JPH11283272A - Optical pickup device - Google Patents

Optical pickup device

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Publication number
JPH11283272A
JPH11283272A JP10085722A JP8572298A JPH11283272A JP H11283272 A JPH11283272 A JP H11283272A JP 10085722 A JP10085722 A JP 10085722A JP 8572298 A JP8572298 A JP 8572298A JP H11283272 A JPH11283272 A JP H11283272A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical
light
coating layer
substrate
pickup device
Prior art date
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Pending
Application number
JP10085722A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Takeuchi
繁騎 竹内
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10085722A priority Critical patent/JPH11283272A/en
Publication of JPH11283272A publication Critical patent/JPH11283272A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical pickup device equipped with a coating layer for preventing the subordinate reflection film of an optical element provided on a substrate from corroding without optical interference. SOLUTION: This device is provided with a prism element 1 for reading information from an optical information medium and forming an optical path to a light receiving element by refracting and reflecting incident light from an external light emitting element while having the laminate structure of laminating plural light transmissible substrates 3, 4, 5, 7 and 8, and the optical elements of different optical system characteristics provided on the light incident surfaces of the substrates 3-8 are uniformly coated with the light transmissible coating layer having no interference with the optical system characteristics of the respective optical elements.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の光素子や光
ディスク等への情報の記録及び再生のための光ピックア
ップ装置に係り、特に光学素子を集積したラミネートプ
リズムの光学系を高精度に維持できるようにした光ピッ
クアップ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical pickup device for recording and reproducing information on and from various optical elements and optical disks, and more particularly, to maintaining a highly accurate optical system of a laminated prism in which optical elements are integrated. The present invention relates to an optical pickup device that can be used.

【0002】[0002]

【従来の技術】光ディスクに対する情報の記録及び再生
のための手段として従来からレーザを利用した光磁気記
録用光ヘッドが利用されている。この光ヘッドは、プリ
ズム,レンズ,各種のセンサ,及びレーザ等の個々の光
学部品を高精度で組み立てたアセンブリとした固定光学
系と、高速アクセス可能なように軽量化された反射ミラ
ーや対物レンズを含む可動光学系とを備えたものがその
基本的な構成である。
2. Description of the Related Art Conventionally, an optical head for magneto-optical recording using a laser has been used as a means for recording and reproducing information on an optical disk. This optical head is composed of a fixed optical system, which is an assembly in which individual optical components such as a prism, a lens, various sensors, and a laser are assembled with high precision, and a reflection mirror and an objective lens which are lightweight so that they can be accessed at high speed. And a movable optical system including the above.

【0003】このような固定光学系と可動光学系とを備
えるものでは、両方の系の中での光の光路のための構成
及びこれらの系どうしの間に光路を組む必要があるた
め、その小型軽量化には限界があった。これに対し、系
全体の集積化を図るため、半導体レーザからの入射,光
ディスク側の結像系への光の放出及び反射光の再入射と
再生までを一つの集積ヘッドによって可能としたもの
を、本願出願人は既に提案し、これを特願平7−311
43号として出願した。
[0003] In a system having such a fixed optical system and a movable optical system, it is necessary to form a light path for light in both systems and to form an optical path between these systems. There was a limit in reducing the size and weight. On the other hand, in order to achieve the integration of the whole system, a single integrated head was used to enable the incidence from the semiconductor laser, the emission of light to the optical disk-side imaging system, and the re-incident and reproduction of reflected light. The applicant of the present application has already proposed and proposed this in Japanese Patent Application No. 7-311.
No. 43 was filed.

【0004】この集積光ヘッドは、複数のガラス製の基
板を積層したラミネートプリズム構造を利用したもので
ある。ラミネートプリズムとは、光ディスクの記録及び
再生に必要な光学機能素子をウェーハプロセス技術を用
いて実装したウェーハ基板を複数枚接着し、加工した積
層構造のプリズムである。このようラミネートプリズム
を用いる集積光ヘッドでは、小型軽量化は無論のこと、
従来のものに比べると生産性が高く、プリズム内の各光
学素子の位置関係は露光マスク精度で保持されるので環
境特性及び長期信頼性に優れるという利点がある。
This integrated optical head utilizes a laminate prism structure in which a plurality of glass substrates are stacked. The laminate prism is a prism having a laminated structure in which a plurality of wafer substrates on which optical functional elements necessary for recording and reproduction of an optical disk are mounted by using a wafer process technology are bonded and processed. In such an integrated optical head using a laminated prism, reduction in size and weight is, of course,
Compared with the conventional one, the productivity is higher and the positional relationship between the optical elements in the prism is maintained with the exposure mask accuracy, so that there is an advantage that the environmental characteristics and the long-term reliability are excellent.

【0005】ラミネートプリズムを用いる場合、外部か
ら入射されるレーザを光ディスク側に向かわせて再生セ
ンサ側に戻す光路や、フォーカシング及びトラッキング
のための光路、及び入射レーザモニタのための光路をそ
れぞれ形成する必要がある。
When a laminate prism is used, an optical path for returning a laser beam incident from the outside toward the optical disk and returning to the reproduction sensor side, an optical path for focusing and tracking, and an optical path for incident laser monitoring are formed. There is a need.

【0006】そして、各基板はレーザの水平入射方向に
対して45°の斜面を持つように形成され、先のような
光路を形成するために各基板には反射膜やホログラム及
びビームスプリッター膜等を必要に応じて形成したもの
が使用されている。また、ホログラムは、たとえば光デ
ィスク盤からの反射光の一部を受けてフォーカシングや
トラッキングのためのサーボセンサへの光路を形成した
り、及び入射ビームの一部を受けてレーザモニタ用のセ
ンサへの光路を形成するのに使用される。
[0006] Each substrate is formed so as to have a slope of 45 ° with respect to the horizontal incidence direction of the laser. In order to form the above-mentioned optical path, each substrate has a reflection film, a hologram, a beam splitter film and the like. Formed as required. The hologram forms a light path to a servo sensor for focusing and tracking by receiving a part of the reflected light from the optical disk, for example, and receives a part of the incident beam to a laser monitor sensor. Used to form an optical path.

