JPH11300358A - 水処理方法及びその装置 - Google Patents
水処理方法及びその装置Info
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- JPH11300358A JPH11300358A JP10115022A JP11502298A JPH11300358A JP H11300358 A JPH11300358 A JP H11300358A JP 10115022 A JP10115022 A JP 10115022A JP 11502298 A JP11502298 A JP 11502298A JP H11300358 A JPH11300358 A JP H11300358A
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- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
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- C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
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- C02F2201/461—Electrolysis apparatus
- C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長時間使用を続けても印加電極、接地電極に
スケールが吸着し難く長時間に亘って安定した処理が可
能な水処理方法及び装置を提供すること。 【解決手段】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置して、一対の
印加電極に交流を印加することにより水の酸化還元電位
を下げてする水処理方法において、上記交流周波数を制
御する信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周波
数を制御し、周波数変化中において急激な上昇又は下降
に変化する部分を作成することで電極へのスケール付着
を防止する。
スケールが吸着し難く長時間に亘って安定した処理が可
能な水処理方法及び装置を提供すること。 【解決手段】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置して、一対の
印加電極に交流を印加することにより水の酸化還元電位
を下げてする水処理方法において、上記交流周波数を制
御する信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周波
数を制御し、周波数変化中において急激な上昇又は下降
に変化する部分を作成することで電極へのスケール付着
を防止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的処理によっ
て湖沼、河川、或は工場内の工業廃水や加工用水、或は
飲料水等の大量の水に電気エネルギーを与えて処理する
方法及びその装置に関する。
て湖沼、河川、或は工場内の工業廃水や加工用水、或は
飲料水等の大量の水に電気エネルギーを与えて処理する
方法及びその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、かかる水処理方法及び装置として
は、本願発明者自身による特許第２６２３２０４号公報
や特開平７−３１９８１号公報に開示されたものが知ら
れている。かかる従来方法及び装置は、いずれも処理対
象の水中に配置した一対の印加電極に高周波の交流電圧
を交互に印加することにより水の酸化還元電位を下げる
ことによって水を汚染している有機物、無機物の凝集沈
澱乃至は浮揚等を促進して水の改質処理をなすものであ
る。
は、本願発明者自身による特許第２６２３２０４号公報
や特開平７−３１９８１号公報に開示されたものが知ら
れている。かかる従来方法及び装置は、いずれも処理対
象の水中に配置した一対の印加電極に高周波の交流電圧
を交互に印加することにより水の酸化還元電位を下げる
ことによって水を汚染している有機物、無機物の凝集沈
澱乃至は浮揚等を促進して水の改質処理をなすものであ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の水処理方法、装置にあっては、長時間使用を続け
るうちに印加電極、接地電極にスケールが吸着して電極
電流値が低下し、処理効率が低下する場合があり、長時
間に亘る安定した水処理に解決すべき課題を有してい
た。
従来の水処理方法、装置にあっては、長時間使用を続け
るうちに印加電極、接地電極にスケールが吸着して電極
電流値が低下し、処理効率が低下する場合があり、長時
間に亘る安定した水処理に解決すべき課題を有してい
た。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、処理対象の
水中に一対の印加電極と、当該印加電極に近接せしめた
接地電極を配置し、印加電極として電解性の高い金属か
らなる電極を用い、一対の印加電極に交流を印加するこ
とにより水の酸化還元電位を下げる水処理方法におい
て、上記交流周波数を制御する信号発生器を内蔵しその
信号に対応して発振周波数を制御し、周波数変化中にお
いて急激な上昇又は下降に変化する部分を作成すること
によって解決される。
水中に一対の印加電極と、当該印加電極に近接せしめた
接地電極を配置し、印加電極として電解性の高い金属か
らなる電極を用い、一対の印加電極に交流を印加するこ
