JPH11319741A - Method and apparatus for removing dust - Google Patents

Method and apparatus for removing dust

Info

Publication number
JPH11319741A
JPH11319741A JP12843498A JP12843498A JPH11319741A JP H11319741 A JPH11319741 A JP H11319741A JP 12843498 A JP12843498 A JP 12843498A JP 12843498 A JP12843498 A JP 12843498A JP H11319741 A JPH11319741 A JP H11319741A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
dust
ultrasonic
discharge
dust removal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12843498A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Moritoshi Kanno
盛利 管野
Tomoo Muto
知雄 武藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HUEGLE ELECTRONICS KK
Original Assignee
HUEGLE ELECTRONICS KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HUEGLE ELECTRONICS KK filed Critical HUEGLE ELECTRONICS KK
Priority to JP12843498A priority Critical patent/JPH11319741A/en
Priority to TW88115380A priority patent/TW402528B/en
Publication of JPH11319741A publication Critical patent/JPH11319741A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To remove dust efficiently by removing static electricity on the surface of an object to be treated such as a liquid crystal panel and to improve the yield and productivity of products by preventing the electrostatic attraction of dust to the object and the electrostatic destruction of the object. SOLUTION: An ionizer 14 for ionizing supplied clean air, an ultrasonic wave generator 15 for applying ultrasonic vibration to the ionized air, an ejection chamber 13 having an ejection nozzle 16 for ejecting an ionized ultrasonic air current toward an object 30 to be treated, and a suction chamber 20 which is installed in parallel with the ejection chamber 13 and arranged toward the object 30 are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁物、特に液晶
用ガラス基板やアレーパネル等の表面に付着した塵芥を
除去する除塵方法及び除塵装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dust removing method and a dust removing device for removing dust attached to the surface of an insulator, particularly a glass substrate for liquid crystal or an array panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶パネルのアレー製造工程には、ガラ
ス基板やアレーパネルを洗浄する工程が多くあり、洗浄
方法としては、純水や洗浄液による超音波洗浄方法(湿
式方法)と、清浄な空気を吹き付けて塵芥を吹き飛ばす
方法(乾式方法)とが知られている。特に、後者の乾式
方法は、洗浄に要する時間が短いこと、設備が比較的小
型で簡単であるため、最近多く採用されている。
2. Description of the Related Art In an array manufacturing process for a liquid crystal panel, there are many steps for cleaning a glass substrate and an array panel. The cleaning method includes an ultrasonic cleaning method using pure water or a cleaning liquid (wet method), and clean air. And a method of blowing off dust (dry method) is known. In particular, the latter dry method has recently been widely adopted because the time required for cleaning is short and the equipment is relatively small and simple.