【0007】このホログラムの作製は、ガラス基板に対
するレジスト塗布から現像エッチング及び露光等により
ホログラムプロフィルを形成した後に、金属を蒸着した
反射膜を形成する工程によって行われる。そして、ホロ
グラムに形成する反射膜は、その反射率を高くすること
が、たとえば光学系の精度を高く維持するためには必要
であって、AgやAl等の高反射率の金属材料を用いる
ことが最適とされている。
The production of this hologram is performed by a process of forming a hologram profile by applying a resist to a glass substrate, developing etching, exposing and the like, and then forming a reflective film on which metal is deposited. For the reflection film formed on the hologram, it is necessary to increase the reflectance, for example, in order to maintain high accuracy of the optical system, and use a metal material having a high reflectance such as Ag or Al. Has been optimized.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ラミネートプリズムを
使用することによって、従来の光学系に比べると小型軽
量化が可能となったが、更に集積化を進めて光学系の機
能を拡大させるには、基板の各斜面にホログラムやビー
ムスプリッター等の光学素子を複数配置することが一つ
の有効な手段となる。すなわち、複数のガラス基板を積
層するラミネートプリズムにおいては、一つの基板が光
学系に対して一つの機能しか持たないよりも、多機能の
単位となるようにすれば、集積化がより促進されること
になり、情報量も増大するとともに光ピックアップ装置
もより小型化が可能となる。したがって、このような多
機能化の観点から、たとえば一つの基板の二つの斜面に
それぞれ光学素子を形成したり、同一斜面に複数の光学
素子を配置することが有効となる。
The use of a laminated prism makes it possible to reduce the size and weight of the optical system as compared with the conventional optical system. Arranging a plurality of optical elements such as holograms and beam splitters on each slope of the substrate is one effective means. That is, in a laminated prism in which a plurality of glass substrates are laminated, integration is further promoted if one substrate is a multifunctional unit rather than having only one function for an optical system. As a result, the amount of information increases and the size of the optical pickup device can be further reduced. Therefore, from the viewpoint of such multi-functionality, it is effective to form an optical element on each of two slopes of one substrate or to arrange a plurality of optical elements on the same slope.

【0009】一方、ホログラムの反射膜として用いる金
属材料では、反射率が高くてガラス製の基板とも付着性
の良好なものが好ましく、先にも述べたようにAgやA
l等が最適である。ところが、反射率が高い金属材料は
一般的に腐食性も高く、特に合成樹脂等に含まれる化学
成分との接触によって短時間でも腐食が始まることが多
い。なお、Auは高反射率であって腐食性も低くいが、
ガラスとの付着性に安定さがないので、ラミネートプリ
ズム用としては好ましくないといえる。
On the other hand, the metal material used as the reflection film of the hologram preferably has a high reflectance and good adhesion to a glass substrate.
1 and the like are optimal. However, a metal material having a high reflectance generally has a high corrosiveness, and in particular, corrosion often starts even in a short time due to contact with a chemical component contained in a synthetic resin or the like. Au has high reflectivity and low corrosiveness,
Since the adhesion to glass is not stable, it can be said that it is not preferable for a laminated prism.

【0010】したがって、基板の一面側にAgまたはA
lを利用したホログラムを形成するとともにビームスプ
リッターをこの面に含まれた領域に形成し、更に他面側
にも他の光学素子を設けるような場合には、AgやAl
の腐食を防ぐことが必要となる。すなわち、ウェーハプ
ロセスによる工程においてホログラムを先行して基板の
一面側に形成した後に、他面側に他の光学素子を形成す
る工程順序とした場合では、全ての工程が終えるまでに
AgやAlが腐食し始めることが多い。
Therefore, Ag or A is provided on one side of the substrate.
In the case where a hologram is formed using a laser beam and a beam splitter is formed in a region included in this surface, and another optical element is provided on the other surface, Ag or Al
It is necessary to prevent corrosion. In other words, in the case where the hologram is first formed on one surface side of the substrate in the process by the wafer process and then another optical element is formed on the other surface side, Ag and Al are not changed until all the processes are completed. Often starts to corrode.

【0011】このようなホログラムの反射膜として利用
するAgやAlの腐食防止としては、これらの材料によ
る反射膜を形成した後に適切な保護膜によって覆うよう
にすれば、腐食による障害を抑えることはできる。
In order to prevent the corrosion of Ag and Al used as a reflection film of such a hologram, if a reflection film made of such a material is formed and then covered with an appropriate protective film, it is possible to suppress the trouble caused by the corrosion. it can.

【0012】ところが、先に述べたようにホログラムだ
けではなくビームスプリッターも基板の同一斜面に設け
るような場合、ホログラムとビームスプリッターのそれ
ぞれの光学的な機能が異なるので、それぞれについて光
学的な機能を損なわないような別個の保護膜で被覆する
ことが必要となる。このように別個の保護膜で被覆する
には、ホログラムとビームスプリッターのそれぞれにつ
いてパターン化した保護膜の形成工程を踏むことにな
り、工程が煩雑となって製品の歩留りに大きく影響す
る。
However, as described above, when not only the hologram but also the beam splitter are provided on the same inclined surface of the substrate, the hologram and the beam splitter have different optical functions. It must be covered with a separate protective film that does not impair. In order to cover the hologram and the beam splitter in this way, a step of forming a patterned protective film is performed for each of the hologram and the beam splitter, which complicates the process and greatly affects the product yield.

【0013】また、このようなパターン化を避けるた
め、基板の傾斜面の全体を共通の保護膜で被覆すればよ
い。しかしながら、ホログラムの反射膜のAgやAlの
腐食防止には好適であっても、ホログラムとビームスプ
リッターの両方についてそれぞれの光学的な特性を損ね
ない条件を満たす必要がある。そして、たとえば光透過
性の樹脂等による保護膜を適用したとしても、光学系に
影響を及ぼす傾向が大きく、光学的特性に全く干渉しな
い保護膜については未だ開発されていない現状にある。
In order to avoid such patterning, the entire inclined surface of the substrate may be covered with a common protective film. However, even if it is suitable for preventing corrosion of Ag and Al in the reflection film of the hologram, both the hologram and the beam splitter must satisfy the conditions that do not impair their optical characteristics. Even if a protective film made of, for example, a light-transmitting resin or the like is applied, it has a large tendency to affect the optical system, and a protective film that does not interfere with the optical characteristics at all has not yet been developed.

