JPH11311789A - Substrate for divided alignment and liquid crystal display device using the substrate - Google Patents

Substrate for divided alignment and liquid crystal display device using the substrate

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JPH11311789A
JPH11311789A JP11861498A JP11861498A JPH11311789A JP H11311789 A JPH11311789 A JP H11311789A JP 11861498 A JP11861498 A JP 11861498A JP 11861498 A JP11861498 A JP 11861498A JP H11311789 A JPH11311789 A JP H11311789A
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resin
liquid crystal
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projections
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剛 田中
Masaharu Taniguchi
雅治 谷口
Haruki Nonaka
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133707Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to embody a good display characteristic and wide visual field angle by constituting projections formed on a substrate surface for the purpose of divided alignment of at least fillers and resin. SOLUTION: The projections are formed by preparing a paste for the projections formed by mixing and dispersing at least the fillers and the resin and applying this paste on the substrate and subjecting the coating to patterning after drying. These fillers are inorg. and org. particles having the insoluble nature to the resin forming the projections and the solvent and developer thereof. The weight ratio of the fillers and the resin is preferably 3:7 to 9:1. A black matrix 2 is formed by using a black paste on non-alkali glass 1. Blue colored layers 3 are formed so as to fill the apertures of this black matrix 2. Red colored layers 4 and green colored layers 5 are similarly formed. A transparent protective layer 6 is formed and further a transparent conductive layer 7 are laminated. The projections 8 for divided alignment are formed on the transparent conductive layer 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、分割配向のための
突起及びこれを用いた液晶表示装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a projection for split alignment and a liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置の大画面化やモニタ用途へ
の展開に伴い視野角の拡大が求められている。液晶分子
の傾きが一方向だけであると液晶分子が傾いた方向にお
いて視野角の非対称性が大きく、かつ視野角が小さくな
る。分割配向とは液晶表示装置の1画素内を複数の領域
に分け、各領域で液晶分子の傾きを変える技術である。
分割配向技術としてはフォトリソグラフィーを利用して
液晶配向膜のラビングの向きが異なる領域を1画素内に
作る技術が知られているが、工程が多いフォトリソグラ
フィーを採用することによる生産性の低下やフォトリソ
グラフィーで使用する現像液や剥離液で先に形成した液
晶配向膜がダメージを受ける問題があった。
2. Description of the Related Art With the enlargement of the screen of a liquid crystal display device and its application to monitor applications, there is a demand for an increase in the viewing angle. If the tilt of the liquid crystal molecules is only one direction, the asymmetry of the viewing angle is large and the viewing angle is small in the direction in which the liquid crystal molecules are tilted. Divided orientation is a technique in which one pixel of a liquid crystal display device is divided into a plurality of regions, and the inclination of liquid crystal molecules is changed in each region.
As a division alignment technique, a technique is known in which a region in which the rubbing direction of the liquid crystal alignment film is different within one pixel using photolithography. However, productivity is reduced due to the use of photolithography having many steps. There has been a problem that the liquid crystal alignment film previously formed is damaged by a developing solution or a stripping solution used in photolithography.

【0003】一方、液晶表示方式として電圧無印加のと
きに液晶分子長軸が基板表面に対して垂直に配向してお
り、電圧印加で液晶長軸が基板面と平行方向に倒れる垂
直配向方式が提案されている。また、垂直配向方式の分
割配向技術として基板上に形成した傾斜を利用するもの
が提案されている。すなわち、基板上の一部に突起を作
り、この側面の傾斜で基板面に垂直方向に長軸を配向し
ようとする液晶分子を傾け、将棋倒し状に表示領域の液
晶分子の配向をわずかに垂直方向から倒す方法である。
液晶分子は電圧印加すると突起の作用で傾いている方向
にさらに深く倒れていく。突起が三角形または台形の断
面を持つストライプであれば2つの斜面において液晶分
子は二方向に分かれて倒されて二方向の分割配向ができ
る。また、突起が角錐であればその斜面の数によって配
向分割数が決まり、突起が円錐であれば放射状の液晶配
向が得られる。該側面の傾斜は順テーパである。また、
突起の頂部は表示に寄与しないのでなるべく狭いことが
望ましい。また、突起の形状が不均一であると液晶配向
の乱れが生じるため、表示ムラが発生する原因となる。
このため、突起を形成する手法としては、微細なパター
ンを寸法精度良く加工できるフォトリソグラフィーが用
いられている。すなわち、突起を構成する樹脂が非感光
性の樹脂である場合は、その上にフォトレジスト膜を形
成した後に、また、突起を構成する樹脂が感光性の樹脂
である場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形成し
た後に、所定のパターンを有するフォトマスクを介し、
露光、現像を行うことにより形成される。
On the other hand, as a liquid crystal display method, there is a vertical alignment method in which the long axis of liquid crystal molecules is oriented perpendicular to the substrate surface when no voltage is applied, and the long axis of the liquid crystal is tilted in a direction parallel to the substrate surface when voltage is applied. Proposed. Further, a technique utilizing a tilt formed on a substrate has been proposed as a vertical alignment type division alignment technique. In other words, a projection is formed on a part of the substrate, and the liquid crystal molecules that are going to align the long axis in the direction perpendicular to the substrate surface are tilted by the inclination of the side surface, and the alignment of the liquid crystal molecules in the display area is slightly shifted in the vertical direction like a shogi. It is a method of defeating from.
When a voltage is applied, the liquid crystal molecules fall further in the direction inclined by the action of the projections. If the protrusions are stripes having a triangular or trapezoidal cross section, the liquid crystal molecules are divided in two directions on two slopes and fall down, so that the liquid crystal molecules can be divided in two directions. If the projection is a pyramid, the number of alignment divisions is determined by the number of slopes. If the projection is a cone, radial liquid crystal alignment can be obtained. The slope of the side surface is a forward taper. Also,
Since the top of the projection does not contribute to display, it is desirable to be as narrow as possible. In addition, if the shape of the projections is not uniform, the liquid crystal alignment is disturbed, which causes display unevenness.
For this reason, as a method of forming the projection, photolithography capable of processing a fine pattern with high dimensional accuracy is used. That is, if the resin constituting the projection is a non-photosensitive resin, a photoresist film is formed thereon, and if the resin constituting the projection is a photosensitive resin, the resin is left alone or oxygen. After forming the blocking film, through a photomask having a predetermined pattern,
It is formed by performing exposure and development.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フォト
リソグラフィーによって突起を形成する場合において、
該突起が樹脂からのみ構成されていると、現像液に対す
る溶解性が著しく大きいため、現像速度をコントロール
することが困難であった。このため、生産プロセスにお
いて、微細な突起を寸法精度よく、かつ安定して形成し
にくいという問題があった。
However, when a projection is formed by photolithography,
When the projections are composed only of a resin, the solubility in a developing solution is remarkably large, so that it has been difficult to control the developing speed. For this reason, there has been a problem that it is difficult to stably form fine projections with high dimensional accuracy in the production process.

【0005】本発明は、上記課題を解決するために本発
明者等は種々の材料と加工方法を検討した結果、以下の
構成により形成される突起、及びこれを有する液晶表示
装置が良好な表示特性と広視野角を示すことを見いだ
し、本発明に到達したものである。
According to the present invention, the present inventors have studied various materials and processing methods in order to solve the above-mentioned problems. As a result, a projection formed by the following structure and a liquid crystal display device having the same have a good display. The present inventors have found that they exhibit characteristics and a wide viewing angle, and have reached the present invention.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の構
成により達成される。
The object of the present invention is achieved by the following constitution.

【0007】1)液晶表示に用いられる分割配向用基板
であって、液晶の分割配向のために基板表面に形成され
た突起が、少なくともフィラー、及び樹脂から構成され
ていることを特徴とする分割配向用基板。
1) A division alignment substrate used for liquid crystal display, wherein a projection formed on the substrate surface for division alignment of liquid crystal is composed of at least a filler and a resin. Substrate for alignment.

【0008】2)前記フィラーが、バライト、硫酸バリ
ウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカおよびタ
ルクの群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴
とする(1)記載の分割配向用基板。
[0008] 2) The substrate according to (1), wherein the filler is at least one selected from the group consisting of barite, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, silica and talc.

【0009】3)前記突起の体積抵抗率が107 Ωcm
以上であることを特徴とする(1)記載の分割配向用基
板。
3) The volume resistivity of the projection is 10 7 Ωcm.
The substrate for split orientation according to (1), characterized in that:

【0010】4)前記突起を構成する樹脂がポリイミド
系樹脂またはアクリル系樹脂であることを特徴とする
(1)記載の分割配向用基板。
(4) The substrate for split orientation according to (1), wherein the resin forming the protrusion is a polyimide resin or an acrylic resin.

【0011】5)分割配向用基板がカラーフィルター基
板であることを特徴とする(1)〜(4)の何れかに記
載の分割配向用基板。
(5) The substrate for division alignment according to any one of (1) to (4), wherein the substrate for division alignment is a color filter substrate.

【0012】6)分割配向用基板が電極基板であること
を特徴とする(1)〜(4)の何れかに記載の分割配向
用基板。
(6) The substrate for split alignment according to any one of (1) to (4), wherein the substrate for split alignment is an electrode substrate.

【0013】7)(1)〜(6)の何れかに記載の分割
配向用基板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
(7) A liquid crystal display device using the substrate for divisional alignment according to any one of (1) to (6).

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の突起は、まずこれを構成
する少なくともフィラー、及び樹脂を混合・分散してな
る突起用ペーストを作製し、これを基板上に塗布、乾燥
した後に、パターニングを行うことにより形成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The projections of the present invention are prepared by first preparing a projection paste obtained by mixing and dispersing at least a filler and a resin constituting the projections, applying the paste on a substrate and drying the paste. It is formed by performing.

【0015】本発明において、突起を構成するフィラー
とは、突起を構成する樹脂、及びその溶剤、及び現像液
に対して不溶性の性質を有する無機、及び有機の粒子を
指す。 無機粒子としては、シリカ、硫酸バリウム、炭
酸バリウム、炭酸カルシウム、タルクなどの体質顔料、
および黒、赤、青、緑などの着色顔料、及びアルミナ、
ジルコニア、マグネシア、ベリリア、ムライト、コージ
ライトなどのセラミックス粉末、及びガラス−セラミッ
クス複合粉末などが用いられる。体質顔料の内、バライ
ト、硫酸バリウム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、シ
リカおよびタルクは着色がなく、突起を透明にできるの
で、特に好ましい。また、突起に遮光性が要求される際
には、カーボンブラック、チタンブラック(TiNxO
y:ただし、0≦x<1.5、0.1<y<1.8)、
酸化マンガン、四酸化鉄、などの金属酸化物粉、金属硫
化物粉、金属粉を用いることができる。この中でも、カ
ーボンブラックは遮光性に優れており、特に好ましい。
突起に遮光性と絶縁性が要求される際には、酸化アルミ
ニウム、チタンブラック、酸化鉄などの絶縁性無機粒子
や表面に樹脂を被覆したカーボンブラックを用いてもよ
い。
In the present invention, the filler constituting the projection refers to a resin constituting the projection, and inorganic and organic particles having a property of being insoluble in a solvent and a developing solution thereof. As inorganic particles, silica, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, extender pigments such as talc,
And black, red, blue, green and other coloring pigments, and alumina,
Ceramic powders such as zirconia, magnesia, beryllia, mullite, cordierite, and glass-ceramic composite powders are used. Of the extender pigments, barite, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, silica and talc are particularly preferred because they have no coloring and can make the projections transparent. When projections are required to be light-shielding, carbon black, titanium black (TiNxO
y: However, 0 ≦ x <1.5, 0.1 <y <1.8),
Metal oxide powder such as manganese oxide and iron tetroxide, metal sulfide powder, and metal powder can be used. Among them, carbon black is excellent in light-shielding properties and is particularly preferable.
When the projections are required to have a light-shielding property and an insulating property, insulating inorganic particles such as aluminum oxide, titanium black, and iron oxide, or carbon black having a surface coated with a resin may be used.