とにより水の酸化還元電位を下げる水処理方法におい
て、上記交流周波数を制御する信号発生器を内蔵しその
信号に対応して発振周波数を制御し、周波数変化中にお
いて急激な上昇又は下降に変化する部分を作成すること
によって解決される。
【０００５】かかる本発明方法によれば、長時間の使用
であっても印加電極へのスケールの付着はほとんどな
く、従って長時間に亘って安定した水処理が可能であ
る。また、一対の接地電極を設け、当該一対の電極の一
方をグランドせしめ、他方をプラス側に接続するととも
に、これらを低周期で交互に接地せしめて、他方の電極
がオフ時にはプラス電位になるようにすれば、接地電極
の表面への付着物も生じにくくなり、より安定した水処
理ができる。
であっても印加電極へのスケールの付着はほとんどな
く、従って長時間に亘って安定した水処理が可能であ
る。また、一対の接地電極を設け、当該一対の電極の一
方をグランドせしめ、他方をプラス側に接続するととも
に、これらを低周期で交互に接地せしめて、他方の電極
がオフ時にはプラス電位になるようにすれば、接地電極
の表面への付着物も生じにくくなり、より安定した水処
理ができる。
【０００６】かかる水処理方法に使用される装置として
は、接地電極と一対の印加電極と、直流電源と、当該直
流電源に可変抵抗を介してそれぞれ接続された第１、第
２の交流スイッチと、これらの交流スイッチに抵抗を介
して接続されたフリップフロップ回路からなる交流切換
指令回路と、該交流切換指令回路に接続された交流発振
器と、この交流発振器に接続された制御回路とを備え、
該制御回路は変動信号発生器を内蔵し、変動信号発生器
からの出力制御信号を交流発振器に与えて発振周波数を
制御して変化させるとともに、該交流切換指令回路が交
流発振器からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与
え、これら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされ
て交流を形成して、上記一対の印加電極間に交流電圧を
印加することにより水の酸化還元電位を下げるようにし
た水処理装置を用いることができる。
は、接地電極と一対の印加電極と、直流電源と、当該直
流電源に可変抵抗を介してそれぞれ接続された第１、第
２の交流スイッチと、これらの交流スイッチに抵抗を介
して接続されたフリップフロップ回路からなる交流切換
指令回路と、該交流切換指令回路に接続された交流発振
器と、この交流発振器に接続された制御回路とを備え、
該制御回路は変動信号発生器を内蔵し、変動信号発生器
からの出力制御信号を交流発振器に与えて発振周波数を
制御して変化させるとともに、該交流切換指令回路が交
流発振器からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与
え、これら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされ
て交流を形成して、上記一対の印加電極間に交流電圧を
印加することにより水の酸化還元電位を下げるようにし
た水処理装置を用いることができる。
【０００７】かかる水処理装置を用いて上記水処理方法
を実施するには、処理対象の湖沼、河川、工業廃水や、
加工用水、飲料水等の水中に一対の印加電極を配置して
同印加電極に交流電圧を印加すればよく、これによって
短時間で対象水の酸化還元電位が下がり、水中の有機物
は分解されてほとんどガス化し、一部は凝集沈澱して浄
水され乃至は溶存酸素量が増える等の改質がされるが、
処理が長時間に亘っても印加電極にはほとんどスケール
が付着せず処理能力が低下しない。
を実施するには、処理対象の湖沼、河川、工業廃水や、
加工用水、飲料水等の水中に一対の印加電極を配置して
同印加電極に交流電圧を印加すればよく、これによって
短時間で対象水の酸化還元電位が下がり、水中の有機物
は分解されてほとんどガス化し、一部は凝集沈澱して浄
水され乃至は溶存酸素量が増える等の改質がされるが、
処理が長時間に亘っても印加電極にはほとんどスケール
が付着せず処理能力が低下しない。
【０００８】なお、ここに使用される印加電極は、亜
鉛、酸化リチウム、マグネシウム合金、銅、鉄、ステン
レス等の電解性の高い金属、または、チタン、白金等の
安定した金属を用いることができる。
鉛、酸化リチウム、マグネシウム合金、銅、鉄、ステン
レス等の電解性の高い金属、または、チタン、白金等の
安定した金属を用いることができる。
【０００９】上記水処理装置において、直流電源からの
出力は、変動信号発生器からの出力制御信号が制御回路
から交流発振器に与えられて発振周波数が制御されて変
化させられるとともに、交流切換指令回路が交流発振器
からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与え、これ
ら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされて交流が
形成されるとともに変化する周波数の中に急激な下降か
ら急激な上昇へ転ずる部分が作成され、一対の印加電極
間にかかる交流電圧が印加されることにより、水の酸化
還元電位が下げられ、以て、水中の浮遊物、熔解物が分
解ガス化、乃至は凝集沈澱等して改質処理されるのみな
らず、処理が長時間に亘っても印加電極にはほとんどス
ケールが付着せず処理能力が低下しない。
出力は、変動信号発生器からの出力制御信号が制御回路
から交流発振器に与えられて発振周波数が制御されて変
化させられるとともに、交流切換指令回路が交流発振器
からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与え、これ
