JPH11264756A - Level detector and level detecting method, and substrate processing device - Google Patents

Level detector and level detecting method, and substrate processing device

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JPH11264756A
JPH11264756A JP8829398A JP8829398A JPH11264756A JP H11264756 A JPH11264756 A JP H11264756A JP 8829398 A JP8829398 A JP 8829398A JP 8829398 A JP8829398 A JP 8829398A JP H11264756 A JPH11264756 A JP H11264756A
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light
reflected
liquid level
optical fiber
liquid
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Inventor
Yasuji Umahara
康爾 馬原
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Tokyo Electron Ltd
東京エレクトロン株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize a detector and to continuously detect an optional level with a high precision by extending an optical fiber in a liquid, and detecting the light that reaches the tip part of the optical fiber while successively reflected by the inner wall, and is reflected by the tip part and returned while successively reflected. SOLUTION: A level detecting sensor 80 comprises a sensor body 83 having a light emitting part 81 and a light receiving part 32, and an optical fiber 84 extended from the sensor body 83 to a liquid, the optical fiber 84 having a reflecting surface 84 formed on the tip. The light emitted from the light emitting part 81 toward the inner wall of the optical fiber 84 reaches the tip part while successively reflected by the inner wall, reflected by the reflecting surface 85, and returned to the sensor body 83 while successively reflected by the inner wall, and detected by the light receiving part 82. The refractive index of the inner wall of the optical fiber 84 is varied between the part exposed to a liquid and a part exposed to air, and according to this, the intensity of the reflected light is changed. Thus, the intensity of the reflected light changed following the change of liquid level is detected by the light receiving part 82, whereby an optional liquid level can be continuously analogously detected.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、タンク等内の液面を検出する液面検出器および液面検出方法、ならびにその液面検出器を用いた基板処理装置に関する。 The present invention relates to the liquid level detector and the liquid level detecting method for detecting the liquid level in the tank or the like, and to a substrate processing apparatus using the liquid level detector.

【0002】 [0002]

【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程のための塗布・現像処理システムにおいては、半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)を洗浄処理および疎水化処理した後、冷却ユニットで冷却し、次いでレジスト塗布ユニットでウエハにレジスト液を塗布する。 In the coating and developing system for the photolithography process in the Background of the Invention Semiconductor device fabrication process of a semiconductor wafer (hereinafter, referred to as "wafer") was treated washing treatment and hydrophobicity, it cooled in cooling unit and then the resist solution is applied to the wafer in the resist coating unit. その後、加熱処理ユニットでプリベーク処理し、冷却ユニットで冷却した後、インターフェース部を介して露光装置に搬送し、そこで所定のパターンを露光する。 Then, pre-baking treatment with heat processing unit, after cooling in the cooling unit, and conveyed to the exposure apparatus via the interface unit, where a predetermined pattern is exposed. 露光後、再びインターフェース部を介してシステムに搬入し、加熱処理ユニットでポストエクスポージャーベーク処理を施し、その後、冷却ユニットで冷却したウエハを現像処理ユニットで現像処理し、ウエハに所定の回路パターンを形成する。 After exposure, is carried into the system via the interface unit again performs post-exposure baked at heat processing unit, then the cooled wafer by the cooling unit is developed by the developing processing unit, forming a predetermined circuit pattern on the wafer to.

【0003】上記のような各種処理ユニットにおいては、レジスト液、現像液、排液等の液体を貯留した各種のタンクを用いており、このようなタンク内の液面を液面検出センサーにより検出している。 [0003] In various processing units as described above, the resist solution, a developing solution, the liquid drainage, etc. and using a variety of tanks storing, detecting the liquid level of such tank by the liquid level detection sensor doing. このような液面検出センサーとしては、例えばフローティングセンサーを用いたものや、光学センサーおよび光ファイバーを用いたものが知られている。 As such a liquid level detection sensor, for example, one using a floating sensor, there is known one using an optical sensor and optical fibers.

【0004】フローティングセンサーによりタンク内の液面を検出する場合には、タンク内の液体にフロートを浮かせておき、液面レベルに応じて変化するフロートの傾斜角度をメカニカルに検出することにより、タンク内の液面レベルを検出する。 [0004] When detecting the liquid level in the tank by a floating sensor, leave float float in the liquid in the tank, by detecting the inclination angle of the float that changes in accordance with the liquid level in the mechanical, tank detecting the liquid level of the inner.

【0005】また、光学センサーおよび光ファイバーを用いた液面検出センサーにより液面を検出する場合には、発光部および受光部を有するセンサー本体から延びる光ファイバーを液体内に垂直に配置しておき、発光部から射出された光を光ファイバーの先端部に導く。 Further, in the case of detecting the liquid level by a liquid level detection sensor using an optical sensor and an optical fiber, leave the optical fiber extending from the sensor body having a light emitting portion and a light receiving portion is disposed vertically in the liquid, the light emitting guiding light emitted from the part to the tip portion of the optical fiber. 光ファイバーの先端部が空気に触れる時と液体に触れる時とでは光の屈折率が異なり、液面レベルが高く光ファイバーの先端部が液体中に浸っている場合には、光は光ファイバーの先端から液体中に放射されるのに対し、液面が低下して光ファイバーの先端部が空気中に出た場合には、光は光ファイバーの先端で反射する。 Different refractive index of light at the tip of the optical fiber and when the touch when the liquid touches the air, when the tip of the high optical fiber liquid level is immersed in the liquid, the light liquid from the tip of the optical fiber while being radiated into the tip portion of the optical fiber decreases the liquid level when exiting the air, the light is reflected at the tip of the optical fiber. したがって、 Therefore,
その反射光を受光部で検知することにより液面レベルを検出することができる。 It is possible to detect the liquid level by detecting the reflected light by the light receiving portion. このような光学センサーおよび光ファイバーを用いた液面検出センサーは、小型であり、液面を精度よく検出することができ、耐熱性もあるといった利点を有している。 Such optical sensors and the liquid level detection sensor using an optical fiber is a small, it is possible to accurately detect the liquid level, it has an advantage in some heat resistance.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述したフローティングセンサーの液面検出センサーにあっては、液面レベルをフロートの傾斜角度の変化によりメカニカルに検出しているため、何らかの原因によりフロートがタンク内に引っかた場合等には、液面レベルを正確に検出することができないといった問題がある。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the liquid level detection sensor of the floating sensor described above, since the detected mechanical liquid level by the change of the inclination angle of the float, the float tank for some reason hit hardness in a case such as within, there is a problem can not be detected liquid level accurately. また、 Also,
フロートは、液面に浮遊させる必要があるため、比較的大きな容積が必要であり、タンク内での作業等の妨げとなりやすい。 Float, since it is necessary to suspend the liquid surface, it requires a relatively large volume, likely interfere with work or the like in the tank.

【0007】また、光学センサーおよび光ファイバーを用いた液面検出センサーにあっては、上述のような利点がある反面、液面レベルが所定レベルになった時にのみ、反射光を検知するように構成されているため、液面レベルが所定レベルに到達したか否かを検出する場合のように、一つの光センサーで、一つの液面レベルについてしか検出することができない。 [0007] In the liquid level detecting sensor using an optical sensor and optical fibers, although there are advantages as described above, only when the liquid level reaches a predetermined level, configured to detect reflected light because it is, as in the case where the liquid level is detected whether the host vehicle has reached the predetermined level, a single light sensor, it can only detect the one liquid level. したがって、一つの光センサーにより複数の液面を検出したいという最近の要望に応えることができないといった問題がある。 Therefore, there is a problem can not meet the recent desire to detect a plurality of the liquid surface by a single light sensor.

