JPH11256346A - Formation of partial plating film - Google Patents

Formation of partial plating film

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JPH11256346A
JPH11256346A JP5523898A JP5523898A JPH11256346A JP H11256346 A JPH11256346 A JP H11256346A JP 5523898 A JP5523898 A JP 5523898A JP 5523898 A JP5523898 A JP 5523898A JP H11256346 A JPH11256346 A JP H11256346A
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JP
Japan
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plating film
film
coating
substrate
target portion
Prior art date
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JP5523898A
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Japanese (ja)
Inventor
Riyuuichi Adachi
▲りゅう▼一 安達
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OSAKA SHINKU KAGAKU KK
Original Assignee
OSAKA SHINKU KAGAKU KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a partial plating film capable of forming a plating film only on the part requiring plating in the surface of a substrate made of resin by using a resin plating method without depending on a vacuum deposition method. SOLUTION: In the method for forming a partial plating film where, of the surface of a substrate 1 made of resin having an objective part A to be subjected to plating, only on the surface of the objective part A, a plating film is formed, a chemical plating film 10 is formed on the surface of the substrate 1, next, an electrode is applied (erectrically energized) to a part B other than the objective part A to form an electrical plating film 11 on the surface of the chemical plating film 10, thereafter the objective part A is covered by a covering means 12, then, the substrate 1 is subjected to etching treatment, and only the chemical plating film 10 and electrical plating film 11 of the objective part A are made left.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂製の基体の表
面のうち、メッキを必要とする部分にのみメッキ皮膜を
形成する部分メッキ皮膜形成方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a partial plating film on a surface of a resin substrate, which requires plating only on a portion of the substrate that requires plating.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、家電製品、特に携帯用電気製品に
あっては、製品の付加価値を高めるべく、装置の軽量化
が要請されており、樹脂製の部品が多用されるようにな
った。
2. Description of the Related Art In recent years, in the case of home electric appliances, particularly portable electric appliances, the weight of the apparatus has been required to increase the added value of the products, and resin parts have been used frequently. .

【0003】これら樹脂製の部品のうち、図2に示すも
のは、基体1 の本体部1aから延設された複数の可撓部1
b, …に柱状の操作ボタン1c, …を備えた部品であり、
装置の操作部に組付けられるものである。即ち、該部品
を装置に組み付けた状態で操作ボタン1c, …のみが装置
の操作部から外部に臨出するよう構成され、装置の使用
者はこの操作ボタン1c, …を押圧することで装置の操作
を行うのである。
[0003] Of these resin parts, the one shown in FIG. 2 includes a plurality of flexible parts 1 extending from a main body 1 a of a base 1.
b,… is a part with columnar operation buttons 1c,…
It is attached to the operation unit of the device. That is, only the operation buttons 1c,... Are exposed to the outside from the operation unit of the apparatus in a state where the parts are assembled to the apparatus, and the user of the apparatus presses the operation buttons 1c,. Perform the operation.

【0004】そして、このような部品においては、操作
ボタン1c, …が外部から視認されるものであるため、操
作ボタン1c, …にメッキ処理を施し、装飾効果を高める
ことが一般的に行われているが、このメッキ処理の際の
留意点としては、使用者に帯電した静電気等がメッキ層
を介して装置内部へ導通し、電子部品が破損するのを防
止すべく、操作ボタン1c, …の表面にのみ部分的にメッ
キ処理を施す必要があることが挙げられる。
In such components, since the operation buttons 1c,... Are visible from the outside, it is common practice to apply a plating process to the operation buttons 1c,. However, a point to be noted in the plating process is that the operation buttons 1c,... Are prevented in order to prevent static electricity and the like charged to the user from being conducted to the inside of the apparatus through the plating layer and damaging the electronic components. Need only be partially plated on the surface.

【0005】そこで、従来より、部分的にメッキ処理を
施す方法として真空蒸着法、スパッタ法が使用されてき
た。
Therefore, conventionally, a vacuum deposition method and a sputtering method have been used as a method of partially plating.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
真空蒸着法等にあっては、樹脂製の基体1 に対する皮膜
の付着性が悪いため、蒸着処理を施すに先立って操作ボ
タン1cの表面を下地塗装する必要があるが、この下地塗
装のために、ヘヤライン、ダイヤカット、サンドブラス
ト等により構成された操作ボタン1cの表面模様が消失
し、操作ボタン1cの表面が呈する外観美が喪失するとい
う問題があった。
However, in the above-mentioned vacuum evaporation method and the like, the adhesion of the film to the resin base 1 is poor. It is necessary to paint, but due to this base coating, the surface pattern of the operation button 1c composed of hairline, diamond cut, sand blast etc. disappears, and the problem that the appearance of the surface of the operation button 1c is lost is lost. there were.

