JPH11315794A - 冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ - Google Patents
冷却機構付スクリュードライ真空ポンプInfo
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- JPH11315794A JPH11315794A JP12157398A JP12157398A JPH11315794A JP H11315794 A JPH11315794 A JP H11315794A JP 12157398 A JP12157398 A JP 12157398A JP 12157398 A JP12157398 A JP 12157398A JP H11315794 A JPH11315794 A JP H11315794A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 メタルＣＶＤプロセスにおける真空雰囲気を
形成するための真空ポンプとして用いるのに適した低温
型スクリュードライ真空ポンプを提案すること。 【解決手段】 スクリュードライ真空ポンプ１１のポン
プ室３は、ポンプハウジング２と、ベアリングハウジン
グ６と、これらの間に挿入した冷却プレート４０とによ
って区画形成され、ポンプ室３の高温化しやすい吐出口
側の部分が冷却プレート４０の内周面により規定されて
いる。この部分の発熱は冷却プレート４０を直接介して
外部に放出されるので、この部分が高温化して、ポンプ
室内に吸引した材料ガスが反応副生成物として堆積して
しまうことを防止できる。
形成するための真空ポンプとして用いるのに適した低温
型スクリュードライ真空ポンプを提案すること。 【解決手段】 スクリュードライ真空ポンプ１１のポン
プ室３は、ポンプハウジング２と、ベアリングハウジン
グ６と、これらの間に挿入した冷却プレート４０とによ
って区画形成され、ポンプ室３の高温化しやすい吐出口
側の部分が冷却プレート４０の内周面により規定されて
いる。この部分の発熱は冷却プレート４０を直接介して
外部に放出されるので、この部分が高温化して、ポンプ
室内に吸引した材料ガスが反応副生成物として堆積して
しまうことを防止できる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
の主要技術であるメタルＣＶＤプロセス、例えばＴｉ、
Ｗ、Ａｌ、Ｃｕ等のＣＶＤプロセスを行うＣＶＤ装置の
排気装置に使用するのに適したスクリュードライ真空ポ
ンプに関するものである。さらに詳しくは、未反応ガス
がポンプ内に吸引されて反応副生成物としてポンプ内に
堆積してしまう等の弊害を防止するための冷却機構を備
えたスクリュードライ真空ポンプに関するものである。
の主要技術であるメタルＣＶＤプロセス、例えばＴｉ、
Ｗ、Ａｌ、Ｃｕ等のＣＶＤプロセスを行うＣＶＤ装置の
排気装置に使用するのに適したスクリュードライ真空ポ
ンプに関するものである。さらに詳しくは、未反応ガス
がポンプ内に吸引されて反応副生成物としてポンプ内に
堆積してしまう等の弊害を防止するための冷却機構を備
えたスクリュードライ真空ポンプに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】メタルＣＶＤプロセス等を行う半導体製
造装置の排気装置では、ポンプ室に封止液を使用しない
ドライ真空ポンプが使用されている。また、ドライ真空
ポンプとしては、形成される真空の清浄度を維持するた
めに、真空側（ポンプ吸引側）に油潤滑等を必要する軸
受けの無い片持ち支持構造によりポンプロータを支持し
た構成のものが採用されている。
造装置の排気装置では、ポンプ室に封止液を使用しない
ドライ真空ポンプが使用されている。また、ドライ真空
ポンプとしては、形成される真空の清浄度を維持するた
めに、真空側（ポンプ吸引側）に油潤滑等を必要する軸
受けの無い片持ち支持構造によりポンプロータを支持し
た構成のものが採用されている。
【０００３】図３には、このような構造のスクリュード
ライ真空ポンプの例を示してある。このスクリュードラ
イ真空ポンプ１は、ポンプハウジング２の内部に形成さ
れたポンプ室３に、一対のスクリューロータ４、５が相
互に噛み合った状態で配置されている。ポンプハウジン
グ２は、ポンプ室内周側面３１を規定している筒状の周
壁２１と、ポンプ室吸引側端面３２を規定している吸引