【0014】本発明において解決すべき課題は、基板に
設ける光学素子の属反射膜の腐食を防止するとともに光
学的な干渉を伴わない被覆層を備える光ピックアップ装
置を提供することにある。
It is an object of the present invention to provide an optical pickup device having a coating layer which prevents corrosion of a metal reflective film of an optical element provided on a substrate and does not involve optical interference.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は、複数の光透過
性の基板を積層した積層体構造を持ち、外部の発光素子
からの入射光を屈折及び反射させて光情報媒体から情報
を読み取り且つ受光素子までの光路を形成可能としたラ
ミネートプリズムを含む光ピックアップ装置であって、
基板の光入射面に含まれた光学系特性が異なる光学素子
を、光透過型であって且つ各光学素子の光学系特性との
干渉がない被覆層によって一様に被膜してなることを特
徴とする。
The present invention has a laminated structure in which a plurality of light-transmitting substrates are laminated, and reads information from an optical information medium by refracting and reflecting incident light from an external light emitting element. And an optical pickup device including a laminate prism capable of forming an optical path to a light receiving element,
Optical elements having different optical system characteristics included on the light incident surface of the substrate are uniformly coated with a coating layer that is a light transmission type and does not interfere with the optical system characteristics of each optical element. And

【0016】このような構成であれば、たとえばホログ
ラムやビームスプリッター膜等のようにそれぞれに光学
系特性が異なる光学素子を基板の光入射面に複数配置し
ていても、被覆層をこの光入射面に一様に被膜すること
によって、各光学素子に光学系に干渉せずしかもホログ
ラム等に含まれる腐食しやすい金属膜の保護も可能とな
る。
With such a configuration, even if a plurality of optical elements having different optical system characteristics, such as a hologram and a beam splitter film, are arranged on the light incident surface of the substrate, the covering layer can be used as the light incident surface. By uniformly coating the surface, it is possible to protect each optical element from a metal film which does not interfere with the optical system and is easily corroded, which is contained in a hologram or the like.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】請求項1に記載の発明は、複数の
光透過性の基板を積層した積層体構造を持ち、外部の発
光素子からの入射光を屈折及び反射させて光情報媒体か
ら情報を読み取り且つ受光素子までの光路を形成可能と
したラミネートプリズムを含む光ピックアップ装置であ
って、基板の光入射面に含まれた光学系特性が異なる光
学素子を、光透過型であって且つ各光学素子の光学系特
性との干渉がない被覆層によって一様に被膜してなるも
のであり、ホログラムやビームスプリッター膜等のよう
にそれぞれに光学系特性が異なる光学素子を基板の光入
射面に複数配置していても、被覆層をこの光入射面に一
様に被膜するだけの工程で済み、各光学素子の光学系に
干渉がなくてホログラム等に含まれる腐食しやすい金属
膜の保護も可能となるという作用を有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 has a laminated structure in which a plurality of light-transmitting substrates are laminated, and refracts and reflects incident light from an external light-emitting element to thereby transmit light from an optical information medium. An optical pickup device including a laminate prism capable of reading information and forming an optical path to a light receiving element, wherein an optical element having a different optical system characteristic included in a light incident surface of a substrate is a light transmitting type, and Optical elements with different optical system characteristics, such as holograms and beam splitter films, are uniformly coated with a coating layer that does not interfere with the optical system characteristics of each optical element. Even if a plurality of layers are arranged, it is only necessary to coat the coating layer uniformly on this light incident surface, and there is no interference in the optical system of each optical element and protection of corrosive metal film contained in hologram etc. Also possible It has the effect of that.

【0018】請求項2に記載の発明は、被覆層は、誘電
体の単層膜または多層膜構造であって且つ光透過可能な
厚さとしてなる請求項1記載の光ピックアップ装置にお
けるラミネートプリズム構造であり、ホログラムやビー
ムスプリッター膜等のようにそれぞれに光学系特性が異
なる光学素子を基板の光入射面に複数配置していても、
被覆層をこの光入射面に一様に被膜するだけの工程で済
み、各光学素子の光学系に干渉がなくてホログラム等に
含まれる腐食しやすい金属膜の保護も可能となるという
作用を有する。
According to a second aspect of the present invention, in the optical pickup device according to the first aspect of the present invention, the covering layer has a single-layer or multi-layer dielectric structure and a thickness that allows light to pass therethrough. Even if a plurality of optical elements having different optical system characteristics such as a hologram and a beam splitter film are arranged on the light incident surface of the substrate,
It is only a process of uniformly coating the coating layer on the light incident surface, and has the effect that the optical system of each optical element does not interfere and it is possible to protect the corrosive metal film included in the hologram and the like. .

【0019】請求項3に記載の発明は、被覆層は、Al
23の被覆方向の両面を被膜するSiO2の保護膜を含
む3層構造からなる請求項2記載の光ピックアップ装置
におけるラミネートプリズム構造であり、ホログラムや
ビームスプリッター膜等のようにそれぞれに光学系特性
が異なる光学素子を基板の光入射面に複数配置していて
も、被覆層をこの光入射面に一様に被膜するだけの工程
で済み、各光学素子の光学系に干渉がなくてホログラム
等に含まれる腐食しやすい金属膜の保護も可能となると
いう作用を有する。
According to a third aspect of the present invention, the coating layer is made of Al
3. The laminated prism structure in the optical pickup device according to claim 2, wherein the laminated prism structure has a three-layer structure including a SiO 2 protective film that covers both surfaces in the direction of the 2 O 3 coating, and each has an optical structure such as a hologram or a beam splitter film. Even if a plurality of optical elements having different system characteristics are arranged on the light incident surface of the substrate, only the process of uniformly coating the coating layer on the light incident surface is sufficient, and there is no interference with the optical system of each optical element. This has the effect that it is possible to protect a corrosive metal film contained in a hologram or the like.

【0020】請求項4に記載の発明は、光源と、入射し
てきた光を電気信号に変換する受光手段と、複数の光学
素子を有し、前記光源から出射された光を記録媒体に導
くとともに、記録媒体で反射されてきた光を前記受光手
段に導く光ガイド部材とを備え、前記光学素子を覆う被
覆層を設けたことにより、光学素子が空気等に触れるこ
とを抑制できるので、光学素子の特性の劣化を効率よく
抑制することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a light source, a light receiving means for converting incident light into an electric signal, and a plurality of optical elements, for guiding light emitted from the light source to a recording medium. A light guide member for guiding the light reflected by the recording medium to the light receiving means, and by providing a coating layer covering the optical element, the optical element can be prevented from coming into contact with air or the like. Can be efficiently suppressed from deteriorating.