【0007】しかも、蒸着メッキ皮膜は摩擦に対する強
度が低いために、装置の使用により蒸着メッキ皮膜の剥
離が生じるという問題もあった。
Further, since the vapor-deposited plating film has low strength against friction, there is a problem that the vapor-deposited plating film is peeled off by using the apparatus.

【0008】かかる問題を解決するために、下地塗装を
必要とせず、摩擦に対する強度が強い樹脂メッキ法(樹
脂製の基体に化学メッキ処理を施した後、その上から電
気メッキ処理を施す方法)を採用することも可能である
が、かかる方法にあっては、複数の操作ボタン1c, …を
個別的にメッキ処理する必要があるため、作業が非常に
煩雑になるという問題がある。
In order to solve such a problem, a resin plating method which does not require a base coat and has a high strength against friction (a method in which a resin substrate is subjected to a chemical plating process and then subjected to an electroplating process). However, such a method has a problem that the operation becomes very complicated since it is necessary to individually plate the plurality of operation buttons 1c,....

【0009】しかも、電気メッキを施すに際しては、夫
々の操作ボタン1cに電極を当てて電気導通する必要があ
るが、この電極によりメッキ皮膜に傷が残り、この部
品、ひいてはこの部品を組付けた装置の商品価値を落と
すこととなるという問題もある。
Furthermore, when performing electroplating, it is necessary to apply an electrode to each of the operation buttons 1c for electrical conduction. However, the electrode leaves a scratch on the plating film, and this part, and eventually this part, is assembled. There is also a problem that the commercial value of the device is reduced.

【0010】そこで、本発明は上記の如き問題点に鑑み
てなされたもので、真空蒸着法等によらず、樹脂メッキ
法を用いて、樹脂製の基体の表面のうち、メッキを必要
とする部分にのみメッキ皮膜を形成することができる部
分メッキ皮膜形成方法を提供することを課題とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and requires plating on the surface of a resin substrate using a resin plating method without using a vacuum deposition method or the like. It is an object of the present invention to provide a partial plating film forming method capable of forming a plating film only on a part.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る部分メッキ皮膜形成方法は、メッキ処
理すべき対象部位A を有した樹脂製の基体1 の、該対象
部位A 表面にのみメッキ皮膜を形成する部分メッキ皮膜
形成方法において、前記基体1 の表面に化学メッキ皮膜
10を形成し、次に対象部位A 以外の部位B を印加して化
学メッキ皮膜10の表面に電気メッキ皮膜11を形成した
後、前記対象部位A を被覆手段12により被覆し、次に前
記基体1 をエッチング処理して、被覆された対象部位A
の化学メッキ皮膜10及び電気メッキ皮膜11のみを残存さ
せることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for forming a partial plating film according to the present invention is directed to a method for forming a partial plating film on a surface of a resin base 1 having a target portion A to be plated. In the method of forming a partial plating film only in which a plating film is formed only on the surface of the
After forming the electroplating film 11 on the surface of the chemical plating film 10 by applying a site B other than the target site A, the target site A is covered by the coating means 12, and then the substrate 1 is etched to cover the target area A
Characterized in that only the chemical plating film 10 and the electroplating film 11 are left.

【0012】上記構成からなる部分メッキ皮膜形成方法
は、まず、基体1 に化学メッキ処理を施して、基体1 上
の対象部位A と該対象部位A 以外の部位B とに化学メッ
キ皮膜10を形成する。
In the method for forming a partial plating film having the above structure, first, a chemical plating treatment is applied to the substrate 1 to form a chemical plating film 10 on a target portion A on the substrate 1 and a portion B other than the target portion A. I do.

【0013】次に、対象部位A 以外の部位B に電極を当
てて印加(電気導通)して、基体1に電気メッキ処理を
施し、化学メッキ皮膜10の表面に電気メッキ皮膜11を形
成する。
Next, an electrode is applied to a portion B other than the target portion A and applied (electrical conduction), and the base 1 is subjected to an electroplating process to form an electroplating film 11 on the surface of the chemical plating film 10.

