JPH11285520A - Film for chemical container - Google Patents

Film for chemical container

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JPH11285520A
JPH11285520A JP8837498A JP8837498A JPH11285520A JP H11285520 A JPH11285520 A JP H11285520A JP 8837498 A JP8837498 A JP 8837498A JP 8837498 A JP8837498 A JP 8837498A JP H11285520 A JPH11285520 A JP H11285520A
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JP
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Patent type
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film
oxygen
inorganic compound
lt
infusion
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Application number
JP8837498A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Komatsu
Masato Koyama
Yoshihiro Sakai
Kazuo Yagi
和雄 八木
祥浩 坂井
正人 小山
弘幸 小松
Original Assignee
Mitsui Chem Inc
三井化学株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the gas permeability and to enhance the preservation property of chemicals such as an infusion solution, by forming an inorganic compound membrane on one surface of a plastic film so that physical properties such as an oxygen permeability, a moisture permeability on a light transmissivity has a specified value and also using specified amorphous silicon oxidenitride in the inorganic compound. SOLUTION: The chemical container film to be the material of an infusion container for containing and preserving the infusion such as a glucose liquid, a physiological salt solution and a Ringer solution is formed by arranging the inorganic compound membrane on one surface of the plastic film so that the film has a oxygen permeability of <=1 cc/m<2> .24 h.atm, a moisture permeability of 1 g/m<2> .24 hr, the light transmissivity of >=80% and a hue (b) value of <=5. the gas permeability is reduced and the preservation property of the chemicals such as the infusion is enhanced by the film. Besides, amorphous oxidation- nitrided silicon having an oxygen concentration of 4-64 atom %, a nitrogen concentration of 3-56 atom % and also the sum of the concentration is <=75 atom % is favorable as the inorganic compound to be used.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薬品容器、とりわけぶどう糖液、生理食塩水、リンゲル液、蛋白液、アミノ酸液、血漿、人工透析剤、脂肪剤等の輸液を収納、保存する輸液容器の材料となる薬品容器用フィルムに関する。 The present invention relates to the ampoule, especially glucose solution, saline, Ringer's solution, protein solution, amino acid solution, plasma, dialysis agent, accommodating an infusion such as a fatty agent, the infusion container to store materials on chemical container film to be.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来より、薬品容器、特に輸液容器としては、ガラス製のものが多用されてきた。 Conventionally, ampoule, especially as an infusion container, made of glass have been widely used. しかし近年では、これらは破損しやすく、また重いため輸送コストがかさむ等の理由で、プラスチック製のものの使用が増えてきている。 However, in recent years, these are easy to break, also for reasons such as heavy for transport costly, it has been increasing use of those plastic.

【0003】プラスチックは、気体遮断性、特に酸素遮断性、水蒸気遮断性が必ずしも十分ではなく、このためプラスチック製輸液容器の輸液保存性がガラス製のものに比べて劣るという問題があった。 [0003] Plastics, gas barrier properties, particularly oxygen barrier properties, rather than water vapor barrier properties necessarily sufficient, infusion storability Therefore plastic infusion container is disadvantageously inferior to that of glass. この問題点を解決するため、ガスバリアー性の高い材料を種々選択して輸液容器を作成する試みがなされているが、それらの材料からなる輸液容器の中には、材料成分が輸液中に溶出する等の問題を生じるものがあった。 To solve this problem, but an attempt to create an infusion container with various select high gas barrier material have been made, some of the infusion container consisting of material, elution material components during infusion etc. was something that caused the problem.

【0004】また、輸液容器はガスバリアー性だけではなく、耐ピンホール性、落下強さや圧縮強さなどの物理的強度が良好であることも要求される。 Further, the infusion container not only gas barrier properties, pinhole resistance, physical strength such as falling strength and compressive strength are also required to be good. そのため、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのシール性に優れしかも耐衝撃性にも優れた樹脂が用いられ、たとえば、特開平3−4870号公報には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのプラスチックスフィルムの片面または両面にセラミックスの薄層を設けた透明な積層フィルムを用いてなる輸液用容器が開示されている。 Therefore, polyethylene, sealing with excellent Moreover impact resistance superior to the resin is used such as polypropylene, for example, JP-A-3-4870, polyethylene, ceramics on one or both sides of the plastic films such as polypropylene thin layer fluid vessel comprising a transparent laminate film having a discloses the. しかしながら、この輸液用容器では十分なガスバリアー性は得られていない。 However, sufficient gas barrier properties in the fluid vessel has not been obtained.