ら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされて交流が
形成されるとともに変化する周波数の中に急激な下降か
ら急激な上昇へ転ずる部分が作成され、一対の印加電極
間にかかる交流電圧が印加されることにより、水の酸化
還元電位が下げられ、以て、水中の浮遊物、熔解物が分
解ガス化、乃至は凝集沈澱等して改質処理されるのみな
らず、処理が長時間に亘っても印加電極にはほとんどス
ケールが付着せず処理能力が低下しない。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明の水処理方法及びそ
の装置に係る実施例について添付図面を参照しつつさら
に詳細に説明することとする。第１図は、本発明の水処
理方法に使用される水処理装置の回路図であり、水中に
配置される接地電極１と、当該接地電極近くに配置した
一対の印加電極２Ａ、２Ｂを有する。接地電極１の材料
としてはステンレスを用い、印加電極２Ａ、２Ｂとして
は溶解性の高い亜鉛、マグネシウム合金が用いられてい
る。但し、処理目的によっては、印加電極２Ａ、２Ｂと
して溶解性のない安定したチタン、白金等を用いてもよ
い。
の装置に係る実施例について添付図面を参照しつつさら
に詳細に説明することとする。第１図は、本発明の水処
理方法に使用される水処理装置の回路図であり、水中に
配置される接地電極１と、当該接地電極近くに配置した
一対の印加電極２Ａ、２Ｂを有する。接地電極１の材料
としてはステンレスを用い、印加電極２Ａ、２Ｂとして
は溶解性の高い亜鉛、マグネシウム合金が用いられてい
る。但し、処理目的によっては、印加電極２Ａ、２Ｂと
して溶解性のない安定したチタン、白金等を用いてもよ
い。
【００１１】上記印加電極２Ａ、２Ｂと直流電源３の間
には可変抵抗４を介して、該直流電源からの直流電流を
高周波の交流に変換して印加電極２Ａ、２Ｂに与える第
１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂが接続されてい
る。これら第１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂは、
トランジスタ６Ａ、７Ａと、６Ｂ、７Ｂとでそれぞれ構
成されている。印加電極２Ａ、２Ｂ間は、コンデンサ８
を介して接続されている。上記直流電源には処理水の用
途に応じて１０〜５０Ｖの範囲で選択調整しつつ用いる
ことができる。
には可変抵抗４を介して、該直流電源からの直流電流を
高周波の交流に変換して印加電極２Ａ、２Ｂに与える第
１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂが接続されてい
る。これら第１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂは、
トランジスタ６Ａ、７Ａと、６Ｂ、７Ｂとでそれぞれ構
成されている。印加電極２Ａ、２Ｂ間は、コンデンサ８
を介して接続されている。上記直流電源には処理水の用
途に応じて１０〜５０Ｖの範囲で選択調整しつつ用いる
ことができる。
【００１２】第１、第２の高周波スイッチ６Ａ、６Ｂに
は、抵抗９Ａ、９Ｂをそれぞれ介して当該スイッチに高
周波の切換指令を与えるフリップフロップ回路よりなる
高周波切換指令回路１０が接続され、この高周波切換指
令回路１０には制御信号に応動して発振周波数が変化す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）からなる高周波発振回路１
１が接続されている。この高周波発振回路１１にはラン
ダム電圧発生器を内蔵した制御回路１２が接続されてい
る。
は、抵抗９Ａ、９Ｂをそれぞれ介して当該スイッチに高
周波の切換指令を与えるフリップフロップ回路よりなる
高周波切換指令回路１０が接続され、この高周波切換指
令回路１０には制御信号に応動して発振周波数が変化す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）からなる高周波発振回路１
１が接続されている。この高周波発振回路１１にはラン
ダム電圧発生器を内蔵した制御回路１２が接続されてい
る。
【００１３】高周波発振回路１１は可変周波数形の発振
回路であって、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に与えられる
制御信号の電圧値によってその発振周波数が制御され
る。この時の周波数の変動幅は、例えば、中心周波数
（約３０KHz）の上下に約３〜５KHz 程度のものであ
る。
回路であって、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に与えられる
制御信号の電圧値によってその発振周波数が制御され
る。この時の周波数の変動幅は、例えば、中心周波数
（約３０KHz）の上下に約３〜５KHz 程度のものであ
る。
【００１４】制御回路１２は前記発振回路１１へその発
振周波数を制御するための制御電圧を供給するものであ
る。この制御回路１２はランダム信号発生器を内蔵して
いて、それが発生するランダム信号に応じて電圧値の変
化する制御信号を出力する。図中のシフトレジスタＳＦ
Ｒ１３は１６ステージ構成のものであり、その蓄積情報
は端子Ｑ0〜Ｑ15より並列に読取ることができるように
構成されている。このシフトレジスタＳＦＲのシフト動
作はシフトレジスタＳＦＲの端子ＣＫにパルス発生器
（ＰＧ）１４より供給されるシフトパルスによって制御
される。また、フリップフロップ１５はパルス発生器１
４のパルスにより反転動作を行ない、反転する毎に図２