【0014】しかる後、前記対象部位A を被覆手段12に
より被覆して、対象部位A の電気メッキ皮膜11の表面を
保護する。
Thereafter, the target portion A is covered with the coating means 12 to protect the surface of the electroplating film 11 at the target portion A.

【0015】そして、最後に基体1 をエッチング処理す
ることで、被覆された対象部位A 以外の部位B の化学メ
ッキ皮膜10及び電気メッキ皮膜11を溶解し、被覆された
対象部位A の化学メッキ皮膜10及び電気メッキ皮膜11の
みを残存させる。
Finally, the substrate 1 is subjected to an etching treatment to dissolve the coated chemical plating film 10 and the electroplated film 11 on the portion B other than the target portion A, and to cover the coated chemical plating film on the target portion A. Only 10 and the electroplating film 11 are left.

【0016】また、基体1 上に対象部位A が複数箇所存
在する場合には、まず、基体1 に化学メッキ処理を施し
て、基体1 上の対象部位A,…と該対象部位A,…以外の部
位Bとが連続するような化学メッキ皮膜10を形成するこ
とにより、対象部位A,…間を電気導通可能な状態とす
る。
When a plurality of target portions A are present on the base 1, the base 1 is first subjected to a chemical plating treatment so that the target portions A,. By forming the chemical plating film 10 so as to be continuous with the portion B, the target portions A,.

【0017】次に、対象部位A,…以外の部位B に電極を
当てて印加(電気導通)して、基体1 に電気メッキ処理
を施し、化学メッキ皮膜10の表面に電気メッキ皮膜11を
形成する。
Next, an electrode is applied to a part B other than the target parts A,... (Electric conduction), and the base 1 is subjected to an electroplating treatment to form an electroplating film 11 on the surface of the chemical plating film 10. I do.

【0018】しかる後、前記対象部位A,…を被覆手段12
により被覆して、対象部位A,…の電気メッキ皮膜11の表
面を保護する。
Thereafter, the target portions A,.
To protect the surface of the electroplated film 11 at the target portions A,.

【0019】そして、最後に基体1 をエッチング処理す
ることで、被覆された対象部位A,…以外の部位B の化学
メッキ皮膜10及び電気メッキ皮膜11を溶解し、被覆され
た対象部位A,…の化学メッキ皮膜10及び電気メッキ皮膜
11のみを残存させる。
Finally, the base 1 is subjected to an etching treatment to dissolve the chemical plating film 10 and the electroplating film 11 in the portions B other than the covered target portions A,. Chemical plating film 10 and electroplating film
Only 11 remains.

【0020】ここで、上述の被覆工程において、請求項
2記載の如く、基体1 の対象部位Aのみが外部に臨出す
るよう構成された治具2 に対して、治具2 内に基体1 を
収容して、対象部位A のみを臨出させ、かかる状態で吹
付け塗装することにより対象部位A の表面に塗膜を形成
し、これを被覆手段12として対象部位A を被覆する方法
を採用することができる。
Here, in the above-described coating step, the jig 2 is constructed such that only the target portion A of the base 1 is exposed to the outside. Then, only the target portion A is exposed, and a coating film is formed on the surface of the target portion A by spray painting in such a state, and the coating means 12 is used to cover the target portion A. can do.

【0021】また、請求項3記載の如く、治具2 内に基
体1 を収容して対象部位A のみを臨出させ、この状態で
静電塗装することにより対象部位A の表面に塗膜を形成
し、これを被覆手段12として対象部位A を被覆する方法
も採用することができる。
Further, as described in claim 3, the substrate 1 is accommodated in the jig 2 so that only the target portion A is exposed, and in this state, a coating film is formed on the surface of the target portion A by electrostatic coating. It is also possible to adopt a method in which the target portion A is formed as a coating means 12 by forming the target portion.

【0022】さらに、請求項4記載の如く、対象部位A
にキャップを外嵌し、これを被覆手段12として対象部位
A を被覆する方法も採用することができる。
Further, as described in claim 4, the target site A
The cap is externally fitted to the
A method of coating A can also be adopted.

