JPH11219882A - Stage and aligner - Google Patents

Stage and aligner

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JPH11219882A
JPH11219882A JP2106998A JP2106998A JPH11219882A JP H11219882 A JPH11219882 A JP H11219882A JP 2106998 A JP2106998 A JP 2106998A JP 2106998 A JP2106998 A JP 2106998A JP H11219882 A JPH11219882 A JP H11219882A
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JP
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Patent type
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stage
substrate
glass plate
mask
exposure apparatus
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Application number
JP2106998A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Katsume
智弘 勝目
Original Assignee
Nikon Corp
株式会社ニコン
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70691Handling of masks or wafers

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stage which can be prevented efficiently from being charged electrostatically or can be destaticized and an aligner which uses the stage.
SOLUTION: A stage 5 capable of moving on an air guide 7, while a glass plate 6 is placed on the stage 5, is made of a floating type stage 5 and moves on the guide 7 in a non-contacting manner. The stage 5 is provided at least with a contact 9 for grounding, which connects the stage 5 to the ground by mechanically coming into contact with the stage 5, when the glass plate 6 is removed from the stage 5. Therefore, the stage 5 will not be charged electrostatically, even when the glass plate 6 which generates static electricity in the stage 5 when the plate 6 is removed from the stage 5 is lifted up from the stage 5, because the static electricity generated flows to the ground.
COPYRIGHT: (C)1999,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置のガラスプレートまたマスク等の基板を載置してベース上を移動可能なステージ、及び、該ステージを用いた露光装置に関し、特に、静電気の放電によって該基板やステージが損傷することがないようにしたステージ及び露光装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a glass plate also stage movable on the base by placing the substrate of the mask of the semiconductor wafer or a liquid crystal display device, and relates to an exposure apparatus using the stage, especially relates to the stage and the exposure apparatus as substrate and stages static electricity is not damaged.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、露光装置においては、例えば、基板としての半導体ウエハやガラスプレート等をステージ上に載置し、光源からの光束をマスクを介して当該基板上に照射することによりマスクに形成されている回路パターンを基板上に投影露光するようになされている。 Conventionally, in an exposure apparatus, for example, a mask that is a semiconductor wafer or a glass plate or the like as a substrate placed on the stage, the light beam from the light source through a mask is irradiated onto the substrate the circuit pattern formed is adapted to the projection exposure onto the substrate. しかし、その基板の投影露光が終了して基板を次の工程に搬送するためにステージから持ち上げる瞬間に基板及びステージの両方に静電気が発生することがある。 However, sometimes static electricity both the substrate and the stage at the moment to lift the stage in order to convey the substrate projection exposure of the substrate is completed in the next step occurs. もっとも、ベアリング支持のステージならば、ステージ自身が絶縁されていないので、ステージにはほとんど静電気は発生せず、またわずかに発生した静電気も自然に放電する。 However, if the bearing support of the stage, because the stage itself is not insulated, the stage almost static electricity is not generated, and also to discharge naturally slightly generated static electricity. しかし、エア支持のような浮上型のステージの場合は、ステージ自体が浮上していて絶縁されているため、 However, in the case of a flying stages, such as an air support, since the stage itself is insulated have emerged,
ステージ側に帯電した静電気が自然放電することはない。 Never static electricity charged to the stage side is natural discharge. この静電気が蓄積されて一気に放電すると、ステージの電気部品や基板(基板がマスクである場合には形成されている回路パターンであったり、基板が感光基板である場合はレジスト層など)を破壊してしまうおそれがある。 If this static electricity is suddenly discharged are accumulated, (or a circuit pattern board is formed in the case of a mask, if the substrate is a photosensitive substrate resist layer) electrical components and the substrate stage to destroy the there is a fear would. このため、イオン化された気体を基板及びステージに吹き付けて、帯電する静電気を中和している。 Therefore, by blowing ionized gas to the substrate and the stage, and neutralize the static electricity charged.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来のイオン化された気体を用いた静電気の防止には、以下の問題がある。 [SUMMARY OF THE INVENTION] However, the prevention of static electricity using a conventional ionized gas, has the following problems. (1).ステージ近傍はスペースがないため十分近くからステージにイオン化された気体を吹き付けることができない。 (1). Stage vicinity can not blow ionized gas to the stage from close enough because there is no space. (2).基板及びステージが大きくなるにつれ、静電気の帯電量も増加し、その値を十分に下げるために時間がかかり、装置のスループットが低下する。 (2) As. Substrate and the stage is increased, the charge amount of static electricity increases, its value takes time to lower sufficiently, the throughput of the apparatus is reduced. 本発明は、上記問題点に鑑み、除電のための装置を設ける空間がない場合でも、効率的にステージの帯電を防ぐ、あるいは除電することが可能なステージ及び該ステージを用いた露光装置を提供することを目的とする。 The present invention provides an exposure apparatus using the light of the problems, even if there is no space to provide a device for the neutralization, efficiently prevent the charging of the stage, or capable stage and the stage for discharge an object of the present invention is to.

【0004】 [0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、一実施例を表す図1と図2とに対応付けて説明すると、請求項1記載のステージは、基板(6)を載置してベース(7)上を移動可能なものであって、前記ベース(7)上を非接触で移動する浮上型ステージ(5)であり、少なくとも前記ステージ(5)から前記基板(6) In order to solve the above problems SUMMARY OF THE INVENTION, placed will be described in association with FIGS. 1 and 2 showing an embodiment, the stage of claim 1 wherein the substrate (6) to base (7) be one movable on a said base (7) flying stage that moves on a non-contact (5), said substrate from at least the stage (5) (6)
を取り除く際に、前記ステージ(5)と機械的に接触して前記ステージ(5)を接地する接地手段(9、10) In removing, the stage (5) and grounding means for grounding the mechanical contact with the stage (5) (9, 10)
を設けたものである。 In which the provided.