【0016】有機粒子としては高分子量、あるいは高架
橋度に重合された樹脂のビーズなどが好適に用いられ
る。
As the organic particles, resin beads polymerized with a high molecular weight or a high degree of crosslinking are preferably used.

【0017】フィラーの粒径は平均1次粒子径が5〜4
0nmが好ましく、より好ましくは6〜35nm、さら
に好ましくは8〜30nmである。
The average primary particle diameter of the filler is 5-4.
The thickness is preferably 0 nm, more preferably 6 to 35 nm, and still more preferably 8 to 30 nm.

【0018】フィラーは突起用ペースト中で、凝集して
フィラーの2次粒子を形成する場合があり、この粒子径
の平均を平均2次粒子径とすると、平均2次粒子径が小
さくなるよう微分散させることが好ましく、2次粒子を
形成せず1次粒子で安定性よく分散せしめるのがより好
ましい。平均2次粒子径としては、5〜100nmが好
ましく、より好ましくは6〜88nm、さらに好ましく
は8〜75nmである。これより大きければ突起表面に
凹凸が生じ、液晶配向の乱れにより表示不良を引き起
し、好ましくない。平均1次粒子径、平均2次粒子径の
求め方としては、例えば透過型もしくは走査型電子顕微
鏡等でフィラーを観察し、JIS−R6002に準じて
平均粒径を求める。
In some cases, the filler aggregates in the projection paste to form secondary particles of the filler. When the average of these particle diameters is defined as the average secondary particle diameter, the filler is finely reduced so that the average secondary particle diameter becomes small. It is preferable to disperse, and it is more preferable to disperse the primary particles with good stability without forming secondary particles. The average secondary particle diameter is preferably from 5 to 100 nm, more preferably from 6 to 88 nm, and still more preferably from 8 to 75 nm. If it is larger than this, projections and depressions are formed on the surface of the projection, and display defects are caused due to disorder of liquid crystal alignment, which is not preferable. The average primary particle diameter and the average secondary particle diameter are determined, for example, by observing the filler with a transmission or scanning electron microscope or the like, and determining the average particle diameter according to JIS-R6002.

【0019】本発明において、突起を構成する樹脂とし
ては、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレ
フィン系樹脂等の感光性又は非感光性のものが好ましく
用いられるが、突起を構成するフィラーを溶解せしめる
性質を有するものでなければこれらに限られるものでは
ない。
In the present invention, the resin constituting the projection is preferably a photosensitive or non-photosensitive resin such as a polyimide resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, and a polyolefin resin. They are used, but are not limited to these as long as they do not have the property of dissolving the filler constituting the projections.

【0020】感光性の樹脂としては、光分解型樹脂、光
架橋型樹脂、光重合型樹脂などのタイプがあり、特に、
エチレン不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー又は
ポリマーと紫外線によりラジカルを発生する開始剤とを
含む感光性組成物、感光性ポリアミック酸組成物等が好
適に用いられる。
As the photosensitive resin, there are types such as a photodecomposable resin, a photocrosslinkable resin, and a photopolymerizable resin.
A photosensitive composition, a photosensitive polyamic acid composition, or the like containing a monomer, oligomer, or polymer having an ethylenically unsaturated bond and an initiator that generates a radical by ultraviolet light is preferably used.

【0021】非感光性の樹脂としては、上記の各種ポリ
マーなどで現像処理が可能なものが好ましく用いられる
が、透明導電層の製膜工程や液晶表示装置の製造工程で
かかる熱に耐えられるような耐熱性を有する樹脂が好ま
しく、また、液晶表示装置の製造工程で使用される有機
溶剤への耐性を持つ樹脂が好ましく、中でもポリイミド
系樹脂が特に好ましい。
As the non-photosensitive resin, those which can be developed with the above-mentioned various polymers are preferably used. However, the non-photosensitive resin should be able to withstand the heat in the process of forming a transparent conductive layer and the process of manufacturing a liquid crystal display device. A resin having excellent heat resistance is preferable, and a resin having resistance to an organic solvent used in a manufacturing process of a liquid crystal display device is preferable, and a polyimide resin is particularly preferable.

【0022】ここで、ポリイミド系樹脂としては、特に
限定されるものではないが、通常下記一般式で表される
構造単位を主成分とするポリイミド前駆体を、加熱又は
適当な触媒によってイミド化したものが好適に用いられ
る。
Here, the polyimide resin is not particularly limited, but usually a polyimide precursor having a structural unit represented by the following general formula as a main component is imidized by heating or an appropriate catalyst. Are preferably used.

【0023】[0023]

【化1】 ここで上記一般式のnは0あるいは1〜4の数である。
1 は酸成分残基であり、R1 は少なくとも2個の炭素
原子を有する3価または4価の有機基を示す。耐熱性の
面から、R1 は環状炭化水素、芳香族環または芳香族複
素環を含有し、かつ炭素数6から30の3価または4価
の基が好ましい。R1 の例として、フェニル基、ビフェ
ニル基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、
ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフ
ェニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリ
フルオロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチル
基などから誘導された基が挙げられるがこれらに限定さ
れるものではない。
Embedded image Here, n in the above general formula is 0 or a number of 1 to 4.
R 1 is an acid component residue, and R 1 is a trivalent or tetravalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 1 is preferably a trivalent or tetravalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R 1 include a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, a naphthalene group, a perylene group,
Examples include, but are not limited to, groups derived from a diphenyl ether group, a diphenylsulfone group, a diphenylpropane group, a benzophenone group, a biphenyltrifluoropropane group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and the like.

【0024】R2 は少なくなくとも2個の炭素原子を有
する2価の有機基を示す。耐熱性の面から、R2 は環状
炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ
炭素数6から30の2価の基が好ましい。R2 の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェ
ノン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニ
ルメタン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導され
た基が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
一般式(1)で表される構造単位を主成分とするポリマ
ーはR1、R2がこれらの内各々1個から構成されていて
も良いし、各々2種以上から構成される共重合体であっ
ても良い。
R 2 represents a divalent organic group having at least two carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 2 is preferably a divalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocyclic ring and having 6 to 30 carbon atoms. Examples of R 2 include phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, perylene, diphenylether, diphenylsulfone, diphenylpropane, benzophenone, biphenyltrifluoropropane, diphenylmethane, cyclohexylmethane, and the like. Derived groups include, but are not limited to.
In the polymer having the structural unit represented by the general formula (1) as a main component, R 1 and R 2 may each be composed of one of these, or a copolymer composed of two or more of each. It may be.

【0025】フィラーと樹脂との重量比は3:7〜9:
1であることが好ましく、より好ましくは4:6〜8:
2である。フィラーの重量比が少なすぎると、突起をパ
ターニングする際の現像速度が速くなり、所望の突起形
状を得ることが難しくなる。また、フィラーの重量比が
多すぎると、フィラーの凝集が起きたり、あるいは突起
用ペーストを所望の粘度に調整することが困難になり好
ましくない。
The weight ratio of the filler to the resin is 3: 7 to 9:
1, more preferably 4: 6 to 8:
2. If the weight ratio of the filler is too small, the developing speed at the time of patterning the projections increases, and it becomes difficult to obtain a desired projection shape. On the other hand, if the weight ratio of the filler is too large, aggregation of the filler occurs or it becomes difficult to adjust the paste for projection to a desired viscosity, which is not preferable.

【0026】また、フィラーと樹脂との重量比が上記範
囲内にあることは突起の弾性率を向上し、強度を有する
点で好ましい。突起の強度が低いと、変形が起こり、液
晶の配向不良から表示ムラを引き起こす。
Further, it is preferable that the weight ratio of the filler to the resin is within the above range in that the elastic modulus of the projection is improved and the projection has strength. If the strength of the projection is low, deformation occurs, causing display unevenness due to poor alignment of the liquid crystal.

【0027】本発明の突起用ペーストにおいて、フィラ
ーを樹脂中に分散させる方法としては、溶媒中に樹脂と
フィラーを混合した後、三本ロール、サイドグラインダ
ー、ボールミルなどの分散機中で分散させる方法などが
あるが、この方法に特に限定されない。
In the projection paste of the present invention, as a method of dispersing the filler in the resin, a method in which the resin and the filler are mixed in a solvent and then dispersed in a disperser such as a three-roll mill, a side grinder, and a ball mill. Etc., but is not particularly limited to this method.

【0028】また、フィラーの分散性向上、あるいは塗
布性やレベリング性向上のために種々の添加剤が加えら
れていてもよい。
Further, various additives may be added for improving the dispersibility of the filler, or for improving the coating property and leveling property.

【0029】本発明の突起をカラーフィルター上、及び
これに対向する電極基板上に形成する方法としては、ま
ず突起用ペーストを該基板上に、塗布、乾燥した後に、
パターニングを行う。突起用ペーストを塗布する方法と
しては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、
ダイコーティング法、ワイヤバーコーティング法などが
好適に用いられ、この後、オーブンやホットプレートを
用いて加熱乾燥(セミキュア)を行う。セミキュア条件
は、使用する樹脂、溶媒、ペースト塗布量により異なる
が、通常60〜200℃で1〜60分加熱することが好
ましい。
As a method of forming the projections of the present invention on the color filter and on the electrode substrate facing the color filter, first, a projection paste is applied on the substrate, dried,
Perform patterning. As a method of applying the paste for projection, a dip method, a roll coater method, a spinner method,
A die coating method, a wire bar coating method, or the like is suitably used, and thereafter, heat drying (semi-curing) is performed using an oven or a hot plate. The semi-curing conditions vary depending on the resin, solvent and paste applied amount, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0030】このようにして得られた突起用ペースト被
膜は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にフ
ォトレジスト膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の
樹脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形
成した後に、露光、現像を行う。必要に応じて、フォト
レジスト膜または酸素遮断膜を除去し、また、加熱乾燥
(本キュア)する。本キュア条件は、前駆体からポリイ
ミド系樹脂を得る場合には、塗布量により若干異なる
が、通常200〜300℃で1〜60分加熱するのが一
般的である。アクリル系樹脂の場合には、本キュア条件
は、通常150〜300℃で1〜60分加熱するのが一
般的である。以上のプロセスにより、基板表面に突起が
形成される。1回のパターニングで十分な高さを得るこ
とが困難である場合には、複数の突起用ペースト層を積
層することも可能である。
When the resin is a non-photosensitive resin, the paste film for projections obtained as described above is formed after a photoresist film is formed thereon, or when the resin is a photosensitive resin. Is exposed or developed as it is or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the photoresist film or the oxygen blocking film is removed, and the film is dried by heating (this cure). These curing conditions are slightly different depending on the coating amount when a polyimide resin is obtained from the precursor, but it is generally heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. In the case of an acrylic resin, the curing condition is generally to heat at 150 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, projections are formed on the substrate surface. When it is difficult to obtain a sufficient height by one patterning, a plurality of paste layers for projections can be stacked.