【0023】また、請求項5記載の如く、容器14に収容
された塗布体15に、基体1 の対象部位A を浸漬すること
により対象部位A の表面に塗膜を形成し、これを被覆手
段12として対象部位A を被覆する方法を採用することも
できる。
Further, as described in claim 5, a coating film is formed on the surface of the target portion A by immersing the target portion A of the substrate 1 in the coating body 15 housed in the container 14. As 12, the method of covering the target portion A can be adopted.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る部分メッキ皮
膜形成方法の一実施の形態を図1に基づき説明する。
尚、図1において、基体1 を抽象概念として立方体で表
現したが、具体的には、図2に示すような装置部品を基
体1 とするものである。即ち、基体1 の本体部1aから延
設された複数の可撓部1b, …に柱状の操作ボタン1c, …
を備えた装置部品を本実施形態における対象物とする。
従って、本実施形態においては、複数の操作ボタン1c,
…がメッキを必要とする対象部位A となり、本体部1a及
び可撓部1bが対象部位A 以外の部位B となる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the method for forming a partial plating film according to the present invention will be described below with reference to FIG.
In FIG. 1, the base 1 is represented by a cube as an abstract concept, but specifically, an apparatus component as shown in FIG. That is, a plurality of flexible portions 1b extending from the main body 1a of the base 1 have columnar operation buttons 1c,.
An apparatus component provided with is a target object in the present embodiment.
Therefore, in the present embodiment, the plurality of operation buttons 1c,
Are target portions A requiring plating, and the main body portion 1a and the flexible portion 1b are portions B other than the target portion A.

【0025】まず、化学メッキ工程において、基体1 を
化学メッキ溶液中に浸漬し、基体1の表面全体に化学メ
ッキ皮膜10を形成する。
First, in the chemical plating step, the substrate 1 is immersed in a chemical plating solution to form a chemical plating film 10 on the entire surface of the substrate 1.

【0026】次に、電気メッキ工程において、基体1 を
電気メッキ溶液中に浸漬すると共に、基体1 の本体部1a
に電極を当てて電気導通し、化学メッキ皮膜10の表面に
電気メッキ皮膜11を形成する。尚、この結果、基体1 の
本体部1aの電極を当てた部位は電気メッキ皮膜11が形成
されず、傷となって残ることとなる。
Next, in the electroplating step, the base 1 is immersed in the electroplating solution, and the main body 1a of the base 1 is formed.
An electrode is applied to the substrate to make electrical conduction, and an electroplating film 11 is formed on the surface of the chemical plating film 10. As a result, the portion of the main body 1a of the base 1 where the electrode is applied is not formed with the electroplating film 11, but remains as a scratch.

【0027】次に、被覆工程に入るが、この工程の詳細
は後述することとする。尚、この工程によって、操作ボ
タン1cについては、電気メッキ皮膜11の表面に塗膜12が
形成される一方、本体部1a及び可撓部1bについては、電
気メッキ皮膜11の表面が露出した状態にする。
Next, the coating step is started. The details of this step will be described later. In this step, the coating 12 is formed on the surface of the electroplating film 11 for the operation button 1c, while the surface of the electroplating film 11 is exposed for the main body 1a and the flexible portion 1b. I do.

【0028】そして、エッチング工程において、基体1
をエッチング液中に浸漬すると、操作ボタン1cの表面の
電気メッキ皮膜11及び化学メッキ皮膜10は、塗膜12によ
って保護され、溶解を免れる一方、本体部1a及び可撓部
1bの表面の電気メッキ皮膜11は、エッチング液により溶
解され、次いで化学メッキ皮膜10がエッチング液により
溶解され、基体1 の表面が露出した状態、即ち、操作ボ
タン1cの表面の電気メッキ皮膜11及び化学メッキ皮膜10
のみが残存した状態にする。
In the etching step, the substrate 1
Is immersed in an etching solution, the electroplating film 11 and the chemical plating film 10 on the surface of the operation button 1c are protected by the coating film 12 and escape from dissolution, while the main body 1a and the flexible portion
The electroplating film 11 on the surface of 1b is dissolved by an etching solution, then the chemical plating film 10 is dissolved by the etching solution, and the surface of the substrate 1 is exposed, that is, the electroplating film 11 on the surface of the operation button 1c and Chemical plating film 10
Only the remaining state.