【0021】請求項5に記載の発明は、光学素子の内の
少なくとも2つを同一の被覆層で覆ったことにより、ホ
ログラムやビームスプリッター膜等のようにそれぞれに
光学系特性が異なる光学素子を基板の光入射面に複数配
置していても、被覆層を全体に被膜するだけの工程で済
み、しかも腐食しやすい金属膜の保護も可能となるとい
う作用を有する。
According to a fifth aspect of the present invention, at least two of the optical elements are covered with the same coating layer, so that optical elements having different optical system characteristics, such as a hologram and a beam splitter film, are provided. Even if a plurality of light-incident surfaces are arranged on the light-incident surface of the substrate, only the process of coating the entire coating layer is required, and the metal film which is easily corroded can be protected.

【0022】以下に、本発明の実施の形態の具体例を図
面を参照しながら説明する。図1は本発明の一実施の形
態における光ピックアップ装置の概略縦断面図、図2は
ラミネートプリズムの各基板を分解して示す斜視図であ
る。
Hereinafter, specific examples of the embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of an optical pickup device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an exploded perspective view showing each substrate of a laminate prism.

【0023】図1において、集積光ヘッドの内部には、
サブマウント51とその上に搭載された半導体レーザチ
ップ52に沿う姿勢としてプリズム素子1が配置されて
いる。
In FIG. 1, inside the integrated optical head,
The prism element 1 is arranged in a posture along the submount 51 and the semiconductor laser chip 52 mounted thereon.

【0024】このプリズム素子1は、図においては下端
側にフォトダイオード2を備えるとともに、図2に示す
ように、第1基板3,第2基板4,第3基板5,第4基
板6,第5基板7,第6基板8を上から順に積層した構
造を持つ。これらの第1〜第6基板3〜8はいずれもガ
ラスを素材としたのであり、それぞれの積層面によって
形成される界面の角度は半導体レーザチップ52からの
レーザの照射方向と45°の角度をなす。
The prism element 1 includes a photodiode 2 at the lower end in the figure, and as shown in FIG. 2, a first substrate 3, a second substrate 4, a third substrate 5, a fourth substrate 6, a It has a structure in which a fifth substrate 7 and a sixth substrate 8 are stacked in order from the top. These first to sixth substrates 3 to 8 are all made of glass, and the angle of the interface formed by the respective lamination surfaces is 45 ° with respect to the laser irradiation direction from the semiconductor laser chip 52. Eggplant

【0025】第2基板4には、第3基板5との界面側に
反射膜4aとビームスプリッター膜4bとを備えるとと
もに、第1基板3との界面側には3ビーム回折格子4c
を設ける。第3基板5には、第4基板6との界面側にビ
ームスプリッター膜5aとモニターホログラム5bを備
え、第2基板4側との界面には非点収差ホログラム5c
を備え、更に上端面側には反射膜5dを備える。そし
て、第5基板7は偏光分離基板として機能するもので、
各基板3〜7の45°の光の入射及び反射面とは捩じれ
た姿勢の関係にある反射膜7aと偏光分離膜7bを備え
ている。
The second substrate 4 has a reflection film 4a and a beam splitter film 4b on the interface side with the third substrate 5, and has a three-beam diffraction grating 4c on the interface side with the first substrate 3.
Is provided. The third substrate 5 includes a beam splitter film 5a and a monitor hologram 5b on the interface side with the fourth substrate 6, and the astigmatism hologram 5c on the interface with the second substrate 4 side.
And a reflection film 5d on the upper end surface side. The fifth substrate 7 functions as a polarization separation substrate.
Each of the substrates 3 to 7 is provided with a reflection film 7a and a polarization separation film 7b having a twisted attitude with respect to the 45 ° light incident and reflection surfaces.

【0026】一方、フォトダイオード2には、サーボセ
ンサ2a,S偏光及びP偏光のための再生センサ2b及
びレーザモニタセンサ2cをそれぞれ設ける。
On the other hand, the photodiode 2 is provided with a servo sensor 2a, a reproduction sensor 2b for S-polarized light and P-polarized light, and a laser monitor sensor 2c.

【0027】以上の第1〜第6基板2〜7は、図1に示
すようにそれぞれの界面どうしのなす角度が45°とな
るように積層されてフォトダイオード2の上に一体に積
層されてプリズム素子1を構成する。
As shown in FIG. 1, the first to sixth substrates 2 to 7 are stacked so that the angle between the respective interfaces is 45 °, and are integrally stacked on the photodiode 2. The prism element 1 is configured.

【0028】ここで、半導体レーザチップ52からレー
ザが第2基板4の外から水平方向に照射されると、照射
レーザは反射膜4aによって上に直角に向きを変えて3
ビーム回折格子4に達する。この3ビーム回折格子4c
は、照射レーザの光拡散角をNA変換するNA変換ホロ
グラムであり、0次回折光(メインビーム)と±1次回
折光(サイドビーム)との3個のビームに変換する。そ
して、これらのメインビームとサイドビームは、偏光選
択性のあるビームスプリッター膜4bに入射する。
Here, when the semiconductor laser chip 52 irradiates the laser in the horizontal direction from outside the second substrate 4, the irradiation laser is turned upward at right angles by the reflection film 4 a for 3 seconds.
The beam reaches the beam diffraction grating 4. This three-beam diffraction grating 4c
Is an NA conversion hologram for converting the light diffusion angle of the irradiation laser from NA to NA, and converts the beam into three beams of 0th-order diffracted light (main beam) and ± 1st-order diffracted light (side beam). Then, these main beam and side beam are incident on the beam splitter film 4b having polarization selectivity.

【0029】ビームスプリッター膜4bに入射した光の
うち、このビームスプリッター膜よびを透過する光は、
第3基板5のモニターホログラム5bに向かい、その後
反射膜5dからフォトダイオード2のレーザモニタセン
サ2cに向けて照射される。
Of the light incident on the beam splitter film 4b, the light transmitted through the beam splitter film and
The light is directed toward the monitor hologram 5b of the third substrate 5 and thereafter emitted from the reflection film 5d toward the laser monitor sensor 2c of the photodiode 2.