【0031】転写法によって突起を形成してもよい。す
なわち、あらかじめ基材上に突起用ペースト層を形成し
た転写基板を準備し、これを必要に応じ熱や圧力を加え
つつ基板の上に重ね合わせ、露光・現像し、その後に基
材を剥離して突起を基板表面に形成する方法、もしくは
あらかじめフォトリソグラフィーにて転写基板上に突起
を形成した後、熱や圧力を加えて基板上に突起を転写す
る方法である。
The projections may be formed by a transfer method. In other words, a transfer substrate having a paste layer for projections formed on a substrate in advance is prepared, and the transfer substrate is overlaid on the substrate while applying heat and pressure as necessary, exposed and developed, and then the substrate is peeled. In this method, the projections are formed on the transfer substrate by photolithography, and then the projections are transferred onto the substrate by applying heat or pressure.

【0032】本発明の突起の高さは0.5μm〜6μm
であることが好ましい。突起高さが0.5μm未満であ
ると分割配向の効果が十分でなく、一方、突起高さが6
μm超であると1回のフォトリソグラフィーによる突起
形成が難しくなる他、液晶注入の妨げになる。分割配向
用突起の高さは0.6μm〜3μmの範囲がさらに好ま
しい。
The height of the projection of the present invention is 0.5 μm to 6 μm.
It is preferred that If the projection height is less than 0.5 μm, the effect of the split orientation is not sufficient, while the projection height is 6 μm.
If it exceeds μm, it becomes difficult to form projections by one photolithography, and it also hinders liquid crystal injection. The height of the split alignment projection is more preferably in the range of 0.6 μm to 3 μm.

【0033】該突起はカラーフィルター側と対向する電
極基板とで一対になっている必要があるので断面が台形
または三角形のストライプ状でカラーフィルター側と対
向する電極基板とで交互に配置されていることが特に好
ましい。
The projections need to be paired with the color filter side and the opposing electrode substrate. Therefore, the cross sections are trapezoidal or triangular stripes, and are alternately arranged on the color filter side and the opposing electrode substrate. Is particularly preferred.

【0034】本発明の突起は体積抵抗値は107 Ωcm
以上であることが好ましい。突起の体積抵抗値が107
Ωcm未満であると、液晶に十分な電圧が印可されず表
示不良を引き起こすので好ましくない。該体積抵抗値は
109 Ωcm以上であることがさらに好ましい。
The protrusion of the present invention has a volume resistivity of 10 7 Ωcm.
It is preferable that it is above. The volume resistance of the projection is 10 7
If it is less than Ωcm, a sufficient voltage is not applied to the liquid crystal, which causes display failure, which is not preferable. More preferably, the volume resistance value is 10 9 Ωcm or more.

【0035】本発明の突起はこの上に液晶配向膜が形成
されることから、高い耐熱性、耐溶剤性が要求される。
また、0.1μm以下の薄い液晶配向膜を介して液晶と
該突起とが隣接することから、イオン性不純物の溶出が
少なく、また優れた電気特性が要求される。本発明の突
起を構成する樹脂としては上記の条件を備えたポリイミ
ド系樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。
The projection of the present invention is required to have high heat resistance and solvent resistance since a liquid crystal alignment film is formed thereon.
In addition, since the liquid crystal and the protrusion are adjacent to each other via a thin liquid crystal alignment film having a thickness of 0.1 μm or less, elution of ionic impurities is small and excellent electric characteristics are required. As the resin constituting the projection of the present invention, a polyimide resin or an acrylic resin satisfying the above conditions is preferable.

【0036】以下、本発明をさらに詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0037】本発明のカラーフィルターは、透明基板上
に必要に応じてブラックマトリックスを設け、さらにそ
の上に3原色から成る着色層を複数配列したものが好ま
しい。カラーフィルターは3原色から成る各着色層によ
り被覆された画素を1絵素とし、多数の絵素により構成
されている。ここで言う、ブラックマトリックスは、各
画素間に配列された遮光領域を示し、液晶表示装置の表
示コントラストを向上させ、またTFTなどの能動素子
に光が入射して誤動作することを防ぐために設けられ
る。
The color filter of the present invention is preferably one in which a black matrix is provided on a transparent substrate as required, and a plurality of colored layers of three primary colors are further arranged thereon. The color filter is composed of a large number of picture elements, with a pixel covered by each colored layer of three primary colors as one picture element. Here, the black matrix indicates a light-shielding region arranged between each pixel, is provided to improve display contrast of a liquid crystal display device, and to prevent light from entering an active element such as a TFT and causing a malfunction. .

【0038】カラーフィルターに用いられる透明基板と
しては、特に限定されるものではなく、石英ガラス、ホ
ウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面をシリ
カコートしたソーダライムガラスなどの無機ガラス類、
有機プラスチックのフィルム又はシート等が好ましく用
いられる。
The transparent substrate used for the color filter is not particularly limited, and inorganic glass such as quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass whose surface is coated with silica, etc.
Organic plastic films or sheets are preferably used.

【0039】この透明基板上に必要に応じてブラックマ
トリックスが設けられる。ブラックマトリックスは、ク
ロムやニッケル等の金属又はそれらの酸化物等や着色層
の重ね塗りで形成してもよいが、樹脂及び遮光剤から成
る樹脂ブラックマトリックスを形成することが製造コス
トや廃棄物処理コストの面から好ましい。この場合、ブ
ラックマトリックスに用いられる樹脂としては、特に限
定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレ
タン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂などの感光性又は非感光性の材料
が好ましく用いられる。ブラックマトリックス用樹脂
は、画素や保護膜に用いられる樹脂よりも高い耐熱性を
有する樹脂が好ましく、また、ブラックマトリックス形
成後の工程で使用される有機溶剤に耐性を持つ樹脂が好
ましいことからポリイミド系樹脂が特に好ましく用いら
れる。なお、好ましいポリイミド系樹脂としては、前述
の突起を形成するのに適した樹脂を挙げることができ
る。
A black matrix is provided on the transparent substrate as needed. The black matrix may be formed by overcoating a metal such as chromium or nickel or their oxides, or a colored layer, but forming a resin black matrix composed of a resin and a light-shielding agent requires manufacturing costs and waste treatment. It is preferable from the viewpoint of cost. In this case, the resin used for the black matrix is not particularly limited, but an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin,
A photosensitive or non-photosensitive material such as a polyolefin resin is preferably used. The resin for the black matrix is preferably a resin having higher heat resistance than the resin used for the pixels and the protective film, and a polyimide resin is preferably a resin having resistance to the organic solvent used in the process after the formation of the black matrix. Resins are particularly preferably used. In addition, as a preferable polyimide-based resin, a resin suitable for forming the above-mentioned protrusion can be used.

【0040】ブラックマトリックス用の遮光剤として
は、カーボンブラック、チタンブラック(TiNxO
y:ただし、0≦x<1.5、0.1<y<1.8)、
酸化マンガン、四酸化鉄等の金属酸化物粉、金属硫化物
粉、金属粉の他に、赤、青、緑色等の顔料の混合物等を
用いることができる。この中でも、カーボンブラックは
遮光性が優れており、特に好ましい。分散の良い粒径の
小さいカーボンブラックは主として茶系統の色調を呈す
るので、カーボンブラックに対する補色の顔料を混合さ
せて無彩色にするのが好ましい。
As the light shielding agent for the black matrix, carbon black, titanium black (TiNxO)
y: However, 0 ≦ x <1.5, 0.1 <y <1.8),
In addition to metal oxide powders such as manganese oxide and iron tetroxide, metal sulfide powders, and metal powders, a mixture of pigments such as red, blue, and green can be used. Among them, carbon black is particularly preferable because of its excellent light-shielding properties. Since carbon black having a good dispersion and a small particle size mainly exhibits a brownish color tone, it is preferable to mix a pigment of a complementary color to carbon black to obtain an achromatic color.

【0041】ブラックマトリックス用の樹脂がポリイミ
ドの場合、黒色ペースト溶媒としては、通常、N−メチ
ル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系極性溶媒、
γ−ブチロラクトンなどのラクトン系極性溶媒等が好適
に使用される。
When the resin for the black matrix is polyimide, the black paste solvent is usually N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide,
Amide polar solvents such as N, N-dimethylformamide,
A lactone polar solvent such as γ-butyrolactone is preferably used.

【0042】カーボンブラックや、カーボンブラックに
対して補色の顔料等の遮光剤を分散させる方法として
は、例えば、ポリイミド前駆体溶液中に遮光剤や分散剤
等を混合させた後、三本ロール、サンドグラインダー、
ボールミルなどの分散機中で分散させる方法などがある
が、この方法に特に限定されない。また、カーボンブラ
ックの分散性向上、あるいは塗布性やレベリング性向上
のために種々の添加剤が加えられていてもよい。
As a method of dispersing a light-shielding agent such as a pigment of a complementary color to carbon black or carbon black, for example, after mixing a light-shielding agent or a dispersant in a polyimide precursor solution, a three-roll Sand grinder,
There is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, but the method is not particularly limited. In addition, various additives may be added for improving the dispersibility of carbon black, or for improving applicability and leveling property.

【0043】樹脂ブラックマトリックスの製法として
は、黒色ペーストを透明基板上に塗布、乾燥した後に、
パターニングを行う。黒色ペーストを塗布する方法とし
ては、ディップ法、ロールコーター法、スピナー法、ダ
イコーティング法、ワイヤバーコーティング法などが好
適に用いられ、この後、オーブンやホットプレートを用
いて加熱乾燥(セミキュア)を行う。セミキュア条件
は、使用する樹脂、溶媒、ペースト塗布量により異なる
が、通常60〜200℃で1〜60分加熱することが好
ましい。
As a method for producing a resin black matrix, a black paste is applied to a transparent substrate, dried,
Perform patterning. As a method for applying the black paste, a dip method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a wire bar coating method, or the like is suitably used. After that, heat drying (semi-curing) using an oven or a hot plate is performed. Do. The semi-curing conditions vary depending on the resin, solvent and paste applied amount, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0044】このようにして得られた黒色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にフォ
トレジスト膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹
脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形成
した後に、露光、現像を行う。必要に応じて、フォトレ
ジスト膜まは酸素遮断膜を除去し、また、加熱乾燥(本
キュア)する。本キュア条件は、前駆体からポリイミド
系樹脂を得る場合には、塗布量により若干異なるが、通
常200〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的で
ある。アクリル系樹脂の場合には、本キュア条件は、通
常150〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的で
ある。以上のプロセスにより、基板上にブラックマトリ
ックスが形成される。
The black paste film obtained in this manner is formed after forming a photoresist film thereon when the resin is a non-photosensitive resin, and when the resin is a photosensitive resin when the resin is a non-photosensitive resin. Exposure and development are performed as it is or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the photoresist film or the oxygen barrier film is removed, and the film is dried by heating (this cure). These curing conditions are slightly different depending on the coating amount when a polyimide resin is obtained from the precursor, but it is generally heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. In the case of an acrylic resin, the curing condition is generally to heat at 150 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, a black matrix is formed on the substrate.

