JPH11314224A - Uniformly heating apparatus - Google Patents

Uniformly heating apparatus

Info

Publication number
JPH11314224A
JPH11314224A JP12343398A JP12343398A JPH11314224A JP H11314224 A JPH11314224 A JP H11314224A JP 12343398 A JP12343398 A JP 12343398A JP 12343398 A JP12343398 A JP 12343398A JP H11314224 A JPH11314224 A JP H11314224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
surface plate
heat
radiator
equalizer
flow passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12343398A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3757056B2 (en
Inventor
Shinji Miyazaki
真二 宮崎
Isao Yoshinaga
功夫 好永
Hisaaki Yamakage
久明 山蔭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP12343398A priority Critical patent/JP3757056B2/en
Publication of JPH11314224A publication Critical patent/JPH11314224A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3757056B2 publication Critical patent/JP3757056B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve an unconvenience wherein although it is necessary to change temp. from the initial set temp. to a set temp. of the next process by using only one uniformly heating apparatus, as there exists no cooling function, cooling only depends on natural heat dissipation from the surface to require long time until the temp. reaches a reset temp. SOLUTION: In a uniformly heating apparatus wherein communication paths 4 are formed in a platen 10 on which an article to be molded is placed and a heat source for heating the article to be molded through the platen 10 is provided, one side of a radiator 11 is communicated with the communication paths 4 formed in the platen 10 and another side of the radiator 11 is extended radially to the outside of the platen 10. The platen 10 is cooled by communicating the radiator 11 with the communication paths 4 formed inside of the platen 10 like this.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は例えば樹脂成型
品、半導体ウエハ、液晶パネル等の被成形物を、加工さ
れる定盤上で温度を均一にする均熱装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat equalizing apparatus for equalizing the temperature of a molded product such as a resin molded product, a semiconductor wafer, a liquid crystal panel and the like on a surface plate to be processed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の均熱装置としては、例えば同一出
願人による特願平8−263171号に示されるような
ものがあり、その概要を図12及び図13に基づいて説
明する。これら各図において、1は下面に同心状に配置
される複数の環状溝2が形成された第1の板状部材で、
上面には複数の被成形物(図示せず)が載置される。3
は各環状溝2を覆うように第1の板状部材1の下面に、
例えばろう付け等で接合される第2の板状部材で、第1
の板状部材1と共に定盤10を構成しており、流通路4
が形成される。5は第2の板状部材3から下方に突出し
て形成され、定盤10内の流通路4と連通する複数の液
溜り部で、箱部材を溶接等により接合するか、第2の板
状部材3を深絞り加工する等して形成されている。6は
液溜り部5内に貯溜される作動液、7は一方側が液溜り
部5内の作動液中に浸漬され、他方側の端子部が液溜り
部5の側壁を貫通して外部に突出する熱源であり、例え
ばヒータ等から構成されている。
2. Description of the Related Art As a conventional heat equalizer, for example, there is one disclosed in Japanese Patent Application No. 8-263171 filed by the same applicant, and its outline will be described with reference to FIGS. In each of these drawings, reference numeral 1 denotes a first plate-like member having a plurality of annular grooves 2 formed concentrically on a lower surface thereof.
A plurality of objects (not shown) are placed on the upper surface. 3
On the lower surface of the first plate-shaped member 1 so as to cover each annular groove 2,
For example, a second plate-like member joined by brazing or the like,
A platen 10 is formed together with the plate-like member 1 of FIG.
Is formed. Reference numeral 5 denotes a plurality of liquid reservoirs formed so as to protrude downward from the second plate-shaped member 3 and communicating with the flow passages 4 in the surface plate 10. The member 3 is formed by deep drawing or the like. Reference numeral 6 denotes a hydraulic fluid stored in the liquid reservoir 5, and 7 is immersed in one side in the hydraulic liquid in the liquid reservoir 5, and a terminal on the other side penetrates a side wall of the liquid reservoir 5 and protrudes to the outside. The heat source is, for example, a heater or the like.

【0003】次に動作について説明する。定盤10に被
成形物を載置して加熱成形を行う場合は、液溜り部5内
に貯溜される作動液6中に浸漬された熱源7により作動
液6を直接加熱する。加熱された作動液6は蒸発して気
化し、流通路4を経て定盤10全体に広がり、その潜熱
を流通路4である環状溝2壁面で定盤10へ伝達し被成
形物の加熱を行う。潜熱を奪われた作動液6の蒸気は流
通路4である環状溝2壁面で凝縮液化し、液溜り部5内
に還流する。このような一連の動作を自然的に繰り返す
ことにより、定盤10に載置された被成形物を均一に加
熱する。
Next, the operation will be described. In the case where the object to be molded is placed on the surface plate 10 to perform heat molding, the working fluid 6 is directly heated by the heat source 7 immersed in the working fluid 6 stored in the liquid reservoir 5. The heated hydraulic fluid 6 evaporates and evaporates, spreads over the entire surface plate 10 through the flow passage 4, and transmits the latent heat to the surface plate 10 on the wall of the annular groove 2 as the flow passage 4 to heat the molded object. Do. The vapor of the working fluid 6 from which the latent heat has been removed is condensed and liquefied on the wall of the annular groove 2 which is the flow passage 4, and is returned into the reservoir 5. By repeating such a series of operations naturally, the molded object placed on the surface plate 10 is uniformly heated.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来の均熱装置は以上
のように構成され、被成形物をある設定温度で均熱処理
することができるが、例えばある設定温度で均熱処理し
た被成形物を低い温度で再度均熱処理したい場合ある。
1台の均熱装置で対応する場合は、その均熱装置の温度
を初期の設定温度から次工程の設定温度に変化させる必
要があるが、冷却機能が無いため、表面からの自然放熱
に頼るしかなく、再設定された温度に到達するまで多大
の時間を要する。結果として、生産プロセス全体の時間
を引き延ばしてしまうという課題がある。また、このロ
スタイムを少なくするため、各処理温度に設定された2
台の均熱装置で対応する場合には、2台分のコストと2
台分のスペースが必要となる課題がある。
The conventional heat equalizing apparatus is constructed as described above, and can heat-treat a molded object at a certain set temperature. In some cases, it may be desirable to perform soaking at a lower temperature.
When using one heat equalizer, it is necessary to change the temperature of the heat equalizer from the initial set temperature to the set temperature of the next process. However, since there is no cooling function, it depends on natural heat radiation from the surface. However, it takes a long time to reach the reset temperature. As a result, there is a problem that the time of the entire production process is extended. Also, in order to reduce this loss time, the 2
If two units are used, the cost for two units and two
There is a problem that requires space for each vehicle.