【0030】このレーザモニタセンサ2cは照射された
光を検知することにより、半導体レーザチップ52から
の射出光をモニターする。
The laser monitor sensor 2c monitors the emitted light from the semiconductor laser chip 52 by detecting the emitted light.

【0031】一方、ビームスプリッター膜4bによって
反射されたメインビーム及びサイドビームのビーム成分
は、第2基板3の上面を透過する。そして、この透過光
は、光ディスク盤(図示せず)側に配置した対物レンズ
(図示せず)に入射し、対物レンズの集光作用によって
光ディスク盤の情報記録面に結像される。このとき、情
報記録面上における2つのサイドビームの結像スポット
は、メインビームの結像スポットを中心としてほぼ対称
な位置に結像される。そして、情報記録面に対して、メ
インビーム及びサイドビームの結像スポットにより、情
報の記録または再生信号及びトラッキングとフォーカシ
ングのいわゆるサーボ信号の読出を行う。
On the other hand, the beam components of the main beam and the side beam reflected by the beam splitter film 4b pass through the upper surface of the second substrate 3. Then, the transmitted light is incident on an objective lens (not shown) arranged on the optical disk disk (not shown) side, and is imaged on the information recording surface of the optical disk disk by the condensing action of the objective lens. At this time, the imaging spots of the two side beams on the information recording surface are imaged at substantially symmetric positions about the imaging spot of the main beam. Then, information recording or reproduction signals and so-called servo signals for tracking and focusing are read out from the information recording surface by the imaging spots of the main beam and the side beams.

【0032】光ディスク盤の情報記録面によって反射さ
れたメインビーム及びサイドビームの戻り光は、再び第
2基板4のビームスプリッター膜4bに入射する。この
ビームスプリッター膜4bは、入射面に対して平行な振
動成分を有する光(P偏光成分)に対してほぼ100%
の透過率を有し、垂直な振動成分(S偏光成分)に対し
ては一定の反射率を持つ。
The return light of the main beam and the side beam reflected by the information recording surface of the optical disk drive again enters the beam splitter film 4b of the second substrate 4. This beam splitter film 4b is almost 100% responsive to light having a vibration component parallel to the plane of incidence (P-polarized component).
And has a constant reflectance with respect to a vertical vibration component (S-polarized component).

【0033】ビームスプリッター膜4bを透過した光
は、第3基板5の偏光選択性のあるビームスプリッター
膜5aに入射する。このビームスプリッター膜5aも、
第2基板4のビームスプリッター膜4bと同様に、P偏
光成分に対して100%の透過率を持ち、S偏光成分に
対しては一定の反射率を持つものである。そして、ビー
ムスプリッター膜5aに達した光のうちこれを透過した
光成分は、第5基板7の反射膜7a及び偏光性分離膜7
bを経由して再生センサ2bに入射する。
The light transmitted through the beam splitter film 4b is incident on the polarization-selective beam splitter film 5a of the third substrate 5. This beam splitter film 5a also
Like the beam splitter film 4b of the second substrate 4, it has a transmittance of 100% for the P-polarized component and a constant reflectance for the S-polarized component. Then, of the light that has reached the beam splitter film 5a, the light component that has passed through the light splitter film 5a
b and enters the reproduction sensor 2b.

【0034】また、ビームスプリッター膜5aを透過し
ない光はこの部分で反射された後に非点収差ホログラム
5cに向かい、これからサーボセンサ2aに照射されて
フォーカスエラーが非点収差法で行われる。
The light that does not pass through the beam splitter film 5a is reflected by this portion and then travels to the astigmatism hologram 5c, where it is applied to the servo sensor 2a to perform a focus error by the astigmatism method.

【0035】以上のように、半導体レーザチップ52か
らレーザをプリズム素子1に入射させることで、光ディ
スク盤からの情報の読み取り及び再生が行われる。そし
て、この再生と同時にフォーカスエラー及びトラッキン
グエラーの検知が同時に実行され、再生出力の精度の向
上を図ることができる。
As described above, the reading and reproduction of information from the optical disk are performed by causing the laser beam from the semiconductor laser chip 52 to enter the prism element 1. At the same time as the reproduction, the detection of the focus error and the tracking error is performed at the same time, and the accuracy of the reproduction output can be improved.

【0036】図3は第2基板とこれに被膜する被覆層を
分解して示す概略斜視図である。第3基板5は、先に述
べたように、第4基板6との間の界面となる傾斜面にビ
ームスプリッター膜5aとモニターホログラム5bを並
べて形成したものであり、反対側の傾斜面には非点収差
ホログラム5cが形成されている。このように傾斜面の
両面にビームスプリッター膜5aとモニターホログラム
5b及び非点収差ホログラム5cの光学素子をそれぞれ
形成する場合では、ウェーハプロセスにおいて一方の傾
斜面にこれらの光学素子を形成した後、他方の傾斜面に
残りの光学素子を形成するように工程が進められる。
FIG. 3 is an exploded schematic perspective view showing a second substrate and a coating layer covering the second substrate. As described above, the third substrate 5 is formed by arranging the beam splitter film 5a and the monitor hologram 5b on the inclined surface serving as an interface between the third substrate 5 and the fourth substrate 6. An astigmatism hologram 5c is formed. When the beam splitter film 5a, the monitor hologram 5b, and the optical elements of the astigmatism hologram 5c are respectively formed on both surfaces of the inclined surface as described above, after forming these optical elements on one inclined surface in the wafer process, The process proceeds so as to form the remaining optical element on the inclined surface.

【0037】ビームスプリッター膜5aは、フォトレジ
ストを塗布して露光した後に現像してそのパターンを形
成し、この後真空蒸着法またはスパッタ法によって成膜
し、不要な部分をリフトオーバーフローによって除去す
ることでパターン化されたビームスプリッター膜5aを
形成することができる。
The beam splitter film 5a is formed by applying a photoresist, exposing it to light, developing it, forming a pattern thereof, forming a film by vacuum evaporation or sputtering, and removing unnecessary portions by lift overflow. Can form the beam splitter film 5a patterned.