【0008】本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、複数の液面を精度良く検出することができ、かつ小型化可能な液面検出器およびそのような液面検出器を用いた基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, it is possible to accurately detect a plurality of liquid level, and miniaturization can be liquid level detector and such liquid level detector and to provide a substrate processing apparatus using the. また、複数の液面を精度良く検出することができる液面検出方法を提供することを目的とする。 Another object is to provide a liquid level detection method capable of accurately detecting a plurality of liquid level.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、第1発明は、容器に貯留した液体内に延在させた光ファイバーに発光部から光を射出し、光ファイバーの先端部で反射した反射光を受光部により検知して、容器内の液面レベルを検出する液面検出器において、前記発光部から光ファイバーの内壁に向けて光を射出し、光ファイバー内壁で順次反射させながら光ファイバーの先端部に到達させ、この先端部で反射した後、光ファイバー内壁で順次反射しながら戻った反射光を前記受光部により検知することを特徴とする液面検出器を提供する。 In order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION The first invention emits light from the light emitting portion in optical fibers extend into the liquid stored in a container, reflected by the front end portion of the optical fiber the reflected light is detected by the light receiving unit, the liquid level detector for detecting the liquid level in the vessel, the light emitted toward the inner wall of the optical fiber from the light emitting portion of the optical fiber while sequentially reflected by the optical fiber inner wall tip parts to reach, after being reflected by the tip portion, provides a liquid level detector of the reflected light returned while successively reflected by the fiber inner wall and detecting by the light receiving unit.

【0010】第2発明は、容器に貯留された液体の液面レベルを検出するための液面検出器であって、光を射出する発光部と、前記容器に貯留された液体内に延在され、前記発光部から射出した光を内壁で順次反射させながら先端部に到達させ、この先端部で反射した反射光を内壁で順次反射させながら戻す光ファイバーと、前記光ファイバーの内壁で反射しながら戻った反射光を検知する受光部とを具備することを特徴とする液面検出器を提供する。 [0010] The second invention is a liquid level detector for detecting the liquid level of the liquid stored in the container, a light emitting unit for emitting light, extends into the liquid stored in the container is the allowed light emitted from the light emitting unit to reach the distal end portion while sequentially reflected by the inner wall, and an optical fiber back while sequentially reflected by the inner wall of the reflected light reflected by the tip, back while being reflected by the inner wall of the optical fiber providing a liquid level detector, characterized by comprising a light receiving unit for detecting the reflected light.

【0011】第3発明は、第1発明または第2発明の液面検出器において、予め求めた液面レベルと反射光の強度との関係に基づいて、検出した反射光の強度から液面レベルを演算する演算手段をさらに具備することを特徴とする液面検出器を提供する。 [0011] The third invention is the first invention or the liquid level detector of the second aspect of the present invention, previously determined liquid level and on the basis of the relationship between the intensity of the reflected light, the liquid surface level from the detected intensity of the reflected light providing a liquid level detector, characterized by further comprising calculating means for calculating a.

【0012】第4発明は、第1発明ないし第3発明のいずれかの液面検出器において、前記光ファイバーは、その先端部に、光を反射する反射面を有していることを特徴とする液面検出器を提供する。 [0012] The fourth aspect of the present invention is the liquid level detector of the first invention to third invention, the optical fiber has at its tip portion, characterized in that it has a reflecting surface for reflecting light providing a liquid level detector.

【0013】第5発明は、容器に貯留した液体内に延在させた光ファイバーに発光部から光を射出し、光ファイバーの先端部で反射した反射光を受光部により検知して、容器内の液面レベルを検出する液面検出方法において、前記発光部から光ファイバーの内壁に向けて光を射出し、光ファイバー内壁で順次反射させながら光ファイバーの先端部に到達させ、この先端部で反射した後、光ファイバー内壁で順次反射させながら戻った反射光を前記受光部により検知することを特徴とする液面検出方法を提供する。 [0013] The fifth invention, emitted light from the light emitting portion in optical fibers extend into the liquid stored in the container, the light reflected at the tip of the optical fiber is detected by the light receiving portion, the liquid in the container in the liquid level detecting method for detecting a surface level, to emit light toward the inner wall of the optical fiber from the light emitting unit, while sequentially reflected by the optical fiber the inner wall to reach the tip of the optical fiber, after being reflected by the distal end portion, the optical fiber providing a liquid level detecting method and detecting the reflected light returned while sequentially reflected by the inner wall by the light receiving unit.

【0014】第6発明は、第5発明の液面検出方法において、予め求めた液面レベルと反射光の強度との関係に基づいて、検出した反射光の強度から液面レベルを求めることを特徴とする液面検出方法を提供する。 [0014] The sixth invention is the liquid level detection method of the fifth invention, based on the relationship between the intensity of the previously determined liquid level and the reflected light, from the intensity of the detected reflected light to determine the liquid level providing the liquid level detection method according to claim.

【0015】第7発明は、処理液用容器に貯留した処理液を用いて、基板に所定の処理を行う処理部と、前記処理液用容器に配置され、処理液用容器に貯留した処理液の液面レベルを検出するための液面検出器とを具備し、 [0015] The seventh invention uses treating liquid stored in a container for treatment liquid, a processing unit for performing predetermined processing on a substrate, disposed in the container for the treatment liquid, treating liquid stored in a container for treatment liquid the liquid surface level and a liquid level detector for detecting the,
前記液面検出器は、光を射出する発光部と、前記処理液用容器に貯留した処理液内に延在され、前記発光部から射出した光を内壁で順次反射させながら先端部に到達させ、この先端部で反射した反射光を内壁で順次反射させながら戻す光ファイバーと、この光ファイバー内壁で反射しながら戻った反射光を検知する受光部とを有することを特徴とする基板処理装置を提供する。 The liquid level detector includes a light emitting portion for emitting light, extending in the processing liquid reserved in container processing liquid inside, to reach the distal end portion while sequentially reflected by the inner wall of the light emitted from the light emitting portion provides an optical fiber for returning while sequentially reflecting the reflected light reflected by the tip in the inner wall, the substrate processing apparatus; and a light receiving unit for detecting the reflected light returned while being reflected by the optical fiber inner wall .

【0016】第8発明は、液体により基板に所定の処理を行った後、その排液を排液用容器内に貯留する処理部と、前記排液用容器に配置され、排液用容器に貯留した排液の液面レベルを検出するための液面検出器とを具備し、前記液面検出器は、光を射出する発光部と、前記容器に貯留した排液内に延在され、前記発光部から射出した光を内壁で順次反射させながら先端部に到達させ、この先端部で反射した反射光を内壁で順次反射させながら戻す光ファイバーと、前記光ファイバーの内壁で反射しながら戻った反射光を検知する受光部とを有することを特徴とする基板処理装置を提供する。 [0016] eighth invention, after performing a predetermined processing on a substrate by a liquid, and a processing unit for storing the waste liquid in the drainage container, the disposed container draining, the container drainage ; and a liquid level detector for detecting the liquid level of the reservoir was drained, the liquid level detector includes a light emitting portion for emitting light, extending in drainage in which stores to the container, It said to reach the distal end portion while sequentially reflected by the inner wall of the light emitted from the light emitting unit, an optical fiber back while sequentially reflected by the inner wall of the reflected light reflected by the tip, reflections back while being reflected by the inner wall of the optical fiber to provide a substrate processing apparatus; and a light receiving unit for detecting the light.

【0017】第9発明は、第7発明または第8発明の基板処理装置において、前記液面検出器は、予め求めた液面レベルと反射光の強度との関係に基づいて、検出した反射光の強度から液面レベルを演算する演算手段を、さらに有することを特徴とする基板処理装置を提供する。 [0017] ninth invention, in the substrate processing apparatus of the seventh invention or the eighth invention, the liquid level detector is based on the relationship between previously determined liquid level and the intensity of the reflected light, detected reflected light calculation means from the intensity of calculating the liquid level, to provide a substrate processing apparatus characterized by further comprising.

【0018】第10発明は、第7発明ないし第9発明のいずれかの基板処理装置において、前記光ファイバーは、その先端部に、光を反射する反射面を有していることを特徴とする基板処理装置を提供する。 The substrate tenth aspect, in any one of the substrate processing apparatus of the seventh aspect to ninth invention, wherein the optical fiber is that at its distal end, characterized in that it has a reflecting surface for reflecting light to provide a processing apparatus.