【0045】また、転写法によって樹脂ブラックマトリ
ックスを形成してもよい。後述する着色層を重ねてブラ
ックマトリックスを形成しても良い。
The resin black matrix may be formed by a transfer method. A black matrix may be formed by stacking colored layers described later.

【0046】樹脂ブラックマトリックスの膜厚は、好ま
しくは0.5〜2.0μm、より好しくは0.8〜1.
5μmである。この膜厚が0.5μmよりも薄い場合に
は、樹脂ブラックマトリックス上に樹脂層を積層してス
ペーサーを作製する場合、十分な高さのスペーサーを形
成することが難しくなり、また、遮光性が不十分になる
ことからも好ましくない。一方、膜厚が2.0μmより
も厚い場合には、遮光性は確保できるものの、カラーフ
ィルターの平坦性が犠牲になり易く、段差が生じやす
い。
The thickness of the resin black matrix is preferably 0.5 to 2.0 μm, more preferably 0.8 to 1.
5 μm. When the film thickness is smaller than 0.5 μm, it is difficult to form a spacer having a sufficient height when forming a spacer by laminating a resin layer on a resin black matrix. It is not preferable because it becomes insufficient. On the other hand, when the film thickness is greater than 2.0 μm, although the light-shielding property can be ensured, the flatness of the color filter is easily sacrificed, and a step is easily generated.

【0047】樹脂ブラックマトリックスの遮光性は、O
D値(透過率の逆数の常用対数)で表されるが、液晶表
示装置の表示品位を向上させるためには、好ましくは
1.6以上であり、より好ましくは2.0以上である。
また、樹脂ブラックマトリックスの膜厚の好適な範囲を
前述したが、OD値の上限は、これとの関係で定められ
るべきである。
The light shielding property of the resin black matrix is O
It is represented by the D value (common logarithm of the reciprocal of the transmittance), and is preferably 1.6 or more, more preferably 2.0 or more, in order to improve the display quality of the liquid crystal display device.
The preferred range of the thickness of the resin black matrix has been described above, but the upper limit of the OD value should be determined in relation to this.

【0048】樹脂ブラックマトリックス間には通常(2
0〜200)μm×(20〜300)μmの開口部が設
けられるが、この開口部を少なくとも被覆するように3
原色のそれぞれの着色層が複数配列される。すなわち、
1つの開口部は、3原色のいずれか1つの着色層により
被覆され、各色の着色層が複数配列される。
Usually, (2)
An opening of 0 to 200) μm × (20 to 300) μm is provided.
A plurality of primary color layers are arranged. That is,
One opening is covered with any one of the three primary color layers, and a plurality of color layers of each color are arranged.

【0049】カラーフィルターの場合、着色層は、少な
くとも3原色、赤(R)、緑(G)、青(B)または、
シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の3層
を包含するものであり、各画素にはこれらの3色のいず
れかの1つの着色層が設けられる。
In the case of a color filter, the coloring layer comprises at least three primary colors, red (R), green (G), blue (B) or
It includes three layers of cyan (C), magenta (M), and yellow (Y), and each pixel is provided with one colored layer of any of these three colors.

【0050】着色層に用いられる着色剤としては、有機
顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、さ
らには、紫外線吸収剤、分散剤、レベリング剤等の種々
の添加剤を添加してもよい。顔料としては、赤(R)と
してColor Index No.9、 97、122、123、14
9、168、177、180、192、215など、緑
(G)としてColor Index No.7、36など、青(B)
としてはColor Index No.15、22、60、64など
が一般的に用いられる。分散剤としては界面活性剤、顔
料の中間体、染料の中間体、高分子分散剤などの広範囲
のものが使用される。
As the coloring agent used in the coloring layer, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be preferably used. Further, various additives such as an ultraviolet absorber, a dispersing agent and a leveling agent are added. You may. As the pigment, Color Index Nos. 9, 97, 122, 123, and 14 as red (R)
9, 168, 177, 180, 192, 215, etc. Color Index No. 7, 36 as blue (G) Blue (B) as green (G)
Color Index Nos. 15, 22, 60, 64, etc. are generally used. A wide range of dispersants such as surfactants, pigment intermediates, dye intermediates, and polymer dispersants are used.

【0051】着色層に用いられる樹脂としては、特に限
定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレ
タン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂などの感光性又は非感光性の材料
が採用できる。
The resin used for the colored layer is not particularly limited, but may be an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin,
A photosensitive or non-photosensitive material such as a polyolefin resin can be employed.

【0052】着色層を形成する方法としては、ブラック
マトリックスを形成した基板上に着色剤を含むペースト
を塗布、乾燥した後に、パターニングを行う。着色剤を
分散又は溶解させ着色ペーストを得る方法としては、溶
媒中に樹脂と着色剤を混合させた後、三本ロール、サン
ドグラインダー、ボールミルなどの分散機中で分散させ
る方法などがあるが、この方法に特に限定されない。
As a method of forming a colored layer, a paste containing a colorant is applied to a substrate on which a black matrix is formed, dried, and then patterned. As a method of obtaining a colored paste by dispersing or dissolving the colorant, after mixing the resin and the colorant in a solvent, three-roll, sand grinder, there is a method of dispersing in a dispersing machine such as a ball mill, The method is not particularly limited.

【0053】着色ペーストを塗布する方法としては、黒
色ペーストの場合と同様、ディップ法、ロールコーター
法、スピナー法、ダイコーティング法、ワイヤーバーコ
ーティング法等が好適に用いられ、この後、オーブンや
ホットプレートを用いて加熱乾燥(セミキュア)を行
う。セミキュア条件は、使用する樹脂、溶媒、ペースト
塗布量により異なるが通常60〜200℃で1〜60分
加熱することが好ましい。
As a method of applying the colored paste, a dipping method, a roll coater method, a spinner method, a die coating method, a wire bar coating method, etc. are preferably used, as in the case of the black paste, and thereafter, an oven or hot Heat drying (semi-cure) is performed using a plate. The semi-curing conditions vary depending on the resin used, the solvent, and the amount of the paste applied, but it is usually preferable to heat at 60 to 200 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0054】このようにして得られた着色ペースト被膜
は、樹脂が非感光性の樹脂である場合は、その上にフォ
トレジスト膜を形成した後に、また、樹脂が感光性の樹
脂である場合は、そのままかあるいは酸素遮断膜を形成
した後に、露光、現像を行う。必要に応じて、フォトレ
ジスト膜まは酸素遮断膜を除去し、加熱乾燥(本キュ
ア)する。
In the colored paste film thus obtained, after a photoresist film is formed thereon when the resin is a non-photosensitive resin, and when the resin is a photosensitive resin, Exposure and development are performed as it is or after forming an oxygen barrier film. If necessary, the photoresist film or the oxygen barrier film is removed, and the film is dried by heating (this cure).

【0055】本キュア条件は、前駆体からポリイミド系
樹脂を得る場合には、塗布量により若干異なるが、通常
200〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的であ
る。アクリル系樹脂の場合には、本キュア条件は、通常
150〜300℃で1〜60分加熱するのが一般的であ
る。以上のプロセスにより、ブラックマトリックスを形
成した基板上にパターニングされた着色層が形成され
る。また、いわゆる転写法で着色層を形成してもよい。
The curing conditions are slightly different depending on the coating amount when a polyimide resin is obtained from the precursor, but it is generally heated at 200 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. In the case of an acrylic resin, the curing condition is generally to heat at 150 to 300 ° C. for 1 to 60 minutes. Through the above process, a patterned colored layer is formed on the substrate on which the black matrix is formed. Further, the colored layer may be formed by a so-called transfer method.

【0056】また、本発明のカラーフィルターは透明導
電層形成前に透明保護層を形成しても良い。このような
透明保護層の形成は、カラーフィルターの構造を複雑に
し製造コストを高くする点で不利であるが、一方スペー
サー高さの制御、カラーフィルターからの不純物のシミ
出し防止、表面平坦化に有利である。
Further, in the color filter of the present invention, a transparent protective layer may be formed before forming the transparent conductive layer. The formation of such a transparent protective layer is disadvantageous in that the structure of the color filter is complicated and the production cost is increased, but on the other hand, it is necessary to control the height of the spacer, to prevent impurities from being stained from the color filter, and to planarize the surface. It is advantageous.

【0057】3色の着色層を形成後、もしくは透明保護
層形成後に透明導電層が形成される。透明導電層として
はITOなどの酸化物薄膜を採用することができる。
After the formation of the three colored layers or the formation of the transparent protective layer, a transparent conductive layer is formed. An oxide thin film such as ITO can be used as the transparent conductive layer.

【0058】以上のプロセスによりカラーフィルターを
作製した後、本発明の分割配向用突起が形成される。
After the color filter is manufactured by the above-described process, the projection for split alignment of the present invention is formed.

【0059】本発明のカラーフィルターおよびこれを用
いた液晶表示装置の製造方法を図1および図2を用いて
以下に説明するがこれに限定されるものではない。
The method of manufacturing a color filter of the present invention and a liquid crystal display device using the same will be described below with reference to FIGS. 1 and 2, but the present invention is not limited thereto.

【0060】無アルカリガラス1の上に黒ペーストを用
いてブラックマトリックス2を形成する。次にブラック
マトリックスの開口部を埋めるように青着色層3を形成
する。同様にして、赤着色層4、告いで緑着色層5を形
成する。次に透明保護層6を形成し、さらに透明導電層
7を積層する。透明導電層の上に分割配向用突起8を形
成する。
A black matrix 2 is formed on a non-alkali glass 1 using a black paste. Next, a blue coloring layer 3 is formed so as to fill the opening of the black matrix. Similarly, a red coloring layer 4 and a green coloring layer 5 are formed. Next, a transparent protective layer 6 is formed, and a transparent conductive layer 7 is further laminated. The projections 8 for divisional alignment are formed on the transparent conductive layer.

【0061】TFT素子を備えた電極基板の製造方法の
一例を以下に示す。
An example of a method for manufacturing an electrode substrate provided with a TFT element will be described below.

【0062】無アルカリガラス基板上にスパッタリング
によりクロム薄膜を形成し、フォトリソグラフィーにて
ゲート電極をパターニングする。次に、プラズマCVD
により、絶縁膜として窒化珪素膜、アモルファスシリコ
ン膜およびエッチングストッパとして窒化珪素膜を連続
形成する。次に、フォトリソグラフィーにてエッチング
ストッパの窒化珪素膜をパターニングする。TFT端子
が金属電極とオーミックコンタクトをとるためのn+ア
モルファスシリコン膜の成膜とパターニングをし、さら
に、表示電極となるITO膜を成膜しパターニングす
る。さらに配線材料としてアルミニウムをスパッタリン
グにより膜付けし、フォトリソグラフィーにて信号配線
およびTFTの金属電極を作製する。ドレイン電極とソ
ース電極をマスクとしてチャンネル部のn+アモルファ
スシリコン膜をエッチング除去し、TFT素子備えた電
極基板を得る。反射型の液晶表示素子の場合は、表示電
極をアルミニウムや銀などの反射率の高い材料とする。
A chromium thin film is formed on an alkali-free glass substrate by sputtering, and the gate electrode is patterned by photolithography. Next, plasma CVD
Thereby, a silicon nitride film, an amorphous silicon film as an insulating film, and a silicon nitride film as an etching stopper are continuously formed. Next, the silicon nitride film serving as an etching stopper is patterned by photolithography. An n + amorphous silicon film is formed and patterned for the TFT terminal to make an ohmic contact with the metal electrode, and an ITO film to be a display electrode is formed and patterned. Further, aluminum is applied as a wiring material by sputtering, and signal wiring and a metal electrode of a TFT are formed by photolithography. Using the drain electrode and the source electrode as masks, the n + amorphous silicon film in the channel portion is removed by etching to obtain an electrode substrate provided with a TFT element. In the case of a reflective liquid crystal display element, the display electrode is made of a material having a high reflectance such as aluminum or silver.