【0038】また、モニターホログラム5b及び非点収
差ホログラム5cは、第3基板5のそれぞれの傾斜面に
レジスト塗布して露光した後に現像してエッチングし更
に洗浄する工程を繰り返して表面を階段状に形成し、最
後に金属の反射膜を蒸着することによって得ることがで
きる。そして、金属の反射膜としては、従来技術の項で
述べたように光反射率が高いAgまたはAlを利用す
る。
The surface of the monitor hologram 5b and the astigmatism hologram 5c are stepped by repeating a process of applying a resist to each inclined surface of the third substrate 5, exposing, exposing, developing, etching and further washing. It can be obtained by forming and finally depositing a metal reflective film. As the metal reflection film, Ag or Al having high light reflectance is used as described in the section of the related art.

【0039】このように反射膜としてAgまたはAlを
含むモニターホログラム5bや非点収差ホログラム5c
では、先に述べたように、その反射膜の蒸着後に金属の
腐食が発生しやすい。そこで、図3の例で示すように、
ビームスプリッター膜5a及びモニターホログラム5b
を含む傾斜面の一面全体を誘電体素材の被覆層9によっ
て被覆することで、反射膜の金属の腐食を防止する。
As described above, the monitor hologram 5b or the astigmatism hologram 5c containing Ag or Al as the reflection film is used.
Then, as described above, metal corrosion is likely to occur after the deposition of the reflective film. Therefore, as shown in the example of FIG.
Beam splitter film 5a and monitor hologram 5b
By covering the entirety of the inclined surface including the above with the coating layer 9 made of a dielectric material, corrosion of the metal of the reflection film is prevented.

【0040】この被覆層9は、第3基板5の傾斜面に蒸
着法またはスパッタ法によって形成されるもので、アル
ミナとシリカとによる誘電体材料をその素材としたもの
である。図示の例では、Al23層9aとその上下に積
層したSiO2の保護膜9b,9cの3層の積層体を被
覆層9としたものであり、Al23層9aの厚さは90
〜320nm程度であり、保護膜9b,9cの厚さは3
50nm程度である。
The coating layer 9 is formed on the inclined surface of the third substrate 5 by a vapor deposition method or a sputtering method, and is made of a dielectric material of alumina and silica. In the example shown in the figure, the coating layer 9 is a three-layer laminate of the Al 2 O 3 layer 9a and the SiO 2 protective films 9b and 9c stacked on and under the Al 2 O 3 layer 9a. Is 90
320320 nm, and the thickness of the protective films 9 b and 9 c is 3
It is about 50 nm.

【0041】このようなAl23層9aとSiO2の保
護膜9b,9cの積層体では、Al23層9aが光を透
過可能な厚みなので透光性のSiO2を素材とする保護
膜9b,9cとの組合せによっても被覆層9を光透過性
とすることができ、入射した光を殆ど全て透過させるす
なわち反射が殆どみられない特性を持たせることができ
る。
In such a laminated body of the Al 2 O 3 layer 9a and the protective films 9b and 9c of SiO 2 , since the Al 2 O 3 layer 9a is thick enough to transmit light, it is made of light-transmitting SiO 2. The coating layer 9 can also be made light-transmissive by combination with the protective films 9b and 9c, so that almost all of the incident light can be transmitted, that is, the reflection can be hardly observed.

【0042】図4は本発明における被覆層を形成したも
のと形成しないものとの光の透過率の特性を示す線図で
あり、横軸に波長(nm)をとり、縦軸に透過率(%)
をとったものである。
FIG. 4 is a graph showing the characteristics of light transmittance between the case where the coating layer is formed and the case where the coating layer is not formed according to the present invention. The horizontal axis represents wavelength (nm), and the vertical axis represents transmittance ( %)
Is taken.

【0043】この被覆層9に利用したAl23層9aは
その屈折率が1.63で膜厚は320.8nmであり、
保護膜9bのSiO2はその屈折率が1.45で膜厚は
402.9nmである。そして、線図において、破線で
示すものは被覆層9を形成しなかった場合であり、実線
で示すものは被覆層9を形成したものであり、被覆層9
を形成した場合でも光の透過率は100%近くであって
形成していない場合と殆ど変わらない、すなわち、被覆
層9は入射した光を殆ど透過させて反射は殆どゼロに近
い値のオーダーで発生しないということが判る。
The Al 2 O 3 layer 9a used for the coating layer 9 has a refractive index of 1.63 and a thickness of 320.8 nm.
SiO 2 of the protective film 9b has a refractive index of 1.45 and a thickness of 402.9 nm. In the diagram, those indicated by broken lines indicate the case where the coating layer 9 was not formed, and those indicated by solid lines indicate the case where the coating layer 9 was formed.
Is formed, the light transmittance is close to 100%, which is almost the same as the case of not forming. That is, the coating layer 9 almost transmits the incident light and the reflection is on the order of a value close to zero. It turns out that it does not occur.

【0044】ウェーハプロセスにおいては、被覆層9
は、ビームスプリッター膜5a及びモニターホログラム
5bを第3基板5の傾斜面に形成した後に、この傾斜面
の全体に一様に形成させたものとし、後工程に進ませ
る。なお、たとえば図3においてビームスプリッター膜
5aとモニターホログラム5bを先に傾斜面の一方に形
成した後に、他方の傾斜面に非点収差ホログラム5cを
形成する場合では、この非点収差ホログラム5cの形成
が後工程となり、この後工程までの間の期間も含めて被
覆層9によってモニターホログラム5bの金属の腐食が
防止される。
In the wafer process, the coating layer 9
After the beam splitter film 5a and the monitor hologram 5b are formed on the inclined surface of the third substrate 5, the beam splitter film 5a and the monitor hologram 5b are uniformly formed on the entire inclined surface, and the process proceeds to a later step. For example, in FIG. 3, when the beam splitter film 5a and the monitor hologram 5b are formed on one of the inclined surfaces first, and then the astigmatic hologram 5c is formed on the other inclined surface, the astigmatic hologram 5c is formed. Is a post-process, and the metal of the monitor hologram 5b is prevented from being corroded by the coating layer 9 including the period up to the post-process.