【0005】 [0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の実情に鑑みてなされたものであり、気体透過性を低減させ輸液等の薬品の保存性を高めるとともに、透明性、シール性及び耐衝撃性に優れた輸液容器等を作成するために用いる薬品容器用フィルムを提供する。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention has been made in view of the circumstances described above, to increase the storability of the drug infusion such as to reduce the gas permeability, transparency, sealability and impact providing drug container film used to make a good infusion container or the like sex.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】本発明に係る薬品容器用フィルムは、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、無機化合物膜が形成されてなり、以下の物性を有している。 Ampoule film according to the present invention SUMMARY OF], at least in one side of a plastic film, an inorganic compound film is formed, has the following physical properties. (1) 酸素透過度が1cc/m 2・24hr・atm以下; (2) 透湿度が1g/m 2・24hr以下; (3) 光線透過率が80%以上; (4) 色相 b値が5以下; また、上記無機化合物が、酸素濃度4〜64原子%、窒素濃度3〜56原子%、かつ酸素と窒素の濃度の和が7 (1) oxygen permeability 1cc / m 2 · 24hr · atm or less; (2) water vapor permeability 1 g / m 2 · 24 hr or less; (3) light transmittance of 80% or more; (4) Hue b value 5 or less; Further, the inorganic compound is an oxygen concentration 4 to 64 atom%, a nitrogen concentration of from 3 to 56 atom%, and the sum of the concentrations of oxygen and nitrogen is 7
5原子%以下を含む非晶質の酸窒化珪素であることが好ましい。 Is preferably a silicon oxynitride amorphous containing 5 atomic% or less. また、本発明によれば上記フィルムからなる輸液容器用フィルムが提供される。 The infusion container film made of the film is provided according to the present invention.

【0007】 [0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る薬品容器とりわけ輸液容器用フィルムについて詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the ampoule especially infusion container film according to the present invention will be described in detail.

【0008】本発明に係る薬品容器用フィルムは、プラスチックフィルムの少なくとも片面に、無機化合物膜が形成されてなるものである。 [0008] Pharmaceutical container film according to the present invention, on at least one side of a plastic film, in which the inorganic compound film is formed. また、上記無機化合物は、 Further, the inorganic compound,
酸素および窒素を後述する原子濃度で含有する非晶質の酸窒化珪素であることが好ましい。 It is preferably oxygen and nitrogen as amorphous silicon oxynitride containing at atomic concentration described later.

【0009】<プラスチックフィルム>本発明で用いられるプラスチックスフィルム基材としては、透明性、シール性及び耐衝撃性に優れた樹脂からなるフィルムであり、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ1 [0009] As the plastic film substrate used in the <plastic film> The present invention is a film comprising a transparent, sealable and impact resistance superior resin, for example, polyester films such as polyethylene terephthalate, polyethylene, polypropylene, poly-1
−ブテン等のポリオレフィンフィルム;ポリスチレンフィルム;ポリアミドフィルム;ポリカーボネートフィルム;ポリアクリロニトリルフィルムなどが挙げられる。 - polyolefin films butene; polystyrene films; polyamide films; polycarbonate films; polyacrylonitrile film.

【0010】上記プラスチックフィルム基材は、延伸フィルムまたは未延伸フィルムでも良いが、本発明の薬品容器用フィルムの光線透過率を満たすためには、フィルム基材の光線透過率が少なくとも80%以上のものを用いる必要がある。 [0010] The plastic film substrate may be a stretched film or an unstretched film, but in order to satisfy the light transmittance of the medicine container film of the present invention, light transmittance of the film base at least 80% it is necessary to use things. また、本発明においてフィルム厚さは、0.01〜1mmが好ましく用いられる。 The film thickness in the present invention, 0.01 to 1 mm is preferably used. また、上記プラスチックフィルム表面の平滑性は可能なかぎり良いものが好ましい。 Also, smoothness of the plastic film surface is preferably good as possible. 表面平滑性が劣ると、本発明に係わる薬品容器用フィルムとしてのガスバリアー性が低下するおそれがあるためである。 If the surface smoothness is poor, gas barrier properties as a medicine container film according to the present invention there is a possibility to decrease. 表面平滑性は、表面粗さを表すRmax (山と谷の差の最大値、表面粗度計の測定値)が50nm以下であることが好ましく、さらには1 Surface smoothness, Rmax representing the surface roughness (maximum difference of peaks and valleys, the measured value of the surface roughness meter) of is preferably 50nm or less, more 1
0nm以下であることが好ましい。 It is preferable 0nm is less than or equal to.