【0003】例えば、乾式方法の従来技術として、実用
新案登録第2567191号公報に記載されたパネル体
の除塵装置や、特開平7−60211号公報に記載され
た除塵装置がある。これらのうち、実用新案登録第25
67191号公報記載の除塵装置は、エア吸入室と、超
音波発生器を内蔵したエア排出室とを並設し、このエア
排出室に設けたエア吹出口からパネル体(除塵対象物)
に超音波エアを吹き付け、そのエアをエア吸入室のエア
吸入口から吸い込むようにしたものである。また、特開
平7−60211号公報記載の除塵装置は、エア吸入室
を中心にしてその外側にエア排出室を形成すると共に、
エア排出室内のエアに超音波振動を与える第1噴出ノズ
ル、第2噴出ノズルをエア吸入室の吸引ノズルの前後に
それぞれ配置し、これらのノズルから、互いに接近する
方向で超音波エアを除塵対象物へ向け噴出させて、その
エアを吸引ノズルから吸い込むようにしたものである。
For example, as a conventional dry method, there is a dust remover for a panel body described in Utility Model Registration No. 2567191 and a dust remover described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-60211. Of these, utility model registration No. 25
The dust removing device described in Japanese Patent No. 67191 has an air suction chamber and an air discharge chamber having a built-in ultrasonic generator arranged side by side, and a panel body (dust removal target) is provided from an air outlet provided in the air discharge chamber.
Ultrasonic air is blown into the air suction chamber, and the air is sucked from the air suction port of the air suction chamber. Further, the dust removing device described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-60211 has an air discharge chamber formed outside the air intake chamber and
A first ejection nozzle and a second ejection nozzle for applying ultrasonic vibration to the air in the air discharge chamber are respectively disposed before and after the suction nozzle in the air suction chamber, and the ultrasonic air is removed from these nozzles in a direction approaching each other. The air is ejected toward an object, and the air is sucked from a suction nozzle.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来技術には次のような問題がある。まず、除塵対象
物が絶縁体である場合、清浄空気を圧送して高速化した
気流を除塵対象物に噴射すると、除塵対象物を帯電させ
てしまい、塵芥が静電吸着されて所望の除塵作用が得ら
れない。例えば、薄膜形成前の液晶ガラス基板の場合、
絶縁体であるガラス基板が帯電されやすく、静電気によ
って塵芥がガラス基板に吸着、堆積してしまい、ガラス
基板を汚染するおそれがある。更に、薄膜素子やパター
ン形成後のアレーパネルの場合、上述した静電気吸着に
よる汚染の他に、静電気放電(ESD)によってTFT
微細素子を破損する等の致命的な問題を生じていた。
However, these prior arts have the following problems. First, when the object to be cleaned is an insulator, when a high-speed air stream is injected by blowing clean air to the object to be cleaned, the object to be cleaned is charged, dust is electrostatically adsorbed, and a desired dust removing action is performed. Can not be obtained. For example, in the case of a liquid crystal glass substrate before forming a thin film,
The glass substrate, which is an insulator, is easily charged, and dust may be adsorbed and deposited on the glass substrate due to static electricity, which may contaminate the glass substrate. Further, in the case of a thin-film element or an array panel after a pattern is formed, in addition to the above-described contamination due to electrostatic adsorption, a TFT is formed by electrostatic discharge (ESD).
Fatal problems such as breakage of the microelements have occurred.

【0005】そこで本発明は、塵芥の静電気吸着や静電
気放電を招くことなく、高効率の除塵を可能にした除塵
方法及び除塵装置を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a dust removing method and a dust removing device which enable highly efficient dust removal without causing electrostatic attraction and electrostatic discharge of dust.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の除塵方法は、清浄空気をイオン化し
たイオン化空気に超音波振動を与えて超音波空気流を生
成し、この超音波空気流を除塵対象物の表面に噴射させ
ると共に、前記除塵対象物の表面を経た空気流を吸引す
るものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a dust removing method, comprising: applying an ultrasonic vibration to ionized air obtained by ionizing clean air to generate an ultrasonic air flow; The air flow is jetted onto the surface of the dust removal target, and the air flow passing through the surface of the dust removal target is sucked.

【0007】また、請求項2記載の除塵装置は、圧送さ
れた清浄空気をイオン化させるイオナイザー、イオン化
空気に超音波振動を与える超音波発生器、イオン化され
た超音波空気流を除塵対象物方向へ噴射させる吐出ノズ
ルを備えた吐出チャンバーと、この吐出チャンバーに並
設され、かつ、除塵対象物方向に向けて配置された吸引
ノズルを有する吸引チャンバーとを備えたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a dust remover for ionizing clean air fed under pressure, an ultrasonic generator for applying ultrasonic vibration to the ionized air, and a flow of ionized ultrasonic air toward a dust removal object. The discharge chamber includes a discharge chamber provided with a discharge nozzle to be ejected, and a suction chamber having a suction nozzle provided in parallel with the discharge chamber and arranged in the direction of a dust removal target.