側端壁２２とを備えており、ポンプ室吐出側端面３３
は、周壁２１の他端に取り付けたベアリングハウジング
６によって規定されている。吸引側端面３２にはポンプ
吸気口３４が開いており、他方の吐出側端面３３にはポ
ンプ吐出口３５が開いている。
ライ真空ポンプの例を示してある。このスクリュードラ
イ真空ポンプ１は、ポンプハウジング２の内部に形成さ
れたポンプ室３に、一対のスクリューロータ４、５が相
互に噛み合った状態で配置されている。ポンプハウジン
グ２は、ポンプ室内周側面３１を規定している筒状の周
壁２１と、ポンプ室吸引側端面３２を規定している吸引
側端壁２２とを備えており、ポンプ室吐出側端面３３
は、周壁２１の他端に取り付けたベアリングハウジング
６によって規定されている。吸引側端面３２にはポンプ
吸気口３４が開いており、他方の吐出側端面３３にはポ
ンプ吐出口３５が開いている。
【０００４】ベアリングハウジング６には、スクリュー
ロータ４、５の根元側の部分を回転自在に支持するため
のベアリング機構６１、６２が組み込まれており、これ
らのベアリング機構６１、６２によって、スクリューロ
ータ４、５はポンプ室内において片持ち状態に支持され
ている。すなわち、吸気口の側（真空側）には油潤滑等
を必要とする部分が不要となっている。
ロータ４、５の根元側の部分を回転自在に支持するため
のベアリング機構６１、６２が組み込まれており、これ
らのベアリング機構６１、６２によって、スクリューロ
ータ４、５はポンプ室内において片持ち状態に支持され
ている。すなわち、吸気口の側（真空側）には油潤滑等
を必要とする部分が不要となっている。
【０００５】また、ベアリングハウジング６の内部に
は、吐出口３５に連通した排気通路６３が形成されてお
り、この通路の他端は排気管６４を介して大気側につな
がっている。
は、吐出口３５に連通した排気通路６３が形成されてお
り、この通路の他端は排気管６４を介して大気側につな
がっている。
【０００６】ベアリングハウジング６の裏面側には、底
面に潤滑油が貯留しているギヤボックス７が区画形成さ
れている。この中に配列されている動力伝達用の歯車列
８を介して、各スクリューロータ４、５には、モータ９
から回転力が伝達されるようになっている。
面に潤滑油が貯留しているギヤボックス７が区画形成さ
れている。この中に配列されている動力伝達用の歯車列
８を介して、各スクリューロータ４、５には、モータ９
から回転力が伝達されるようになっている。
【０００７】この構成のスクリュードライ真空ポンプ１
では、吸気口３４を介してポンプ室３に取り込んだ気体
を、相互に噛み合っている一対のスクリューロータ４、
５の回転運動によって、吐出口３５の側に容積移送する
ことにより、排気動作を行う。
では、吸気口３４を介してポンプ室３に取り込んだ気体
を、相互に噛み合っている一対のスクリューロータ４、
５の回転運動によって、吐出口３５の側に容積移送する
ことにより、排気動作を行う。
【０００８】このような排気動作が継続すると、ポンプ
室３には、吸気口３４から吐出口３５にかけて、圧力勾
配が発生する。このために、スクリューロータ４、５に
よる吐出側の部分、すなわち、ポンプ室の吐出側端面３
３およびその近傍は、気体の圧縮熱により一般に２００
°Ｃ近くまで発熱する。
室３には、吸気口３４から吐出口３５にかけて、圧力勾
配が発生する。このために、スクリューロータ４、５に
よる吐出側の部分、すなわち、ポンプ室の吐出側端面３
３およびその近傍は、気体の圧縮熱により一般に２００
°Ｃ近くまで発熱する。
【０００９】ここで、ポンプ１には、ＣＶＤプロセス用
の材料ガスの一部が未反応のまま吸引される。ポンプ室
内が高温化すると、このような未反応の材料ガスがポン
プ室内で反応して副生成物としてポンプ室内面に堆積す
るという弊害が発生する。
の材料ガスの一部が未反応のまま吸引される。ポンプ室
内が高温化すると、このような未反応の材料ガスがポン
プ室内で反応して副生成物としてポンプ室内面に堆積す
るという弊害が発生する。
【００１０】このような弊害を回避するために、従来の
ポンプ１では、図４に示すように、ポンプハウジング２
の外周面に冷却水の循環機構２２を配置し、ポンプ室内
の高温化を抑制するようにしている。
ポンプ１では、図４に示すように、ポンプハウジング２
の外周面に冷却水の循環機構２２を配置し、ポンプ室内