【0011】さらに、後述する無機化合物膜の上記プラスチックフィルム基材表面に対する密着性を高めるために、必要に応じて該基材表面に、脱脂、脱水するための洗浄等の清浄化処理、真空容器内でHe等の不活性ガスや酸素ガス等によるプラズマ処理などの公知の処理を行っても良い。 Furthermore, in order to enhance the adhesion to the plastic film substrate surface of the later-described inorganic compound layer, to the substrate surface if necessary, degreasing, cleaning treatment such as washing to dewatering, vacuum vessel it may be carried out a known process such as a plasma treatment with inert gas and oxygen gas or the like such as He within.

【0012】<無機化合物膜>本発明の無機化合物膜としては、非晶質の酸窒化珪素膜が好ましい。 [0012] As the inorganic compound film <the inorganic compound layer> In the present invention, amorphous silicon oxynitride film is preferable. 本発明でいう非晶質の酸窒化珪素膜とは、酸素と窒素を含有し珪素を主成分とするガラス状の薄膜のことである。 The amorphous silicon oxynitride film in the present invention refers to a glassy film on the basis of containing oxygen and nitrogen silicon. 膜中の成分元素の割合は膜形成条件により連続的に変化させることができ、それにともなって膜の性質が変化する。 The proportion of component elements in the film can be continuously changed by film forming conditions, the nature of the film changes accordingly. 酸化珪素膜や酸化アルミなどの膜に比べて優れたガスバリアー性を示すためには、酸素濃度4〜64原子%、窒素濃度3〜56原子%、かつ酸素と窒素の濃度の和が75原子%以下である非晶質の酸窒化珪素であることが好ましい。 To demonstrate the excellent gas barrier properties as compared to films such as a silicon oxide film or aluminum, oxygen concentration 4 to 64 atom%, a nitrogen concentration of from 3 to 56 atom%, and sum 75 atomic concentrations of oxygen and nitrogen % is preferably amorphous silicon oxynitride or less. この元素組成範囲の膜は、酸素及び水蒸気のバリアー性に優れるとともに、高い光線透過率を示す。 Film of the elemental composition range has excellent barrier properties against oxygen and water vapor, shows a high light transmittance.

【0013】<非晶質酸窒化珪素膜の生成方法>上記の非晶質の酸窒化珪素膜を形成するためには、Siを含有する原料ガスが使用される。 [0013] In order to form the amorphous silicon oxynitride film <method of generating amorphous Shitsusan silicon nitride film> the raw material gas containing Si is used. Siと水素を含有する原料ガスとしては、例えば、シラン、ジシラン等があり、これらは真空容器に、アンモニアや窒素ガス等の窒素を含有したガス及び酸素ガスとともに導入され、プラズマを発生させてプラスチックフィルム上に非晶質の酸窒化珪素膜が形成される。 As a raw material gas containing Si and hydrogen, for example, silane, may disilane, etc., they are in a vacuum vessel, it is introduced together with the gas and the oxygen gas containing nitrogen such as ammonia or nitrogen gas, by generating plasma plastic amorphous silicon oxynitride film is formed on the film. また、 Siを含有する原料ガスとしては、テトラメチルシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン等の有機珪素化合物も使用される。 As the raw material gas containing Si, tetramethyl siloxane, hexamethyldisiloxane, organic silicon compounds such as trimethyl methoxy silane are also used. これらは、窒素ガス及び酸素ガスとの混合ガスとして真空容器に導入され、プラズマを発生させてプラスチックフィルム上に酸窒化珪素膜を形成する。 It is introduced into the vacuum chamber as a mixed gas of nitrogen gas and oxygen gas to generate plasma to form a silicon oxynitride film on a plastic film.

【0014】真空容器中に導入された上記の原料ガスをプラズマによって励起する手段としては、例えば、直流を印加してプラズマ分解する方法;高周波を印加してプラズマ分解する方法;マイクロ波放電によってプラズマ分解する方法;電子サイクロトロン共鳴によってプラズマ分解する方法;熱フィラメントによる加熱によって熱分解する方法等が挙げられる。 [0014] The above raw material gas introduced into the vacuum vessel as a means for exciting the plasma, for example, by applying a DC plasma decomposing method; by applying a high frequency plasma decomposing method; plasma by microwave discharge thermal decomposition method, and the like by heating with a hot filament; plasma decomposing method by electron cyclotron resonance; decomposing. 本発明では、基材としてプラスチックフィルムを用いるため低温で成膜することが望ましく、直流を印加するプラズマCVD法や高周波を印加するマイクロ波CVD法が好ましい。 In the present invention, it is desirable to deposit at a low temperature for a plastic film is used as the substrate, a microwave CVD method for applying a plasma CVD method or a high frequency for applying a DC is preferred.