【0008】ここで、上記除塵装置におけるイオナイザ
ーとしては、請求項3に記載するように、例えばコロナ
放電を利用したイオン発生装置を用いることができる。
また、請求項4に記載するように、前記吐出ノズルの先
端部と除電対象物の表面との間隔は、ほぼ1mm〜10
mmの範囲であれば所望の除電効果、除塵効果を得るこ
とができる。
Here, as the ionizer in the dust removing device, for example, an ion generating device using corona discharge can be used.
Further, the distance between the tip of the discharge nozzle and the surface of the object to be neutralized is approximately 1 mm to 10 mm.
If it is in the range of mm, a desired static electricity removing effect and dust removing effect can be obtained.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図に沿って本発明の実施形
態を説明する。図1は、実施形態の除塵装置10の主要
部を概略的に示す図であり、図において、11,12は
互いに隔絶された吐出チャンバー13、吸引チャンバー
20を形成するケーシングである。吐出チャンバー13
の内部には、例えばコロナ放電によって清浄空気を正、
負にイオン化するイオナイザー14が配置されている。
14aはイオナイザー14の放電電極(エミッタ)であ
り、商用周波数の高電圧が印加される。なお、イオナイ
ザーとしては、コロナ放電のほかに紫外線、軟X線、放
射性物質を用いたもの等、種々の方式のものが利用可能
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a view schematically showing a main part of a dust removing apparatus 10 according to an embodiment. In the figure, reference numerals 11 and 12 denote casings forming a discharge chamber 13 and a suction chamber 20 which are separated from each other. Discharge chamber 13
Inside, clean air is positive by corona discharge, for example,
A negatively ionizing ionizer 14 is provided.
Reference numeral 14a denotes a discharge electrode (emitter) of the ionizer 14, to which a high voltage of a commercial frequency is applied. Various types of ionizers such as those using ultraviolet rays, soft X-rays, and radioactive substances other than corona discharge can be used as the ionizer.

【0010】吐出チャンバー13の底板17には、幅狭
の吐出ノズル16が紙面の表裏方向(除塵対象物30の
幅方向)に所定の奥行きをもって形成され、また、吸引
チャンバー20の底板22には、幅広の吸引ノズル21
が同じく紙面の表裏方向に所定の奥行きをもって形成さ
れている。これらの吐出ノズル16、吸引ノズル21は
互いに平行であって除塵対象物30の表面に対しても平
行に配置される。ここで、吐出ノズル16の先端部(下
端部)と除塵対象物30の表面との間隔dは2mmに設
定されているが、1〜10mmの範囲であれば所期の除
電効果、除塵効果が得られることが確認されている。除
塵対象物30としては、液晶用ガラス基板、アレーパネ
ル、フィルム液晶等、除塵が必要とされる種々の板状
体、帯状体である。なお、除塵動作時には、除塵装置1
0に対して除塵対象物30を相対的に図の左右方向に移
動させるものである。
On the bottom plate 17 of the discharge chamber 13, a narrow discharge nozzle 16 is formed with a predetermined depth in the front and back direction of the paper (the width direction of the dust removal target 30). , Wide suction nozzle 21
Are also formed with a predetermined depth in the front and back directions on the paper surface. The discharge nozzle 16 and the suction nozzle 21 are arranged in parallel with each other and also in parallel with the surface of the object 30 to be dust-removed. Here, the distance d between the tip (lower end) of the discharge nozzle 16 and the surface of the dust removal target 30 is set to 2 mm. However, if the distance d is in the range of 1 to 10 mm, the desired charge removal effect and dust removal effect are obtained. It has been confirmed that it can be obtained. Examples of the dust removal target 30 include various plate-like bodies and belt-like bodies that require dust removal, such as a liquid crystal glass substrate, an array panel, and a film liquid crystal. During the dust removal operation, the dust removal device 1
The object 30 to be removed is moved relatively to the left and right in the left-right direction in the figure.

【0011】吐出ノズル16及び吸引ノズル21は、各
々の中心線が互いに接近する方向に傾斜させてあると共
に、連続する底板17,22の下面は凹面状に切り欠か
れており、これによって吐出ノズル16から噴出した空
気流が除塵対象物30を経て効率よく吸引ノズル21に
吸い込まれるように考慮されている。
The discharge nozzle 16 and the suction nozzle 21 are inclined so that their respective center lines approach each other, and the lower surfaces of the continuous bottom plates 17 and 22 are notched in a concave shape. It is considered that the air flow ejected from 16 is efficiently sucked into the suction nozzle 21 through the dust removal target 30.

【0012】また、吐出チャンバー13内の前記吐出ノ
ズル16の上面には、超音波発生器15が配置されてい
る。この超音波発生器15は、その内部を通過して吐出
ノズル16から噴射される空気に超音波振動を与えるた
めのものである。
On the upper surface of the discharge nozzle 16 in the discharge chamber 13, an ultrasonic generator 15 is arranged. The ultrasonic generator 15 is for applying ultrasonic vibration to air ejected from the discharge nozzle 16 through the inside thereof.