【0063】カラーフィルター上に垂直配向膜を設け
る。同様にして対向する薄膜トランジスタを備えた電極
基板についても垂直配向膜を設ける。対向する電極基板
にカラーフィルター上に設けた分割配向用突起と対応す
るように分割配向用突起を設ける。この2枚の基板をエ
ポキシ接着材をシール剤として用いて貼り合わせた後
に、シール部に設けられた注入口から垂直配向する液晶
を注入する。液晶を注入後、注入口を封止し、さらに偏
光板を基板の外側に貼り合わせ液晶表示装置を作製す
る。
A vertical alignment film is provided on a color filter. Similarly, a vertical alignment film is provided on an electrode substrate having a thin film transistor facing the same. A split alignment projection is provided on the opposing electrode substrate so as to correspond to the split alignment projection provided on the color filter. After the two substrates are bonded to each other using an epoxy adhesive as a sealant, a vertically aligned liquid crystal is injected from an injection port provided in the seal portion. After injecting the liquid crystal, the inlet is sealed, and a polarizing plate is attached to the outside of the substrate to manufacture a liquid crystal display device.

【0064】図2に本発明のカラーフィルターの平面図
の一例を示す。ブラックマトリックス9の開口部10に
着色膜を形成する。ブラックマトリックス開口部の長辺
方向を二分するように断面が台形のストライプ状突起1
1を画素一つおきに形成する。対向する電極基板上には
カラーフィルター上のストライプ状突起と交互に配置さ
れるように画素一つおきにストライプ状突起を形成す
る。
FIG. 2 shows an example of a plan view of the color filter of the present invention. A colored film is formed in the opening 10 of the black matrix 9. Trapezoidal stripe-shaped protrusion 1 whose cross section divides the long side direction of the black matrix opening into two.
1 is formed every other pixel. On the opposing electrode substrate, stripe-shaped protrusions are formed every other pixel so as to be alternately arranged with the stripe-shaped protrusions on the color filter.

【0065】本発明の突起、及びこれを用いた液晶表示
装置は、パソコン、ワードプロセッサー、エンジニアリ
ング・ワークステーション、ナビゲーションシステム、
液晶テレビなどの表示画面に用いられ、また、液晶プロ
ジェクション等にも好適に用いられる。また、光通信や
光情報処理の分野において、液晶を用いた空間変調素子
としても好適に用いられる。空間変調素子は、素子への
入力信号に応じて、素子に入射する光の強度や位相、偏
光方向等を変調させるもので、実時間ホログラフィーや
空間フィルター、インコヒーレント/コヒーレント変換
等に用いられるものである。
The projection according to the present invention and the liquid crystal display device using the same include a personal computer, a word processor, an engineering workstation, a navigation system,
It is used for display screens of liquid crystal televisions and the like, and is also suitably used for liquid crystal projection and the like. Further, in the field of optical communication and optical information processing, it is suitably used as a spatial modulation element using a liquid crystal. A spatial modulation element modulates the intensity, phase, polarization direction, etc. of light incident on the element according to an input signal to the element, and is used for real-time holography, a spatial filter, incoherent / coherent conversion, and the like. It is.

【0066】[0066]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0067】(体積抵抗値の測定)アルミニウム薄膜を
蒸着したガラス基板上に対象となる材料を1μmの厚さ
にコーティングする。コーティング膜上にさらに直径1
5mmのアルミニウム電極を蒸着する。コーティング膜
を挟んだ2つの電極間に直流1Vを印加して、電圧印加
後5分での電流値とコーティング膜の厚みから体積抵抗
値を求めた。
(Measurement of Volume Resistance Value) A target material is coated to a thickness of 1 μm on a glass substrate on which an aluminum thin film is deposited. One more diameter on the coating film
A 5 mm aluminum electrode is deposited. A direct current of 1 V was applied between the two electrodes sandwiching the coating film, and the volume resistance was determined from the current value and the thickness of the coating film 5 minutes after the application of the voltage.

【0068】実施例1 (樹脂ブラックマトリクスの作成)3,3´,4,4´
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物144.1gを
γ−ブチロラクトン1095g、N−メチル−2−ピロ
リドン209gに混合し、4,4´−ジアミノジフェニ
ルエーテル95.1g、ビス(3−アミノプロピル)テ
トラメチルジシロキサン6.2gを添加して70℃で3
時間反応させた後、無水フタル酸2.96gを添加して
さらに70℃で1時間反応させてポリイミド前駆体(ポ
リアミック酸)溶液を得た。
Example 1 (Preparation of resin black matrix) 3, 3 ', 4, 4'
-144.1 g of biphenyltetracarboxylic dianhydride was mixed with 1095 g of γ-butyrolactone and 209 g of N-methyl-2-pyrrolidone, and 95.1 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether and bis (3-aminopropyl) tetramethyldimethyl Add 6.2 g of siloxane and add 3 at 70 ° C.
After reacting for 2 hours, 2.96 g of phthalic anhydride was added and further reacted at 70 ° C. for 1 hour to obtain a polyimide precursor (polyamic acid) solution.

【0069】下記の組成を有するカーボンブラックミル
ベースをホモジナイザーを用いて、7000rpmで3
0分間分散し、ガラスビーズを濾過して、ブラックペー
ストを調製した。
A carbon black mill base having the following composition was mixed with a homogenizer at 7000 rpm for 3 hours.
The mixture was dispersed for 0 minutes, and the glass beads were filtered to prepare a black paste.

【0070】 カーボンブラックミルベース カーボンブラック (MA100、三菱化学(株)製) 4.6部 ポリイミド前駆体溶液 24.0部 N−メチル−2−ピロリドン 61.4部 ガラスビーズ 90.0部 300×350mmのサイズの無アルカリガラス(日本
電気ガラス(株)製、OA−2)基板上にスピナーを用
いて、ブラックペーストを塗布し、オーブン中135℃
で20分間セミキュアした。続いて、ポジ型フォトレジ
スト(シプレー社製“Microposit”SRC100 30cp) をス
ピナーで塗布し、90℃10分間乾燥した。フォトレジ
スト膜厚は1.5μmとした。キャノン(株)製露光機
PLA−501Fを用い、フォトマスクを介して露光し
た。
Carbon black mill base Carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 4.6 parts Polyimide precursor solution 24.0 parts N-methyl-2-pyrrolidone 61.4 parts Glass beads 90.0 parts 300 × 350 mm A black paste was applied on a non-alkali glass (OA-2, manufactured by NEC Corporation) substrate having a size of
For 20 minutes. Subsequently, a positive photoresist ("Microposit" SRC100 30 cp manufactured by Shipley Co., Ltd.) was applied by a spinner and dried at 90 ° C. for 10 minutes. The photoresist film thickness was 1.5 μm. Exposure was performed through a photomask using an exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc.

【0071】次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シドを2重量%含んだ23℃の水溶液を現像液に用い、
基板を現像液にディップさせ、同時に10cm幅を5秒
で1往復するように基板を揺動させて、ポジ型フォトレ
ジストの現像とポリイミド前駆体のエッチングを同時に
行った。現像時間は60秒とした。その後、メチルセル
ソルブアセテートでポジ型フォトレジストを剥離し、さ
らに、300℃で30分間キュアした。このようにし
て、膜厚は、0.90μm、開口部が縦方向240μ
m、横方向60μmの格子状ブラックマトリックスを設
けた。また、ブラックマトリックスのOD値は3.0で
あった。
Next, an aqueous solution containing 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide at 23 ° C. was used as a developer.
The substrate was dipped in a developing solution, and at the same time, the substrate was swung so as to make one reciprocation in a width of 10 cm in 5 seconds, thereby simultaneously developing the positive photoresist and etching the polyimide precursor. The development time was 60 seconds. Thereafter, the positive type photoresist was peeled off with methylcellosolve acetate, and further cured at 300 ° C. for 30 minutes. Thus, the film thickness is 0.90 μm, and the opening is 240 μm in the vertical direction.
m, a grid-like black matrix of 60 μm in the horizontal direction was provided. The OD value of the black matrix was 3.0.

【0072】(着着色層の形成)赤、緑、青の顔料とし
て各々Color index No.65300 Pigment Red 177で示され
るジアントラキノン系顔料、Color Index No.74265 Pig
ment Green 36 で示されるフタロシアニングリーン系顔
料、Color Index No.74160 Pigment Blue 15-4で示され
るフタロシアニンブルー系顔料を用意した。ブラックマ
トリックスに使用したポリイミド前駆体溶液1に上記顔
料を各々混合分散させて、赤、緑、青の3種類の着色ペ
ーストを得た。まず、樹脂ブラックマトリックス基板上
に青ペーストを塗布し、120℃20分間セミキュアし
た。この後、ポジ型フォトレジスト(シプレー社製 "Mi
croposit" SRC100 30cp )をスピナーで塗布後、90℃
で10分乾燥した。フォトマスクを用いて露光し、テト
ラメチルアンモニウムヒドロキド2重量%水溶液に基板
を浸漬し揺動させながら、ポジ型フォトレジストの現像
およびポリイミド前駆体のエッチングを同時に行なっ
た。その後、ポジ型フォトレジストをメチルセルソルブ
アセテートで剥離し、幅約90μmで縦方向にストライ
プ状の青着色層を幅方向にピッチ300μmとした。さ
らに、300℃で30分間キュアした。青着色層の膜厚
は1.2μmであった。
(Formation of Coloring Layer) Dianthraquinone pigment represented by Color Index No. 65300 Pigment Red 177 as a red, green and blue pigment, Color Index No. 74265 Pig
A phthalocyanine green pigment represented by ment Green 36 and a phthalocyanine blue pigment represented by Color Index No. 74160 Pigment Blue 15-4 were prepared. The above pigments were mixed and dispersed in the polyimide precursor solution 1 used for the black matrix, respectively, to obtain three kinds of colored pastes of red, green and blue. First, a blue paste was applied on a resin black matrix substrate and semi-cured at 120 ° C. for 20 minutes. Then, a positive photoresist ("Miley" manufactured by Shipley Co., Ltd.)
croposit "SRC100 30cp) with spinner, 90 ℃
For 10 minutes. Exposure was performed using a photomask, and while the substrate was immersed and rocked in a 2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide, development of a positive photoresist and etching of a polyimide precursor were simultaneously performed. Thereafter, the positive type photoresist was peeled off with methyl cellosolve acetate, and a blue colored layer having a width of about 90 μm and a stripe shape in the vertical direction was formed at a pitch of 300 μm in the width direction. Furthermore, it was cured at 300 ° C. for 30 minutes. The thickness of the blue coloring layer was 1.2 μm.

【0073】基板水洗後、青着色層と同様にして、スト
ライプ状の緑、赤色の着色層を、3色の画素間隔が10
μmとなるように形成した。
After the substrate was washed with water, striped green and red colored layers were formed in the same manner as the blue colored layer, and the pixel spacing of the three colors was 10 pixels.
It was formed to have a thickness of μm.