【0045】ここで、ビームスプリッター膜5aは、デ
ィスクからの戻り光を分離するために、一定の反射率及
び透過率となるように設計される。すなわち、反射光は
非点収差ホログラム5cへ光束を導き、この非点収差ホ
ログラム5cにサーボ信号を発生させる。そして、この
サーボ信号を一定に維持するためには、被覆層9を形成
することで、その反射特性の変化を抑制することが有効
である。そして、図4で示したように、被覆層9の有無
によるビームスプリッター膜5aの光透過率は殆ど変わ
りはないので、被覆層9による反射特性の変化の抑制は
光の透過率には何らの影響お及ぼさない。したがって、
ビームスプリッター膜5aを形成した後に、Al23
9aを含む被覆層9によって被膜しても、ビームスプリ
ッター膜5aが本来保つべき光学素子としての機能を損
ねることはなく、光学系との干渉を伴うこともない。
Here, the beam splitter film 5a is designed to have constant reflectance and transmittance in order to separate the return light from the disk. That is, the reflected light guides the light beam to the astigmatism hologram 5c, and generates a servo signal on the astigmatism hologram 5c. In order to keep the servo signal constant, it is effective to form the coating layer 9 to suppress a change in the reflection characteristic. Then, as shown in FIG. 4, since the light transmittance of the beam splitter film 5a hardly changes depending on the presence or absence of the coating layer 9, the suppression of the change in the reflection characteristics by the coating layer 9 has some effect on the light transmittance. Has no effect. Therefore,
Even after the formation of the beam splitter film 5a, coating with the coating layer 9 including the Al 2 O 3 layer 9a does not impair the function of the beam splitter film 5a as an optical element that should be originally maintained, and does not interfere with the optical system. Is not accompanied.

【0046】一方、ビームスプリッター膜5aの透過光
は光磁気信号の再生信号となる。そして、良好な光磁気
信号の再生が維持されるためには、被膜層9を形成した
場合でもその透過率特性及び偏光特性が変化しないよう
にすることが必要である。なお、偏光特性とは、ビーム
スプリッター膜5aが形成面における入射面に平行なP
偏光成分と垂直なS偏光成分の相対位相差であり、その
位相差は0に設計される。
On the other hand, the light transmitted through the beam splitter film 5a becomes a reproduction signal of a magneto-optical signal. In order to maintain good reproduction of the magneto-optical signal, it is necessary to prevent the transmittance characteristics and the polarization characteristics from changing even when the coating layer 9 is formed. Incidentally, the polarization characteristic means that the beam splitter film 5a is formed on a plane parallel to the incident surface of the formation surface.
The relative phase difference between the polarization component and the S-polarization component perpendicular to the polarization component, and the phase difference is designed to be zero.

【0047】図5は本発明における被覆層を形成したも
のと形成しないものとの光の反射特性を示す線図を示
し、図6は本発明における被覆層を形成したものと形成
しないものとの透過光の相対位相差を示す線図を示すも
のである。図5においては、破線が被覆層9を形成して
いない場合であり、被覆層9を形成したものは実線で示
しており、被覆層9を形成した場合でも透過率特性には
殆ど差は生じていない。また、図6から明らかなよう
に、被覆層9の形成前と形成後においても相対位相差は
殆ど同じであり、被覆層9を形成することによる影響は
無視し得る。
FIG. 5 is a diagram showing the light reflection characteristics of the case where the coating layer is formed according to the present invention and the case where the coating layer is not formed, and FIG. FIG. 3 is a diagram showing a relative phase difference of transmitted light. In FIG. 5, the broken line indicates the case where the coating layer 9 is not formed, and the case where the coating layer 9 is formed is indicated by a solid line. Even when the coating layer 9 is formed, there is almost no difference in transmittance characteristics. Not. As is clear from FIG. 6, the relative phase difference is almost the same before and after the formation of the coating layer 9, and the effect of forming the coating layer 9 can be neglected.

【0048】また、モニターホログラム5bは金属膜で
あり、光は透過しないため被覆層9を形成してもその特
性に影響を与えることはない。したがって、ビームスプ
リッター膜5aの場合と同様に、モニターホログラム5
bはその光学素子としての機能を損ねることがない。そ
して、モニターホログラム5bに反射膜として用いられ
るAgやAl等の金属は、被覆層9に保護されてその腐
食が防止されるので、ウェーハプロセスから製品化まで
の間及びその後においても良好な反射膜による光学機能
を維持することができる。
Further, since the monitor hologram 5b is a metal film and does not transmit light, even if the cover layer 9 is formed, its characteristics are not affected. Therefore, similarly to the case of the beam splitter film 5a, the monitor hologram 5
b does not impair the function as the optical element. The metal such as Ag or Al used as a reflection film for the monitor hologram 5b is protected by the coating layer 9 and its corrosion is prevented, so that a good reflection film is provided from the wafer process to the product production and thereafter. Optical function can be maintained.

【0049】以上のように、本発明では、光学系特性が
異なるビームスプリッター膜5a及びモニターホログラ
ム5bのそれぞれについて適切な素材による膜をパター
ン化して形成する必要がない。このため、第3基板5の
形成プロセスにおいても、膜形成のためのパターン化の
工程は不要となり、製造プロセスが煩雑になることはな
い。
As described above, in the present invention, it is not necessary to pattern and form a film made of an appropriate material for each of the beam splitter film 5a and the monitor hologram 5b having different optical system characteristics. Therefore, also in the process of forming the third substrate 5, a patterning step for forming a film is not required, and the manufacturing process is not complicated.

【0050】なお、以上の例では、第3基板5のビーム
スプリッター膜5a及びモニターオログラム5bを形成
する面について一様な被覆層9を形成する例について説
明したが、たとえば第2基板4のように一面側に反射膜
4aとビームスプリッター膜4bとを形成するような面
についても適用できることは無論である。
In the above example, an example in which the uniform coating layer 9 is formed on the surface of the third substrate 5 on which the beam splitter film 5a and the monitor ologram 5b are formed has been described. Of course, it is needless to say that the present invention can be applied to a surface where the reflection film 4a and the beam splitter film 4b are formed on one surface side.