の高温化を抑制するようにしている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ポンプ
ハウジングの外周側からポンプ室内を冷却する従来の冷
却機構では、上記のような圧縮熱に伴うポンプ室の温度
上昇を効果的に抑制することができない。換言すると、
ポンプ室内における吐出側端面およびその近傍の圧縮気
体を効果的に冷却できない。このために、圧縮気体に含
まれている未反応の材料ガスが、高温化した当該部分で
反応して副生成物となって、吐出側端面およびその近傍
に堆積してしまう。特に、メタルＣＶＤプロセスを行う
ためのＣＶＤ装置の排気装置に使用される真空ポンプに
おいては、このような反応副生成物の堆積が問題とな
る。
ハウジングの外周側からポンプ室内を冷却する従来の冷
却機構では、上記のような圧縮熱に伴うポンプ室の温度
上昇を効果的に抑制することができない。換言すると、
ポンプ室内における吐出側端面およびその近傍の圧縮気
体を効果的に冷却できない。このために、圧縮気体に含
まれている未反応の材料ガスが、高温化した当該部分で
反応して副生成物となって、吐出側端面およびその近傍
に堆積してしまう。特に、メタルＣＶＤプロセスを行う
ためのＣＶＤ装置の排気装置に使用される真空ポンプに
おいては、このような反応副生成物の堆積が問題とな
る。
【００１２】本発明の課題は、この点に鑑みて、気体の
圧縮熱によるポンプ室内の温度上昇を効率良く抑制し
て、ポンプ室内の吐出側端面およびその近傍に反応副生
成物が堆積することを防止できる冷却機構付スクリュー
ドライ真空ポンプを提案することにある。
圧縮熱によるポンプ室内の温度上昇を効率良く抑制し
て、ポンプ室内の吐出側端面およびその近傍に反応副生
成物が堆積することを防止できる冷却機構付スクリュー
ドライ真空ポンプを提案することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は、ポンプハウジングと、この中に形成さ
れたポンプ室と、このポンプ室に配置されているスクリ
ューロータと、前記ポンプ室の吸引側端面に形成した吸
気口と、前記ポンプ室の吐出側端面に形成した吐出口と
を有するスクリュードライ真空ポンプにおいて、前記ポ
ンプ室の前記吐出側端面に隣接している当該ポンプ室の
内周側面の少なくとも一部を、前記ポンプハウジングよ
りも熱伝導率の高い冷却用部材によって形成し、当該冷
却用部材の内部には、冷却液を流通させるための冷却液
通路を形成したことを特徴としている。
めに、本発明は、ポンプハウジングと、この中に形成さ
れたポンプ室と、このポンプ室に配置されているスクリ
ューロータと、前記ポンプ室の吸引側端面に形成した吸
気口と、前記ポンプ室の吐出側端面に形成した吐出口と
を有するスクリュードライ真空ポンプにおいて、前記ポ
ンプ室の前記吐出側端面に隣接している当該ポンプ室の
内周側面の少なくとも一部を、前記ポンプハウジングよ
りも熱伝導率の高い冷却用部材によって形成し、当該冷
却用部材の内部には、冷却液を流通させるための冷却液
通路を形成したことを特徴としている。
【００１４】このように構成した本発明のスクリュード
ライ真空ポンプでは、気体の圧縮熱によって高温状態に
なるポンプ室吐出側端面の近傍部分は、冷却用部材によ
って規定されている。換言すると、ポンプ室に冷却部材
が露出している。よって、ポンプ室の吐出側の部分の圧
縮熱は、当該冷却用部材を直接に伝わって外部に放出さ
れる。よって、従来のように当該部分を間接的に冷却し
ている冷却機構とは異なり、効率良く、当該部分の高温
化を抑制でき、従って、未反応状態の材料ガスが反応副
生成物として当該部分に堆積してしまうことを抑制でき
る。
ライ真空ポンプでは、気体の圧縮熱によって高温状態に
なるポンプ室吐出側端面の近傍部分は、冷却用部材によ
って規定されている。換言すると、ポンプ室に冷却部材
が露出している。よって、ポンプ室の吐出側の部分の圧
縮熱は、当該冷却用部材を直接に伝わって外部に放出さ
れる。よって、従来のように当該部分を間接的に冷却し
ている冷却機構とは異なり、効率良く、当該部分の高温
化を抑制でき、従って、未反応状態の材料ガスが反応副
生成物として当該部分に堆積してしまうことを抑制でき
る。
【００１５】ここで、本発明の典型的な構成において
は、前記ポンプハウジングは、前記ポンプ室の内周側面
を規定している筒状の周壁部材と、前記ポンプ室の前記
吐出側端面を規定している吐出側端壁部材とを備えたも