の"Ｉ"部分の急激な周波数変動を行なっている。
振周波数を制御するための制御電圧を供給するものであ
る。この制御回路１２はランダム信号発生器を内蔵して
いて、それが発生するランダム信号に応じて電圧値の変
化する制御信号を出力する。図中のシフトレジスタＳＦ
Ｒ１３は１６ステージ構成のものであり、その蓄積情報
は端子Ｑ0〜Ｑ15より並列に読取ることができるように
構成されている。このシフトレジスタＳＦＲのシフト動
作はシフトレジスタＳＦＲの端子ＣＫにパルス発生器
（ＰＧ）１４より供給されるシフトパルスによって制御
される。また、フリップフロップ１５はパルス発生器１
４のパルスにより反転動作を行ない、反転する毎に図２
の"Ｉ"部分の急激な周波数変動を行なっている。
【００１５】ゲートＧＴは両入力端子に入力される信号
が同一であれば"1"、相違すれば"0"の信号を出力する。
所謂排他的論理和動作を行なうゲートであり、一致検出
回路として作用する。このゲートＧＴの入力端子の一方
には前記シフトレジスタＳＦＲの偶数ステージ、例え
ば、第６ステージの端子Ｑ6より出力される信号が、ま
た、他方には奇数ステージ、例えば、第９ステージの端
子Ｑ9より出力される信号が夫々入力される。このゲー
トＧＴによる一致検出の結果はシフトレジスタＳＦＲの
端子Ｄより最下位の第０ステージへ入力される。この情
報を逐次上位へシフトしてゆくことによってシフトレジ
スタＳＦＲ内に乱数情報が蓄えられる。
が同一であれば"1"、相違すれば"0"の信号を出力する。
所謂排他的論理和動作を行なうゲートであり、一致検出
回路として作用する。このゲートＧＴの入力端子の一方
には前記シフトレジスタＳＦＲの偶数ステージ、例え
ば、第６ステージの端子Ｑ6より出力される信号が、ま
た、他方には奇数ステージ、例えば、第９ステージの端
子Ｑ9より出力される信号が夫々入力される。このゲー
トＧＴによる一致検出の結果はシフトレジスタＳＦＲの
端子Ｄより最下位の第０ステージへ入力される。この情
報を逐次上位へシフトしてゆくことによってシフトレジ
スタＳＦＲ内に乱数情報が蓄えられる。
【００１６】このシフトレジスタＳＦＲ内に蓄えられた
乱数情報は適当に選択された約半数のステージから抵抗
器ｒによって取り出される。本実施例に於ては、第１、
第３、第８、第１０、第１２〜１５の各ステージから信
号を取り出している。抵抗器ｒはこれら各ステージの端
子Ｑ1、Ｑ3、Ｑ8、Ｑ10、Ｑ12〜Ｑ15を共通の接続点Ａ
に接続している。この接続点Ａは発振回路１１を構成す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）に接続されている。また一
方、電圧制御発振器（ＶＣＯ）はパルス発生器１４に接
続されたフリップフロップ回路１５にも接続されてい
る。
乱数情報は適当に選択された約半数のステージから抵抗
器ｒによって取り出される。本実施例に於ては、第１、
第３、第８、第１０、第１２〜１５の各ステージから信
号を取り出している。抵抗器ｒはこれら各ステージの端
子Ｑ1、Ｑ3、Ｑ8、Ｑ10、Ｑ12〜Ｑ15を共通の接続点Ａ
に接続している。この接続点Ａは発振回路１１を構成す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）に接続されている。また一
方、電圧制御発振器（ＶＣＯ）はパルス発生器１４に接
続されたフリップフロップ回路１５にも接続されてい
る。
【００１７】従って、これら各ステージに蓄積された乱
数情報のパターンが変化すると、高レベルと低レベルと
に接続される抵抗器ｒの合成値が夫々変化するため、接
続点Ａの電圧がこれに応じて変動してランダム信号が作
成される。この動作はＣＰＵにより再現できる。
数情報のパターンが変化すると、高レベルと低レベルと
に接続される抵抗器ｒの合成値が夫々変化するため、接
続点Ａの電圧がこれに応じて変動してランダム信号が作
成される。この動作はＣＰＵにより再現できる。
【００１８】パルス発生器１４は例えば５Ｈzを中心周
波数とする連続パルスを送出するパルス発生器であつ
て、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に入力される信号の電圧
値に従ってパルス繰返し周期が変化するように構成され
ている。この周波数の変動範囲は中心周波数の上下に夫
々数ヘルツ程度のものとなっている。このパルス発生器
１４の端子には、前記接続点Ａの電圧が抵抗器ｒ2を介
して与えられる。従って、このパルス発生器１４はシフ
トレジスタＳＦＲによるランダム信号に応じてそのパル
ス繰返し周期が変動することになる。シフトレジスタＳ
ＦＲはこのパルス発生器１４の出力をシフトパルスとし
て用いている。従って、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に出
力される制御信号はその電圧値、変動周期共に全くラン
ダムに変化することになるとともに、フリップフロップ
回路１５により、図２に示す急変化Ｉ部分を作りだして
いる。
波数とする連続パルスを送出するパルス発生器であつ
て、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に入力される信号の電圧
値に従ってパルス繰返し周期が変化するように構成され
ている。この周波数の変動範囲は中心周波数の上下に夫
々数ヘルツ程度のものとなっている。このパルス発生器
１４の端子には、前記接続点Ａの電圧が抵抗器ｒ2を介
して与えられる。従って、このパルス発生器１４はシフ
トレジスタＳＦＲによるランダム信号に応じてそのパル
ス繰返し周期が変動することになる。シフトレジスタＳ
ＦＲはこのパルス発生器１４の出力をシフトパルスとし