【0019】第1発明、第2発明および第5発明によれば、発光部から光ファイバーの内壁に向けて光を射出し、光ファイバー内壁で順次反射しながら光ファイバーの先端部に到達させ、この先端部で反射した後、光ファイバー内壁で順次反射しながら戻った反射光を受光部により検知するようにしている。 [0019] The first invention according to the second invention and the fifth invention, the light emitted toward the inner wall of the optical fiber from the light emitting portion, while successively reflected by the optical fiber the inner wall to reach the tip of the optical fiber, the tip in after reflection, and the reflected light returned while successively reflected by the optical fiber the inner wall so as to detect the light receiving unit. 光ファイバーは、一般的には、空気に触れる時と液体に触れる時とでは、その内壁の屈折率が異なっているため、例えば液面レベルが順次降下されるにつれて、液体中に浸っていた光ファイバーの部位が液面に触れ、次いで、空気に触れると、この光ファイバーの部位の内壁では、屈折率が変化し、この屈折率の変化に対応して、光ファイバーの部位の内壁で反射している反射光の強度が変化する。 Fiber is generally in the time to touch when the liquid touches the air, since the different refractive index of the inner wall, for example as liquid level is sequentially lowered, the optical fibers are immersed in a liquid site touches the liquid surface, then, when exposed to air, the inner wall of the portion of the optical fiber, the refractive index varies, in response to a change in the refractive index, the reflected light that is reflected by the inner wall portion of the optical fiber intensity changes of. したがって、液面レベルが変化すると、これに追随して、反射光の強度が変化するため、この反射光の強度を検出することにより、任意の液面レベルを連続的に精度良く検出することができる。 Therefore, when the liquid level changes, by following this, the intensity of the reflected light varies, by detecting the intensity of the reflected light, to be continuously and accurately detect any liquid level it can. これにより、複数の液面を精度良く検出することができるし、液面レベルを連続的にモニターすることも可能である。 Thus, it can be accurately detected a plurality of liquid level, it is also possible to monitor the liquid level continuously. また、第1発明または第2発明に係る液面検出器は、光ファイバーを利用しているため、小型化が可能である。 Further, the liquid level detector according to the first invention or the second invention, since the use of optical fibers, it is possible to miniaturize.

【0020】また、液面レベルと反射光の強度との間には一定の関係があるため、第3発明、第6発明および第9発明によれば、この関係を予め求めておくことにより、反射光の強度から液面レベルを演算することができる。 Further, since there is a certain relationship between the intensity of the liquid level and the reflected light, the third invention, according to the sixth invention and the ninth invention, by previously seeking the relationship in advance, it can be calculated liquid level from the intensity of the reflected light.

【0021】第4発明および第10発明によれば、光ファイバーの先端部に設けられた反射面により、発光部から射出され内壁で反射して先端部に到達した光を反射することができる。 According to a fourth aspect of the present invention and the tenth invention, the reflecting surface provided on the distal end of the optical fiber, and reflected by the inner wall emitted from the light emitting unit is capable of reflecting light reaching the tip.

【0022】第7発明によれば、上記の液面検出器を基板処理装置の処理液用容器内に設けているため、処理液用容器の任意の液面レベルを連続的に精度良く検出することができる。 According to the seventh invention, since the provided above the liquid level detector treatment liquid container of the substrate processing apparatus, continuously and accurately detect any liquid level in the container for treatment liquid be able to. したがって、処理液用容器の複数の液面レベルを精度良く検出することができるし、処理液用容器の液面レベルを連続的にモニターすることも可能である。 Thus, to a plurality of liquid level in the container for the treatment liquid can be accurately detected, it is also possible to monitor the liquid level in the container for treatment liquid continuously.

【0023】第8発明によれば、上記の液面検出器を基板処理装置の排液用容器内に設けているため、排液用容器の任意の液面レベルを連続的に精度良く検出することができる。 According to the eighth invention, since the provided above the liquid level detector drainage container of the substrate processing apparatus, continuously and accurately detect any liquid level in the container for drainage be able to. したがって、排液用容器の複数の液面レベルを精度良く検出することができるし、排液用容器の液面レベルを連続的にモニターすることも可能である。 Thus, to a plurality of liquid level in the container for drainage can be accurately detected, it is also possible liquid level of the container for draining continuously monitored.

【0024】 [0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図に基づいて説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, will be described with reference to FIG embodiments of the present invention. 図1ないし図3は、各々本発明の実施の形態が採用された半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)の塗布・現像処理システムの全体構成の図であって、図1は平面、図2は正面、図3は背面を夫々示している。 1 to 3, each semiconductor wafer in which embodiments of the present invention is employed (hereinafter, referred to as "wafer") with a view of the overall configuration of a coating and developing system of FIG. 1 is a plan, FIG. 2 the front, FIG. 3 shows respectively the back.

【0025】この塗布・現像処理システム1は、図1に示すように、被処理基板としてウエハWをウエハカセットCRで複数枚、例えば25枚単位で外部からシステムに搬入したり、あるいはシステムから搬出したり、ウエハカセットCRに対してウエハWを搬入・搬出したりするためのカセットステーション10と、塗布現像工程の中で1枚ずつウエハWに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置してなる処理ステーション11と、この処理ステーション11に隣接して設けられる露光装置(図示せず)との間でウエハWを受け渡しするためのインターフェース部12とを一体に接続した構成を有している。 [0025] The coating and developing processing system 1, as shown in FIG. 1 unloading a plurality of wafers W in the wafer cassette CR as a substrate to be processed, or carried in from outside the system, for example, 25 sheets units, or from the system or a cassette station 10 to or loading and unloading the wafer W to the wafer cassette CR, a single wafer of various processing units for performing a predetermined process on the wafer W one by one in coating and developing steps a processing station 11 comprising multiple stages arranged at predetermined positions, and connects the interface unit 12 for transferring a wafer W between the processing station exposure apparatus provided adjacent to the 11 (not shown) together It has a configuration.

【0026】前記カセットステーション10では、図1 [0026] In the cassette station 10, FIG. 1
に示すように、カセット載置台20上の位置決め突起2 As shown in, the cassette table 20 positioning projection on 2
0aの位置に、複数個例えば4個までのウエハカセットCRが、夫々のウエハ出入口を処理ステーション11側に向けてX方向に一列に載置され、このカセット配列方向(X方向)およびウエハカセットCR内に収納されたウエハのウエハ配列方向(Z方向:垂直方向)に移動可能なウエハ搬送体21が各ウエハカセットCRに選択的にアクセスするようになっている。 The position of 0a, the wafer cassette CR to a plurality for example, four, toward the wafer transfer ports each processing station 11 side is placed in a line in an X-direction, the cassette array direction (X direction) and the wafer cassette CR wafer arrangement direction of the housing wafers within: the wafer transfer body 21 movable are adapted to selectively access the wafer cassettes CR (Z-direction the vertical direction).

【0027】さらにこのウエハ搬送体21は、θ方向に回転自在に構成されており、後述するように処理ステーション11側の第3の処理ユニット群G 3の多段ユニット部に属するアライメントユニット(ALIM)およびイクステンションユニット(EXT)にもアクセスできるようになっている。 Furthermore the wafer transfer member 21 is configured to be rotatable in θ direction, alignment belonging to the third multi-stage unit of the processing unit group G 3 of the processing station 11 side as described later unit (ALIM) and it has become able to access extension unit (EXT).

【0028】前記処理ステーション11には、図1に示すように、ウエハ搬送装置を備えた垂直搬送型の主ウエハ搬送機構22が設けられ、その周りに全ての処理ユニットが1組または複数の組に亘って多段に配置されている。 [0028] The processing station 11, as shown in FIG. 1, the main wafer transfer mechanism 22 of the vertical conveyor type provided with a wafer transfer device is provided, all the processing units one set or more sets around the They are arranged in multiple stages over by the.

【0029】主ウエハ搬送機構22は、図3に示すように、筒状支持体49の内側に、ウエハ搬送装置46を上下方向(Z方向)に昇降自在に装備している。 The main wafer transfer mechanism 22, as shown in FIG. 3, the inner side of the cylindrical support member 49, and the wafer transfer device 46 is equipped vertically movably in the vertical direction (Z-direction). 筒状支持体49はモータ(図示せず)の回転軸に接続されており、このモータの回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬送装置46と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送装置46は、θ方向に回転自在となっている。 Cylindrical supporter 49 is connected to a rotating shaft of a motor (not shown), by a rotational driving force of the motor, and rotates integrally with the wafer transfer device 46 about said rotation axis, whereby the wafer transfer 46 is rotatable in the θ direction.