【0005】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたものであり、熱源による加熱を定盤表面に
均等に行えるとともに、定盤表面を冷却できる均熱装置
を提供することを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a heat equalizer capable of uniformly heating a surface of a surface plate with a heat source and cooling the surface of the surface plate. It is assumed that.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に係
る均熱装置は、被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、その定盤を介して被成形物を加熱する熱源
を備えた均熱装置において、一方側が定盤内部に形成さ
れた流通路と連通し、他方側が定盤外方に延在する放熱
体を設けたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a heat equalizing apparatus, wherein a flow passage is formed inside a surface plate on which the object is placed, and the object is passed through the surface plate. In a heat equalizer provided with a heat source to be heated, one side is provided with a radiator which communicates with a flow passage formed inside a surface plate and the other side extends outside the surface plate.

【0007】また、この発明の請求項2に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
定盤側に配置される開閉弁とを設けたものである。
A heat equalizer according to a second aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side is provided with a radiator communicating with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends outside the surface plate, and an on-off valve disposed on the surface plate side of the heat radiator. Things.

【0008】また、この発明の請求項3に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し、他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体
の定盤側に設けられたフレキシブル体とを設けたもので
ある。
A heat equalizer according to a third aspect of the present invention is provided with a heat source that has a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed and heats the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side includes a radiator extending outward from the surface plate, and a flexible body provided on the surface plate side of the radiator. It is a thing.

【0009】また、この発明の請求項4に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
近傍に配置される送風機とを設けたものである。
A heat equalizer according to a fourth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side is provided with a radiator that communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends outside the surface plate, and a blower disposed near the heat radiator. .

【0010】また、この発明の請求項5に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
近傍に配置される送風機と、送風機の流量を調整する流
量調整体とを設けたものである。
A heat equalizer according to a fifth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends a heat radiator outside the surface plate, a blower disposed near the heat radiator, and adjusts a flow rate of the blower. And a flow rate adjusting member that performs the adjustment.

【0011】また、この発明の請求項6に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
近傍に配置され、送風量を可変できる可変送風機とを設
けたものである。
A heat equalizer according to a sixth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and for heating the object via the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with the flow passage formed inside the surface plate, and the other side is a radiator extending outside the surface plate, and a variable blower arranged near the heat radiator and capable of changing the air volume. Is provided.

【0012】また、この発明の請求項7に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し、他方側が定盤の外周に沿って延在する放熱体を
設けたものである。
A heat equalizer according to a seventh aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side is provided with a heat radiator which communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends along the outer periphery of the surface plate.

【0013】また、この発明の請求項8に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、定盤の外周側に配設される環状の放熱体
と、一方側が定盤内部に形成された流通路と連通し、他
方側が環状の放熱体と連通する連通管とを設けたもので
ある。
The heat equalizing apparatus according to claim 8 of the present invention includes a heat source that has a flow passage formed inside the surface plate on which the object is placed, and heats the object through the surface plate. In the heat equalizer, an annular heat radiator disposed on the outer peripheral side of the surface plate, and a communication pipe having one side communicating with a flow passage formed inside the surface plate and the other side communicating with the annular heat radiator. It is provided.

【0014】また、この発明の請求項9に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、定盤の外周側に配設される環状の放熱体
と、一方側が定盤内部に形成された流通路と連通し、他
方側が環状の放熱体と連通する連通管と、環状の放熱体
へ送風するために設置される送風ダクトと、送風ダクト
に設置される送風機とを設けたものである。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a heat equalizing apparatus, wherein a flow path is formed inside a surface plate on which the object is placed, and a heat source for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, an annular heat radiator disposed on the outer peripheral side of the surface plate, a communication pipe having one side communicating with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side communicating with the annular heat radiator, It is provided with a blower duct installed to blow air to the annular heat radiator, and a blower installed in the blower duct.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】実施の形態1.図1及び図2はこ
の発明の実施の形態1における均熱装置の構成を示す要
部平面図及び断面図である。これら各図において、1は
下面に同心状に配置される複数の環状溝2が形成された
第1の板状部材で、上面には複数の被成形物(図示せ
ず)が載置される。3は各環状溝2を覆うように第1の
板状部材1の下面に、例えばろう付け等で接合される第
2の板状部材で、第1の板状部材1と共に定盤10を構
成しており、流通路4が形成される。5は第2の板状部
材3から下方に突出して形成され、定盤10内の流通路
4と連通する複数の液溜り部で、箱部材を溶接等により
接合するか、第2の板状部材3を深絞り加工する等して
形成されている。6は液溜り部5内に貯溜される作動
液、7は一方側が液溜り部5内の作動液中に浸漬され、
他方側の端子部が液溜り部5の側壁を貫通して外部に突
出する例えばヒータ等から成る熱源である。11は一方
側が定盤10内部に形成された流通路4と連通し、他方
側が定盤10外方に例えば放射状に延在する放熱体であ
り、チューブ12と放熱フィン13とから成る場合を示
している。このように、定盤10の流通路4、液溜り部
5、放熱体11のチューブ12内とが連通し一つの密閉
容器が構成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 1 and 2 are a main part plan view and a sectional view showing a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 1 of the present invention. In these figures, reference numeral 1 denotes a first plate-like member having a plurality of annular grooves 2 formed concentrically on a lower surface, and a plurality of molded articles (not shown) are placed on an upper surface. . Reference numeral 3 denotes a second plate-like member which is joined to the lower surface of the first plate-like member 1 by, for example, brazing so as to cover each annular groove 2, and constitutes a surface plate 10 together with the first plate-like member 1. And the flow passage 4 is formed. Reference numeral 5 denotes a plurality of liquid reservoirs which are formed to protrude downward from the second plate-shaped member 3 and communicate with the flow passages 4 in the surface plate 10. The member 3 is formed by deep drawing or the like. 6 is a hydraulic fluid stored in the liquid reservoir 5, 7 is immersed in one side of the hydraulic fluid in the liquid reservoir 5,
The terminal on the other side is a heat source composed of, for example, a heater or the like, which penetrates the side wall of the liquid reservoir 5 and projects to the outside. Reference numeral 11 denotes a case in which one side communicates with the flow passage 4 formed inside the surface plate 10, and the other side is a radiator extending radially outward from the surface plate 10, for example, and includes a tube 12 and heat radiation fins 13. ing. In this way, the flow path 4 of the surface plate 10, the liquid reservoir 5, and the inside of the tube 12 of the radiator 11 communicate with each other to form one closed container.