のとされる。また、前記冷却用部材は前記周壁部材の端
面に連結した環状部分を備え、当該環状部分の内周面に
より、前記ポンプ室の前記吐出側端面に隣接している当
該ポンプ室の内周側面の部分が規定される。この構成に
よれば、ポンプ室吐出側端面に隣接しているポンプ室内
周壁の部分が全周にわたって冷却用部材により規定され
るので、当該部分の高温化を効果的に抑制できる。
は、前記ポンプハウジングは、前記ポンプ室の内周側面
を規定している筒状の周壁部材と、前記ポンプ室の前記
吐出側端面を規定している吐出側端壁部材とを備えたも
のとされる。また、前記冷却用部材は前記周壁部材の端
面に連結した環状部分を備え、当該環状部分の内周面に
より、前記ポンプ室の前記吐出側端面に隣接している当
該ポンプ室の内周側面の部分が規定される。この構成に
よれば、ポンプ室吐出側端面に隣接しているポンプ室内
周壁の部分が全周にわたって冷却用部材により規定され
るので、当該部分の高温化を効果的に抑制できる。
【００１６】また、本発明においては、上記の構成に加
えて、前記冷却用部材は冷却フィンを備えた構成として
ある。当該冷却フィンは、前記環状部分の内周面から前
記ポンプ室の前記吐出側端面に沿って延びる状態に形成
される。この構成によれば、ポンプ室吐出側端面にも冷
却用部材が配置されているので、一層確実に、ポンプ室
内における高温化しやすい部分の温度上昇を抑制でき
る。
えて、前記冷却用部材は冷却フィンを備えた構成として
ある。当該冷却フィンは、前記環状部分の内周面から前
記ポンプ室の前記吐出側端面に沿って延びる状態に形成
される。この構成によれば、ポンプ室吐出側端面にも冷
却用部材が配置されているので、一層確実に、ポンプ室
内における高温化しやすい部分の温度上昇を抑制でき
る。
【００１７】ここで、典型的な冷却用部材は、アルミニ
ウム合金から形成することができる。また、冷却用の前
記パイプはステンレススチール製とすることができる。
ウム合金から形成することができる。また、冷却用の前
記パイプはステンレススチール製とすることができる。
【００１８】本発明の冷却機構付スクリュードライ真空
ポンプは、半導体製造工程におけるメタルＣＶＤプロセ
スを行うＣＶＤ装置の排気装置に用いるのに適してい
る。
ポンプは、半導体製造工程におけるメタルＣＶＤプロセ
スを行うＣＶＤ装置の排気装置に用いるのに適してい
る。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して、本発明
を適用した冷却機構付スクリュードライ真空ポンプを説
明する。
を適用した冷却機構付スクリュードライ真空ポンプを説
明する。
【００２０】図１には、本例の冷却機構付スクリュード
ライ真空ポンプの主要部分を示してある。本例のポンプ
１１の全体構造は図３に示すポンプ１と同様であるの
で、同一部分の図示および説明を省略し、特徴部分のみ
を図示すると共に、以下に説明する。
ライ真空ポンプの主要部分を示してある。本例のポンプ
１１の全体構造は図３に示すポンプ１と同様であるの
で、同一部分の図示および説明を省略し、特徴部分のみ
を図示すると共に、以下に説明する。
【００２１】ポンプ１１のポンプハウジング２Ａは、長
円形の中空断面をした筒状部２１Ａ（周壁部分）と、こ
の一端に取り付けられた吸引側端壁２２とを備えてい
る。筒状部２１Ａの他端には、冷却用部材としての冷却
プレート４０が取り付けられている。この冷却プレート
４０は、ベアリングハウジング６のポンプ室吐出側端面
３３に取り付けられている。このように、本例では、冷
却用プレート４０が、ポンプハウジングの筒状部２１Ａ
とベアリングハウジング６の間に挿入され、当該冷却用
ブレード４０によって、ポンプ室内周側面３１のうち
の、吐出側端面３３に隣接する部分が規定されている。
円形の中空断面をした筒状部２１Ａ（周壁部分）と、こ
の一端に取り付けられた吸引側端壁２２とを備えてい
る。筒状部２１Ａの他端には、冷却用部材としての冷却
プレート４０が取り付けられている。この冷却プレート
４０は、ベアリングハウジング６のポンプ室吐出側端面
３３に取り付けられている。このように、本例では、冷
却用プレート４０が、ポンプハウジングの筒状部２１Ａ
とベアリングハウジング６の間に挿入され、当該冷却用
ブレード４０によって、ポンプ室内周側面３１のうち
の、吐出側端面３３に隣接する部分が規定されている。
【００２２】この冷却用プレート４０は、ポンプハウジ