【0013】上記構成において、吐出チャンバー13に
は、圧縮空気源からHEPAフィルタを介して清浄空気
が送られるようになっており、吸引チャンバー20には
吸い込んだ塵芥を負圧によって圧送(吸引)し回収する
手段が付加されているが、便宜上、これらの構成は図示
を省略する。
In the above configuration, clean air is sent from the compressed air source to the discharge chamber 13 through the HEPA filter, and the sucked dust is pressure-fed (sucked) to the suction chamber 20 by negative pressure. Although a collecting means is added, these components are not shown in the figure for convenience.

【0014】以下、本実施形態の動作を、従来技術との
比較実験も含めて説明する。図1における間隔dを2m
mに設定し、HEPAフィルタを通過した清浄空気を吐
出チャンバー13に送ると、イオナイザー14によって
正負の空気イオンが発生し、このイオン化空気が超音波
発生器15を通過すると超音波空気流となって吐出ノズ
ル16から除塵対象物30の表面に噴射される。除塵対
象物30が帯電している場合、イオン化された超音波空
気流の正負のイオンが静電気を除去し、更に、超音波空
気流の空力学的な除塵力が重畳されて除塵対象物30の
表面の塵芥を離脱させ、近傍の吸引ノズル21から吸引
チャンバー20内に吸い込み、集塵する。
Hereinafter, the operation of the present embodiment will be described, including a comparative experiment with the prior art. The distance d in FIG. 1 is 2 m
m, and when the clean air that has passed through the HEPA filter is sent to the discharge chamber 13, positive and negative air ions are generated by the ionizer 14. When the ionized air passes through the ultrasonic generator 15, the ionized air becomes an ultrasonic air flow. The dust is ejected from the discharge nozzle 16 to the surface of the dust removal target 30. When the dust removal target 30 is charged, the positive and negative ions of the ionized ultrasonic air flow remove static electricity, and the aerodynamic dust removal force of the ultrasonic air flow is superimposed on the dust removal target 30. The dust on the surface is separated, sucked into the suction chamber 20 from the suction nozzle 21 in the vicinity, and collected.

【0015】なお、イオン化空気が吐出ノズル16の下
方に発生していることは、ヒューグルエレクトロニクス
株式会社製のプレートモニターによって確認した。すな
わち、プレートを予め約1200Vに帯電させたプレー
トモニターを吐出チャンバー16の下方に置き、イオナ
イザーを動作させてイオン化空気をプレートに噴射した
結果、プレートの電圧は1秒以内に100V以下に低下
したことが観察され、これによってイオン化空気による
除電作用が確認された。
The generation of ionized air below the discharge nozzle 16 was confirmed by a plate monitor manufactured by Hugle Electronics Co., Ltd. That is, the plate monitor, in which the plate was charged to about 1200 V in advance, was placed below the discharge chamber 16 and the ionizer was operated to eject ionized air onto the plate. As a result, the voltage of the plate dropped to 100 V or less within one second. Was observed, thereby confirming the neutralization effect of the ionized air.

【0016】次に、本実施形態と従来技術との比較実験
の内容及びその結果を述べる。この実験に使用した本実
施形態の除塵装置の基本的構造は図1に示したとおりで
あり、また、従来技術の除塵装置の基本的構造は図2に
示すとおりである。図2において、40は吐出チャンバ
ー、41は吐出ノズル、42は超音波発生器、50は吸
引チャンバー、51は吸引ノズルである。本実施形態、
従来技術共に、吐出チャンバー、吸引チャンバーの大き
さは同一とし、運転条件も次のように同一とした。 吐出圧力:450mmAg 吸引圧力:−370mmAg 除塵対象物までの間隔d:2mm
Next, the contents and results of a comparative experiment between the present embodiment and the prior art will be described. The basic structure of the dust removing apparatus of the present embodiment used in this experiment is as shown in FIG. 1, and the basic structure of the conventional dust removing apparatus is as shown in FIG. In FIG. 2, reference numeral 40 denotes a discharge chamber, 41 denotes a discharge nozzle, 42 denotes an ultrasonic generator, 50 denotes a suction chamber, and 51 denotes a suction nozzle. This embodiment,
In both the prior arts, the size of the discharge chamber and the size of the suction chamber were the same, and the operating conditions were the same as follows. Discharge pressure: 450 mmAg Suction pressure: -370 mmAg Interval d to the dust removal target: 2 mm