【0015】また、非晶質の酸窒化珪素膜を形成する方法として、直流スパッタリング、高周波スパッタリング、イオンビームスパッタリング等の物理蒸着法を採用することができる。 Further, as a method for forming an amorphous silicon oxynitride film, a DC sputtering, RF sputtering, it is possible to employ a physical vapor deposition method such as ion beam sputtering. この場合は、ターゲット材として膜組成に合わせた無機化合物が用いられる。 In this case, the inorganic compound is used to match the film composition as the target material.

【0016】非晶質の酸窒化珪素膜の厚さは、ガスバリアー性を確保しながら透明性を損ねない範囲であることが重要であり、本発明では10〜300nmが好ましく、より好ましくは20〜100nmである。 [0016] The thickness of the amorphous silicon oxynitride film, it is important that a range that does not impair the transparency while maintaining the gas barrier property, preferably 10~300nm the present invention, more preferably 20 it is ~100nm. さらに、 further,
同じ厚みであれば酸窒化珪素膜を両面に分けて設ける方がガスバリアー性の点で好ましい。 Write providing silicon oxynitride film, if the same thickness is divided on both sides is preferred from the viewpoint of gas barrier properties. 例えば厚さ200n For example, the thickness 200n
mの膜を片面に設けるよりも、厚さ100nmの膜を両面に設ける方がガスバリアー性が高くなる傾向を示す。 Than provided film of m on one side, who provided the film with a thickness of 100nm on both surfaces show a tendency to gas barrier property is increased.

【0017】上記の非晶質の酸窒化珪素膜中には、本発明の目的を損ねない範囲で、鉄、ニッケル、クロム、チタン、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、タングステン、モリブデン、銅等が含まれていてもよい。 [0017] During amorphous silicon oxynitride film described above, in a range that does not impair the object of the present invention, iron, nickel, chromium, titanium, magnesium, aluminum, indium, zinc, tin, antimony, tungsten, molybdenum , it may be included, such as copper. また、膜の柔軟性を改善する目的で、炭素やフッ素または水素を含有させることもできる。 Further, in order to improve the flexibility of the film, it may contain a carbon or fluorine or hydrogen. 酸窒化珪素膜の組成は、X線光電子分光法や、X線マイクロ分析法、オージェ電子分光法、ラザフォード後方散乱法を用いて分析することができる。 The composition of the silicon oxynitride film, or X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray microanalysis method, Auger electron spectroscopy can be analyzed using Rutherford backscattering spectrometry.

【0018】以下、図面を参照しながら、非晶質の酸窒化珪素膜の形成に使用されるスパッタリング装置を例にとって説明する。 [0018] Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, illustrating a sputtering apparatus used for formation of amorphous silicon oxynitride film as an example. 図1は、酸窒化珪素膜の形成装置の1 1, 1 forming apparatus silicon oxynitride film
例を示す模式図である。 Example is a schematic view showing a. 図1において、1は真空容器、 In Figure 1, 1 denotes a vacuum vessel,
2は冷却ロール、3は基材フィルム、4はグロー放電装置、5はターゲット装置、6は巻き出し用ロール、7は巻き取り用ロール、8は搬送ロールである。 2 the cooling roll, the substrate film 3, 4 glow discharge device, 5 the target device, the unwinding roll 6, 7 take-up roll, 8 is a transport roll.