【0016】上記のように構成された実施の形態1にお
ける均熱装置において、定盤10に被成形物を載置して
加熱成形を行う場合は、液溜り部5内に貯溜される作動
液6中に浸漬された熱源7により作動液6を直接加熱す
る。加熱された作動液6は蒸発して気化し、流通路4を
経て定盤10全体に広がり、その潜熱を流通路4である
環状溝2壁面で定盤10へ伝達し被成形物の加熱を行
う。潜熱を奪われた作動液6の蒸気は流通路4である環
状溝2壁面で凝縮液化し、液溜り部5内に還流する。こ
のような一連の動作を自然的に繰り返すことにより、定
盤10に載置された被成形物を均一に加熱する。
In the heat equalizing apparatus according to the first embodiment configured as described above, when the object to be molded is placed on the surface plate 10 to perform the heat molding, the hydraulic fluid stored in the liquid reservoir 5 is formed. The working fluid 6 is directly heated by a heat source 7 immersed in the working fluid 6. The heated hydraulic fluid 6 evaporates and evaporates, spreads over the entire surface plate 10 through the flow passage 4, and transmits the latent heat to the surface plate 10 on the wall of the annular groove 2 as the flow passage 4 to heat the molded object. Do. The vapor of the working fluid 6 from which the latent heat has been removed is condensed and liquefied on the wall of the annular groove 2 which is the flow passage 4, and is returned into the reservoir 5. By repeating such a series of operations naturally, the molded object placed on the surface plate 10 is uniformly heated.

【0017】このように、熱源7の熱は、作動液6の蒸
気により、液溜り部5・流通路4・放熱体11とにより
構成される密閉容器の内部に拡散し、流通路4内壁面で
の凝縮によつて熱輸送を行うので、定盤10表面を均一
に加熱することができ、定盤10の上面に載置される被
加工物6を均一に加熱することができる。
As described above, the heat of the heat source 7 is diffused by the vapor of the working fluid 6 into the inside of the closed container constituted by the liquid reservoir 5, the flow passage 4 and the radiator 11, and the inner wall surface of the flow passage 4 Since the heat is transported by the condensation in the platen 10, the surface of the platen 10 can be uniformly heated, and the workpiece 6 placed on the upper surface of the platen 10 can be uniformly heated.

【0018】また、上述した作用により定盤10部全体
を加熱すると、定盤10自体には一定量の熱が蓄積され
るが、定盤10の温度を下げるためにはこの蓄積された
熱を放熱する必要がある。その放熱面積としては、定盤
10自体の表面積しかないため降温に時間がかかってし
まう。しかしながら、この発明の実施の形態1による放
熱体11を設けたことにより、放熱面積を大きく確保で
き、かつ流通路4と連通されるチューブ12により、定
盤10に蓄積された熱を熱源として放熱体11のチュー
ブ12内壁面を作動液の凝縮部として作動液6の蒸発気
化、凝縮液化の動作が自然に繰り返され、定盤10に蓄
積された熱を効率よく放熱体11へ伝熱し放熱させるこ
とができるので、定盤10部の温度を均一に保ちながら
降温させることができ、温度制御性の高い均熱装置を得
ることができる。また、放熱体11が定盤10の周囲に
一カ所配置された場合を示しているが、定盤10の周囲
に複数配置しても良い。
When the entire surface of the platen 10 is heated by the above-described operation, a certain amount of heat is accumulated in the platen 10 itself. However, in order to lower the temperature of the platen 10, the accumulated heat is used. It is necessary to radiate heat. Since the heat radiation area is only the surface area of the platen 10 itself, it takes time to lower the temperature. However, by providing the heat radiator 11 according to the first embodiment of the present invention, a large heat radiating area can be secured, and the heat accumulated in the platen 10 is radiated by the tube 12 communicating with the flow passage 4 as a heat source. The operation of evaporating and vaporizing and condensing and liquefying the working fluid 6 is naturally repeated using the inner wall surface of the tube 12 of the body 11 as a working fluid condensing portion, and the heat accumulated in the surface plate 10 is efficiently transferred to the radiator 11 and radiated. Therefore, it is possible to lower the temperature while keeping the temperature of the platen 10 part uniform, and it is possible to obtain a heat equalizer with high temperature controllability. Moreover, although the case where the heat radiator 11 is arranged at one place around the surface plate 10 is shown, a plurality of heat radiators 11 may be arranged around the surface plate 10.

【0019】実施の形態2.図3はこの発明の実施の形
態2における均熱装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、1〜7、10〜13は上述した実施の形態1の
構成と同様である。14は放熱体11のチューブ12の
定盤10側に配置される開閉弁である。
Embodiment 2 FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, 1 to 7 and 10 to 13 are the same as the configuration of the first embodiment. Reference numeral 14 denotes an on-off valve arranged on the side of the platen 10 of the tube 12 of the radiator 11.