ング２Ａの筒状部２１Ａと同一断面形状をした環状部４
１と、この環状部４１の内周面４２からポンプ室吐出側
端面３３に平行に延びている冷却フィン４３とを備えた
形状をしている。
ング２Ａの筒状部２１Ａと同一断面形状をした環状部４
１と、この環状部４１の内周面４２からポンプ室吐出側
端面３３に平行に延びている冷却フィン４３とを備えた
形状をしている。
【００２３】図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）には、当該冷
却プレート４０を取り出して示してある。これらの図も
参照して説明すると、冷却プレート４０の環状部４１の
内部には、冷却水を循環させるためのパイプ４４が、当
該環状部４１に沿って二巻き状態に配列されている。こ
のパイプ４４の両端部分４４ａ、４４ｂは、環状部４１
の外周面から外部に引き出され、不図示の冷却水循環系
に連結されている。
却プレート４０を取り出して示してある。これらの図も
参照して説明すると、冷却プレート４０の環状部４１の
内部には、冷却水を循環させるためのパイプ４４が、当
該環状部４１に沿って二巻き状態に配列されている。こ
のパイプ４４の両端部分４４ａ、４４ｂは、環状部４１
の外周面から外部に引き出され、不図示の冷却水循環系
に連結されている。
【００２４】冷却フィン４３はポンプ室吐出側端面３３
の全面を覆う平板状部材であり、そこには、一対のスク
リューロータ４、５の軸４ａ、５ａの貫通穴、４３ａ、
４３ｂと、ポンプ室吐出口３５に対応した位置に形成さ
れた吐出穴４３ｃがくり抜かれている。
の全面を覆う平板状部材であり、そこには、一対のスク
リューロータ４、５の軸４ａ、５ａの貫通穴、４３ａ、
４３ｂと、ポンプ室吐出口３５に対応した位置に形成さ
れた吐出穴４３ｃがくり抜かれている。
【００２５】ここで、本例のポンプ１１における各部品
は次のような素材から形成されている。まず、一対のス
クリューロータ４、５は、一般的にスクリューロータ材
料として用いられているＦＣＤＡ−Ｎｉ３５（球状黒鉛
系オーステナイト鋳鉄）から形成されている。この金属
は、低熱膨張材料であるが、熱伝導率が悪く、局部的に
高温部が発生しやすい。すなわち、ポンプ室吐出側の部
分において、気体の圧縮熱により高温状態に陥り易い。
は次のような素材から形成されている。まず、一対のス
クリューロータ４、５は、一般的にスクリューロータ材
料として用いられているＦＣＤＡ−Ｎｉ３５（球状黒鉛
系オーステナイト鋳鉄）から形成されている。この金属
は、低熱膨張材料であるが、熱伝導率が悪く、局部的に
高温部が発生しやすい。すなわち、ポンプ室吐出側の部
分において、気体の圧縮熱により高温状態に陥り易い。
【００２６】ポンプハウジング２ＡはＦＣＤ３０（球状
黒鉛鋳鉄）から形成されている。これに対して、冷却プ
レート４０は、当該ハウジング材料よりも熱伝導率の高
い材料である、ＡＣ４Ｃ（Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系アルミニ
ウム合金）から形成されている。冷却用パイプ４４は耐
食性のあるステンレススチール製であり、冷却プレート
４０の鋳造時にアルミニウム合金に鋳込まれたものであ
る。
黒鉛鋳鉄）から形成されている。これに対して、冷却プ
レート４０は、当該ハウジング材料よりも熱伝導率の高
い材料である、ＡＣ４Ｃ（Ａｌ−Ｓｉ−Ｍｇ系アルミニ
ウム合金）から形成されている。冷却用パイプ４４は耐
食性のあるステンレススチール製であり、冷却プレート
４０の鋳造時にアルミニウム合金に鋳込まれたものであ
る。
【００２７】このように構成した冷却プレート４０を備
えたポンプ１１においては、圧縮熱により高温化しやす
いポンプ室内の部分に熱伝導率の高い冷却プレート４０
が配置されている。すなわち、ポンプ室吐出側端面３３
の表面を覆う状態に冷却フィン４３が配置され、これに
隣接したポンプ室内周面の部分には、冷却プレートの環
状部４１の内周面４２が露出している。
えたポンプ１１においては、圧縮熱により高温化しやす
いポンプ室内の部分に熱伝導率の高い冷却プレート４０
が配置されている。すなわち、ポンプ室吐出側端面３３
の表面を覆う状態に冷却フィン４３が配置され、これに
隣接したポンプ室内周面の部分には、冷却プレートの環
状部４１の内周面４２が露出している。
【００２８】従って、この部分で発生した圧縮熱は、こ
の冷却プレート４０を介して効率良く外部に放出される