【0030】ウエハ搬送装置46は、搬送基台47の前後方向に移動自在な複数本の保持部材48を備え、これらの保持部材48によって各処理ユニット間でのウエハWの受け渡しを実現している。 The wafer transfer device 46 is realized in the longitudinal direction a plurality of holding members 48 movable in the, transfer wafers W between the processing units by these holding members 48 of the transfer base 47 .

【0031】また、図1に示すように、この例では、5 Further, as shown in FIG. 1, in this example, 5
つの処理ユニット群G 1 、G 2 、G 3 、G 4 、G 5が配置可能な構成であり、第1および第2の処理ユニット群G 1 、G 2の多段ユニットは、システム正面(図1において手前)側に配置され、第3の処理ユニット群G 3の多段ユニットはカセットステーション10に隣接して配置され、第4の処理ユニット群G 4の多段ユニットはインターフェース部12に隣接して配置され、第5の処理ユニット群G 5の多段ユニットは背面側に配置されることが可能である。 One of the processing unit groups G 1, G 2, G 3 , G 4, G 5 is capable arrangements, the first and second processing multistage unit of the unit group G 1, G 2, the system front (Fig. 1 in disposed in front) side, the third processing multistage unit of the unit group G 3 is disposed adjacent to the cassette station 10, the multi-stage unit of the fourth processing unit group G 4 is arranged adjacent to the interface section 12 is, the multi-stage units of the fifth processing unit group G 5 is capable of being disposed on the rear side.

【0032】図2に示すように、第1の処理ユニット群G 1では、カップCP内でウエハWをスピンチャックに載せて所定の処理を行う2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット(COT)および現像処理ユニット(DEV)が下から順に2段に重ねられている。 As shown in FIG. 2, the first processing unit group G 1, 2 spinner-type processing units of the wafer W is mounted on a spin chuck performs predetermined processing in a cup CP, for example, a resist coating unit ( COT) and developing unit (DEV) are two-tiered from the bottom in order. 第2の処理ユニット群G 2でも、2台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗布ユニット(CO Second processing even unit group G 2, two spinner-type processing units, for example, a resist coating unit (CO
T)および現像処理ユニット(DEV)が下から順に2 2 in the order from the bottom T) and developing unit (DEV) is
段に重ねられている。 It is superimposed on the stage. これらレジスト塗布ユニット(C These resist coating unit (C
OT)は、レジスト液の排液が機械的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、このように下段に配置するのが好ましい。 OT), since drainage of a resist solution is troublesome in terms of maintenance in mechanical, preferably arranged in this manner in the lower part. しかし、必要に応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。 However, it is of course possible to arrange the appropriate upper needed.

【0033】図3に示すように、第3の処理ユニット群G 3では、ウエハWを載置台SPに載せて所定の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処理を行うクーリングユニット(COL)、レジストの定着性を高めるためのいわゆる疎水化処理を行うアドヒージョンユニット(AD)、位置合わせを行うアライメントユニット(ALIM)、イクステンションユニット(EX As shown in FIG. 3, the third in the processing unit group G 3, oven-type processing units of the wafer W is placed on a mounting table SP performs predetermined processing, for example, a cooling unit (COL) , adhesion unit for performing a so-called hydrophobic treatment for enhancing adhesion of the resist (AD), an alignment unit for performing alignment (ALIM), extension unit (EX
T)、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキングユニット(PREBAKE)および露光処理後の加熱処理を行うポストベーキングユニット(POBAKE)が、下から順に例えば8段に重ねられている。 T), pre-baking unit for performing heat treatment before the exposure processing (post-baking unit for performing heat treatment after PREBAKE) and exposure (POBAKE) has superimposed on order example 8 stages from the bottom.

【0034】第4の処理ユニット群G 4でも、オーブン型の処理ユニット、例えばクーリングユニット(CO [0034] Even the fourth processing unit group G 4, oven-type processing units, for example, a cooling unit (CO
L)、イクステンション・クーリングユニット(EXT L), extension and cooling unit (EXT
COL)、イクステンションユニット(EXT)、クーリングユニット(COL)、プリベーキングユニット(PREBAKE)およびポストベーキングユニット(POBAKE)が下から順に、例えば8段に重ねられている。 COL), an extension unit (EXT), a cooling unit (COL), prebaking units (PREBAKE) and post-baking units (POBAKE) are in the order from the bottom, for example, eight stages.

【0035】このように処理温度の低いクーリングユニット(COL)、イクステンション・クーリングユニット(EXTCOL)を下段に配置し、処理温度の高いベーキングユニット(PREBAKE)、ポストベーキングユニット(POBAKE)およびアドヒージョンユニット(AD)を上段に配置することで、ユニット間の熱的な相互干渉を少なくすることができる。 The low cooling unit of thus treated temperature (COL), the extension and cooling unit (EXTCOL) arranged in the lower part, high baking unit of processing temperature (PREBAKE), postbaking units (POBAKE) and adhesion units (AD) by arranging the upper, it is possible to reduce the thermal interference between units. もちろん、ランダムな多段配置としてもよい。 Of course, it may be a random multi-tiered.

【0036】前記インターフェース部12は、図1に示すように、奥行方向(X方向)については、前記処理ステーション11と同じ寸法を有するが、幅方向についてはより小さなサイズに設定されている。 [0036] The interface unit 12, as shown in FIG. 1, the depth direction (X direction) has the same dimensions as the processing station 11, is set to a smaller size in the width direction WD. そしてこのインターフェース部12の正面部には、可搬性のピックアップカセットCRと、定置型のバッファカセットBRが2 And on the front portion of the interface section 12, a pickup cassette CR portable, stationary buffer cassette BR is 2
段に配置され、他方、背面部には周辺露光装置23が配置され、さらに、中央部には、ウエハ搬送体24が設けられている。 It is arranged on the step, while the peripheral exposure device 23 is disposed in the rear portion, further, the central portion, the wafer transfer body 24 is provided. このウエハ搬送体24は、X方向、Z方向に移動して両カセットCR、BRおよび周辺露光装置2 The wafer transfer body 24, X-direction, both cassettes CR moves in the Z direction, BR and the peripheral exposure apparatus 2
3にアクセスするようになっている。 It is adapted to access to 3. 前記ウエハ搬送体24は、θ方向にも回転自在となるように構成されており、前記処理ステーション11側の第4の処理ユニット群G4の多段ユニットに属するイクステンションユニット(EXT)や、さらには隣接する露光装置側のウエハ受け渡し台(図示せず)にもアクセスできるようになっている。 The wafer transfer body 24 is configured so as also to be rotatable in the θ direction, wherein the processing station 11 side of the fourth processing unit extension units belonging to the multi-stage units of group G4 (EXT) and, more to the wafer delivery table adjacent exposure device side (not shown) it is made accessible.

【0037】また前記塗布・現像処理システム1では、 Further in the coating and developing processing system 1,
図1に示すように、記述の如く主ウエハ搬送機構22の背面側にも破線で示した第5の処理ユニット群G 5の多段ユニットが配置できるようになっているが、この第5 As shown in FIG. 1, although the fifth processing unit group G 5 of the multi-stage unit shown in broken lines in the back side of as described main wafer transfer mechanism 22 is adapted to be placed, the fifth
の処理ユニット群G 5の多段ユニットは、案内レール2 The multi-stage unit of the processing unit group G 5, the guide rail 2
5に沿って主ウエハ搬送機構22からみて、側方へシフトできるように構成されている。 5 viewed from the main wafer transfer mechanism 22 along the, is configured to be shifted laterally. したがって、この第5 Therefore, the fifth
の処理ユニット群G 5の多段ユニットを図示の如く設けた場合でも、前記案内レール25に沿ってスライドすることにより、空間部が確保されるので、主ウエハ搬送機構22に対して背後からメンテナンス作業が容易に行える。 Even when provided as shown multistage unit of the processing unit group G 5 of, by sliding along the guide rail 25, the space portion can be secured, maintenance work from behind the main wafer transfer mechanism 22 It can be easily performed.

【0038】次に、本実施形態における現像処理ユニット(DEV)について説明する。 Next, a description will be given developing unit in the present embodiment (DEV). 図4および図5は、現像処理ユニット(DEV)の全体構成を示す略断面図および略平面図である。 4 and 5 is a schematic plan view schematic sectional view and showing the overall construction of the developing unit (DEV).