【0029】最後に、剥離工程において、基体1 を剥離
剤としてのアルカリ溶液中に浸漬し、操作ボタン1cの表
面に被覆された塗膜12を溶解、剥離する。
Finally, in a peeling step, the substrate 1 is immersed in an alkaline solution as a peeling agent to dissolve and peel off the coating film 12 coated on the surface of the operation button 1c.

【0030】以上の工程により、図2及び図3に示す如
く、対象部位A である複数の操作ボタン1c, …にのみメ
ッキ皮膜10,11 を形成することができるものである。
Through the above steps, as shown in FIGS. 2 and 3, the plating films 10, 11 can be formed only on the plurality of operation buttons 1c,.

【0031】次に、本実施形態における部分メッキ皮膜
形成方法の被覆工程について図4に基づき以下に説明す
る。2 は、基体1 を収容保持するための治具であり、該
治具2 は、基体1 を収容する箱状の収容体3 と該収容体
3 の開口部を覆う蓋体4 とからなり、該蓋体4 の下面に
突設されたピン6,6 を収容体3 に穿設された孔3a,3a に
嵌入することで、蓋体4 を収容体3 に固定することがで
きる。
Next, the coating step of the method for forming a partial plating film in the present embodiment will be described below with reference to FIG. Reference numeral 2 denotes a jig for housing and holding the base 1, and the jig 2 includes a box-shaped housing 3 for housing the base 1 and the housing
The cover 4 is formed by inserting pins 6, 6 projecting from the lower surface of the cover 4 into holes 3a, 3a formed in the container 3. Can be fixed to the container 3.

【0032】また、蓋体4 には、基体1 の操作ボタン1
c, …に対応した位置であって、操作ボタン1c, …を挿
通可能な挿通孔5,…が穿設されている。尚、挿通孔5,…
の一部5,5 が穿設された段差面4bを上面4aより低く形成
した理由は、鉛直方向に対する基体1 の操作ボタン1c,
…の高さが相違することによる。即ち、基体1 の角柱状
の操作ボタン1cが円柱状の操作ボタン1cに比して低い位
置に形成されていることによる。
The cover 4 has an operation button 1 on the base 1.
At positions corresponding to c, ..., insertion holes 5, ... through which the operation buttons 1c, ... can be inserted are formed. The insertion holes 5, ...
The reason for forming the stepped surface 4b in which a part 5,5 is formed lower than the upper surface 4a is that the operation button 1c,
This is due to the difference in height. That is, the prismatic operation button 1c of the base 1 is formed at a position lower than the columnar operation button 1c.

【0033】従って、収容体3 の内部に基体1 を収容し
た後、その上から蓋体4 を収容体3に取付けることで、
基体1 の操作ボタン1c, …のみが挿通孔5, …を介して
治具2 の外部に臨出した状態となる。
Therefore, after the base 1 is accommodated in the housing 3, the lid 4 is attached to the housing 3 from above.
Only the operation buttons 1c,... Of the base 1 are exposed to the outside of the jig 2 through the insertion holes 5,.

【0034】そして、回転しながら搬送される支持体に
上記状態の治具2 を取付けると共に、支持体の搬送過程
で治具2 に対して吹付け塗装するものである。
The jig 2 in the above-mentioned state is attached to the support conveyed while rotating, and the jig 2 is spray-painted in the process of conveying the support.

【0035】そこで、治具2 が回転しながら吹付け塗装
されることにより、治具2 から臨出した操作ボタン1c,
…の表面に均一な塗膜が形成されると共に、操作ボタン
1c,…の表面の電気メッキ皮膜11が確実に被覆される。
Therefore, the jig 2 is spray-painted while rotating, so that the operation buttons 1c, 1c,
A uniform coating film is formed on the surface of
The electroplating film 11 on the surface of 1c,.

【0036】本実施形態に係る部分メッキ皮膜形成方法
は以上の如く使用されるが、本発明に係る部分メッキ皮
膜形成方法は、上記実施形態に限定されるものではな
い。即ち、上記実施形態においては、メッキ処理すべき
対象部位A が複数箇所である場合について説明したが、
対象部位A が一箇所であっても同様の作用効果を奏する
ものである。
Although the method for forming a partial plating film according to the present embodiment is used as described above, the method for forming a partial plating film according to the present invention is not limited to the above embodiment. That is, in the above embodiment, the case where the target portion A to be subjected to the plating process is a plurality of portions has been described.
Even if there is only one target site A, the same effect can be obtained.