【0019】スパッタリング法による酸窒化珪素膜の形成は、基材フィルム表面を酸素グロー処理した後、直流スパッタリングする方法により行う。 The formation of the silicon oxynitride film by a sputtering method, after the substrate film surface was oxygen glow treatment, carried out by a method of direct-current sputtering. 成膜操作としては、まず、真空容器1内の冷却ロール2にプラスチックフィルム基材を設置した後、真空容器内を高真空とする。 As the film formation operation, first, after the setting of the plastic film substrate into the cooling roll 2 in the vacuum chamber 1, a vacuum container with a high vacuum. このときの真空度は、不純物ガス残留による膜中への不純物混入の影響を少なくするために0.2Pa以下が好ましい。 The degree of vacuum is preferably 0.2Pa or less to reduce the influence of impurities mixing into the impurity gas remaining by film. 次に所定圧力になるように酸素を導入し、 Then oxygen was introduced to a predetermined pressure,
所定の直流を印加してグロー放電を発生させ基材フィルム表面を酸素グロー放電中にさらす。 Applying a predetermined DC exposing the substrate film surface to generate a glow discharge in an oxygen glow discharge. このとき、酸素ガスの圧力は0.5〜15Pa、電流は0.2〜0.5A、 At this time, the pressure of the oxygen gas 0.5~15Pa, current 0.2~0.5A,
電圧は500〜2000Vであることが好ましい。 It is preferred voltage is 500~2000V.

【0020】次に直流スパッタリングによって酸窒化珪素膜を作製する。 [0020] Next, prepare a silicon oxynitride film by a DC sputtering. 真空容器を一旦排気後、アルゴンガスおよび酸素ガスを所定の圧力になるように導入し、さらに窒素ガス、アンモニア等の窒素発生ガスを所定の圧力になるまで導入する。 After temporarily evacuating the vacuum vessel, introduced so that the argon gas and oxygen gas to a predetermined pressure, is introduced until it becomes a nitrogen gas, the nitrogen gas generated such as ammonia to a predetermined pressure. 酸素および窒素発生ガスの導入量は、目的とする酸窒化珪素膜の酸素と窒素の割合によって異なる。 The introduction of oxygen and nitrogen gas generated varies depending on the ratio of oxygen and nitrogen of silicon oxynitride film of interest. すべてのガスを導入したあとの真空容器内の圧力は、通常0.2〜10Paである。 The pressure in the vacuum chamber after the introduction of all the gas is usually 0.2~10Pa.

【0021】次に所定の直流を印加し、混合ガスのプラズマを発生させる。 [0021] Then by applying a predetermined DC, to generate a plasma of the gas mixture. 直流は、電流5〜20A、電圧50 Direct current, current 5~20A, voltage 50
0〜2000Vの範囲であることが好ましい。 It is preferably in the range of 0~2000V. 混合ガスのプラズマは金属シリコンからなるターゲットに衝突し、プラズマの衝撃により叩き出されたシリコン原子が酸素、窒素と反応して基材フィルム表面に堆積し、酸窒化珪素膜が形成される。 Plasma of a mixture gas collides with the target made of metal silicon, silicon atoms are hit out by the impact of the plasma is oxygen, reacts with the nitrogen deposited on the substrate film surface, a silicon oxynitride film is formed.

【0022】プラズマ化された原料ガス原子が基材フィルムに衝突するため、基材フィルムの温度が上昇する。 The plasma source gas atoms to collide with the substrate film, the temperature of the substrate film is increased.
これにより基材フィルム3が変質しないようにするために、基材フィルム3をそのガラス転移点以下に保持することが好ましい。 Thus because the base film 3 to prevent deterioration, it is preferable to hold the base film 3 below the glass transition point. この温度制御は、基材フィルム3の支持体である冷却ロール2に所定の温度に冷却された液体を循環させて、冷却ロールを制御することで実現される。 The temperature control by circulating liquid cooled to a predetermined temperature in the cooling roll 2 as a support of the base film 3, it is realized by controlling the cooling roll. この循環させる液体としては、水、エチレングリコール(不凍液)、アルコール類、さらに低温化が必要な場合には、液体窒素、液体ヘリウム等が好適に使用される。 The liquid for the circulation of water, ethylene glycol (antifreeze), alcohols, when further lower temperature is required, liquid nitrogen, liquid helium or the like is preferably used. 他の冷却方法として、気体を循環させる方法も用い得るが、熱容量が大きい点から液体を循環させる方法が好ましい。 Another cooling method, but may be used a method of circulating the gas, a method for circulating the liquid from the point having a large heat capacity are preferred.

【0023】<薬品容器用フィルム>本発明の薬品容器用フィルムは、 (1)酸素透過度が1cc/m 2・24hr・atm以下; (2) 透湿度が1g/m 2・24hr以下; であるため気体の透過性が低く、また、無機化合物が膜形成されているので耐熱性があり、さらにフィルムとして柔軟性にも優れるため、液体を輸送するための薬品容器を作成する材料として好適である。 The medicine container film of <medicine container film> The present invention is (1) oxygen permeability 1cc / m 2 · 24hr · atm or less; (2) water vapor permeability 1 g / m 2 · 24 hr or less; with There because low gas permeability, also, since the inorganic compound is film formed has heat resistance, since the excellent flexibility as further film, suitable as a material for creating a drug container for transporting a liquid is there.