ので、この部分が高温状態に陥ることを防止できる。よ
って、ポンプ室内に取り込まれた気体に混入している未
反応状態の材料ガスが反応を引き起こすような高温状態
がポンプ室内に形成されることが無い。この結果、反応
副生成物がポンプ室内に堆積してしまうという弊害を回
避できる。
の冷却プレート４０を介して効率良く外部に放出される
ので、この部分が高温状態に陥ることを防止できる。よ
って、ポンプ室内に取り込まれた気体に混入している未
反応状態の材料ガスが反応を引き起こすような高温状態
がポンプ室内に形成されることが無い。この結果、反応
副生成物がポンプ室内に堆積してしまうという弊害を回
避できる。
【００２９】（その他の実施の形態）上記のポンプ１１
は本発明の一例を示すものである。従って、冷却プレー
ト４０の形状、構造については、上記の例のものに限定
されるものではない。また、冷却プレートの材質、厚
さ、形状は、各ポンプの容量等に応じて適宜決定される
べきものである。
は本発明の一例を示すものである。従って、冷却プレー
ト４０の形状、構造については、上記の例のものに限定
されるものではない。また、冷却プレートの材質、厚
さ、形状は、各ポンプの容量等に応じて適宜決定される
べきものである。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の冷却機構
付スクリュードライ真空ポンプにおいては、圧縮熱によ
り高温状態に陥りやすい吐出側のポンプ室の部分を、冷
却用部材によって区画形成してある。従って、従来のよ
うにポンプハウジングの外側に冷却機構を取り付ける場
合とは異なり、ポンプ室内の気体を直接に冷却できる。
よって、ポンプ室内の高温化を効果的に、しかも確実に
防止できる。
付スクリュードライ真空ポンプにおいては、圧縮熱によ
り高温状態に陥りやすい吐出側のポンプ室の部分を、冷
却用部材によって区画形成してある。従って、従来のよ
うにポンプハウジングの外側に冷却機構を取り付ける場
合とは異なり、ポンプ室内の気体を直接に冷却できる。
よって、ポンプ室内の高温化を効果的に、しかも確実に
防止できる。
【００３１】この結果、ポンプ室内に引き込まれた未反
応のままのＣＶＤプロセス用の材料ガスが高温化したポ
ンプ室内で反応して、副生成物としてポンプ室内に堆積
してしまうという弊害を回避できる。
応のままのＣＶＤプロセス用の材料ガスが高温化したポ
ンプ室内で反応して、副生成物としてポンプ室内に堆積
してしまうという弊害を回避できる。
【００３２】よって、本発明の冷却機構付スクリュード
ライ真空ポンプは、特に、メタルＣＶＤプロセスを行う
ＣＶＤ装置の排気装置に使用するのに適している。
ライ真空ポンプは、特に、メタルＣＶＤプロセスを行う
ＣＶＤ装置の排気装置に使用するのに適している。
【図１】本発明を適用した冷却機構付スクリュードライ
真空ポンプの主要部分の断面構成を示す部分構成図であ
る。
真空ポンプの主要部分の断面構成を示す部分構成図であ
る。
【図２】図１のポンプに組み込まれている冷却プレート
を取り出して示す図であり、（ａ）はその平面図、
（ｂ）はその断面図、（ｃ）はその裏面図である。
を取り出して示す図であり、（ａ）はその平面図、
（ｂ）はその断面図、（ｃ）はその裏面図である。
【図３】一般的に利用されているスクリュードライ真空
ポンプの全体構成図である。
ポンプの全体構成図である。
【図４】図３のポンプのポンプ室の部分の断面構成を示
す部分構成図である。
す部分構成図である。
１１ 冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ ２ ポンプハウジング ２１Ａ ポンプハウジングの筒状部（周壁部分） ２２ 吸引側端壁 ３ ポンプ室 ３１ ポンプ室の内周側面 ３２ ポンプ室の吸引側端面 ３３ ポンプ室の吐出側端面 ３４ 吸気口 ３５ 吐出口 ６３ 排気通路 ６４ 排気管 ４、５ スクリューロータ ４ａ，５ａ スクリューロータの軸 ６ ベアリングハウジング ７ ギヤボックス ８ 歯車列 ９ モータ ４０ 冷却プレート（冷却用部材） ４１ 冷却プレートの環状部 ４２ 環状部の内周面 ４３ 冷却プレートの冷却フィン ４３ａ、４３ｂ 貫通穴 ４３ｃ 吐出穴 ４４ パイプ
【手続補正書】
【提出日】平成１０年５月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】ポンプ１１のポンプハウジング２Ａは、長