【0020】上記のように構成された実施の形態2にお
ける均熱装置においては、放熱体11のチューブ12の
定盤10側に開閉弁14を配置したことにより、例えば
加熱・昇温時の放熱体11からの不要な放熱を削減する
ことができ、熱効率の高い均熱装置を得ることができ
る。また、放熱体11が定盤10の周囲に一カ所配置さ
れた場合を示しているが、定盤10の周囲に複数配置し
ても良い。
In the heat equalizer in the second embodiment configured as described above, the on-off valve 14 is arranged on the side of the platen 10 of the tube 12 of the radiator 11 so that, for example, the heat radiation at the time of heating / heating can be achieved. Unnecessary heat radiation from the body 11 can be reduced, and a heat equalizer with high thermal efficiency can be obtained. Moreover, although the case where the heat radiator 11 is arranged at one place around the surface plate 10 is shown, a plurality of heat radiators 11 may be arranged around the surface plate 10.

【0021】実施の形態3.図4はこの発明の実施の形
態3における均熱装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、1〜7、10〜13は上述した実施の形態1の
構成と同様である。15は放熱体11のチューブ12の
定盤10側に設けられたフレキシブル体である。
Embodiment 3 FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 3 of the present invention. In the figure, 1 to 7 and 10 to 13 are the same as the configuration of the first embodiment. Reference numeral 15 denotes a flexible body provided on the surface plate 10 side of the tube 12 of the radiator 11.

【0022】このように上記実施の形態3によれば、放
熱体11のチューブ12の定盤10側にフレキシブル体
15を設けたことにより、例えば加熱・昇温時におい
て、放熱体11からの不要な放熱を削減したい場合は、
放熱体11の放熱フィン13側を定盤10よりも下方に
することで、凝縮液化した作動液がチューブ12内に溜
まるため、放熱を抑制することができる。また、冷却・
降温時は放熱体11の放熱フィン13側を定盤10より
も上方にすることで、蒸発気化・凝縮液化のサイクルが
正常に行われ、効率良く定盤10に蓄積された熱を放熱
することができる。また、放熱体11が定盤10の周囲
に一カ所配置された場合を示しているが、定盤10の周
囲に複数配置しても良い。
As described above, according to the third embodiment, since the flexible body 15 is provided on the side of the platen 10 of the tube 12 of the radiator 11, unnecessary heat from the radiator 11 can be obtained, for example, at the time of heating / heating. If you want to reduce heat dissipation,
By setting the radiator fin 13 side of the radiator 11 below the surface plate 10, the condensed and liquefied working fluid accumulates in the tube 12, so that heat radiation can be suppressed. In addition, cooling
By setting the radiator fin 13 side of the radiator 11 above the surface plate 10 at the time of cooling, the cycle of evaporation / condensation and liquefaction is performed normally, and the heat accumulated in the surface plate 10 is efficiently radiated. Can be. Moreover, although the case where the heat radiator 11 is arranged at one place around the surface plate 10 is shown, a plurality of heat radiators 11 may be arranged around the surface plate 10.

【0023】実施の形態4.図5はこの発明の実施の形
態4における均熱装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、1〜7、10〜13は上述した実施の形態1の
構成と同様である。16は放熱体11の放熱フィン13
近傍に配置される送風機である。
Embodiment 4 FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 4 of the present invention. In the figure, 1 to 7 and 10 to 13 are the same as the configuration of the first embodiment. 16 is a radiation fin 13 of the radiator 11
It is a blower arranged in the vicinity.

【0024】上記のように構成された実施の形態4で
は、放熱体11の放熱フィン13近傍に送風機16を配
置したことにより、放熱体11の放熱熱伝達を促進させ
ることができ、より早い時間での降温を可能とし、さら
に温度制御性の高い均熱装置を得ることができる。な
お、送風機16を設置する場合、常時稼働することは、
例えば定盤10を加熱昇温する場合において、無駄な放
熱により、定盤10が設定温度に達するまでの時間が長
くなってしまうので、加熱昇温時は送風機16を停止し
ておき、降温が必要となった場合にのみ送風機16を運
転するようにすることによりさらに効率の良い運転が可
能となる。また、放熱体11が定盤10の周囲に一カ所
配置された場合を示しているが、定盤10の周囲に複数
配置しても良い。
In the fourth embodiment configured as described above, by disposing the blower 16 in the vicinity of the radiating fins 13 of the radiator 11, heat transfer of the radiator 11 to the radiator 11 can be promoted, and the time can be shortened. , And a temperature equalizing device with high temperature controllability can be obtained. In addition, when installing the blower 16, always operating always means
For example, in the case of heating and raising the temperature of the surface plate 10, the time required for the surface plate 10 to reach the set temperature is prolonged due to wasteful heat radiation. By operating the blower 16 only when necessary, more efficient operation is possible. Moreover, although the case where the heat radiator 11 is arranged at one place around the surface plate 10 is shown, a plurality of heat radiators 11 may be arranged around the surface plate 10.

【0025】実施の形態5.図6はこの発明の実施の形
態5における均熱装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、1〜7、10〜13、16は上述した実施の形
態4の構成と同様である。17は送風機16の流量を調
整する流量調整体である。
Embodiment 5 FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 5 of the present invention. In the drawing, reference numerals 1 to 7, 10 to 13, and 16 are the same as those of the above-described fourth embodiment. Reference numeral 17 denotes a flow rate adjuster for adjusting the flow rate of the blower 16.