【0024】形成された非晶質の酸窒化珪素膜の上に、 [0024] On being formed of amorphous silicon oxynitride film,
さらに基材フィルムと同じか、もしくは異なるヒートシール性のよい透明性プラスチックフィルムをラミネートしておくと、ヒートシール等の加工時に膜の欠陥が生じるのを防止できるので好ましい。 Furthermore the same as the substrate film, or the previously laminated with different heat-sealing with good transparency plastic film, it is possible to prevent the defect of the film during processing such as heat sealing takes place preferably. ヒートシール性に優れる透明性プラスチックフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂フィルムが例示される。 The transparent plastic film having excellent heat sealing properties, polyethylene, polyolefin resin film such as polypropylene can be exemplified. また、ラミネート方法としては、無機化合物膜の形成された基材フィルムを加熱し、無機化合物を挟むようにラミネート用のフィルムを押し出し成形し熱圧着する方法、無機化合物膜の上に接着剤を塗布し、ラミネート用のフィルムを貼り付ける方法などを採用できる。 As the laminating method, by heating the base film formed of an inorganic compound film, a method for forming thermocompression bonding extruded film for laminated so as to sandwich the inorganic compound, the adhesive on the inorganic compound film coating then, it can be adopted a method of pasting a film for lamination. ラミネート後の薬品容器用フィルムの厚さは、5〜1000μm、好ましくは10〜700μm、 The thickness of the medicine container film after lamination, 5 to 1000 m, preferably 10~700Myuemu,
より好ましくは10〜300μmである。 More preferably 10~300μm.

【0025】また、本発明の薬品容器用フィルムは、 (3)光線透過率が80%以上; (4)色相 b値が5以下; であるので、輸液容器の内容液の液面や色の識別が容易であるとともに、薬品の保存中に異物の混入などによる内容物の変化を容易に発見することができる。 Further, the ampoule film of the present invention, (3) light transmittance of 80% or more; (4) Hue b value of 5 or less; because it is, the content liquid of the infusion container liquid level and color together with the identification is easy, a change of the contents due to foreign substances can be easily found during storage of chemicals.

【0026】さらに、本発明のフィルムを用いて得られる薬品容器は、上記の物性を有するため、ぶどう糖、生理食塩水、リンゲル液、蛋白液、アミノ酸液、血漿、人工透析剤、脂肪剤などの輸液の長期保存安定性に優れる。 Furthermore, the ampoule obtained using the film of the present invention has the above properties, glucose, saline, Ringer's solution, protein solution, amino acid solution, plasma, dialysis agent, infusion, such as fatty agents excellent long-term storage stability of. また軽量であるため、内容物の輸送性にも優れる。 Also because it is lightweight, it is excellent in transporting content.

【0027】 [0027]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The following is a description of examples of the present invention, the present invention is not limited to these examples.

【0028】(実施例1)厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製登録商標「ルミラー」高透明タイプ)を図1に示す真空容器1内のロール上に設置し、真空容器内を0.0133Paに減圧した。 [0028] (Example 1) Polyethylene terephthalate film having a thickness of 50μm (the Toray Co. trademark "Lumirror" highly transparent type) was placed on the roll in the vacuum vessel 1 shown in FIG. 1, a vacuum container 0 the pressure was reduced to .0133Pa. グロー放電装置4に酸素ガスを導入し圧力を1P 1P pressure by introducing oxygen gas into the glow discharge device 4
aに設定し、電流0.5A、電圧1000Vの直流を印加しグロー放電処理を行った。 Set a, current 0.5A, was applied to a glow discharge treatment DC voltage 1000V. 次いで原料ガスとしてアルゴンを82cc/分、窒素を56cc/分に設定・導入し、反応室の圧力を0.3Paとした。 Then argon 82Cc / min as a material gas, nitrogen was set and introduced into 56Cc / min, the pressure in the reaction chamber was set to 0.3 Pa. ターゲットとしてSi単結晶を用い、7A、1000Vの直流を印加した。 A Si single crystal as a target was applied 7A, the DC 1000V. 0.9m/分の速度でフィルムを巻き取りながら成膜を行った。 A film was formed while taking up the film at 0.9m / min. この時の膜厚は48nmであった。 The film thickness at this time was 48nm. また、X線光電子分光法を用いて膜の組成を分析した結果、窒素および酸素がそれぞれ44原子%および13原子%含まれた酸窒化珪素膜であった。 As a result of analyzing the composition of the film using X-ray photoelectron spectroscopy, nitrogen and oxygen were silicon oxynitride film contained 44 atomic% and 13 atomic%, respectively. この基材フィルム表面を原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定した結果、最大高低差Rmax は17nmであった(測定範囲は5μm×5μm)。 The substrate film surface atomic force microscope (AFM) measurement results using a maximum height difference Rmax was 17 nm (measurement range 5μm × 5μm).