【0074】次に透明保護層を積層した。保護層として
は、メチルトリメトキシシランに酢酸を加えて加水分解
し、オルガノシラン縮合物を得た。3,3’,4,4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と3−アミ
ノプロピルトリエトキシシランとをN−メチル−2−ピ
ロリドン溶媒中にて、モル比で1:2の割合で混合し、
反応させてイミド基を有する縮合物を得た。該オルガノ
シラン混合物と該イミド基を有する縮合物およびN−メ
チル−2−ピロリドンとを重量比で5:2:4の割合で
混合した組成物を、ブラックマトリックスと3原色の着
着色層が形成された基板上に塗布、キュアしてポリイミ
ド変性シリコーン重合体からなる厚さ1.0μmの透明
保護層を得た。
Next, a transparent protective layer was laminated. As a protective layer, acetic acid was added to methyltrimethoxysilane and hydrolyzed to obtain an organosilane condensate. 3,3 ', 4,4'
-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 3-aminopropyltriethoxysilane are mixed in an N-methyl-2-pyrrolidone solvent at a molar ratio of 1: 2,
The reaction was performed to obtain a condensate having an imide group. A composition obtained by mixing the organosilane mixture, the condensate having an imide group, and N-methyl-2-pyrrolidone at a weight ratio of 5: 2: 4 is formed into a black matrix and a coloring layer of three primary colors. The resultant was coated on the substrate and cured to obtain a 1.0 μm thick transparent protective layer made of a polyimide-modified silicone polymer.

【0075】透明保護層が形成された基板上に、スパッ
タリング法にて膜厚が150nmで表面抵抗が20Ω/
□のITO膜を形成した。
On the substrate on which the transparent protective layer was formed, a film thickness of 150 nm and a surface resistance of 20 Ω /
The ITO film of □ was formed.

【0076】(分割配向用突起の形成)1,4−ブタン
ジオ−ル−ビス(3−アミノプロピル)エ−テル16
3.4g(0.80モル)、4,4´−ジアミノジフェ
ニルエーテル120.2g(0.60モル)、3,3´
−ジアミノジフェニルスルフォン124.1g(0.5
0モル)および1,3−ビス(3−アミノプロピル)テ
トラメチルジシロキサン24.9g(0.10モル)を
N−メチル−2−ピロリドン1944gおよびγ−ブチ
ロラクトン1944gとともに仕込み、これを攪拌しな
がら3,3´,4,4´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物315.8g(0.98モル)およびピロ
メリット酸二無水物218.0g(1.00モル)を添
加し、83℃で3時間反応させた後、無水マレイン酸
3.92g(0.04モル)を加えてさらに83℃で3
時間反応させた。このようにして、濃度20重量%、粘
度1.3ポイズのポリイミド前駆体溶液2を得た。
(Formation of Division Orientation Protrusion) 1,4-butanediol-bis (3-aminopropyl) ether 16
3.4 g (0.80 mol), 120.2 g (0.60 mol) of 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3 '
124.1 g of diaminodiphenylsulfone (0.5
0 mol) and 24.9 g (0.10 mol) of 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane together with 1944 g of N-methyl-2-pyrrolidone and 1944 g of γ-butyrolactone, and stirring the mixture. 315.8 g (0.98 mol) of 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 218.0 g (1.00 mol) of pyromellitic dianhydride were added, and the mixture was heated at 83 ° C. for 3 hours. After reacting for an hour, 3.92 g (0.04 mol) of maleic anhydride was added, and the mixture was further added at 83 ° C for 3 hours.
Allowed to react for hours. Thus, a polyimide precursor solution 2 having a concentration of 20% by weight and a viscosity of 1.3 poise was obtained.

【0077】下記の組成を有する突起用ペーストをホモ
ジナイザーを用いて7000rpmで30分間分散し、
ガラスビーズを濾過して、突起用ペーストを調製した。
A paste for projections having the following composition was dispersed at 7000 rpm for 30 minutes using a homogenizer.
The paste for protrusions was prepared by filtering the glass beads.

【0078】 突起用ペースト 硫酸バリウム (BF−20、堺化学工業(株)製) 45.0部 ポリイミド前駆体溶液2 142.5部 N−メチル−2−ピロリドン 115.0部 γ−ブチロラクトン 115.0部 3−メチル−3−メトキシブタノールアセテート 63.8部 ガラスビーズ 481.3部 このペーストを孔径1.0μmのフィルタ−で濾過しコ
−テイング塗液を調製した。この塗液を前記カラ−フィ
ルター上にスピンコ−タで塗布し、145℃熱風乾燥機
中で20分間セミキュアして1.8μmの塗膜を形成さ
せた。この後、ポジ型フォトレジストを塗布して90℃
で10分間乾燥した。フォトレジストの膜厚は1.5μ
mとした。キヤノン(株)製露光機PLA−501Fを
用い、フォトマスクを介して露光した。
Barium sulfate (BF-20, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 45.0 parts Polyimide precursor solution 2 142.5 parts N-methyl-2-pyrrolidone 115.0 parts γ-butyrolactone 115. 0 parts 3-methyl-3-methoxybutanol acetate 63.8 parts Glass beads 481.3 parts This paste was filtered with a filter having a pore size of 1.0 μm to prepare a coating liquid. This coating solution was applied on the color filter by a spin coater and semi-cured in a hot air dryer at 145 ° C. for 20 minutes to form a 1.8 μm coating film. Thereafter, a positive photoresist is applied, and 90 ° C.
For 10 minutes. Photoresist thickness 1.5μ
m. Exposure was performed through a photomask using an exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc.

【0079】次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シドを2重量%含んだ23℃の水溶液を現像液に用い、
基板を現像液にディップさせ、同時に10cm幅を5秒
で1往復するように基板を揺動させて、フォトレジスト
の現像とポリイミド前駆体のエッチングとを同時に行っ
た。現像時間は80秒とした。フォトレジストをメチル
セルソルブで剥離し、次いで250℃で30分間キュア
して厚さ1.5μmの分割配向用のストライプ状突起を
形成した。
Next, an aqueous solution containing 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide at 23 ° C. was used as a developer.
The substrate was dipped in a developing solution, and simultaneously, the substrate was swung so as to make one reciprocation in a width of 10 cm in 5 seconds, thereby simultaneously developing the photoresist and etching the polyimide precursor. The development time was 80 seconds. The photoresist was stripped with a methylcellosolve, and then cured at 250 ° C. for 30 minutes to form a 1.5 μm-thick striped projection for divisional orientation.

【0080】ストライプ状の突起は断面の下辺が15μ
m、上辺が14μmの台形とした。また、突起下辺の面
内バラツキは15±1μmの範囲内であり、欠けや断線
は見られず良好であった。ストライプ状突起は図2に示
したように1画素の長辺を二分する位置に1画素おきに
配置し、カラーフィルターの表示部全体を貫いている。
The stripe-shaped projection has a lower side of 15 μm in cross section.
m, the trapezoid having an upper side of 14 μm. Further, the in-plane variation of the lower side of the projection was within a range of 15 ± 1 μm, and no chipping or disconnection was observed, which was favorable. As shown in FIG. 2, the stripe-shaped protrusions are arranged every other pixel at positions that bisect the long side of one pixel, and penetrate the entire display portion of the color filter.

【0081】かくして本発明のカラーフィルターを得
た。突起の体積抵抗は1013Ωcmであった。
Thus, the color filter of the present invention was obtained. The volume resistance of the protrusion was 10 13 Ωcm.

【0082】(電極基板の作製)無アルカリガラス基板
上にスパッタリングによりクロム薄膜を形成し、フォト
リソグラフィーにてゲート電極にパターニングした。次
に、プラズマCVDにより、絶縁層として厚さ700n
mの窒化珪素膜、チャンネル層として厚さ100nmの
アモルファスシリコン膜、エッチングストッパ層として
厚さ500nmの窒化珪素膜を連続形成した。次に、フ
ォトリソグラフィーにてエッチングストッパ層の窒化珪
素膜をパターニングした。TFT端子と金属電極がオー
ミックコンタクトをとるためのn+アモルファスシリコ
ン膜を形成した。この上に表示電極となるITO膜を成
膜しパターニングした。さらに配線材料としてのアルミ
ニウムをスパッタリングにより膜付けし、フォトリソグ
ラフィーにて信号配線およびTFTの金属電極を作製し
た。ドレイン電極とソース電極をマスクとしてチャンネ
ル部のn+アモルファスシリコン膜をエッチング除去し
TFT素子を備えた電極基板を得た。
(Preparation of Electrode Substrate) A chromium thin film was formed on an alkali-free glass substrate by sputtering, and was patterned into a gate electrode by photolithography. Next, the thickness of the insulating layer is 700 n by plasma CVD.
A silicon nitride film having a thickness of 100 nm, an amorphous silicon film having a thickness of 100 nm as a channel layer, and a silicon nitride film having a thickness of 500 nm were successively formed as an etching stopper layer. Next, the silicon nitride film of the etching stopper layer was patterned by photolithography. An n + amorphous silicon film for forming an ohmic contact between the TFT terminal and the metal electrode was formed. An ITO film serving as a display electrode was formed thereon and patterned. Further, a film of aluminum as a wiring material was formed by sputtering, and signal wiring and a metal electrode of a TFT were formed by photolithography. Using the drain electrode and the source electrode as a mask, the n + amorphous silicon film in the channel portion was removed by etching to obtain an electrode substrate having a TFT element.

【0083】(カラー液晶表示装置の作製と評価)本発
明のカラーフィルター上に垂直配向膜を設けた。対向す
る電極基板についても1画素の長辺を二分する位置に1
画素おきにカラーフィルター上のストライプ状突起と同
様のストライプ状突起を配置した。ただし、カラーフィ
ルターと貼り合わせたときにストライプ状突起がカラー
フィルター上のストライプ突起と1画素毎に交互に配置
されるようにした。同様にして対向する薄膜トランジス
タを備えた電極基板についても、垂直配向膜を設けた。
(文章の順序を訂正しました)この2枚の基板をエポキ
シ接着材をシール剤として用いて貼り合わせた後に、シ
ール部に設けられた注入口から垂直配向する液晶を注入
した。液晶を注入後、注入口を封止し、さらに偏光板を
基板の外側に貼り合わせ液晶表示装置を作製した。
(Production and Evaluation of Color Liquid Crystal Display) A vertical alignment film was provided on the color filter of the present invention. Regarding the opposing electrode substrate, 1
Stripe-like protrusions similar to the stripe-like protrusions on the color filter were arranged for each pixel. However, the stripe-shaped projections were alternately arranged with the stripe projections on the color filter for each pixel when they were bonded to the color filter. Similarly, a vertical alignment film was provided on the electrode substrate provided with the opposed thin film transistor.
(The order of the text was corrected.) After bonding these two substrates using an epoxy adhesive as a sealant, a vertically aligned liquid crystal was injected from an injection port provided in the seal portion. After injecting the liquid crystal, the injection port was sealed, and a polarizing plate was attached to the outside of the substrate to produce a liquid crystal display device.

【0084】この液晶表示装置は良好な表示品位を示
し、液晶の配向にも問題なく、140度以上の視野角を
有しているものとなった。
This liquid crystal display had good display quality, had no problem in the orientation of the liquid crystal, and had a viewing angle of 140 ° or more.

