半田ペーストを介して
    前記第1のバンプと前記第2のバンプとを接続させるこ
    とを特徴とする電子部品の製造方法。
JP10155250A 1998-05-20 1998-05-20 キャピラリ、バンプ形成方法、並びに電子部品及びその製造方法 Pending JPH11330125A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7167344B2 (en) 2001-01-11 2007-01-23 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic head actuator having finely movable tracking device
WO2020235211A1 (ja) * 2019-05-20 2020-11-26 株式会社新川 ピン状ワイヤ成形方法及びワイヤボンディング装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7167344B2 (en) 2001-01-11 2007-01-23 Alps Electric Co., Ltd. Magnetic head actuator having finely movable tracking device
WO2020235211A1 (ja) * 2019-05-20 2020-11-26 株式会社新川 ピン状ワイヤ成形方法及びワイヤボンディング装置

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