【0029】(実施例2)厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製「ルミラー高透明タイプ」)を図1に示す真空容器1内のロール上に設置し、真空容器内を0.0133Paに減圧した。 [0029] (Example 2) Polyethylene terephthalate film having a thickness of 50μm (produced by Toray Industries, Inc. "Lumirror high transparent type") was placed on the roll in the vacuum chamber 1 shown in FIG. 1, 0.0133Pa a vacuum vessel the pressure was reduced to. グロー放電装置4に酸素ガスを導入し圧力を1Paに設定し、電流0.5A、電圧1000Vの直流を印加しグロー放電処理を行った。 The pressure introducing oxygen gas into the glow discharge device 4 is set to 1 Pa, a current 0.5A, it was applied to a glow discharge treatment DC voltage 1000V. 次いで原料ガスとしてアルゴンを82cc/分、窒素を56cc/分に設定・導入し、反応室の圧力を0.3Paとした。 Then argon 82Cc / min as a material gas, nitrogen was set and introduced into 56Cc / min, the pressure in the reaction chamber was set to 0.3 Pa. ターゲットとしてSi Si as the target
単結晶を用い、7A、1000Vの直流を印加した。 Using a single crystal was applied 7A, the DC 1000V.
1.8m/分の速度でフィルムを巻き取りながら成膜を行った。 A film was formed while taking up the film at 1.8m / min. この時の、膜厚は、24nmであった。 At this time, the film thickness was 24nm. また、 Also,
X線光電子分光法を用いて膜の組成を分析した結果、窒素が44原子%、酸素が13原子%含まれた酸窒化珪素膜であった。 Using X-ray photoelectron spectroscopy result of analyzing the composition of the membrane, the nitrogen 44 atom%, oxygen was silicon oxynitride film contained 13 atom%.

【0030】(実施例3)厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製「ルミラー高透明タイプ」)を図1に示す真空容器1内のロール上に設置し、真空容器内を0.0133Paに減圧した。 [0030] (Example 3) Polyethylene terephthalate film having a thickness of 38μm (produced by Toray Industries, Inc. "Lumirror high transparent type") was placed on the roll in the vacuum vessel 1 shown in FIG. 1, 0.0133Pa a vacuum vessel the pressure was reduced to. グロー放電装置4に酸素ガスを導入し圧力を1Paに設定し、電流0.5A、電圧1000Vの直流を印加しグロー放電処理を行った。 The pressure introducing oxygen gas into the glow discharge device 4 is set to 1 Pa, a current 0.5A, it was applied to a glow discharge treatment DC voltage 1000V. 次いで原料ガスとしてアルゴンを82cc/分、窒素を56cc/分に設定・導入し、反応室の圧力を0.3Paとした。 Then argon 82Cc / min as a material gas, nitrogen was set and introduced into 56Cc / min, the pressure in the reaction chamber was set to 0.3 Pa. ターゲットとしてSi Si as the target
単結晶を用い、7A、1000Vの直流を印加した。 Using a single crystal was applied 7A, the DC 1000V.
0.9m/分の速度でフィルムを巻き取りながら両面に成膜を行った。 While taking up the film at 0.9m / min film was formed on both sides. この時の、各面の膜厚は24nmであった。 At this time, each side of the film thickness was 24nm. また、X線光電子分光法を用いて膜の組成を分析した結果、窒素が44原子%、酸素が13原子%含まれた酸窒化珪素膜であった。 As a result of analyzing the composition of the film using X-ray photoelectron spectroscopy, nitrogen 44 atom%, oxygen was silicon oxynitride film contained 13 atom%.