て用いている。従って、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に出
力される制御信号はその電圧値、変動周期共に全くラン
ダムに変化することになるとともに、フリップフロップ
回路１５により、図２に示す急変化Ｉ部分を作りだして
いる。
【００１９】ここで、この制御回路１２においては、制
御信号をシフトレジスタＳＦＲの約半数のステージに蓄
積された乱数情報のパターンを利用して作成しており、
その採用ステージにも偏りがあり、さらに前述のように
シフトレジスタＳＦＲの入力情報として、偶数、奇数の
各々から１ステージずつ選ばれた情報の一致検出結果を
用いているため、電圧値が急上昇して急降下するような
極めて変動の激しい部分が頻繁に現われ、また、短期間
で同一の変化パターンを繰返すようなことはない。
御信号をシフトレジスタＳＦＲの約半数のステージに蓄
積された乱数情報のパターンを利用して作成しており、
その採用ステージにも偏りがあり、さらに前述のように
シフトレジスタＳＦＲの入力情報として、偶数、奇数の
各々から１ステージずつ選ばれた情報の一致検出結果を
用いているため、電圧値が急上昇して急降下するような
極めて変動の激しい部分が頻繁に現われ、また、短期間
で同一の変化パターンを繰返すようなことはない。
【００２０】上述のように構成された水処理装置の直流
電源３のスイッチがオンされると、該制御回路１２が上
述のように動作してランダム信号に対応した制御信号が
高周波発振回路１１に送出され、発振周波数が制御され
てランダムに変化する。そして高周波発振器から高周波
切換指令回路１０にランダムに変化する高周波信号が与
えられる。高周波切換指令回路１０にランダムな高周波
信号が与えられると、当該高周波切換指令回路から高周
波の切換指令が出され、第１、第２高周波スイッチ５
Ａ、５Ｂに交互に与えられ、これら第１、第２の高周波
スイッチが高周期でオン、オフされてランダムに変化す
る高周波交流が形成され、水中に配置された１対の印加
電極２Ａ、２Ｂに交互に印加される。
電源３のスイッチがオンされると、該制御回路１２が上
述のように動作してランダム信号に対応した制御信号が
高周波発振回路１１に送出され、発振周波数が制御され
てランダムに変化する。そして高周波発振器から高周波
切換指令回路１０にランダムに変化する高周波信号が与
えられる。高周波切換指令回路１０にランダムな高周波
信号が与えられると、当該高周波切換指令回路から高周
波の切換指令が出され、第１、第２高周波スイッチ５
Ａ、５Ｂに交互に与えられ、これら第１、第２の高周波
スイッチが高周期でオン、オフされてランダムに変化す
る高周波交流が形成され、水中に配置された１対の印加
電極２Ａ、２Ｂに交互に印加される。
【００２１】ここで、高周波発振回路１１から送出され
る発振周波数は、その電圧値及びその電圧値の持続時間
が全くランダムに変化するとともに、電圧値が急上昇し
てから急降下する極めて激しく変動する部分を頻繁に含
んでいる（図２参照）。
る発振周波数は、その電圧値及びその電圧値の持続時間
が全くランダムに変化するとともに、電圧値が急上昇し
てから急降下する極めて激しく変動する部分を頻繁に含
んでいる（図２参照）。
【００２２】高周波発振回路から送出される高周波発振
周波数がランダムに変動する本発明方法と変動しない従
来方法を電源電圧４０Ｖ下で水道水に適用して比較して
みたところ、本発明方法における電極表面への白い付着
物は従来方法におけるよりも顕著に少ないことが肉眼で
確認された。また、電極電流の変化の比較試験をしたと
ころ、下記表１の結果が得られた。
周波数がランダムに変動する本発明方法と変動しない従
来方法を電源電圧４０Ｖ下で水道水に適用して比較して
みたところ、本発明方法における電極表面への白い付着
物は従来方法におけるよりも顕著に少ないことが肉眼で
確認された。また、電極電流の変化の比較試験をしたと
ころ、下記表１の結果が得られた。
【表１】
【００２３】表１から明かなように、従来方法において
は時間の経過と共に電極電流値が徐々に小さくなり、１
００時間後には半分になっているが、本発明方法におい
ては、１００時間後でも約７％弱の減少しかみられず、
長期に安定した水処理ができることが確認された。これ
は肉眼でみることができる電極への付着状況と一致す
る。かかる現象が起こる理由は特定はできないが印加電
極に交互に印加される高周波交流電圧が急激な上下動部
分を含むランダムなものであることに起因する電界干渉
によるものと思われる。
は時間の経過と共に電極電流値が徐々に小さくなり、１
００時間後には半分になっているが、本発明方法におい
ては、１００時間後でも約７％弱の減少しかみられず、
長期に安定した水処理ができることが確認された。これ
は肉眼でみることができる電極への付着状況と一致す
る。かかる現象が起こる理由は特定はできないが印加電
極に交互に印加される高周波交流電圧が急激な上下動部
分を含むランダムなものであることに起因する電界干渉
によるものと思われる。
【００２４】本発明方法に用いられる装置は、図３にそ
の回路図を示すように、一対のステンレス製又はチタン
製の接地電極１Ａ、１Ｂを設けるとともに、これら接地
電極を交互に低周期で接地するためのトランジスタより
なる低周波スイッチ１６Ａ、１６Ｂがそれぞれ接続され
たものとしてもよい。これら低周波スイッチ１６Ａ、１
６Ｂは、それぞれ抵抗１７Ａ、１７Ｂを介して低周波切
換指令回路１８に接続されている。この低周波切換指令
回路１８は、高周波発振器１１に接続され、当該高周波
発振器１１の６０ＫＨｚの高周波信号を、例えば１／２
14に分周して低周波切換指令を低周波スイッチ１６Ａ、