【0037】また、前記電気メッキ皮膜11は、単層構造
のみならず、メッキ材質の異なる層が重合した二層若し
くは多層構造であってもよい。
The electroplating film 11 may have not only a single-layer structure but also a two-layer or multilayer structure in which layers having different plating materials are superposed.

【0038】また、上記実施形態中の被覆工程も、上述
内容に限定されるものではない。即ち、上記実施形態に
おいては、吹付け塗装により塗膜を形成し、この塗膜を
被覆手段としたが、被覆手段はこれに限定されず、静電
塗装により塗膜を形成し、この塗膜を被覆手段とするも
のであってもよい。
The coating step in the above embodiment is not limited to the above. That is, in the above embodiment, the coating film is formed by spray coating, and the coating film is used as the coating means. However, the coating means is not limited thereto, and the coating film is formed by electrostatic coating, and the coating film is formed. May be used as the covering means.

【0039】さらに、前記治具2 に組付けるに先立って
基体1 の表面にネガタイプのフォトレジスト皮膜を形成
し、しかる後、基体1 を治具2 に組付け、露光を行い、
操作ボタン1c, …の表面のフォトレジスト皮膜のみの耐
薬品性を増し、さらに、操作ボタン1c, …の表面以外の
フォトレジスト皮膜を薬品によって溶解処理すること
で、操作ボタン1c, …の表面のフォトレジスト皮膜を残
存せしめ、これを被覆手段とするものであってもよい。
Further, a negative type photoresist film is formed on the surface of the substrate 1 before assembling to the jig 2, and thereafter, the substrate 1 is assembled to the jig 2 and exposed.
The chemical resistance of only the photoresist film on the surface of the operation buttons 1c,… is increased, and the photoresist film other than the surface of the operation buttons 1c,… is dissolved by a chemical, so that the surface of the operation buttons 1c,… The photoresist film may be left and used as the coating means.

【0040】また、基体1 の表面にポジタイプのフォト
レジスト皮膜を形成し、しかる後、操作ボタン1c, …以
外の部位を露光し、該部位表面のフォトレジスト皮膜を
消滅処理することで、操作ボタン1c, …の表面のフォト
レジスト皮膜を残存せしめ、これを被覆手段とするもの
であってもよい。この際、操作ボタン1c, …のみが露光
されることのないように治具を設ける必要がある。
Further, a positive type photoresist film is formed on the surface of the substrate 1, and thereafter, a portion other than the operation buttons 1c,. The photoresist film on the surface of 1c,... May be left and used as a coating means. At this time, it is necessary to provide a jig so that only the operation buttons 1c,... Are not exposed.

【0041】さらに、上記治具2 によらず、操作ボタン
1cにキャップを外嵌し、これを被覆手段とするものであ
ってもよい。かかるキャップにあっても、操作ボタン1c
を確実に被覆することができると共に、基体1 の表面
を、メッキを必要とする部分と必要としない部分とに明
確に仕切ることができるため、境界線が明確で且つ仕上
がりが良好な部分メッキ皮膜を形成することができる。
Further, regardless of the jig 2, the operation buttons
A cap may be externally fitted to 1c, and this may be used as covering means. Even with such a cap, the operation button 1c
And the surface of the substrate 1 can be clearly divided into a portion requiring plating and a portion not requiring plating, so that a partial plating film having a clear boundary line and a good finish can be obtained. Can be formed.