円形の中空断面をした筒状部２１Ａ（周壁部分）と、こ
の一端に取り付けられた吸引側端壁２２とを備えてい
る。筒状部２１Ａの他端には、冷却用部材としての冷却
プレート４０が取り付けられている。この冷却プレート
４０は、ベアリングハウジング６のポンプ室吐出側端面
３３に取り付けられている。このように、本例では、冷
却プレート４０が、ポンプハウジングの筒状部２１Ａと
ベアリングハウジング６の間に挿入され、当該冷却プレ
ート４０によって、ポンプ室内周側面３１のうちの、吐
出側端面３３に隣接する部分が規定されている。
円形の中空断面をした筒状部２１Ａ（周壁部分）と、こ
の一端に取り付けられた吸引側端壁２２とを備えてい
る。筒状部２１Ａの他端には、冷却用部材としての冷却
プレート４０が取り付けられている。この冷却プレート
４０は、ベアリングハウジング６のポンプ室吐出側端面
３３に取り付けられている。このように、本例では、冷
却プレート４０が、ポンプハウジングの筒状部２１Ａと
ベアリングハウジング６の間に挿入され、当該冷却プレ
ート４０によって、ポンプ室内周側面３１のうちの、吐
出側端面３３に隣接する部分が規定されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２２】この冷却プレート４０は、ポンプハウジン
グ２Ａの筒状部２１Ａと同一断面形状をした環状部４１
と、この環状部４１の内周面４２からポンプ室吐出側端
面３３に平行に延びている冷却フィン４３とを備えた形
状をしている。
グ２Ａの筒状部２１Ａと同一断面形状をした環状部４１
と、この環状部４１の内周面４２からポンプ室吐出側端
面３３に平行に延びている冷却フィン４３とを備えた形
状をしている。
Claims (8)
- 【請求項１】 ポンプハウジングと、この中に形成され
たポンプ室と、このポンプ室に配置されているスクリュ
ーロータと、前記ポンプ室の吸引側端面に形成した吸気
口と、前記ポンプ室の吐出側端面に形成した吐出口とを
有するスクリュードライ真空ポンプにおいて、 前記ポンプ室の前記吐出側端面に隣接している当該ポン
プ室の内周側面の少なくとも一部は、前記ポンプハウジ
ングよりも熱伝導率の高い冷却用部材によって形成され
ており、 当該冷却用部材の内部には、冷却液を流通させるための
冷却液通路が形成されていることを特徴とする冷却機構
付スクリュードライ真空ポンプ。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記ポンプハウジングは、前記ポンプ室の内周側面を規
定している筒状の周壁部材と、前記ポンプ室の前記吐出
側端面を規定している吐出側端壁部材とを備えており、 前記冷却用部材は前記周壁部材の端面に連結した環状部
分を備え、当該環状部分の内周面により、前記ポンプ室
の前記吐出側端面に隣接している当該ポンプ室の内周側
面の部分が規定されていることを特徴とする冷却機構付
スクリュードライ真空ポンプ。 - 【請求項３】 請求項２において、 前記冷却用部材は冷却フィンを備えており、 当該冷却フィンは、前記環状部分の内周面から前記ポン
プ室の前記吐出側端面に沿って延びていることを特徴と
する冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ。 - 【請求項４】 請求項３において、 前記冷却液通路は、前記冷却用部材の前記環状部分の内
部において、当該環状部分に沿って配置されたパイプに
より規定されていることを特徴とする冷却機構付スクリ
ュードライ真空ポンプ。 - 【請求項５】 請求項４において、 前記冷却用部材はアルミニウム合金からなることを特徴
とする冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ。 - 【請求項６】 請求項４または５において、 前記パイプはステンレススチール製であることを特徴と
する冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ。 - 【請求項７】 請求項３ないし６のうちのいずれかの項
において、 前記吐出側端壁部材は、前記スクリューロータを片持ち
状態で回転自在に支持しているベアリングを備えたベア
リングハウジングであることを特徴とする冷却機構付ス
クリュードライ真空ポンプ。 - 【請求項８】 半導体製造工程におけるメタルＣＶＤプ
ロセスを行うＣＶＤ装置の排気装置において、請求項１