【0039】この現像処理ユニット(DEV)の中央部には環状のカップCPが配置され、カップCPの内側にはスピンチャック52が配置されている。 [0039] The central portion of the developing unit (DEV) is disposed a cup CP cyclic, the spin chuck 52 is disposed inside the cup CP. スピンチャック52は真空吸着によってウエハWを固定保持した状態で駆動モータ54によって回転駆動される。 The spin chuck 52 is rotated by a drive motor 54 while fixedly holding the wafer W by vacuum suction. 駆動モータ54は、ユニット底板50の開口に昇降移動可能に配置され、たとえばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材58を介してたとえばエアシリンダからなる昇降駆動手段60および昇降ガイド手段62と結合されている。 Drive motor 54 is disposed vertically movable in the opening of the unit bottom plate 50, is coupled with elevation driving unit 60 and the lifting guide means 62 consisting in e.g. an air cylinder through a cap-shaped flange member 58 made of, for example, aluminum . 駆動モータ54の側面にはたとえばSUSからなる筒状の冷却ジャケット64が取り付けられ、フランジ部材58は、この冷却ジャケット64の上半部を覆うように取り付けられている。 Cylindrical cooling jacket 64 on the side surface composed of, for example, SUS drive motor 54 is mounted, the flange member 58 is attached so as to cover the upper half of the cooling jacket 64.

【0040】現像液塗布時、フランジ部材58の下端は、ユニット底板50の開口の外周付近でユニット底板50に密着し、これによりユニット内部が密閉される。 [0040] During developer coating, the lower end of the flange member 58 is in close contact with the unit bottom plate 50 near the outer periphery of the opening of the unit bottom plate 50, thereby the unit inside is sealed.
スピンチャック52と主ウエハ搬送機構22との間でウエハWの受け渡しが行われる時は、昇降駆動手段60が駆動モータ54ないしスピンチャック52を上方へ持ち上げることでフランジ部材58の下端がユニット底板5 When the wafer W is transferred between the spin chuck 52 and the main wafer transfer mechanism 22, the lower end of the unit bottom plate 5 of the flange member 58 by the elevation driving means 60 lifts the drive motor 54 to spin chuck 52 upward
0から浮くようになっている。 So that the float from 0.

【0041】ウエハWの表面に現像液を供給するための現像液供給ノズル66は、現像液供給管68を介して図示しない現像液供給部に接続されている。 The wafer W developing solution supply nozzle 66 for supplying a developing solution to the surface of the is connected to a developer supply unit (not shown) via a developer supply pipe 68. この現像液供給ノズル66はノズルスキャンアーム70の先端部にノズル保持体76を介して着脱可能に取り付けられている。 The developing solution supply nozzle 66 is detachably attached via a nozzle holder 76 at the tip of the nozzle scan arm 70. このスキャンアーム70は、ユニット底板50の上に一方向(Y方向)に敷設されたガイドレール72上で水平移動可能な垂直支持部材74の上端部に取り付けられており、図示しないY方向駆動機構によって垂直支持部材74と一体にY方向に移動するようになっている。 The scan arm 70 is attached to the upper end of the horizontally movable vertical support members 74 on the guide rails 72 laid in one direction (Y direction) on the unit bottom plate 50, not the Y-direction drive mechanism and moves in the Y direction integrally with the vertical support member 74 by.

【0042】この現像液供給ノズル66は、図5に示すように、ウエハWの径方向に直線状に延ばされており、 [0042] The developing solution supply nozzle 66, as shown in FIG. 5, are extended linearly in the radial direction of the wafer W,
現像液を帯状に噴霧するようになっている。 It is adapted to spray a developing solution to the strip. これにより、現像液の塗布の際には、現像液供給ノズル66から現像液が帯状に噴霧されながら、ウエハWが例えば1回転されることにより、現像液がウエハW全面に塗布される。 Accordingly, when the developer coating, while the developing solution is sprayed on the strip from the developing solution supply nozzle 66, by the wafer W is for example, one revolution, the developing solution is coated on the entire surface of the wafer W. この現像液供給ノズル66は、複数のノズルが並列されたものであってもよく、スリットノズルのようなものであってもよい。 The developing solution supply nozzle 66 may be one in which a plurality of nozzles are parallel, may be as a slit nozzle. なお、現像液供給ノズル66は、これらに限定されるものではなく、他のタイプのものであってもよい。 The developing solution supply nozzle 66 is not limited to these, it may be of other types. また、洗浄液を吐出するためのリンスノズル78が設けられ、このリンスノズル78は、ガイドレール72上をY方向に移動自在に設けられたノズルスキャンアーム79の先端に取り付けられている。 Further, provided rinse nozzle 78 for ejecting a cleaning liquid, the rinsing nozzle 78 is attached to the guide rail 72 on the tip end of the nozzle scan arm 79 provided movably in the Y direction. これにより、現像液による現像処理の終了後、ウエハW上に移動して、洗浄液をウエハWに吐出するようになっている。 Thus, after the completion of the development processing by the developer, and moved onto the wafer W, it is adapted to discharge a cleaning liquid to the wafer W.

【0043】次に、現像処理ユニット(DEV)における現像処理の動作を説明する。 Next, the operation of the development processing in the developing processing unit (DEV). 所定のパターンが露光されポストエクスポージャーベーク処理および冷却処理されたウエハWが、主ウエハ搬送機構22によってカップCPの真上まで搬送され、昇降駆動手段60によって上昇されたスピンチャック52に真空吸着される。 Predetermined pattern is exposed post-exposure baking treatment and cooling the treated wafer W is, the main wafer transfer mechanism 22 is conveyed to just above the cup CP, is vacuum adsorbed on the spin chuck 52 is raised by the lifting drive means 60 . 次いで、現像液供給ノズル66がウエハWの上方に移動し、 Then, the developing solution supply nozzle 66 moves upward the wafer W,
この現像液供給ノズル66から現像液が帯状に噴霧されながら、ウエハWが例えば1回転されることにより、現像液がウエハW全面に例えば1mmの厚みになるように塗布される。 While the developer from the developer supply nozzle 66 is sprayed into the strip, by the wafer W is one rotation e.g., developer liquid is applied so that the thickness of the entire surface of the wafer W, for example 1 mm. その後、ウエハWがスピンチャック52により比較的低速で回転され、現像液が撹拌され、現像処理される。 Thereafter, the wafer W is rotated at a relatively low speed by the spin chuck 52, the developer is agitated, are developed. 現像処理が終了すると、現像液供給ノズル6 When the development process is finished, the developing solution supply nozzle 6
6および撹拌部材106が退避位置に移動される。 6 and agitation member 106 is moved to the retracted position.

【0044】次いで、ウエハWがスピンチャック52により回転されて現像液が振り切って捨てられる。 [0044] Then, the wafer W is discarded developer is rotated shaken off by the spin chuck 52. その後、リンスノズル78がウエハWの上方に移動され、リンスノズル78から洗浄液が吐出されてウエハW上に残存する現像液が洗い流される。 Thereafter, the rinse nozzle 78 is moved above the wafer W, a developing solution remaining on the wafer W with the cleaning liquid is discharged from the rinse nozzle 78 is washed away. 次いで、スピンチャック52が高速で回転され、ウエハW上に残存する現像液および洗浄液が吹き飛ばされてウエハWが乾燥される。 Then, the spin chuck 52 is rotated at a high speed, developer and the washing liquid remaining on the wafer W is blown wafer W is dried. これにより、一連の現像処理が終了する。 Thus, a series of development processing ends.

【0045】次に、本発明の実施の形態に係る液面検出センサーを図6ないし図8を参照しつつ説明する。 Next, explaining the liquid level detection sensor according to the embodiment of the present invention with reference to FIGS. 図6 Figure 6
は、本発明の実施の形態に係る液面検出センサーの断面図であり、図7は、図6に示した液面検出センサーを装着した現像液供給タンクの断面図であり、図8は、図6 Is a cross-sectional view of a liquid level detection sensor according to an embodiment of the present invention, FIG. 7 is a sectional view of the developer supply tank fitted with a liquid level detection sensor shown in FIG. 6, FIG. 8, Figure 6
に示した液面検出センサーを夫々装着した二つの排液タンクの断面図である。 It is a cross-sectional view of the two drainage tank the liquid level detection sensor shown were respectively attached to.