【0085】実施例2 突起用ペーストとして下記の組成を有するペーストを調
製し、これ以外は実施例1と同様にして液晶表示装置を
作製した。
Example 2 A paste having the following composition was prepared as a projection paste, and a liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except for this.

【0086】ストライプ状の突起は断面の下辺が12μ
m、上辺が10μmの台形とした。また、突起下辺の面
内バラツキは12±1μmの範囲内であり、欠けや断線
は見られず良好であった。突起の体積抵抗は1013Ωc
mであった。ストライプ状突起は図2に示したように1
画素の長辺を二分する位置に1画素おきに配置し、カラ
ーフィルターの表示部全体を貫いている。
The stripe-shaped projection has a lower side of 12 μm in cross section.
m, the trapezoid having an upper side of 10 μm. Further, the in-plane variation of the lower side of the protrusion was within a range of 12 ± 1 μm, and no chipping or disconnection was observed, which was favorable. The volume resistance of the protrusion is 10 13 Ωc
m. As shown in FIG.
Every other pixel is arranged at a position that bisects the long side of the pixel, and penetrates the entire display portion of the color filter.

【0087】この液晶表示装置は良好な表示品位を示
し、液晶の配向にも問題なく、140度以上の視野角を
有しているものとなった。
This liquid crystal display device exhibited good display quality, had no problem in the orientation of the liquid crystal, and had a viewing angle of 140 ° or more.

【0088】 突起用ペースト ジアントラキノン系赤顔料 (Pigment Red 177) 30.0部 ポリイミド前駆体溶液2 225.0部 N−メチル−2−ピロリドン 90.6部 γ−ブチロラクトン 90.6部 3−メチル−3−メトキシブタノールアセテート 63.8部 ガラスビーズ 481.3部 実施例3 赤、緑、青の顔料として各々Color index No.65300 Pig
ment Red 177で示されるジアントラキノン系顔料、Colo
r Index No.74265 Pigment Green 36 で示されるフタロ
シアニングリーン系顔料、Color Index No.74160 Pigme
nt Blue 15-4で示されるフタロシアニンブルー系顔料を
用意した。
Paste for projection Dianthraquinone red pigment (Pigment Red 177) 30.0 parts Polyimide precursor solution 2 225.0 parts N-methyl-2-pyrrolidone 90.6 parts γ-butyrolactone 90.6 parts 3-methyl -6-methoxybutanol acetate 63.8 parts Glass beads 481.3 parts Example 3 Color index No. 65300 Pig as red, green and blue pigments
Colo, a dianthraquinone pigment represented by ment Red 177
r Index No.74265 Pigment Green 36, phthalocyanine green pigment, Color Index No.74160 Pigme
A phthalocyanine blue pigment represented by nt Blue 15-4 was prepared.

【0089】スチレン:メタクリル酸メチル:メタクリ
ル酸=30:30:40であるアクリル共重合体樹脂粉
末6g、多官能モノマーとしてトリメチロールプロパン
トリアクリレート6g、光重合開始剤(チバスペシャリ
ティケミカルズ社製”イルガキュア”369)3gを含
むシクロペンタノン溶液に上記顔料を各々混合分散させ
て、赤、緑、青の3種類の着色ペーストを得た。
6 g of an acrylic copolymer resin powder in which styrene: methyl methacrylate: methacrylic acid = 30: 30: 40, 6 g of trimethylolpropane triacrylate as a polyfunctional monomer, and a photopolymerization initiator (Irgacure manufactured by Ciba Specialty Chemicals) "369) Each of the above pigments was mixed and dispersed in a cyclopentanone solution containing 3 g to obtain three types of colored pastes of red, green and blue.

【0090】実施例1と同様にして作製した樹脂ブラッ
クマトリックス基板上に青ペーストを塗布し、80℃で
10分間熱風乾燥した。フォトマスクを用いて露光し、
アルカリ現像液に基板をディップし同時に基板を揺動さ
せながら現像した。次いで、220℃で30分間キュア
した。青着色層の膜厚は1μmであった。
A blue paste was applied on a resin black matrix substrate produced in the same manner as in Example 1, and dried with hot air at 80 ° C. for 10 minutes. Exposure using a photomask,
The substrate was dipped in an alkali developer and developed while simultaneously rocking the substrate. Then, it was cured at 220 ° C. for 30 minutes. The thickness of the blue coloring layer was 1 μm.

【0091】基板水洗後に、青着色層と同様にして、
緑、赤着色層を形成した。ブラックマトリックスと赤、
青、緑着色層が形成された基板上に、スパッタリング法
にて膜厚が150nmで表面抵抗が20Ω/□のITO
膜を形成した。
After the substrate was washed with water, it was treated in the same manner as the blue colored layer
Green and red colored layers were formed. Black matrix and red,
An ITO having a thickness of 150 nm and a surface resistance of 20 Ω / □ is formed on the substrate on which the blue and green coloring layers are formed by sputtering.
A film was formed.

【0092】赤着色層の形成に用いた赤色ペーストを前
記ITO膜上に塗布し80℃で10分間熱風乾燥した。
フォトマスクを用いて露光し、テトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド0.1重量%水溶液を現像液として基板
を浸漬し、同時に基板を揺動させながら現像した。現像
時間は60秒とした。次いで、220℃で30分間キュ
アして厚さ1μmの分割配向用ストライプ状の突起を形
成した。
The red paste used for forming the red colored layer was applied on the ITO film and dried with hot air at 80 ° C. for 10 minutes.
Exposure was performed using a photomask, and the substrate was immersed in a 0.1% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide as a developing solution, and simultaneously developed while oscillating the substrate. The development time was 60 seconds. Next, the resultant was cured at 220 ° C. for 30 minutes to form a stripe-shaped projection for divisional alignment having a thickness of 1 μm.

【0093】ストライプ状の突起は断面の下辺が15μ
m、上辺が14μmの台形とした。また、突起下辺の面
内バラツキは15±1μmの範囲内であり、欠けや断線
は見られず良好であった。ストライプ状突起は図2に示
したように1画素の長辺を二分する位置に1画素おきに
配置し、カラーフィルターの表示部全体を貫いている。
The stripe-shaped projection has a lower side of 15 μm in cross section.
m, the trapezoid having an upper side of 14 μm. Further, the in-plane variation of the lower side of the projection was within a range of 15 ± 1 μm, and no chipping or disconnection was observed, which was favorable. As shown in FIG. 2, the stripe-shaped protrusions are arranged every other pixel at positions that bisect the long side of one pixel, and penetrate the entire display portion of the color filter.

【0094】かくして本発明のカラーフィルターを得
た。赤色ペーストにより形成された突起の体積抵抗は1
12Ωcmであった。
Thus, the color filter of the present invention was obtained. The volume resistance of the protrusion formed by the red paste is 1
It was 0 12 Ωcm.

【0095】実施例1と同様にしてカラーフィルターと
電極基板とを貼り合わせ、液晶注入、注入口封止、偏光
板貼り付けを実施して液晶表示装置を作製した。
In the same manner as in Example 1, the color filter and the electrode substrate were bonded, and liquid crystal injection, injection port sealing, and polarizing plate bonding were performed to manufacture a liquid crystal display device.

【0096】この液晶表示装置は良好な表示品位を示
し、液晶の配向にも問題なく、140度以上の視野角を
有しているものとなった。
This liquid crystal display device exhibited good display quality, had no problem in the orientation of liquid crystal, and had a viewing angle of 140 ° or more.

【0097】実施例4ブラックマトリックスを形成する
代わりに着色層の重ね塗りで透過率を低減した部分を形
成した。すなわち、ブラックマトリックスがない無アル
カリガラス基板の上に赤、青、緑の着色層を実施例1と
同様に形成し、このときブラックマトリックスが埋めて
いた隣り合う2つの画素間を2つの画素を着色している
着色材料の重ね塗りで埋めた。
Example 4 Instead of forming a black matrix, a portion having reduced transmittance was formed by applying a colored layer repeatedly. That is, red, blue, and green coloring layers are formed on an alkali-free glass substrate having no black matrix in the same manner as in Example 1, and at this time, two pixels are filled between two adjacent pixels filled with the black matrix. It was filled with a layer of colored coloring material.

【0098】さらに実施例1と同様に、透明保護層を設
け、ITO層を形成した後、実施例1で用いた突起用ペ
ーストを用いて分割配向用突起を形成した。ストライプ
状の突起は断面の下辺が15μm、上辺が14μmの台
形とした。また、突起下辺の面内バラツキは15±1μ
mの範囲内であり、欠けや断線は見られず良好であっ
た。突起の体積抵抗は1013Ωcmであった。
Further, in the same manner as in Example 1, a transparent protective layer was provided, an ITO layer was formed, and then the projections for division orientation were formed using the projection paste used in Example 1. The stripe-shaped protrusions were trapezoidal with a lower side of the cross section of 15 μm and an upper side of 14 μm. The in-plane variation of the lower side of the protrusion is 15 ± 1μ.
m, which was good without chipping or disconnection. The volume resistance of the protrusion was 10 13 Ωcm.

【0099】実施例1と同様にしてカラーフィルターと
電極基板とを貼り合わせ、液晶注入、注入口封止、偏光
板貼り付けを実施して液晶表示装置を作製した。
In the same manner as in Example 1, the color filter was bonded to the electrode substrate, and the liquid crystal was injected, the injection port was sealed, and a polarizing plate was bonded, to produce a liquid crystal display device.

【0100】この液晶表示装置は良好な表示品位を示
し、液晶の配向にも問題なく、140度以上の視野角を
有しているものとなった。
This liquid crystal display had good display quality, had no problem in the orientation of the liquid crystal, and had a viewing angle of 140 ° or more.

【0101】実施例5 実施例1と同様にしてブラックマトリックス、着色層、
透明保護膜、ITO層を形成した。ITO層上に下記に
示す組成の突起用ペーストを塗布し、120℃で20分
間セミキュアした。続いてポジ型フォトレジストを塗布
し80℃で20分間乾燥した。フォトマスクを用いて露
光し、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2重量%
水溶液に浸漬してフォトレジストの現像とポリイミド前
駆体のエッチングを同時に実施した。現像時間は60秒
とした。メチルセルソルブアセテートでフォトレジスト
を剥離して、さらに300℃で30分間キュアして実施
例1と同じパターンの厚さ1μmの分割配向用突起を作
製した。
Example 5 A black matrix, a colored layer,
A transparent protective film and an ITO layer were formed. A projection paste having the following composition was applied on the ITO layer and semi-cured at 120 ° C. for 20 minutes. Subsequently, a positive photoresist was applied and dried at 80 ° C. for 20 minutes. Exposure using a photomask, 2% by weight of tetramethylammonium hydroxide
By immersing in an aqueous solution, the development of the photoresist and the etching of the polyimide precursor were simultaneously performed. The development time was 60 seconds. The photoresist was peeled off with methylcellosolve acetate, and cured at 300 ° C. for 30 minutes to form a 1 μm-thick projection for division alignment having the same pattern as in Example 1.