【0017】クロム(Cr)を片面に蒸着したガラス基
板(300mm×320mm×1.2mm厚)を予め洗
剤と純水により洗浄し、乾燥させた後、標準粒子(PS
L)を乾式にて塗布し、本実施形態、従来技術の両除塵
装置により除塵した。標準粒子の計数には、ヒューグル
エレクトロニクス株式会社製のPIP−70ガラスパー
ティクルカウンターを使用し、ガラス洗浄後(バックグ
ラウンドとして)、標準粒子散布後、除塵後にそれぞれ
測定した。
A glass substrate (300 mm × 320 mm × 1.2 mm thick) on which chromium (Cr) is vapor-deposited on one side is washed in advance with a detergent and pure water, dried, and then dried with standard particles (PS).
L) was applied by a dry method, and dust was removed by both dust removers of the present embodiment and the prior art. For the counting of the standard particles, a PIP-70 glass particle counter manufactured by Hugle Electronics Co., Ltd. was used, and the measurement was performed after washing the glass (as a background), after scattering the standard particles, and after removing dust.

【0018】本実施形態及び従来技術による洗浄後、散
布後、除塵後の標準粒子数と、除塵率との比較結果を図
3に示す。また、本実施形態による散布後、除塵後の上
記ガラスパーティクルカウンターの測定データを図4、
図5に示し、従来技術による散布後、除塵後の同測定デ
ータを図6、図7に示す。なお、ガラス基板上の測定面
積は280mm×280mmであり、標準粒子の直径は
サイズS:4μm、サイズM:6μm、サイズL:8μ
mである。
FIG. 3 shows a comparison result between the number of standard particles after cleaning, spraying, and dust removal according to the present embodiment and the prior art, and the dust removal rate. FIG. 4 shows the measurement data of the glass particle counter after dusting and dusting according to the present embodiment.
5 and FIG. 6 and FIG. 7 show the same measurement data after dusting and dusting according to the prior art. The measurement area on the glass substrate is 280 mm × 280 mm, and the diameters of the standard particles are size S: 4 μm, size M: 6 μm, and size L: 8 μm.
m.

【0019】これらの比較結果から明らかなように、本
実施形態によれば、従来技術よりも著しく除塵率が向上
している。これは、吐出ノズルから噴射される超音波空
気流がイオン化空気からなり、これによって除塵対象物
30の表面が除電されて塵芥の静電吸着がかなり防止さ
れた結果によるものである。
As is clear from these comparison results, according to the present embodiment, the dust removal rate is significantly improved as compared with the prior art. This is because the ultrasonic air flow ejected from the discharge nozzle is made of ionized air, and the surface of the object 30 is neutralized by the ionized air, so that electrostatic attraction of dust is considerably prevented.

【0020】なお、図示されていないが、イオナイザー
を内蔵した吐出チャンバーを吸引チャンバーの反対側に
もう一つ配置し、吸引チャンバーの前後からイオン化さ
れた超音波空気流を噴出させて中央の吸引チャンバーに
より吸引するように構成しても良い。
Although not shown, another discharge chamber having a built-in ionizer is disposed on the opposite side of the suction chamber, and an ionized ultrasonic air stream is jetted from before and after the suction chamber to form a central suction chamber. It may be configured so as to be sucked.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上のように本発明の除塵方法によれ
ば、イオン化された超音波空気流を除塵対象物に噴射す
ることにより、除塵対象物の除電が速やかに行われ、静
電吸着された塵芥を除去することによって除塵効率の大
幅な向上、更には静電気放電による素子破壊の未然防止
が可能になる。このため、清浄度が要求される液晶用ガ
ラス基板やアレーパネル、フィルム液晶等の精密除塵を
行うことができ、製品の歩留まり及び生産性向上に寄与
することができる。また、本発明の除塵装置は、超音波
式の除塵装置にイオナイザーを備えるだけで実現可能で
あるから、低コストにて提供することができる。
As described above, according to the dust removing method of the present invention, by discharging the ionized ultrasonic air flow onto the dust removing target, the static removal of the dust removing target is quickly performed, and the electrostatic adsorption is performed. By removing the dust, the dust removal efficiency can be greatly improved, and furthermore, it is possible to prevent the destruction of elements due to electrostatic discharge. For this reason, it is possible to precisely remove dust from a liquid crystal glass substrate, an array panel, a film liquid crystal, or the like, which requires a high degree of cleanliness, thereby contributing to an improvement in product yield and productivity. Further, the dust removing device of the present invention can be provided only by providing an ionizer in the ultrasonic dust removing device, and therefore can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態の主要部を概略的に示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram schematically showing a main part of an embodiment of the present invention.