【0046】図4に示した現像処理ユニット(DEV) The development processing unit shown in FIG. 4 (DEV)
においては、ウエハWの表面に現像液を供給するための現像液供給ノズル66は、現像液供給管68を介して、 In the developing solution supply nozzle 66 for supplying a developing solution to the surface of the wafer W is through the developing solution supply pipe 68,
図7に示すような現像液供給タンク91に接続されており、環状のカップCPの下方に設けられて排液を排出するためのドレン通路65は、図8に示すような排液用タンク92に接続されている。 Is connected to a developer supply tank 91, as shown in FIG. 7, the drain passage 65 for discharging the drainage provided below the annular cup CP is drainage tank 92 as shown in FIG. 8 It is connected to the.

【0047】本実施の形態に係る液面検出センサー80 The liquid level detection sensor 80 according to this embodiment
には、図6に示すように、光を射出するための発光部8 The, as shown in FIG. 6, the light emitting unit 8 for emitting light
1と光を受けて検知するための受光部82とを有するセンサー本体83が設けられている。 1 and the sensor body 83 and a light receiving portion 82 for detecting and receiving light is provided. このセンサー本体8 The sensor body 8
3から光ファイバー84が延在されており、この先端部には、反射面85が設けられている。 3 and the optical fiber 84 is extended from this tip, the reflection surface 85 is provided. この光ファイバー84は、例えば−40℃〜+200℃の耐熱性を有している。 The optical fiber 84 has, for example, a heat resistance of -40 ℃ ~ + 200 ℃.

【0048】この液面検出センサー80では、発光部8 [0048] In the liquid level detection sensor 80, the light emitting unit 8
1から光ファイバー84のの内壁に向けて光が射出され、光ファイバー84の内壁で順次反射されて、光ファイバー84の先端部の反射面85に到達される。 Light toward the 1 on the inner wall of the optical fiber 84 is emitted, are sequentially reflected by the inner wall of the optical fiber 84, it is reached the reflective surface 85 of the tip portion of the optical fiber 84. この反射面85で反射された反射光は、光ファイバー84の内壁で順次反射して戻されて、受光部82により検知される。 Light reflected by the reflecting surface 85 is returned sequentially reflected by the inner wall of the optical fiber 84, it is detected by the light receiving unit 82.

【0049】光ファイバー84は、一般的には、空気に触れる時と液体に触れる時とでは、光ファイバー84の内壁の屈折率が異なっている。 The optical fiber 84 is generally in the time to touch when the liquid touches the air, the refractive index of the inner wall of the optical fiber 84 is different. そのため、例えば液面レベルが順次降下される場合について説明すると、液面レベルが順次降下されるにつれて、液体中に浸っていた光ファイバー84の部位が液面に触れ、次いで、空気に触れると、光ファイバー84の部位の内壁では、屈折率が変化し、この屈折率の変化に対応して、光ファイバー8 For that reason, for example, description will be given of a case where the liquid level is sequentially lowered as the liquid level is sequentially lowered, the site of the optical fiber 84 which has been immersed in the liquid touches the liquid surface, then, when exposed to air, the optical fiber the inner wall of the 84 sites, the refractive index varies, in response to a change in the refractive index, the optical fiber 8
4の部位の内壁で反射した反射光の強度が変化する。 The intensity of the reflected light reflected by the inner wall of the 4 sites changes.

【0050】このように、液面レベルが変化すると、これに追随して反射光の強度が変化するため、この反射光の強度を受光部82により検知することにより、任意の液面レベルを連続してアナログ的に検出することができる。 [0050] Continuous Thus, when the liquid level changes, to changes in intensity of the reflected light following the this, by detecting the intensity of the reflected light by the light receiving section 82, any liquid level it can be detected in an analog manner by.

【0051】この場合に、この液面レベルと反射光の強度との関係には、一定の関係があるため、この関係を予めキャリブレーションして、その結果をメモリー86に記憶させておき、そのキャリブレーション結果に基づいて、受光部82で検知された反射光の強度から、CPU [0051] In this case, the relationship between the liquid level and the intensity of the reflected light, because there is a certain relationship, this relationship is previously calibrated, may be stored the result in the memory 86, the based on the calibration result, the intensity of reflected light detected by the light receiving unit 82, CPU
等の演算部87により液面レベルを演算することができる。 The arithmetic unit 87 and the like can be calculated liquid level.

【0052】この際、反射光強度の変化は、液面レベルの変化に対応したナログ値として検出されるため、検知信号はA/D変換された後、レベル分割されて、演算部87により演算される。 [0052] At this time, the change in the reflected light intensity to be detected as analog value corresponding to the change in the liquid level, the detection signal is converted A / D, is level split, calculated by the arithmetic unit 87 It is. そして、演算部87からの液面レベル信号は、各種処理ユニットのユニットコントローラに入力される。 The liquid level signals from the calculating unit 87 is inputted to the unit controller of the various processing units.

【0053】図7に示すように、現像液供給タンク90 [0053] As shown in FIG. 7, the developer supply tank 90
には、現像液供給ノズル66に接続された現像液供給管68が接続されており、この現像液供給管68は、途中にポンプ88を有しているとともに、現像液供給タンク90内に挿入されている。 The developing solution and the developing solution supply pipe 68 connected is connected to the supply nozzle 66, the developer supply pipe 68, together we have a pump 88 in the middle, inserting the developer supply tank 90 It is. これにより、ポンプ88が駆動されて、現像液供給タンク90内の現像液が現像液供給管68を介して現像液供給ノズル66に給送されるようになっている。 Thus, the pump 88 is driven, the developer of the developer supply tank 90 is adapted to be fed to the developing solution supply nozzle 66 via a developer supply pipe 68. また、現像液を現像液供給タンク90 The developing a developer solution supply tank 90
内に導入するための導入管89が設けられている。 The introduction pipe 89 for introducing disposed within.

【0054】この現像液供給タンク91に、上述した液面検出センサー80が装着されている。 [0054] In this developing solution supply tank 91, liquid level detection sensor 80 described above is mounted. そのため、例えば、現像液供給管68により現像液が給送されて、現像液供給タンク90内に残存した現像液が少なくなってくると、液面検出センサー80により、低位の液面レベル(L)が検出される。 Therefore, for example, the developing solution is fed by a developing solution supply pipe 68, the developer remaining in the developer supply tank 90 is becomes smaller, the liquid level detection sensor 80, low liquid level (L ) is detected. また、導入管87により導入された現像液で現像液供給タンク91内が満杯近くなってくると、液面検出センサー80により、高位の液面レベル(H)が検出される。 Further, when the developer in the supply tank 91 becomes close to full the introduced developer by inlet tube 87, the liquid level detection sensor 80, the high liquid level (H) is detected. このように、本実施の形態では、 Thus, in this embodiment,
一つの液面検出センサーにより、複数箇所の液面レベルを検出することができる。 By one of the liquid level detection sensor can detect the liquid level of the plurality of locations.

【0055】また、本実施の形態では、液面検出センサー80は、液面に応じて検知する光強度が変化するため、任意の液面レベルを検出することができ、しかも連続して検出することができるため、予め定めた液面レベル(L,H)だけでなく、常時液面レベルをモニターすることもできる。 [0055] Further, in the present embodiment, the liquid surface detection sensor 80, the light intensity for detecting in response to the liquid level is changed, it is possible to detect any liquid level, yet continuously detects it is possible, not only predetermined liquid level (L, H), can also be monitored constantly fluid level. これら検出された液面レベルの信号は、現像処理ユニット(DEV)のユニットコントローラに送られ、この信号に基づいて、現像液供給タンク9 These detected liquid level of the signal is sent to the unit controller of the developing unit (DEV), on the basis of this signal, the developer supply tank 9
0への現像液の供給が制御される。 The supply of the developing solution to 0 is controlled.

【0056】さらに、この液面検出センサー80は、光ファイバー84を利用していることから、小型であり、 [0056] Further, the liquid level detection sensor 80, since it utilizes the optical fiber 84 is small,
耐熱性を有するため、現像液供給タンク91での装着等に関し、極めて操作性が良好である。 Because a heat-resistant relates mounted such in the developing solution supply tank 91, it is very operability excellent.