【0102】ストライプ状の突起は断面の下辺が15μ
m、上辺が14μmの台形とした。また、突起下辺の面
内バラツキは15±1μmの範囲内であり、欠けや断線
は見られず良好であった。
The stripe-shaped projection has a lower side of 15 μm in cross section.
m, the trapezoid having an upper side of 14 μm. Further, the in-plane variation of the lower side of the projection was within a range of 15 ± 1 μm, and no chipping or disconnection was observed, which was favorable.

【0103】 突起用ペースト カーボンブラック (MA100、三菱化学(株)製) 4.6部 ポリイミド前駆体溶液1 24.0部 N−メチル−2−ピロリドン 61.4部 ガラスビーズ 90.0部 分割配向用突起を形成した黒着色層の体積抵抗値は10
9Ωcmであった。
Projection paste carbon black (MA100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 4.6 parts Polyimide precursor solution 1 24.0 parts N-methyl-2-pyrrolidone 61.4 parts Glass beads 90.0 parts Split orientation Volume resistance value of the black colored layer on which the projections are formed is 10
It was 9 Ωcm.

【0104】実施例1と同様にしてカラーフィルターと
電極基板とを貼り合わせ、液晶注入、注入口封止、偏光
板貼り付けを実施して液晶表示装置を作製した。
In the same manner as in Example 1, the color filter and the electrode substrate were bonded together, and liquid crystal injection, sealing of the injection port, and bonding of a polarizing plate were performed to manufacture a liquid crystal display device.

【0105】この液晶表示装置は良好な表示品位を示
し、液晶の配向にも問題なく、140度以上の視野角を
有しているものとなった。
This liquid crystal display had good display quality, had no problem in the orientation of the liquid crystal, and had a viewing angle of 140 ° or more.

【0106】比較例1 実施例1の突起用ペーストで用いたポリイミド前駆体溶
液2のみを用い、膜厚1.5μmとなるよう分割配向用
突起の形成を試みた。しかしながら、ポリイミド前駆体
2のエッチングにおいて現像時間を40秒以下と短くし
ても、現像液に対する溶解性が大きいため、ストライプ
状突起の断線が多数見られた。また、突起下辺の面内バ
ラツキは15±3μmであった。
Comparative Example 1 Using only the polyimide precursor solution 2 used in the projection paste of Example 1, an attempt was made to form a projection for split orientation so as to have a film thickness of 1.5 μm. However, even when the development time was shortened to 40 seconds or less in the etching of the polyimide precursor 2, a large number of disconnections of the stripe-shaped projections were observed due to high solubility in the developing solution. The in-plane variation of the lower side of the protrusion was 15 ± 3 μm.

【0107】かくして液晶表示装置を作製したところ、
液晶の配向不良のため、表示不良が見られた。
Thus, when a liquid crystal display device was manufactured,
Poor display was observed due to poor alignment of the liquid crystal.

【0108】[0108]

【発明の効果】本発明の液晶表示装置は液晶の分割配向
用突起を有しているので表示品位に優れるとともに広視
野角を達成できる。さらに、突起が安定して形成できる
ため、生産性に優れ表示不良のない液晶表示装置が提供
できる。
As described above, the liquid crystal display device of the present invention has projections for dividing and aligning the liquid crystal, so that the display quality is excellent and a wide viewing angle can be achieved. Further, since the projections can be formed stably, a liquid crystal display device which is excellent in productivity and free from display defects can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の分割配向用突起を有するカラーフィル
ター基板の断面図の一例である。
FIG. 1 is an example of a cross-sectional view of a color filter substrate having a projection for split alignment according to the present invention.

【図2】本発明の分割配向用突起を有するカラーフィル
ター基板の平面図の一例である。
FIG. 2 is an example of a plan view of a color filter substrate having a projection for division alignment according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ガラス基板 2、9:ブラックマトリックス 3:青着色層 4:赤着色層 5:緑着色層 6:透明保護層 7:透明導電層 8、11:分割配向用突起 10:開口部 1: Glass substrate 2, 9: Black matrix 3: Blue coloring layer 4: Red coloring layer 5: Green coloring layer 6: Transparent protective layer 7: Transparent conductive layer 8, 11: Projection for split alignment 10: Opening

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶表示に用いられる分割配向用基板であ
って、液晶の分割配向のために基板表面に形成された突
起が、少なくともフィラー、及び樹脂から構成されてい
ることを特徴とする分割配向用基板。
1. A divisional alignment substrate used for liquid crystal display, wherein a projection formed on the substrate surface for liquid crystal divisional alignment is composed of at least a filler and a resin. Substrate for alignment.
【請求項2】前記フィラーが、バライト、硫酸バリウ
ム、炭酸バリウム、炭酸カルシウム、シリカおよびタル
クの群から選ばれた少なくとも一種であることを特徴と
する請求項1記載の分割配向用基板。
2. The substrate according to claim 1, wherein the filler is at least one selected from the group consisting of barite, barium sulfate, barium carbonate, calcium carbonate, silica and talc.
【請求項3】前記突起の体積抵抗率が107 Ωcm以上
であることを特徴とする請求項1記載の分割配向用基
板。
3. The substrate for split orientation according to claim 1, wherein the volume resistivity of the protrusion is 10 7 Ωcm or more.
【請求項4】前記突起を構成する樹脂がポリイミド系樹
脂またはアクリル系樹脂であることを特徴とする請求項
1記載の分割配向用基板。
4. The substrate for split alignment according to claim 1, wherein the resin forming the protrusion is a polyimide resin or an acrylic resin.
【請求項5】分割配向用基板がカラーフィルター基板で
あることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の分
割配向用基板。
5. The substrate for split alignment according to claim 1, wherein the substrate for split alignment is a color filter substrate.
【請求項6】分割配向用基板が電極基板であることを特
徴とする請求項1〜4の何れかに記載の分割配向用基
板。
6. The split alignment substrate according to claim 1, wherein the split alignment substrate is an electrode substrate.
【請求項7】請求項1〜6の何れかに記載の分割配向用
基板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
7. A liquid crystal display device using the substrate for split alignment according to claim 1.
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1139154A1 (en) * 2000-03-27 2001-10-04 Hewlett-Packard Company, A Delaware Corporation Liquid crystal alignment
EP1139150A1 (en) * 2000-03-27 2001-10-04 Hewlett-Packard Company, A Delaware Corporation Liquid crystal alignment structure
WO2002010850A1 (en) * 2000-07-31 2002-02-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display unit and production method therefor
JP2002122858A (en) * 2000-10-17 2002-04-26 Toppan Printing Co Ltd Color filter for mva-lcd and method of manufacturing the same
JP2003035905A (en) * 2001-07-24 2003-02-07 Dainippon Printing Co Ltd Liquid crystal display and color filter and array substrate for liquid crystal display
US6798481B2 (en) 2000-03-27 2004-09-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Liquid crystal alignment
US6903790B2 (en) 2000-03-27 2005-06-07 Hewlett-Packard Development Company Bistable nematic liquid crystal device
US6992741B2 (en) 2001-06-22 2006-01-31 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Bistable nematic liquid crystal device
JP2007233132A (en) * 2006-03-02 2007-09-13 Toppan Printing Co Ltd Substrate with protrusion for alignment control and liquid crystal display device using same
JP2008003320A (en) * 2006-06-22 2008-01-10 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition and bump for controlling liquid crystal alignment using the same
JP2008077073A (en) * 2006-08-23 2008-04-03 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition for liquid crystal alignment control protrusion, liquid crystal alignment control protrusion, and liquid crystal display device
JP2008233479A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Toppan Printing Co Ltd Color filter for semi-transmissive liquid crystal display device
US7460200B2 (en) 2000-03-27 2008-12-02 Helwett-Packard Development Company, L.P. Liquid crystal alignment
JP2009157328A (en) * 2007-12-28 2009-07-16 Dainippon Printing Co Ltd Color filter
WO2011001566A1 (en) * 2009-07-01 2011-01-06 シャープ株式会社 Liquid crystal display element and liquid crystal display device
CN102778714A (en) * 2011-06-02 2012-11-14 京东方科技集团股份有限公司 Color filter and manufacturing method thereof
KR20160141588A (en) * 2015-06-01 2016-12-09 삼성전자주식회사 Spatial light modulator providing improved image quality and holographic display apparatus including the same

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7106410B2 (en) 2000-03-27 2006-09-12 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Bistable nematic liquid crystal device comprising an array of upstanding alignment posts
EP1139150A1 (en) * 2000-03-27 2001-10-04 Hewlett-Packard Company, A Delaware Corporation Liquid crystal alignment structure
JP2001281660A (en) * 2000-03-27 2001-10-10 Hewlett Packard Co <Hp> Liquid crystal device
US7633596B2 (en) 2000-03-27 2009-12-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Liquid crystal alignment
EP1139154A1 (en) * 2000-03-27 2001-10-04 Hewlett-Packard Company, A Delaware Corporation Liquid crystal alignment
US7460200B2 (en) 2000-03-27 2008-12-02 Helwett-Packard Development Company, L.P. Liquid crystal alignment
US6798481B2 (en) 2000-03-27 2004-09-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Liquid crystal alignment
US6903790B2 (en) 2000-03-27 2005-06-07 Hewlett-Packard Development Company Bistable nematic liquid crystal device
US7397526B2 (en) 2000-03-27 2008-07-08 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Liquid crystal device comprising alignment posts having a random or pseudorandom spacing therebetween
US7583347B2 (en) 2000-07-31 2009-09-01 Panasonic Corporation Liquid crystal display having electrodes constituted by a transparent electric conductor
US7414682B2 (en) 2000-07-31 2008-08-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display unit and production method thereof
WO2002010850A1 (en) * 2000-07-31 2002-02-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Liquid crystal display unit and production method therefor
JP4639457B2 (en) * 2000-10-17 2011-02-23 凸版印刷株式会社 Manufacturing method of color filter for MVA-LCD
JP2002122858A (en) * 2000-10-17 2002-04-26 Toppan Printing Co Ltd Color filter for mva-lcd and method of manufacturing the same
US6992741B2 (en) 2001-06-22 2006-01-31 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Bistable nematic liquid crystal device
JP2003035905A (en) * 2001-07-24 2003-02-07 Dainippon Printing Co Ltd Liquid crystal display and color filter and array substrate for liquid crystal display
JP4703051B2 (en) * 2001-07-24 2011-06-15 大日本印刷株式会社 Color filters and array substrates for liquid crystal displays and liquid crystal displays
JP2007233132A (en) * 2006-03-02 2007-09-13 Toppan Printing Co Ltd Substrate with protrusion for alignment control and liquid crystal display device using same
JP2008003320A (en) * 2006-06-22 2008-01-10 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition and bump for controlling liquid crystal alignment using the same
JP2008077073A (en) * 2006-08-23 2008-04-03 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition for liquid crystal alignment control protrusion, liquid crystal alignment control protrusion, and liquid crystal display device
JP2008233479A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Toppan Printing Co Ltd Color filter for semi-transmissive liquid crystal display device
JP2009157328A (en) * 2007-12-28 2009-07-16 Dainippon Printing Co Ltd Color filter
WO2011001566A1 (en) * 2009-07-01 2011-01-06 シャープ株式会社 Liquid crystal display element and liquid crystal display device
CN102778714A (en) * 2011-06-02 2012-11-14 京东方科技集团股份有限公司 Color filter and manufacturing method thereof
KR20160141588A (en) * 2015-06-01 2016-12-09 삼성전자주식회사 Spatial light modulator providing improved image quality and holographic display apparatus including the same

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