１６Ｂに与える。
の回路図を示すように、一対のステンレス製又はチタン
製の接地電極１Ａ、１Ｂを設けるとともに、これら接地
電極を交互に低周期で接地するためのトランジスタより
なる低周波スイッチ１６Ａ、１６Ｂがそれぞれ接続され
たものとしてもよい。これら低周波スイッチ１６Ａ、１
６Ｂは、それぞれ抵抗１７Ａ、１７Ｂを介して低周波切
換指令回路１８に接続されている。この低周波切換指令
回路１８は、高周波発振器１１に接続され、当該高周波
発振器１１の６０ＫＨｚの高周波信号を、例えば１／２
14に分周して低周波切換指令を低周波スイッチ１６Ａ、
１６Ｂに与える。
【００２５】上記低周波スイッチ１６Ａに接続された抵
抗１９Ａはグランドしているが、他方のスイッチ１６Ｂ
に接続された抵抗１９Ｂは、当該低周波スイッチのコレ
クタを直流電源のプラス側に接続してスイッチオフ時に
接地電極１Ｂを正電位に保持させる。低周波スイッチ１
６Ａ、１６Ｂは交互にオンとされ、これにより電極１
Ａ、１Ｂを交互に接地する。オフとなったときの電極１
Ｂは抵抗１７Ｂを介してプラス電位に保持される。かか
る構成とすることで、より確実に接地電極の表面への付
着物が生じ難くなり、処理効率が低下することなく、長
時間に亘って安定した水処理ができる。
抗１９Ａはグランドしているが、他方のスイッチ１６Ｂ
に接続された抵抗１９Ｂは、当該低周波スイッチのコレ
クタを直流電源のプラス側に接続してスイッチオフ時に
接地電極１Ｂを正電位に保持させる。低周波スイッチ１
６Ａ、１６Ｂは交互にオンとされ、これにより電極１
Ａ、１Ｂを交互に接地する。オフとなったときの電極１
Ｂは抵抗１７Ｂを介してプラス電位に保持される。かか
る構成とすることで、より確実に接地電極の表面への付
着物が生じ難くなり、処理効率が低下することなく、長
時間に亘って安定した水処理ができる。
【００２６】
【発明の効果】本発明方法によれば、印加電極及び接地
電極への付着物が生じ難く、従って長時間に亘って安定
した水処理が可能となった。また、本発明装置によれ
ば、上記方法の実施を可能とするコンパクトで効率的、
かつ安価な装置な提供できることとなった。
電極への付着物が生じ難く、従って長時間に亘って安定
した水処理が可能となった。また、本発明装置によれ
ば、上記方法の実施を可能とするコンパクトで効率的、
かつ安価な装置な提供できることとなった。
【図１】本発明の水処理方法に用いる水処理装置の一実
施例における回路図である。
施例における回路図である。
【図２】同上の制御回路から送出される制御周波数の変
動を示すグラフである。
動を示すグラフである。
【図３】本発明の水処理方法に用いる処理装置の他の実
施例における回路図である。
施例における回路図である。
１、１Ａ、１Ｂ 接地電極 ２Ａ、２Ｂ 電極板セット ３ 直流電源 ４ 可変抵抗 ５Ａ 第１高周波スイッチ ５Ｂ 第２高周波スイッチ ６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ トランジスタ ８ コンデンサ ９Ａ、９Ｂ 抵抗 １０ 高周波切換指令回路 １１ 高周波発振器 １２ 制御回路 １３ シフトレジスタ １４ パルス発生器 １５ フリップフロップ回路 １６Ａ、１６Ｂ 低周波スイッチ １８ 分周器
Claims (4)
- 【請求項１】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置し、印加電極
として電解性の高い金属からなる電極を用い、一対の印
加電極に交流を印加することにより水の酸化還元電位を
下げる水処理方法において、上記交流周波数を制御する
信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周波数を制
御し、緩やかな周波数変動中において急激な上昇又は下
降に変化する部分を作成することを特徴とする水処理方
法。 - 【請求項２】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置し、印加電極
として電解性のない安定した金属からなる電極を用い、
一対の印加電極に交流を印加することにより水の酸化還
元電位を下げる水処理方法において、上記交流周波数を
制御する信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周
波数を制御し、緩やかな周波数変動中において急激な上
昇又は下降に変化する部分を作成することを特徴とする
水処理方法。 - 【請求項３】 一対の接地電極を設け、当該一対の電極
の一方をグランドせしめ、他方をプラス側に接続すると
ともに、これらを低周期で交互に接地せしめることを特
徴とする請求項１に記載の水処理方法。 - 【請求項４】 接地電極と一対の印加電極と、直流電源
と、当該直流電源に可変抵抗を介してそれぞれ接続され
た第１、第２の交流スイッチと、これらの子流スイッチ
に抵抗を介して接続されたフリップフロップ回路からな
る交流切換指令回路と、該交流切換指令回路に接続され
た交流発振器と、この交流発振器に接続された制御回路
とを備え、該制御回路は変動信号発生器を内蔵し、変動
信号発生器からの出力制御信号を交流発振器に与えて発
振周波数を制御して変化させるとともに、該交流切換指
令回路が交流発振器からの切換指令を第１、第２交流ス
イッチに与え、これら第１、第２の交流スイッチがオ
ン、オフされて交流を形成して、上記一対の印加電極間
に交流電圧を印加することにより水の酸化還元電位を下
げることを特徴とする水処理装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11502298A JP3337422B2 (ja) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | 水処理方法及びその装置 |