【0042】また、その他の被覆方法として、図5に示
す如く、容器14に収容された塗布体としての塗料15に、
基体1 の操作ボタン1cを浸漬することにより、操作ボタ
ン1cにのみ塗料15を塗布し、この塗膜を被覆手段とする
ものであってもよい。この時、基体1 の角柱状の操作ボ
タン1cが円柱状の操作ボタン1cに比して低い位置に形成
されているため、被覆手段による仕切り線の高低差がh
となり、これに対応すべく、容器14の高低差Hを高低差
hと同一に設定している。従って、操作ボタン1c, …の
各々の位置、及び、夫々の高低差に対応させて複数の容
器14, …を設けることで、複数の操作ボタン1c, …を一
括で被覆処理することができる。尚、塗布により容器14
の塗料15が減容して、塗料15の表面位置が下がるのを防
止するため、容器14には、ポンプ16により塗料15が定量
供給されるものである。また、塗布体としては、塗料15
に限定されず、ワックス、液状樹脂、その他、操作ボタ
ン1cの表面に付着し、被覆することができる物質であれ
ば採用することができる。
Further, as another method of coating, as shown in FIG. 5, the coating 15 as coating material accommodated in a container 14,
By dipping the operation button 1c of the base 1, the paint 15 may be applied only to the operation button 1c, and this coating film may be used as the coating means. At this time, since the prismatic operation button 1c of the base 1 is formed at a lower position than the columnar operation button 1c, the height difference of the partition line by the covering means is h.
In order to cope with this, the height difference H of the container 14 is set to be the same as the height difference h. Therefore, by providing a plurality of containers 14,... Corresponding to the respective positions of the operation buttons 1c,... And the respective height differences, the plurality of operation buttons 1c,. In addition, container 14
The paint 15 is supplied to the container 14 by a pump 16 in a fixed amount in order to prevent the volume of the paint 15 from decreasing and the surface position of the paint 15 from lowering. In addition, as an application body, paint 15
However, the present invention is not limited to this, and any substance that can adhere to and cover the surface of the operation button 1c, such as wax, liquid resin, or the like, can be used.

【0043】さらに、上記実施形態においては、剥離工
程を最後に行っているが、例えば、メッキ材質が銅など
腐食し易いものである場合にメッキ皮膜の腐食を防止す
ることを目的として、また、有彩色の塗料を用いて外観
に色調を持たせることを目的として、剥離工程が省略さ
れ、塗膜をそのまま残存させるものである。
Further, in the above-described embodiment, the peeling step is performed last. However, for example, in order to prevent corrosion of the plating film when the plating material is easily corroded such as copper, For the purpose of giving a color tone to the appearance using a chromatic paint, the peeling step is omitted and the coating film is left as it is.

【0044】また、塗膜の剥離を行う場合には、剥離剤
は上記アルカリ溶液に限定されず、塗膜を溶解、剥離で
きるものであれば採用可能である。
In the case of peeling the coating film, the release agent is not limited to the above-mentioned alkaline solution, and any agent capable of dissolving and peeling the coating film can be used.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上のように、本発明に係る部分メッキ
皮膜形成方法によれば、真空蒸着法によらず、樹脂製の
基体の表面のうち、メッキを必要とする対象部位にのみ
メッキ皮膜を形成することができ、しかも、このメッキ
が化学メッキ及び電気メッキによるため、基体に下地塗
装を施す必要がなくなり、従って、ヘヤライン、ダイヤ
カット、サンドブラスト等により構成され、外観美を呈
する対象部位の表面模様を消失させることなく、メッキ
皮膜の表面に現わすことができる。
As described above, according to the method for forming a partial plating film according to the present invention, the plating film is formed only on the target portion of the surface of the resin base, which requires plating, without using the vacuum evaporation method. In addition, since this plating is performed by chemical plating and electroplating, it is not necessary to apply a base coating to the base, and therefore, the target portion which is constituted by hair lines, diamond cuts, sand blasts, etc., and has a beautiful appearance. It can appear on the surface of the plating film without losing the surface pattern.

【0046】また、本発明に係る部分メッキ皮膜形成方
法は、メッキを必要とする対象部位ごとに化学メッキ及
び電気メッキを施すのではなく、複数の対象部位を一括
してメッキ処理するものであるため、作業効率を向上す
ることができ、しかも、部品の商品価値を落とすメッキ
皮膜の傷の発生を好適に防止することができる。
Further, the method for forming a partial plating film according to the present invention does not perform chemical plating and electroplating for each target portion requiring plating, but performs plating treatment on a plurality of target portions collectively. Therefore, the working efficiency can be improved, and the occurrence of scratches on the plating film, which lowers the commercial value of the component, can be suitably prevented.