【0026】上記のように構成された実施の形態5で
は、放熱体11の放熱フィン13近傍に送風機16を配
置し、その送風機16の流量を調整する流量調整体17
を設けたことにより、送風機16の流量を調整するする
ことができるので、定盤10の温度の昇温・降温時間を
調整することができる。例えば被成形物に応じて急激に
加熱・冷却したい場合やある一定の温度勾配によって加
熱・冷却したい場合などに対応可能な均熱装置を得るこ
とができる。また、放熱体11が定盤10の周囲に一カ
所配置された場合を示しているが、定盤10の周囲に複
数配置しても良い。
In the fifth embodiment configured as described above, the blower 16 is arranged near the radiating fins 13 of the radiator 11, and the flow adjuster 17 for adjusting the flow rate of the blower 16 is provided.
Is provided, the flow rate of the blower 16 can be adjusted, so that the temperature rise / fall time of the temperature of the surface plate 10 can be adjusted. For example, it is possible to obtain a heat equalizing apparatus that can cope with a case where heating and cooling are required to be performed rapidly according to a molded object or a case where heating and cooling are desired with a certain temperature gradient. Moreover, although the case where the heat radiator 11 is arranged at one place around the surface plate 10 is shown, a plurality of heat radiators 11 may be arranged around the surface plate 10.

【0027】実施の形態6.図7はこの発明の実施の形
態6における均熱装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、1〜7、10〜13は上述した実施の形態1の
構成と同様である。18は放熱体11の放熱フィン13
近傍に配置され、送風量を可変できる可変送風機であ
る。
Embodiment 6 FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 6 of the present invention. In the figure, 1 to 7 and 10 to 13 are the same as the configuration of the first embodiment. 18 is a radiating fin 13 of the radiator 11
It is a variable blower that is arranged in the vicinity and can change the amount of air blow.

【0028】このように上記実施の形態6によれば、放
熱体11の放熱フィン13近傍に可変送風機18を配置
したことにより、上記実施の形態5と同様の効果を奏す
る。さらに、細かな風量調整にも対応することができ、
高精度の均熱装置を得ることができる。また、上記実施
の形態5よりも部品点数も削減でき経済性にも優れてい
る。また、放熱体11が定盤10の周囲に一カ所配置さ
れた場合を示しているが、定盤10の周囲に複数配置し
ても良い。
As described above, according to the sixth embodiment, the same effect as that of the fifth embodiment can be obtained by arranging the variable blower 18 in the vicinity of the radiation fin 13 of the radiator 11. Furthermore, we can cope with minute air volume adjustment,
A high-precision heat equalizer can be obtained. Further, the number of parts can be reduced as compared with the fifth embodiment, and the embodiment is excellent in economy. Moreover, although the case where the heat radiator 11 is arranged at one place around the surface plate 10 is shown, a plurality of heat radiators 11 may be arranged around the surface plate 10.

【0029】実施の形態7.図8はこの発明の実施の形
態7における均熱装置の構成を示す平面図である。図に
おいて、10は定盤、19は一方側が定盤10内部に形
成された流通路4と連通し、他方側が定盤10の外周に
沿って延在する放熱体であり、チューブ20と放熱フィ
ン21とから成る場合を示している。このように、定盤
10の流通路4、液溜り部5、放熱体19のチューブ2
0内とが連通し一つの密閉容器が構成される。
Embodiment 7 FIG. 8 is a plan view showing a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 7 of the present invention. In the drawing, reference numeral 10 denotes a platen, 19 denotes a radiator that communicates on one side with the flow passage 4 formed inside the platen 10, and extends on the other side along the outer periphery of the platen 10. 21 is shown. Thus, the flow path 4 of the surface plate 10, the liquid reservoir 5, and the tube 2 of the radiator 19
The inside of the container communicates with the inside of the container to form one closed container.

【0030】このように上記実施の形態7によれば、放
熱体19の他方側を定盤10の外周に沿って延在させた
ことにより、装置全体の設置スペースを大幅に削減でき
るので、本装置が組み込まれる半導体製造装置、その他
システム等の小型化を図ることができる。
According to the seventh embodiment, since the other side of the heat radiator 19 extends along the outer periphery of the platen 10, the installation space of the entire apparatus can be greatly reduced. It is possible to reduce the size of a semiconductor manufacturing apparatus or other system into which the apparatus is incorporated.

【0031】実施の形態8.図9及び図10はこの発明
の実施の形態8における均熱装置の構成を示す平面図及
び断面図である。これら各図において、1〜7、10〜
13は上述した実施の形態1の構成と同様である。22
は定盤10の外周側に配設される環状の放熱体、23は
一方側が定盤10内部に形成された流通路4と連通し、
他方側が環状の放熱体22と連通する連通管、24は環
状の放熱体22に装着された放熱フィンである。このよ
うに、定盤10の流通路4、液溜り部5、連通管23、
放熱体22内とが連通し一つの密閉容器が構成される。
Embodiment 8 FIG. 9 and 10 are a plan view and a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 8 of the present invention. In these figures, 1 to 7, 10 to 10
Reference numeral 13 is the same as the configuration of the first embodiment. 22
Is an annular heat radiator disposed on the outer peripheral side of the surface plate 10, 23 communicates with a flow passage 4 formed on one side inside the surface plate 10,
A communication pipe having the other side communicating with the annular radiator 22, and a radiating fin 24 attached to the annular radiator 22. Thus, the flow path 4 of the surface plate 10, the liquid reservoir 5, the communication pipe 23,
The inside of the heat dissipating body 22 communicates to form one closed container.

【0032】しかるに、上述した各実施の形態において
は、放熱体が短管構成の場合を示しているが、この場合
には放熱時に定盤10部の熱で作動液が急騰し、これに
よって定盤10部先端へ作動液が押しやられて作動液が
定盤10部へ還流しない熱輸送限界現象が生じる可能性
がある。しかし、このように上記実施の形態8によれ
ば、定盤10の外周側に環状の放熱体22を配設し、連
通管23により定盤10内部に形成された流通路4と環
状の放熱体22と連通することにより、放熱体22全体
をループ構造とすることができるので、熱輸送限界現象
を生じるのを抑制することができ、安定した均熱装置を
得ることができる。
In each of the above-described embodiments, the case where the heat radiator has a short tube configuration is shown. In this case, the operating fluid rapidly rises due to the heat of the platen 10 at the time of heat radiation. There is a possibility that the hydraulic fluid is pushed to the tip of the platen 10 and the hydraulic fluid is not returned to the platen 10, causing a heat transport limit phenomenon. However, according to the eighth embodiment, the annular heat radiator 22 is provided on the outer peripheral side of the surface plate 10, and the communication passage 23 forms the annular heat radiator 22 with the flow passage 4 formed inside the surface plate 10. By communicating with the body 22, the entire heat dissipating body 22 can have a loop structure, so that it is possible to suppress the occurrence of the heat transport limit phenomenon, and to obtain a stable heat equalizing device.