【0057】なお、図7に示した例では、現像液供給タンク90は、一つしか設けられていないが、二つの現像液供給タンク90を設け、現像液供給管68の途中に三方弁等の切換弁を設け、一方のタンク90の現像液が空になった場合に、他方のタンク90から現像液が供給されるように構成されていてもよい。 [0057] In the example shown in FIG. 7, the developer supply tank 90 is only provided one, provided the two developer supply tank 90, a three-way valve or the like in the middle of the developer supply pipe 68 a switching valve provided, when the developer of one of the tank 90 is empty, it may be configured such that the developer is supplied from the other tank 90.

【0058】次に、排液系について説明すると、図8に示すように、排液を排出するためのドレン通路65には、三方切換弁88が設けられ、この三方切換弁88から二つの排液用タンク92に、二つの排出管91が接続されている。 Next, to describe the drainage system, as shown in FIG. 8, the drain passage 65 for discharging the drainage is three-way valve 88 is provided, the exhaust from the three-way valve 88 of the two a liquid tank 92, two exhaust pipes 91 are connected. 二つの排液用タンク92には、それぞれ、 The two drainage tank 92, respectively,
液面検出センサー80が装着されている。 Liquid level detection sensor 80 is mounted.

【0059】したがって、ドレン通路65から三方弁8 [0059] Thus, the three-way valve from the drain passage 65 8
8および排出管89を介して、一方の排液用タンク92 8 and through the discharge pipe 89, tank 92 for one drainage
に排液が導入され、この排液用タンク92が満杯近くになると、液面検出センサー80により高位の液面レベル(H)が検出され、この高位の液面レベル(H)の信号は、現像処理ユニット(DEV)のユニットコントローラに送られる。 Drainage is introduced, when the drainage tank 92 is near full, high liquid level (H) is detected by the liquid level detection sensor 80, the signal of the high level of the liquid surface level (H) is, It is sent to the unit controller of the developing unit (DEV). これにより、タンク切換の警報等がなされるとともに、三方切換弁88が切換られて、排液は、 Thus, the alarm or the like of the tank switching is performed, the three-way selector valve 88 is switched, drainage is
他方の排液用タンク92に導入される。 Is introduced to the other drainage tank 92. また、液面レベルがさらに高位の液面レベル(HH)になった時、この液面レベル(HH)が検出されて、排液用タンク92が略満杯であるとの警報等が発せられるように構成されていてもよい。 Further, when it becomes liquid level further high liquid level (HH), the liquid level (HH) is detected, so that the alarm or the like of the drainage tank 92 is substantially full is issued it may be configured to.

【0060】また、この場合にも、液面検出センサー8 [0060] In addition, also in this case, the liquid level detection sensor 8
0は、液面レベルを任意に連続して検出できるため、所定の液面レベル(H,HH)だけでなく、常時液面レベルをモニターすることもできる。 0, it is possible to detect continuously liquid level arbitrarily, not only a predetermined liquid level (H, HH), can also be monitored constantly fluid level.

【0061】なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々の変形が可能である。 [0061] The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible. 例えば、上記実施の形態では、液面検出器(センサー)は、現像処理ユニットに適用されているが、これに限定されず、塗布処理ユニット等の他の基板処理装置であってもよい。 For example, in the above embodiment, the liquid level detector (sensor) has been applied to the developing unit is not limited to this and may be another substrate processing apparatus such as coating unit. さらに、上記実施の形態では、半導体ウエハ用の塗布・現像処理システムについて説明したが、半導体ウエハ以外の他の被処理基板、例えばLCD基板用の塗布・現像処理システムにも本発明を適用できる。 Furthermore, in the above embodiment has been described coating and developing processing system for semiconductor wafers, other target substrate other than the semiconductor wafer, for example, in the coating and developing system for an LCD substrate can be applied to the present invention. さらにまた、本発明の液面検出器は基板処理装置以外に適用することもできる。 Furthermore, the liquid level detector of the present invention can also be applied to other substrate processing apparatuses.

【0062】 [0062]

【発明の効果】以上説明したように、第1発明、第2発明および第5発明によれば、発光部から光ファイバーの内壁に向けて光を射出し、光ファイバー内壁で順次反射しながら光ファイバーの先端部に到達させ、この先端部で反射した後、光ファイバー内壁で順次反射しながら戻った反射光を受光部により検知するようにしており、空気に触れる時と液体に触れる時とにおける光ファイバーの内壁の屈折率が異なることを利用し、液面レベルが変化した際の反射光の強度を検出することにより、任意の液面レベルを連続的に精度良く検出することができる。 As described above, according to the present invention, the first invention according to the second invention and the fifth invention, the light emitted toward the light emitting portion on the inner wall of the optical fiber, the optical fiber while sequentially reflected by the optical fiber inner wall tip to reach the part, this was reflected at the tip, the reflected light returned while successively reflected by the optical fiber the inner wall and so as to detect the light receiving portion, the optical fibers of the inner wall in the case of touch when the liquid touches the air by utilizing the fact that the refractive index is different, by detecting the intensity of the reflected light when the liquid level changes, it is possible to continuously and accurately detect any liquid level.
したがって、複数の液面を精度良く検出することができるし、湯面レベルを連続的にモニターすることも可能である。 Therefore, it can be accurately detected a plurality of liquid level, it is possible to continuously monitor the bath level level. また、第1発明または第2発明に係る液面検出器は、光ファイバーを利用しているため、小型化が可能である。 Further, the liquid level detector according to the first invention or the second invention, since the use of optical fibers, it is possible to miniaturize.

【0063】第3発明、第6発明および第9発明によれば、液面レベルと反射光の強度との関係を予め求めておくことにより、反射光の強度から液面レベルを容易に演算することができる。 [0063] The third invention according to the sixth invention and the ninth invention, by previously obtained the relationship between the intensity of the liquid level and the reflected light, easily calculating the liquid level from the intensity of the reflected light be able to.

【0064】第7発明によれば、上記の液面検出器を基板処理装置の処理液用容器内に設けているため、処理液用容器内の任意の液面レベルを連続的に精度良く検出することができる。 [0064] According to the seventh aspect, since the provided above the liquid level detector treatment liquid container of the substrate processing apparatus, continuously and accurately detect any liquid level of the treatment liquid container can do. したがって、処理液用容器内の複数の液面レベルを精度良く検出することができるし、処理液用容器内の湯面レベルを連続的にモニターすることも可能である。 Thus, to a plurality of liquid level of the treatment liquid vessel can be accurately detected, it is also possible to melt surface level of the processing liquid container is continuously monitored.

【0065】第8発明によれば、上記の液面検出器を基板処理装置の排液用容器内に設けているため、排液用容器内の任意の液面レベルを連続的に精度良く検出することができる。 [0065] According to the eighth invention, since the provided above the liquid level detector drainage container of the substrate processing apparatus, continuously and accurately detect any liquid surface level of the liquid discharge container can do. したがって、排液用容器内の複数の液面レベルを精度良く検出することができるし、排液用容器内の湯面レベルを連続的にモニターすることも可能である。 Thus, to a plurality of liquid level of the liquid discharge container can be accurately detected, it is also possible to hot water level in the drainage container is continuously monitored.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の一実施の形態である半導体ウエハの塗布現像処理システムの全体構成の平面図。 Plan view of the overall configuration of a semiconductor wafer coating and developing processing system according to an embodiment of the present invention; FIG.

【図2】図1に示す塗布現像処理システムの正面図。 Figure 2 is a front view of the coating and developing processing system shown in FIG.

【図3】図1に示す塗布現像処理システムの背面図。 Figure 3 is a rear view of the coating and developing processing system shown in FIG.

【図4】図1に示した塗布現像処理システムに装着した現像処理ユニットの全体構成の断面図。 4 is a cross-sectional view of the overall configuration of a developing unit mounted on the coating and developing processing system shown in FIG.

【図5】図4に示した現像処理ユニットの平面図。 FIG. 5 is a plan view of the developing unit shown in FIG.

【図6】本発明の実施の形態に係る液面検出器(センサー)の断面図である。 6 is a cross-sectional view of a liquid level detector according to the embodiment of the present invention (sensor).