| US09/287,096 US6139717A (en) | 1998-04-24 | 1999-04-07 | Process for treating water and apparatus therefor |
| KR10-1999-0012445A KR100370551B1 (ko) | 1998-04-24 | 1999-04-09 | 물처리방법 및 그 장치 |
| EP99107188A EP0952117B1 (en) | 1998-04-24 | 1999-04-13 | Process for treating water electrochemically and apparatus therefor |
| DE69920316T DE69920316T2 (de) | 1998-04-24 | 1999-04-13 | Verfahren zur elektrochemischen Wasserbehandlung und dazugehörige Vorrichtung |
| CNB99105024XA CN1151083C (zh) | 1998-04-24 | 1999-04-23 | 水处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11502298A JP3337422B2 (ja) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | 水処理方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11300358A true JPH11300358A (ja) | 1999-11-02 |
| JP3337422B2 JP3337422B2 (ja) | 2002-10-21 |
Family
ID=14652307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11502298A Expired - Lifetime JP3337422B2 (ja) | 1998-04-24 | 1998-04-24 | 水処理方法及びその装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6139717A (ja) |
| EP (1) | EP0952117B1 (ja) |
| JP (1) | JP3337422B2 (ja) |
| KR (1) | KR100370551B1 (ja) |
| CN (1) | CN1151083C (ja) |
| DE (1) | DE69920316T2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BR0108037B1 (pt) * | 2000-01-24 | 2010-09-08 | dispositivo de tratamento de água. | |
| KR100379239B1 (ko) * | 2001-02-16 | 2003-04-08 | (주)에코에이드 | 살균 장치가 구비된 포스트 믹스형 음료분배기 |
| BR112013001416B1 (pt) * | 2010-07-22 | 2020-09-29 | Koninklijke Philips N. V | Método de utilização de um aquecedor de água disposto para aquecer um líquido aquoso, disposição de aquecedor de água e uso de uma combinação de uma primeira tensão ca e uma ou mais dentre uma segunda tensão ca e uma tensão cc a um elemento de aquecimento de uma disposição de aquecedor de água |
| FR3036708B1 (fr) * | 2015-05-30 | 2020-02-21 | Kalliste | Procede d'inhibition du developpement de microorganismes |
| CN106365259A (zh) * | 2015-07-22 | 2017-02-01 | 东科瑞芙株式会社 | 液体的交流电解方法 |
| CN106768166A (zh) * | 2017-02-22 | 2017-05-31 | 梁志强 | 一种灌溉系统和用于灌溉系统的土壤蒸发量传感装置 |
| US10800680B2 (en) | 2017-10-30 | 2020-10-13 | Jon A. Engle | Method for electromagnetic fluid treatment utilizing frequencies and harmonics |
| CL2019003119A1 (es) | 2019-10-29 | 2020-03-13 | Saving Solutions Spa | Sistema de separación por resonancia de líquidos y sólidos |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06254567A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-13 | Hideo Hayakawa | 水の改質方法 |