【0047】さらに、本発明に係る部分メッキ皮膜形成
方法は、請求項2乃至5記載の如く、被覆手段によって
対象部位のメッキ皮膜のみが好適に保護されるため、対
象部位にのみ確実且つ境界線の明確なメッキ皮膜を形成
することができ、メッキ製品としての商品価値を高める
ことができる。
Further, in the method for forming a partial plating film according to the present invention, since only the plating film at the target portion is suitably protected by the covering means, the boundary line is reliably formed only at the target portion. Can be formed, and the commercial value as a plated product can be enhanced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態を示す部分メッキ皮膜形
成方法の概略構成図。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a method for forming a partial plating film according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施形態の部分メッキ皮膜形成方法の対象物
の斜視図。
FIG. 2 is a perspective view of an object of the method for forming a partial plating film of the embodiment.

【図3】図2のP−P線断面図。FIG. 3 is a sectional view taken along line PP of FIG. 2;

【図4】同実施形態の被覆工程の治具に部分メッキ皮膜
形成方法の対象物を組付ける状態の斜視図。
FIG. 4 is a perspective view showing a state in which an object of the method for forming a partial plating film is mounted on the jig in the coating step of the embodiment.

【図5】他実施形態の被覆工程の状態を示す正面図。FIG. 5 is a front view showing a state of a coating step according to another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 …基体、A …対象部位、2 …収容治具、10…化学メッ
キ皮膜、11…電気メッキ皮膜、12…被覆手段
1 ... substrate, A ... target site, 2 ... accommodation jig, 10 ... chemical plating film, 11 ... electroplating film, 12 ... coating means

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メッキ処理すべき対象部位(A) を有した
樹脂製の基体(1) の、該対象部位(A) 表面にのみメッキ
皮膜を形成する部分メッキ皮膜形成方法において、前記
基体(1) の表面に化学メッキ皮膜(10)を形成し、次に対
象部位(A) 以外の部位(B) を印加して化学メッキ皮膜(1
0)の表面に電気メッキ皮膜(11)を形成した後、前記対象
部位(A) を被覆手段(12)により被覆し、次に前記基体
(1) をエッチング処理して、被覆された対象部位(A) の
化学メッキ皮膜(10)及び電気メッキ皮膜(11)のみを残存
させることを特徴とする部分メッキ皮膜形成方法。
In a method for forming a partial plating film on a resin-made substrate (1) having a target portion (A) to be plated, a plating film is formed only on the surface of the target portion (A). A chemical plating film (10) is formed on the surface of (1), and then a part (B) other than the target part (A) is applied to apply the chemical plating film (1).
After the electroplating film (11) is formed on the surface of (0), the target portion (A) is covered by the covering means (12), and then the substrate
(1) A method for forming a partial plating film, characterized by leaving only the chemical plating film (10) and the electroplating film (11) of the covered target portion (A) by etching.
【請求項2】 前記被覆手段(12)は、前記基体(1) の対
象部位(A) のみが外部に臨出するよう構成された治具
(2) に該基体(1) を収容した後、吹付け塗装することに
より形成された塗膜である請求項1記載の部分メッキ皮
膜形成方法。
2. The coating means (12) is a jig configured so that only a target portion (A) of the base (1) is exposed to the outside.
The method for forming a partial plating film according to claim 1, wherein the coating is formed by spray coating after accommodating the substrate (1) in (2).
【請求項3】 前記被覆手段(12)は、前記基体(1) の対
象部位(A) のみが外部に臨出するよう構成された治具
(2) に該基体(1) を収容した後、静電塗装することによ
り形成された塗膜である請求項1記載の部分メッキ皮膜
形成方法。
3. A jig configured so that only the target portion (A) of the base (1) is exposed to the outside.
2. The method for forming a partially plated film according to claim 1, wherein the film is a film formed by applying the electrostatic coating after accommodating the substrate (1) in (2).
【請求項4】 前記被覆手段(12)は、前記基体(1) の対
象部位(A) に外嵌されたキャップである請求項1記載の
部分メッキ皮膜形成方法。
4. The method according to claim 1, wherein said coating means is a cap externally fitted to a target portion of said base.
【請求項5】 前記被覆手段(12)は、容器(14)に収容さ
れた塗布体(15)に、前記基体(1) の対象部位(A) を浸漬
することにより形成された塗膜である請求項1記載の部
分メッキ皮膜形成方法。
5. The coating means (12) comprises a coating film formed by immersing the target portion (A) of the substrate (1) in an application body (15) contained in a container (14). The method for forming a partial plating film according to claim 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100410424C (en) * 2006-03-31 2008-08-13 北京航空航天大学 Method for coating Ni-P layer in same liquid by chemically plating and electrobath

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