【図7】図6に示した液面検出センサーを装着した処理液用タンクの断面図である。 7 is a cross-sectional view of a processing liquid tank equipped with a liquid level detection sensor shown in FIG.

【図8】図6に示した液面検出センサーを夫々装着した二つの排液用タンクの断面図である。 8 is a cross-sectional view of the two liquid discharge tank for the liquid level detection sensor shown were respectively mounted in FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

65;ドレン通路 68;現像液供給管 80;液面検出器(センサー) 81;発光部 82;受光部 83;センサー本体 84;光ファイバー 85;反射面 86;ポンプ 87;導入管 88;三方切換弁 89;排出管 91;現像液供給タンク(処理液用容器) 92;排液用タンク(排液用容器) 65; drain passage 68; developer supply pipe 80; a liquid level detector (sensor) 81; emission unit 82; light-receiving unit 83; sensor body 84; an optical fiber 85; reflecting surface 86; pump 87; inlet tube 88; the three-way selector valve 89; discharge pipe 91; (container treatment liquid) developer supply tank 92; drainage tank (container drainage)

Claims (10)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 容器に貯留した液体内に延在させた光ファイバーに発光部から光を射出し、光ファイバーの先端部で反射した反射光を受光部により検知して、容器内の液面レベルを検出する液面検出器において、 前記発光部から光ファイバーの内壁に向けて光を射出し、光ファイバー内壁で順次反射させながら光ファイバーの先端部に到達させ、この先端部で反射した後、光ファイバー内壁で順次反射しながら戻った反射光を前記受光部により検知することを特徴とする液面検出器。 1. A emitted a light from the light emitting portion in optical fibers extend into the liquid stored in the container, the light reflected at the tip of the optical fiber is detected by the light receiving unit, the liquid level in the vessel in the liquid level detector for detecting the light emitted toward the inner wall of the optical fiber from the light emitting unit, while sequentially reflected by the optical fiber the inner wall to reach the tip of the optical fiber, after being reflected by the tip portion, sequentially in an optical fiber inner wall liquid level detector and detecting the reflected light returned while being reflected by the light receiving unit.
  2. 【請求項2】 容器に貯留された液体の液面レベルを検出するための液面検出器であって、 光を射出する発光部と、 前記容器に貯留された液体内に延在され、前記発光部から射出した光を内壁で順次反射させながら先端部に到達させ、この先端部で反射した反射光を内壁で順次反射させながら戻す光ファイバーと、 前記光ファイバーの内壁で反射しながら戻った反射光を検知する受光部とを具備することを特徴とする液面検出器。 2. A liquid level detector for detecting the liquid level of the liquid stored in the container, a light emitting unit which emits light, is extended into the liquid stored in the container, wherein the light emitted from the light emitting unit to reach the distal end portion while sequentially reflected by the inner wall, and an optical fiber back while sequentially reflected by the inner wall of the reflected light reflected by the tip, the reflected light returned while being reflected by the inner wall of the optical fiber liquid level detector, characterized by comprising a light receiving unit for detecting a.
  3. 【請求項3】 予め求めた液面レベルと反射光の強度との関係に基づいて、検出した反射光の強度から液面レベルを演算する演算手段をさらに具備することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液面検出器。 Based on wherein previously obtained relationship between the liquid level and the intensity of the reflected light, according to claim 1, wherein, further comprising a calculating means from the intensity of the detected reflected light to calculate the liquid level or liquid level detector according to claim 2.
  4. 【請求項4】 前記光ファイバーは、その先端部に、光を反射する反射面を有していることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の液面検出器。 Wherein said optical fiber has at its tip, the liquid level detector according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it has a reflecting surface that reflects light.
  5. 【請求項5】 容器に貯留した液体内に延在させた光ファイバーに発光部から光を射出し、光ファイバーの先端部で反射した反射光を受光部により検知して、容器内の液面レベルを検出する液面検出方法において、 前記発光部から光ファイバーの内壁に向けて光を射出し、光ファイバー内壁で順次反射させながら光ファイバーの先端部に到達させ、この先端部で反射した後、光ファイバー内壁で順次反射させながら戻った反射光を前記受光部により検知することを特徴とする液面検出方法。 5. emitted light from the light emitting portion in optical fibers extend into the liquid stored in the container, the light reflected at the tip of the optical fiber is detected by the light receiving unit, the liquid level in the vessel in the liquid level detecting method for detecting the light emitted toward the inner wall of the optical fiber from the light emitting unit, while sequentially reflected by the optical fiber the inner wall to reach the tip of the optical fiber, after being reflected by the tip portion, sequentially in an optical fiber inner wall liquid level detecting method and detecting the reflected light returned while reflected by the light receiving unit.
  6. 【請求項6】 予め求めた液面レベルと反射光の強度との関係に基づいて、検出した反射光の強度から液面レベルを求めることを特徴とする請求項5に記載の液面検出方法。 Based on the relationship between 6. previously determined liquid level and the intensity of the reflected light, the liquid level detection method according to claim 5, the detected intensity of the reflected light and obtaining the liquid level .
  7. 【請求項7】 処理液用容器に貯留した処理液を用いて、基板に所定の処理を行う処理部と、 前記処理液用容器に配置され、処理液用容器に貯留した処理液の液面レベルを検出するための液面検出器とを具備し、 前記液面検出器は、 光を射出する発光部と、 前記処理液用容器に貯留した処理液内に延在され、前記発光部から射出した光を内壁で順次反射させながら先端部に到達させ、この先端部で反射した反射光を内壁で順次反射させながら戻す光ファイバーと、 この光ファイバー内壁で反射しながら戻った反射光を検知する受光部とを有することを特徴とする基板処理装置。 7. Using the pooled treatment liquid in the container for treatment liquid, a processing unit for performing predetermined processing on a substrate, disposed in the container for the treatment liquid, the liquid level of the treating liquid stored in a container for treatment liquid ; and a liquid level detector for detecting the level, the liquid level detector includes a light emitting portion for emitting light, extending in the processing liquid processing solution in which stores to the vessel, from the light emitting portion to reach the exit to tip while sequentially reflected by the inner wall of the light was, detects an optical fiber back while sequentially reflected by the inner wall of the reflected light reflected by the tip, the reflected light returned while being reflected by the optical fiber inner wall receiving the substrate processing apparatus characterized by having a part.
  8. 【請求項8】 液体により基板に所定の処理を行った後、その排液を排液用容器内に貯留する処理部と、 前記排液用容器に配置され、排液用容器に貯留した排液の液面レベルを検出するための液面検出器とを具備し、 前記液面検出器は、 光を射出する発光部と、 前記容器に貯留した排液内に延在され、前記発光部から射出した光を内壁で順次反射させながら先端部に到達させ、この先端部で反射した反射光を内壁で順次反射させながら戻す光ファイバーと、 前記光ファイバーの内壁で反射しながら戻った反射光を検知する受光部とを有することを特徴とする基板処理装置。 8. After the predetermined processing on a substrate by a liquid, and a processing unit for storing the waste liquid in the drainage container is disposed in the container for the drainage, waste was stored in the container for drainage ; and a liquid level detector for detecting the liquid level of the liquid, the liquid level detector includes a light emitting portion for emitting light, extending in drainage in which stores to the container, the light emitting portion to reach the distal end portion while sequentially reflected by the inner wall of the light emitted from the detection and the optical fiber back while sequentially reflected by the inner wall of the reflected light reflected by the tip, the reflected light returned while being reflected by the inner wall of the optical fiber the substrate processing apparatus characterized by having a receiving section for.
  9. 【請求項9】 前記液面検出器は、予め求めた液面レベルと反射光の強度との関係に基づいて、検出した反射光の強度から液面レベルを演算する演算手段を、さらに有することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の基板処理装置。 Wherein said liquid level detector, based on a relationship between the previously determined liquid level and the intensity of the reflected light, the operation means from the intensity of the detected reflected light to calculate the liquid level, further comprising the substrate processing apparatus according to claim 7 or claim 8, characterized in.
  10. 【請求項10】 前記光ファイバーは、その先端部に、 Wherein said optical fiber has at its tip,
    光を反射する反射面を有していることを特徴とする請求項7ないし請求項9のいずれか1項に記載の基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to any one of claims 7 to 9, characterized in that it has a reflecting surface that reflects light.
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