| JPH0664791U (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-13 | 英雄 早川 | 飲料水の改質装置 |
| JPH0731981A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-02-03 | Hideo Hayakawa | 水の浄化方法及びその装置 |
| JPH08187428A (ja) * | 1995-01-10 | 1996-07-23 | Tsunemasa Tsuchiya | 高周波電磁波による物質の改質方法 |
| JPH09150157A (ja) * | 1995-11-27 | 1997-06-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 水処理装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS602134A (ja) * | 1983-06-17 | 1985-01-08 | 早川 英雄 | 有害動物の威嚇装置 |
| JPH0737754Y2 (ja) * | 1991-01-24 | 1995-08-30 | 樋出 千代太郎 | 飲料水処理装置 |
| JPH05111690A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-05-07 | Hideo Hayakawa | 水処理方法 |
| JP3192182B2 (ja) * | 1991-10-09 | 2001-07-23 | ミズ株式会社 | 連続式電解イオン水生成器の制御装置 |
| JP2749258B2 (ja) * | 1994-03-04 | 1998-05-13 | 英雄 早川 | 排ガス処理方法及びその装置 |
| KR970006466B1 (ko) * | 1994-03-07 | 1997-04-28 | 히데오 하야가와 | 수질개선 방법 및 그 장치 |
-
1998
- 1998-04-24 JP JP11502298A patent/JP3337422B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-04-07 US US09/287,096 patent/US6139717A/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-09 KR KR10-1999-0012445A patent/KR100370551B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1999-04-13 EP EP99107188A patent/EP0952117B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-13 DE DE69920316T patent/DE69920316T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-23 CN CNB99105024XA patent/CN1151083C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JPH06254567A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-13 | Hideo Hayakawa | 水の改質方法 |
| JPH0664791U (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-13 | 英雄 早川 | 飲料水の改質装置 |
| JPH0731981A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-02-03 | Hideo Hayakawa | 水の浄化方法及びその装置 |
| JPH08187428A (ja) * | 1995-01-10 | 1996-07-23 | Tsunemasa Tsuchiya | 高周波電磁波による物質の改質方法 |
| JPH09150157A (ja) * | 1995-11-27 | 1997-06-10 | Matsushita Electric Works Ltd | 水処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1233590A (zh) | 1999-11-03 |
| KR19990083067A (ko) | 1999-11-25 |
| DE69920316T2 (de) | 2005-10-06 |
| EP0952117A3 (en) | 2000-12-20 |
| EP0952117B1 (en) | 2004-09-22 |
| EP0952117A2 (en) | 1999-10-27 |
| DE69920316D1 (de) | 2004-10-28 |
| US6139717A (en) | 2000-10-31 |
| KR100370551B1 (ko) | 2003-01-29 |
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| CN1151083C (zh) | 2004-05-26 |
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