【0033】実施の形態9.図11はこの発明の実施の
形態9における均熱装置の構成を示す断面図である。図
において、1〜7、10〜13、22〜24は上述した
実施の形態8の構成と同様である。25は環状の放熱体
22へ送風するために設置される送風ダクト、26は送
風ダクト25に設置される送風機である。
Embodiment 9 FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 9 of the present invention. In the figure, reference numerals 1 to 7, 10 to 13, and 22 to 24 are the same as those in the configuration of the eighth embodiment. Reference numeral 25 denotes a blower duct installed to blow air to the annular heat radiator 22, and reference numeral 26 denotes a blower installed in the blower duct 25.

【0034】このように上記実施の形態9によれば、環
状の放熱体22へ送風する送風ダクト25に送風機26
からの冷却風を通すことにより、その冷却風により環状
の放熱体22が冷却されるので、定盤10面をより均一
に保持しながら急速な冷却が可能となる。
As described above, according to the ninth embodiment, the blower duct 26 for blowing the annular radiator 22
By passing the cooling air from above, the annular heat radiator 22 is cooled by the cooling air, so that rapid cooling is possible while maintaining the surface of the platen 10 more uniformly.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上のように、この発明の請求項1に係
る均熱装置は、被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、その定盤を介して被成形物を加熱する熱源
を備えた均熱装置において、一方側が定盤内部に形成さ
れた流通路と連通し、他方側が定盤外方に延在する放熱
体を設けたことにより、定盤部の温度を均一に保ちなが
ら降温させることができ、温度制御性の高い均熱装置を
得ることができる。
As described above, in the heat equalizing apparatus according to the first aspect of the present invention, the flow passage is formed inside the surface plate on which the object is mounted, and the object is formed through the surface plate. In the heat equalizer provided with a heat source for heating the platen, one side communicates with a flow passage formed inside the platen, and the other side is provided with a radiator extending outside the platen. Can be lowered while keeping the temperature uniform, and a heat equalizer with high temperature controllability can be obtained.

【0036】また、この発明の請求項2に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
定盤側に配置される開閉弁とを設けたことにより、加熱
・昇温時の放熱体からの不要な放熱を削減することがで
き、熱効率の高い均熱装置を得ることができる。
Further, the heat equalizer according to a second aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside the surface plate on which the object is placed, and for heating the object via the surface plate. In the heat equalizer, one side is provided with a radiator communicating with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends outside the surface plate, and an on-off valve disposed on the surface plate side of the heat radiator. This makes it possible to reduce unnecessary heat radiation from the radiator at the time of heating / heating, and to obtain a heat equalizer with high thermal efficiency.

【0037】また、この発明の請求項3に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し、他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体
の定盤側に設けられたフレキシブル体とを設けたことに
より、加熱・昇温時の放熱体からの不要な放熱を削減す
ることができ、熱効率の高い均熱装置を得ることができ
る。
The heat equalizer according to a third aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside the surface plate on which the object is placed, and for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side includes a radiator extending outward from the surface plate, and a flexible body provided on the surface plate side of the radiator. As a result, unnecessary heat radiation from the radiator at the time of heating / heating can be reduced, and a heat equalizer with high thermal efficiency can be obtained.

【0038】また、この発明の請求項4に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
近傍に配置される送風機とを設けたことにより、放熱体
11の放熱熱伝達を促進させることができ、より早い時
間での降温を可能とし、さらに温度制御性の高い均熱装
置を得ることができる。
The heat equalizer according to a fourth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside the surface plate on which the object is placed, and for heating the object via the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with the flow passage formed inside the surface plate, the other side is provided with a radiator extending outside the surface plate, and a blower disposed near the radiator, The heat transfer of the heat radiating body 11 can be promoted, the temperature can be lowered in a shorter time, and a heat equalizer with higher temperature control can be obtained.

【0039】また、この発明の請求項5に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
近傍に配置される送風機と、送風機の流量を調整する流
量調整体とを設けたことにより、送風機の流量を調整す
るすることができるので、定盤10の温度の昇温・降温
時間を調整することができる。
A heat equalizer according to a fifth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends a heat radiator outside the surface plate, a blower disposed near the heat radiator, and adjusts a flow rate of the blower. The flow rate of the blower can be adjusted by providing the flow rate adjusting member that performs the temperature control, so that the temperature rise / fall time of the temperature of the surface plate 10 can be adjusted.

【0040】また、この発明の請求項6に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し他方側が定盤外方に延在する放熱体と、放熱体の
近傍に配置され、送風量を可変できる可変送風機とを設
けたことにより、上記実施の形態5と同様の効果を奏す
る。さらに、細かな風量調整にも対応することができ、
高精度の均熱装置を得ることができる。
The heat equalizer according to a sixth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside the surface plate on which the object is placed and heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side communicates with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side extends to the outside of the surface plate, and a radiator that is disposed near the radiator, and a variable blower that can vary the amount of air blown. Is provided, the same effect as that of the fifth embodiment can be obtained. Furthermore, we can cope with minute air volume adjustment,
A high-precision heat equalizer can be obtained.

【0041】また、この発明の請求項7に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、一方側が定盤内部に形成された流通路と
連通し、他方側が定盤の外周に沿って延在する放熱体を
設けたことにより、装置全体の設置スペースを大幅に削
減できるので、本装置が組み込まれる装置、その他シス
テム等の小型化を図ることができる。
A heat equalizer according to a seventh aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, one side is connected to the flow passage formed inside the surface plate, and the other side is provided with a radiator extending along the outer circumference of the surface plate. Therefore, it is possible to reduce the size of a device in which the present device is incorporated and other systems.