【図2】従来技術の主要部を概略的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing a main part of the related art.

【図3】本発明の実施形態及び従来技術による洗浄後、
散布後、除塵後の標準粒子数及び除塵率との比較結果を
示す図である。
FIG. 3 after cleaning according to embodiments of the present invention and the prior art.
It is a figure which shows the comparison result with the standard particle number after dusting, and dust removal rate after dusting.

【図4】本発明の実施形態による標準粒子散布後のガラ
スパーティクルカウンターの測定データである。
FIG. 4 is measurement data of a glass particle counter after dispersion of standard particles according to an embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態による除塵後のガラスパーテ
ィクルカウンターの測定データである。
FIG. 5 is measurement data of a glass particle counter after dust removal according to the embodiment of the present invention.

【図6】従来技術による標準粒子散布後のガラスパーテ
ィクルカウンターの測定データである。
FIG. 6 shows measurement data of a glass particle counter after dispersion of standard particles according to a conventional technique.

【図7】従来技術による除塵後のガラスパーティクルカ
ウンターの測定データである。
FIG. 7 shows measurement data of a glass particle counter after dust removal according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 除塵装置 11,12 ケーシング 13 吐出チャンバー 14 イオナイザー 14a 放電電極 15 超音波発生器 16 吐出ノズル 17,22 底板 20 吸引チャンバー 21 吸引ノズル 30 除塵対象物 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Dust remover 11, 12 Casing 13 Discharge chamber 14 Ionizer 14a Discharge electrode 15 Ultrasonic generator 16 Discharge nozzle 17, 22 Bottom plate 20 Suction chamber 21 Suction nozzle 30 Dust removal object

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 清浄空気をイオン化したイオン化空気に
超音波振動を与えて超音波空気流を生成し、この超音波
空気流を除塵対象物の表面に噴射させると共に、前記除
塵対象物の表面を経た空気流を吸引することを特徴とす
る除塵方法。
An ultrasonic air flow is generated by applying ultrasonic vibration to ionized air obtained by ionizing clean air, and the ultrasonic air flow is jetted onto the surface of the object to be cleaned, and the surface of the object to be cleaned is cleaned. A dust removal method characterized by sucking a passed air flow.
【請求項2】 圧送された清浄空気をイオン化させるイ
オナイザー、イオン化空気に超音波振動を与える超音波
発生器、イオン化された超音波空気流を除塵対象物方向
へ噴射させる吐出ノズルを備えた吐出チャンバーと、 この吐出チャンバーに並設され、かつ、除塵対象物方向
に向けて配置された吸引ノズルを有する吸引チャンバー
と、 を備えたことを特徴とする除塵装置。
2. A discharge chamber having an ionizer for ionizing cleanly-pumped clean air, an ultrasonic generator for applying ultrasonic vibration to the ionized air, and a discharge nozzle for injecting the ionized ultrasonic air flow toward the object to be dust-removed. And a suction chamber having a suction nozzle arranged in parallel with the discharge chamber and arranged in the direction of the dust removal target.
【請求項3】 請求項2記載の除塵装置において、 前記イオナイザーがコロナ放電を利用したイオン発生装
置であることを特徴とする除塵装置。
3. The dust remover according to claim 2, wherein the ionizer is an ion generator using corona discharge.
【請求項4】 請求項2または3記載の除塵装置におい
て、 前記吐出ノズルの先端部と除電対象物の表面との間隔
が、ほぼ1mm〜10mmであることを特徴とする除塵
装置。
4. The dust removal apparatus according to claim 2, wherein a distance between a tip of the discharge nozzle and a surface of the object to be neutralized is approximately 1 mm to 10 mm.
JP12843498A 1998-05-12 1998-05-12 Method and apparatus for removing dust Pending JPH11319741A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12843498A JPH11319741A (en) 1998-05-12 1998-05-12 Method and apparatus for removing dust
TW88115380A TW402528B (en) 1998-05-12 1999-09-07 Dust-removal apparatus and its method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12843498A JPH11319741A (en) 1998-05-12 1998-05-12 Method and apparatus for removing dust