【0051】また本実施の形態では、複数の光学素子を
有し、光に所定の光学作用を及ぼしつつ所定の位置に光
を導く働きを有する光ガイド部材の例としてラミネート
構造を有するプリズム素子1を用いていたが、これに限
らず、表面での反射や屈折等を利用するもの等を用いて
も良く、基板の表面に少なくとも2以上の光学素子を有
しているものであれば、ほとんど全ての光ガイド部材に
本発明を適用することが可能である。
In this embodiment, a prism element 1 having a laminate structure as an example of a light guide member having a plurality of optical elements and having a function of guiding light to a predetermined position while exerting a predetermined optical action on light. However, the present invention is not limited to this, and it is also possible to use one utilizing reflection or refraction on the surface, etc., as long as it has at least two or more optical elements on the surface of the substrate. The present invention can be applied to all light guide members.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明では、光学系特性が異なる光学素
子を含む光入射面であっても、被覆層を一様に形成する
だけで各光学素子の光学系に外乱を与えたり干渉したり
することがなく、ホログラム等に含まれるAgやAl等
の腐食しやすい金属膜の保護も可能なので、光学系特性
が高い精度に維持されるととおに耐久性も向上した製品
が得られる。
According to the present invention, even if a light incident surface includes optical elements having different optical system characteristics, disturbance or interference may occur in the optical system of each optical element only by forming the coating layer uniformly. Since a metal film such as Ag or Al contained in a hologram or the like which is easily corroded can be protected without performing the above-mentioned process, a product with improved durability can be obtained if the optical system characteristics are maintained with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による光ピックアップ装
置の概略縦断面図
FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view of an optical pickup device according to an embodiment of the present invention.

【図2】基板を分解して示す概略斜視図FIG. 2 is a schematic perspective view showing a disassembled substrate.

【図3】第2基板とこれに被膜する被覆層を分解して示
す概略斜視図
FIG. 3 is an exploded schematic perspective view showing a second substrate and a coating layer covering the second substrate.

【図4】本発明における被覆層を形成したものと形成し
ないものとの光の透過率の特性を示す線図
FIG. 4 is a diagram showing characteristics of light transmittance of a case where a coating layer is formed and a case where a coating layer is not formed in the present invention.

【図5】本発明における被覆層を形成したものと形成し
ないものとの光の反射特性を示す線図
FIG. 5 is a diagram showing light reflection characteristics of a case where a coating layer is formed and a case where a coating layer is not formed in the present invention.

【図6】本発明における被覆層を形成したものと形成し
ないものとの透過光の相対位相差を示す線図
FIG. 6 is a diagram showing a relative phase difference of transmitted light between a case where a coating layer is formed and a case where a coating layer is not formed in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 プリズム素子 2 フォトダイオード 2a サーボセンサ 2b 再生センサ 2c レーザモニタセンサ 3 第1基板 4 第2基板 4a 反射膜 4b ビームスプリッター膜 4c 3ビーム回折格子 5 第3基板 5a ビームスプリッター膜 5b モニターホログラム 5c 非点収差ホログラム 5d 反射膜 6 第4基板 7 第5基板 7a 反射膜 7b 偏光分離膜 8 第6基板 9 被覆層 9a 金属層(AL33層) 9b,9c 保護膜 51 サブマウント 52 半導体レーザチップReference Signs List 1 prism element 2 photodiode 2a servo sensor 2b reproduction sensor 2c laser monitor sensor 3 first substrate 4 second substrate 4a reflection film 4b beam splitter film 4c 3 beam diffraction grating 5 third substrate 5a beam splitter film 5b monitor hologram 5c astigmatism Aberration hologram 5d Reflective film 6 Fourth substrate 7 Fifth substrate 7a Reflective film 7b Polarization separation film 8 Sixth substrate 9 Cover layer 9a Metal layer (AL 3 O 3 layer) 9b, 9c Protective film 51 Submount 52 Semiconductor laser chip

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の光透過性の基板を積層した積層体構
造を持ち、外部の発光素子からの入射光を屈折及び反射
させて光情報媒体から情報を読み取り且つ受光素子まで
の光路を形成可能としたラミネートプリズムを含む光ピ
ックアップ装置であって、基板の光入射面に含まれた光
学系特性が異なる光学素子を、光透過型であって且つ各
光学素子の光学系特性との干渉がない被覆層によって一
様に被膜してなることを特徴とする光ピックアップ装
置。
An optical path has a laminated structure in which a plurality of light-transmissive substrates are laminated, and refracts and reflects incident light from an external light emitting element to read information from an optical information medium and form an optical path to a light receiving element. An optical pickup device including a laminating prism made possible, wherein an optical element having a different optical system characteristic included in a light incident surface of a substrate is subjected to light transmission and interference with the optical system characteristic of each optical element. An optical pickup device characterized by being uniformly coated with a non-covering layer.
【請求項2】被覆層は、誘電体の単層膜または多層膜構
造であって且つ光透過可能な厚さとしてなることを特徴
とする請求項1記載の光ピックアップ装置。
2. The optical pickup device according to claim 1, wherein the coating layer has a single-layer or multi-layer structure of a dielectric and has a thickness allowing light to pass therethrough.
【請求項3】被覆層は、Al23の被覆方向の両面を被
膜するSiO2の保護膜を含む3層構造からなることを
特徴とする請求項2記載の光ピックアップ装置。
3. The optical pickup device according to claim 2, wherein the covering layer has a three-layer structure including a SiO 2 protective film covering both surfaces in the Al 2 O 3 covering direction.
【請求項4】光源と、入射してきた光を電気信号に変換
する受光手段と、複数の光学素子を有し、前記光源から
出射された光を記録媒体に導くとともに、記録媒体で反
射されてきた光を前記受光手段に導く光ガイド部材とを
備え、前記光学素子を覆う被覆層を設けたことを特徴と
する光ピックアップ装置。
4. A light source, a light receiving means for converting incident light into an electric signal, and a plurality of optical elements. The light emitted from the light source is guided to a recording medium and is reflected by the recording medium. An optical guide member for guiding the light to the light receiving means, and a coating layer for covering the optical element.
【請求項5】前記光学素子の内の少なくとも2つを同一
の被覆層で覆ったことを特徴とする請求項4記載の光ピ
ックアップ装置。
5. The optical pickup device according to claim 4, wherein at least two of said optical elements are covered with the same coating layer.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6757224B2 (en) 2000-09-29 2004-06-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Integrated optical component and optical pick-up device

Cited By (2)

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US6757224B2 (en) 2000-09-29 2004-06-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Integrated optical component and optical pick-up device
KR100481735B1 (en) * 2000-09-29 2005-04-08 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 Integrated optical members and optical pickup apparatus

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