【0042】また、この発明の請求項8に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、定盤の外周側に配設される環状の放熱体
と、一方側が定盤内部に形成された流通路と連通し、他
方側が環状の放熱体と連通する連通管とを設けたことに
より、放熱体全体をループ構造とすることができるの
で、熱輸送限界現象を生じるのを抑制することができ、
安定した均熱装置を得ることができる。
Further, the heat equalizer according to claim 8 of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside the surface plate on which the object is placed, and for heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, an annular heat radiator disposed on the outer peripheral side of the surface plate, and a communication pipe having one side communicating with a flow passage formed inside the surface plate and the other side communicating with the annular heat radiator. With the provision, the entire radiator can have a loop structure, so that it is possible to suppress the occurrence of the heat transport limit phenomenon,
A stable soaking device can be obtained.

【0043】また、この発明の請求項9に係る均熱装置
は、被成形物が載置される定盤内部に流通路が形成さ
れ、定盤を介して被成形物を加熱する熱源を備えた均熱
装置において、定盤の外周側に配設される環状の放熱体
と、一方側が定盤内部に形成された流通路と連通し、他
方側が環状の放熱体と連通する連通管と、環状の放熱体
へ送風するために設置される送風ダクトと、送風ダクト
に設置される送風機とを設けたことにより、その冷却風
により環状の放熱体が冷却されるので、定盤面をより均
一に保持しながら急速な冷却が可能となる。
A heat equalizer according to a ninth aspect of the present invention is provided with a heat source having a flow passage formed inside a surface plate on which the object is placed, and heating the object through the surface plate. In the heat equalizer, an annular heat radiator disposed on the outer peripheral side of the surface plate, a communication pipe having one side communicating with a flow passage formed inside the surface plate, and the other side communicating with the annular heat radiator, By providing a blower duct installed to blow air to the annular radiator and a blower installed in the blower duct, the annular radiator is cooled by the cooling air, so the surface of the surface plate can be made more uniform. Rapid cooling is possible while holding.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1における均熱装置の
構成を示す要部平面図である。
FIG. 1 is a main part plan view showing a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態1における均熱装置の
構成を示す側断面図である。
FIG. 2 is a side sectional view showing a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention.

【図3】 この発明の実施の形態2における均熱装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 2 of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態3における均熱装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 3 of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態4における均熱装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 4 of the present invention.

【図6】 この発明の実施の形態5における均熱装置の
構成を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 5 of the present invention.

【図7】 この発明の実施の形態6における均熱装置の
構成を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 6 of the present invention.

【図8】 この発明の実施の形態7における均熱装置の
構成を示す平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 7 of the present invention.

【図9】 この発明の実施の形態8における均熱装置の
構成を示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view showing a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 8 of the present invention.

【図10】 この発明の実施の形態8における均熱装置
の構成を示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizer according to Embodiment 8 of the present invention.

【図11】 この発明の実施の形態9における均熱装置
の構成を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a heat equalizing apparatus according to Embodiment 9 of the present invention.

【図12】 従来の均熱装置の一例を示す要部平面図で
ある。
FIG. 12 is a plan view of a main part showing an example of a conventional heat equalizer.