ないし７のうちのいずれかの項に記載の冷却機構付スク
リュードライ真空ポンプを有していることを特徴とする
ＣＶＤ装置の排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12157398A JPH11315794A (ja) | 1998-05-01 | 1998-05-01 | 冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12157398A JPH11315794A (ja) | 1998-05-01 | 1998-05-01 | 冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11315794A true JPH11315794A (ja) | 1999-11-16 |
Family
ID=14814588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12157398A Pending JPH11315794A (ja) | 1998-05-01 | 1998-05-01 | 冷却機構付スクリュードライ真空ポンプ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11315794A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG85187A1 (en) * | 1999-06-09 | 2001-12-19 | Sterling Fluid Sys Gmbh | Rotary piston compressor with an axial direction of delivery |
| JP2002005023A (ja) * | 2000-04-06 | 2002-01-09 | Alcatel | 真空ポンプ冷却システム、およびその製造方法 |
| WO2003098047A1 (fr) * | 2002-05-20 | 2003-11-27 | Ts Corporation | Pompe a vide |
| US7108492B2 (en) | 2003-05-19 | 2006-09-19 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Roots pump |
| US7500821B2 (en) * | 2003-02-07 | 2009-03-10 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Vacuum pump |
| CN105464991A (zh) * | 2016-01-12 | 2016-04-06 | 绍兴文理学院 | 长寿命耐干转转子泵 |
| WO2019030965A1 (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-14 | 株式会社アルバック | 真空ポンプ |
| WO2022002724A1 (en) * | 2020-07-01 | 2022-01-06 | Pfeiffer Vacuum | Dry type vacuum pump |
| EP3842642B1 (en) | 2010-04-19 | 2022-09-14 | Ebara Corporation | Dry vacuum pump apparatus |
-
1998
- 1998-05-01 JP JP12157398A patent/JPH11315794A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US10895258B2 (en) | 2017-08-07 | 2021-01-19 | Ulvac, Inc. | Vacuum pump |
| WO2022002724A1 (en) * | 2020-07-01 | 2022-01-06 | Pfeiffer Vacuum | Dry type vacuum pump |
| FR3112175A1 (fr) * | 2020-07-01 | 2022-01-07 | Pfeiffer Vacuum | Pompe à vide de type sèche |
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