【0031】(比較例1)厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製「ルミラー高透明タイプ」) [0031] The polyethylene terephthalate film (Comparative Example 1) a thickness of 50μm (manufactured by Toray Industries, Inc., "Lumirror high transparent type")

【0032】(比較例2)厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ株式会社製「ルミラー高透明タイプ」) The polyethylene terephthalate film (Comparative Example 2) a thickness of 38μm (manufactured by Toray Industries, Inc., "Lumirror high transparent type")

【0033】上記実施例および比較例のフィルムについて、下記の方法で評価を行った。 [0033] The films of the above Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods. (1)透湿度 Mocon社製ガス透過率測定装置を使用して、40 (1) using a water vapor permeability Mocon Co. gas permeability measuring device, 40
℃、相対湿度90%の条件で測定した。 ° C., it was measured at 90% relative humidity conditions. (2)酸素透過度 ヤナコ社製ガス透過率測定装置を使用して、23℃の酸素雰囲気下で測定した。 (2) using an oxygen permeability Yanaco Co. gas permeability measuring device was measured under an oxygen atmosphere at 23 ° C.. (3)光線透過率、かすみ度(HAZE)およびb値(黄、青の割合) 積分球式ヘイズメータ(日本電色社製ND−1001 (3) light transmittance, haze (HAZE) and b values ​​(yellow, the proportion of blue) integrating sphere type haze meter (Nippon Denshoku Ltd. ND-1001
D)を用いて測定した。 D) was measured using a. 測定光の波長は550nmである。 Wavelength of the measurement light is 550 nm.

【0034】 [0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】 [0035]

【発明の効果】本発明に係る薬品容器用フィルムは、ガスバリアー性に優れるので、長期保存安定性に優れた輸液容器等の薬品容器を提供することができる。 Ampoule film according to the present invention is excellent in gas barrier properties, it is possible to provide a drug container such as excellent infusion container to the long-term storage stability. さらに、 further,
上記薬品容器用フィルムは透明性が高く、軽量であるため、例えば異物の混入などによる内容物の変化を容易に発見することが可能となり、かつ薬液の輸送性に優れた輸液容器等を提供することができる。 The medicine container film has high transparency, because it is lightweight, provides for example a change in the content of foreign material due to it is possible to easily find and infusion container or the like which is excellent in transporting chemical liquid be able to. さらにこの性質を応用した太陽電池の保護フィルムとしても有用である。 Further also useful as a protective film for a solar cell that applies this property.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明に係わる積層フィルムを生成するためのスパッタ装置を示す概略図である。 It is a schematic diagram showing a sputtering apparatus for producing a laminated film according to the invention, FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 真空容器 2 冷却用ロール 3 基材フィルム 4 グロー放電処理装置 5 ターゲット装置 6 巻き出し用ロール 7 巻き取り用ロール 8 搬送ロール 1 vacuum vessel 2 cooling rolls 3 substrate film 4 glow discharge treatment apparatus 5 target device 6 turns out roll 7 winding roll 8 carrying roll

フロントページの続き (72)発明者 八木 和雄 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井化学株式会社内 Of the front page Continued (72) inventor Kazuo Yagi Nagoya, Aichi Prefecture, Minami-ku, Tangotori 2-chome address 1 Mitsui Chemicals Co., Ltd. in

Claims (3)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 プラスチックフィルムの少なくとも片面に、無機化合物膜が形成されてなる、以下の物性を有することを特徴とする薬品容器用フィルム。 1. A least one surface, comprising an inorganic compound film is formed, the ampoule film characterized by having the following physical properties of the plastic film. (1)酸素透過度が1cc/m 2・24hr・atm以下; (2)透湿度が1g/m 2・24hr以下; (3)光線透過率が80%以上; (4)色相 b値が5以下; (1) oxygen permeability 1cc / m 2 · 24hr · atm or less; (2) water vapor permeability 1 g / m 2 · 24 hr or less; (3) light transmittance of 80% or more; (4) Hue b value 5 Less than;
  2. 【請求項2】 前記無機化合物が、酸素濃度4〜64原子%、窒素濃度3〜56原子%、かつ酸素と窒素の濃度の和が75原子%以下である非晶質の酸窒化珪素であることを特徴とする請求項1に記載の薬品容器用フィルム。 Wherein said inorganic compound is an oxygen concentration 4 to 64 atom%, a nitrogen concentration of from 3 to 56 atom%, and amorphous silicon oxynitride is the sum of the concentrations of oxygen and nitrogen than 75 atomic% ampoule film according to claim 1, characterized in that.
  3. 【請求項3】 前記薬品容器が輸液容器である請求項1 Wherein the drug container is a medical solution container according to claim 1
    または2に記載の薬品容器用フィルム。 Ampoule film according to or 2.
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