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11319741A true JPH11319741A (en) 1999-11-24

Family

ID=14984658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12843498A Pending JPH11319741A (en) 1998-05-12 1998-05-12 Method and apparatus for removing dust

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH11319741A (en)
TW (1) TW402528B (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007229554A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Casio Comput Co Ltd Capacity evaluation method of dust removing cleaner
US20080023051A1 (en) * 2004-08-05 2008-01-31 Shoji Yoshimura Deposit Removing Device
KR100824137B1 (en) * 2006-03-06 2008-04-21 이재영 Dry mote removing device of panel
JP2009136728A (en) * 2007-12-04 2009-06-25 Panasonic Corp Substrate cleaning device, and substrate cleaning method
CN102284360A (en) * 2011-08-18 2011-12-21 上海电力学院 Method for determining trapping efficiency of electrostatic dust collector on inhalable particulate matters (PM10)
CN109013587A (en) * 2018-06-30 2018-12-18 程梦轩 A kind of purging Modular jig

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7913351B2 (en) 2006-08-28 2011-03-29 Tokyo Electron Limited Cleaning apparatus and cleaning method
JP5010875B2 (en) * 2006-08-28 2012-08-29 東京エレクトロン株式会社 Cleaning device and cleaning method
CN112218494B (en) * 2020-09-29 2022-03-08 四川长虹电器股份有限公司 Ion fan radiator

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080023051A1 (en) * 2004-08-05 2008-01-31 Shoji Yoshimura Deposit Removing Device
US8499410B2 (en) * 2004-08-05 2013-08-06 Kobe Steel, Ltd. Deposit removing device
JP2007229554A (en) * 2006-02-28 2007-09-13 Casio Comput Co Ltd Capacity evaluation method of dust removing cleaner
KR100824137B1 (en) * 2006-03-06 2008-04-21 이재영 Dry mote removing device of panel
JP2009136728A (en) * 2007-12-04 2009-06-25 Panasonic Corp Substrate cleaning device, and substrate cleaning method
CN102284360A (en) * 2011-08-18 2011-12-21 上海电力学院 Method for determining trapping efficiency of electrostatic dust collector on inhalable particulate matters (PM10)
CN109013587A (en) * 2018-06-30 2018-12-18 程梦轩 A kind of purging Modular jig

Also Published As

Publication number Publication date
TW402528B (en) 2000-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7552503B2 (en) Apparatus and method for cleaning a surface with high pressure air
JP3362030B2 (en) Dust collection device and method using ultrafine particles
EP0640411B1 (en) Dust removing system
JP3041541B2 (en) Dust remover and dust removal method
JP2930702B2 (en) Air ionization system
US4727614A (en) Ground corona comb
TWI232492B (en) A process chamber equipped with a cleaning function
JPH11319741A (en) Method and apparatus for removing dust
KR102331015B1 (en) Electrostatic precipitator
US3785118A (en) Apparatus and method for electrical precipitation
JP3112987B2 (en) Dust remover
KR100566031B1 (en) Dust cleaning apparatus
KR100754152B1 (en) Cleaning unit for inorganic particle of flat panel display glass and film with using ultrasonic
US5421901A (en) Method and apparatus for cleaning a web
CN110062667B (en) Contact type brush cleaner
JP2008184380A (en) Ultrasonic cleaning apparatus utilizing resonance
GB1137418A (en) Paper cleaning apparatus
JPH0763649B2 (en) Air purifier with static eliminator
JPH10209097A (en) Substrate cleaning method and apparatus
JPH08332424A (en) Method and apparatus for cleaning powder paint
KR20190133392A (en) A Contacting Brush Type of an Apparatus for Cleaning
JP2850887B2 (en) Wafer cleaning method and apparatus
JPH0556191B2 (en)
JPH0547488A (en) Static eliminator for clean room
JP2010114245A (en) Resist coating applicator

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20050224

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070724

A521 Written amendment

Effective date: 20070907

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20071002

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02