【図13】 従来の均熱装置の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating an example of a conventional heat equalizer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 流通路、7 熱源、10 定盤、11 放熱体、1
4 開閉弁、15 フレキシブル体、16 送風機、1
7 流量調整体、18 可変送風機、19 放熱体、2
2 放熱体、23 連通管、25 送風ダクト、26
送風機。
4 flow passage, 7 heat source, 10 platen, 11 heat sink, 1
4 On-off valve, 15 Flexible body, 16 Blower, 1
7 flow rate adjuster, 18 variable blower, 19 radiator, 2
2 heat radiator, 23 communication pipe, 25 air duct, 26
Blower.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部
に形成された流通路と連通し、他方側が上記定盤外方に
延在する放熱体を備えたことを特徴とする均熱装置。
1. A heat equalizer provided with a heat source for forming a flow path inside a surface plate on which a molding object is placed and for heating the molding material through the surface plate, wherein one side of the temperature equalizer is the surface plate. A heat equalizer, comprising: a radiator communicating with a flow passage formed therein and having the other side extending outward from the surface plate.
【請求項2】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部
に形成された流通路と連通し他方側が上記定盤外方に延
在する放熱体と、上記放熱体の上記定盤側に配置される
開閉弁とを備えたことを特徴とする均熱装置。
2. A heat equalizer provided with a heat source for forming a flow passage inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object through the surface plate, wherein one side of the heat equalizer is the surface plate. A heat equalizer, comprising: a radiator communicating with a flow passage formed therein and having the other side extending outward from the platen; and an on-off valve disposed on the platen side of the radiator. apparatus.
【請求項3】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部
に形成された流通路と連通し他方側が上記定盤外方に延
在する放熱体と、上記放熱体の上記定盤側に設けられた
フレキシブル体とを備えたことを特徴とする均熱装置。
3. A heat equalizer having a heat source for forming a flow path inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object through the surface plate, wherein one side of the temperature equalizer is the surface plate. A heat equalizer comprising: a radiator communicating with a flow passage formed therein and having the other side extending outward from the platen; and a flexible body provided on the platen side of the radiator. apparatus.
【請求項4】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部
に形成された流通路と連通し、他方側が上記定盤外方に
延在する放熱体と、上記放熱体の近傍に配置される送風
機とを備えたことを特徴とする均熱装置。
4. A heat equalizer having a heat source for forming a flow path inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object through the surface plate, wherein one side of the heat equalizer is the surface plate. A heat equalizer, comprising: a heat radiator communicating with a flow passage formed therein and having the other side extending outside the surface plate; and a blower disposed near the heat radiator.
【請求項5】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部
に形成された流通路と連通し他方側が上記定盤外方に延
在する放熱体と、上記放熱体の近傍に配置される送風機
と、上記送風機の流量を調整する流量調整体とを備えた
ことを特徴とする均熱装置。
5. A heat equalizer provided with a heat source for forming a flow path inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object via the surface plate, wherein one side of the heat equalizer is the surface plate. A radiator communicating with a flow passage formed therein and extending on the other side to the outside of the surface plate, a blower arranged near the radiator, and a flow regulator for adjusting a flow rate of the blower are provided. A soaking device.
【請求項6】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
がされ、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する熱源
を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部に形
成された流通路と連通し他方側が上記定盤外方に延在す
る放熱体と、上記放熱体の近傍に配置され、送風量を可
変できる可変送風機とを備えたことを特徴とする均熱装
置。
6. A heat equalizer provided with a heat source for heating a molding object through the surface plate through a flow passage inside the surface plate on which the molding object is placed, wherein one side is inside the surface plate. A radiator that communicates with the flow passage formed on the other side and extends on the other side to the outside of the platen; and a variable blower that is disposed near the radiator and that can vary the amount of air blown. Thermal equipment.
【請求項7】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、一方側が上記定盤内部
に形成された流通路と連通し、他方側が上記定盤の外周
に沿って延在する放熱体を備えたことを特徴とする均熱
装置。
7. A heat equalizing apparatus having a heat source for forming a flow path inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object through the surface plate, wherein one side of the heat equalizer is the surface plate. A heat equalizer, comprising: a heat radiator that communicates with a flow passage formed therein and has the other side extending along the outer periphery of the surface plate.
【請求項8】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、上記定盤の外周側に配
設される環状の放熱体と、一方側が上記定盤内部に形成
された流通路と連通し、他方側が環状の放熱体と連通す
る連通管とを備えたことを特徴とする均熱装置。
8. A heat equalizer provided with a heat source for forming a flow passage inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object through the surface plate, wherein an outer periphery of the surface plate is provided. An annular heat radiator disposed on one side of the platen, and a communication pipe communicating on one side with a flow passage formed inside the surface plate and communicating with the annular heat radiator on the other side. apparatus.
【請求項9】 被成形物が載置される定盤内部に流通路
が形成され、上記定盤を介して上記被成形物を加熱する
熱源を備えた均熱装置において、上記定盤の外周側に配
設される環状の放熱体と、一方側が上記定盤内部に形成
された流通路と連通し、他方側が環状の放熱体と連通す
る連通管と、上記環状の放熱体へ送風するために設置さ
れる送風ダクトと、上記送風ダクトに設置される送風機
とを備えたことを特徴とする均熱装置。
9. A heat equalizer having a heat source for forming a flow path inside a surface plate on which a molded object is placed and heating the molded object through the surface plate, wherein an outer periphery of the surface plate is provided. The annular radiator disposed on the side, one side communicates with the flow passage formed inside the surface plate, and the other side communicates with the annular radiator, and for blowing air to the annular radiator. A heat equalizer, comprising: a blower duct installed in the blower duct; and a blower installed in the blower duct.
JP12343398A 1998-05-06 1998-05-06 Soaking equipment Expired - Lifetime JP3757056B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12343398A JP3757056B2 (en) 1998-05-06 1998-05-06 Soaking equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12343398A JP3757056B2 (en) 1998-05-06 1998-05-06 Soaking equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11314224A true JPH11314224A (en) 1999-11-16
JP3757056B2 JP3757056B2 (en) 2006-03-22

Family

ID=14860462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12343398A Expired - Lifetime JP3757056B2 (en) 1998-05-06 1998-05-06 Soaking equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3757056B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001307978A (en) * 2000-04-18 2001-11-02 Tokyo Electron Ltd Substrate mounting table
US7017658B2 (en) 2002-01-31 2006-03-28 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Heat processing device
JP2006222214A (en) * 2005-02-09 2006-08-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Heat treatment apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001307978A (en) * 2000-04-18 2001-11-02 Tokyo Electron Ltd Substrate mounting table
US7017658B2 (en) 2002-01-31 2006-03-28 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Heat processing device
JP2006222214A (en) * 2005-02-09 2006-08-24 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Heat treatment apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP3757056B2 (en) 2006-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5203399A (en) Heat transfer apparatus
US6889756B1 (en) High efficiency isothermal heat sink
US8353334B2 (en) Nano tube lattice wick system
US4633371A (en) Heat pipe heat exchanger for large scale integrated circuits
US4941527A (en) Heat pipe with temperature gradient
US20040244950A1 (en) Optimized multiple heat pipe blocks for electronics cooling
US20150060023A1 (en) Fin-diffuser heat sink with high conductivity heat spreader
US20040179338A1 (en) Loop thermosyphon with wicking structure and semiconductor die as evaporator
JPH11314224A (en) Uniformly heating apparatus
JPH0792037A (en) Thermometer calibrating device
KR102664796B1 (en) Evaporative microchip cooling method
US6595270B2 (en) Using micro heat pipes as heat exchanger unit for notebook applications
CN206556483U (en) Heat-pipe radiator
JP4030861B2 (en) Soaking equipment
KR20150008974A (en) Fluid dynamic pressure heat dissipating device
CN206559796U (en) Heat-pipe radiator
CN206556482U (en) Heat-pipe radiator
JP2006147924A (en) Temperature regulator
CN111578392A (en) Radiator and air condensing units
CN106637139A (en) Flow stabilization chamber cavity temperature controllable matrix carrier structure
CN206556481U (en) Heat-pipe radiator
JP3805528B2 (en) Soaking equipment
CN211607178U (en) Multi-zone forced flow guiding and temperature equalizing plate, radiator and electronic product
JPH07332883A (en) Flat heat pipe and heat sink using the flat heat pipe
KR102219184B1 (en) Heat sink having 3d-circular shape

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040225

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20040315

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050322

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050520

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20051220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20051226

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090106

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100106

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100106

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110106

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110106

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120106

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120106

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130106

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130106

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140106

Year of fee payment: 8

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term