【0005】また、請求項2記載のステージは、少なくとも前記ステージ(5)に載置された前記基板(6)にイオン化された気体を供給する気体供給手段(11)を備えたものであるため、前記基板(6)に帯電する静電気を中和することができる。 Further, since claims 2 stages according are those having at least the gas supplying means for supplying the stage (5) placed on ionized gas the substrate (6) (11) can neutralize the static electricity charged the substrate (6). さらに、請求項3記載のステージは、前記浮上型ステージ(2、5)が磁気的に浮上しているものであるため、エア支持の場合には避け難いエアの流れによるパーティクルの散乱がなく、基板へのパーティクルの付着を防ぐことができる。 Furthermore, the stage of the third aspect, since the flying stage (2,5) is what has emerged magnetically, without scattering particles by unavoidable air flow when the air support, it is possible to prevent adhesion of particles to the substrate. また、請求項4記載の露光装置は、前記基板(3、6)を載置して移動可能なステージ(2、5)として上記のステージ(2、5)を用いたものである。 The exposure apparatus according to claim 4, wherein, said a substrate (3,6) by placing the by movable stage (2,5) is obtained using the above stage (2,5).

【0006】また、請求項5記載の露光装置は、前記基板がガラスプレート(6)であるものである。 [0006] The exposure apparatus of claim 5, wherein the substrate is of a glass plate (6). また、請求項6記載の露光装置は、パターンを有した基板であるマスク(3)の前記パターンを感光基板(6)に露光するものであって、前記マスク(3)を載置して移動可能なステージ(2)として上記のステージ(2)を用いたものである。 Further, the exposure apparatus according to claim 6, wherein, be one that exposes the pattern on a photosensitive substrate (6) of the mask (3) is a substrate having a pattern, and placing the mask (3) movement possible stage (2) is obtained by using the above stage (2).

【0007】 [0007]

【発明の実施の形態】以下添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。 With reference to the DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The accompanying drawings preferred embodiments of the present invention will be described in detail. 図1及び図2は液晶表示素子の露光装置を示しており、本実施の形態において基板が液晶表示素子を形成するためのガラスプレートであって、ステージが該ガラスプレートを載置するステージの場合を示すものである。 1 and 2 shows the exposure apparatus of the liquid crystal display device, the substrate in this embodiment is a glass plate for forming a liquid crystal display device, when the stage the stage for placing the said glass plates It shows a.

【0008】露光装置において、露光照明系1から出射されたビームはマスクステージ2上に載置されたマスク3に照射される。 [0008] In the exposure apparatus, the beam emitted from the exposure illumination system 1 is irradiated to the mask 3 is placed on the mask stage 2. なお、超高圧水銀ランプ1a、波長フィルタ1b、レンズ1cにより露光照明系1が構成されている。 Incidentally, ultra-high pressure mercury lamp 1a, the wavelength filter 1b, a lens 1c exposure illumination system 1 is constructed. マスク3を透過したビームは投影光学系4を介して、鉄等の金属材質から成る基板ステージ5上に真空吸着や静電吸着により載置された角形基板であるガラスプレート6に照射される。 The beam passing through the mask 3 through the projection optical system 4 is irradiated onto the glass plate 6 is a rectangular substrate placed by vacuum suction or electrostatic attraction on the substrate stage 5 made of a metal material such as iron. これによりマスク3上に形成された液晶表示素子などの回路パターンがガラスプレート6上に投影される。 Thus the circuit pattern such as a liquid crystal display element formed on the mask 3 is projected on the glass plate 6. なお、ガラスプレート6は500 It should be noted that the glass plate 6 500
mm×600mm程度の大型の基板であり、今後も更なる大型化が予想されている。 A large substrate of about mm × 600 mm, and is expected to further increase in size in the future. ガラスプレート6上にはコータ装置(図示せず)により予め感光剤であるレジスト膜が塗布された後、プレート搬送アーム8により基板ステージ5にガラスプレートが載置される。 After on the glass plate 6 resist film is applied in advance photosensitive material by the coater apparatus (not shown), a glass plate is placed on the substrate stage 5 by the plate transfer arm 8. 基板ステージ5はセラミック等から成るベースとしてのガイド7に高圧の気体(例えば空気)を吹き出して浮上し、リニアモータ等(図示せず)により移動して図1に示すように投影光学系4の下に位置させられる。 The substrate stage 5 floats blowing high-pressure gas (e.g., air) in the guide 7 as a base made of ceramic or the like, a linear motor or the like (not shown) of the projection optical system 4, as shown in FIG. 1 by moving the It brought into position underneath. ここで、露光装置は、不図示のアライメント装置により、マスク3及びガラスプレート6上のアライメントマークの位置を読み取り、その読み取り結果に応じてマスクステージ2及びステージ5を微小移動して、これによってマスク3とガラスプレート6との位置合わせ(アライメント)を行うようになされている。 Here, the exposure apparatus, the alignment device (not shown), reads the position of the alignment mark on the mask 3 and the glass plate 6, the mask stage 2 and stage 5 in accordance with the read result by fine movement, whereby the mask 3 and alignment of the glass plate 6 are made to perform (alignment).

【0009】このアライメントの後、マスク3上に形成された回路パターンがガラスプレート6上に投影露光され、投影露光されたガラスプレート6は、基板ステージ5に載置されたまま矢印の方向に再度ガイド7上を移動して、図2に示すガラスプレート受け渡し位置まで来る。 [0009] After the alignment, the circuit pattern formed on the mask 3 is projected and exposed on the glass plate 6, a glass plate 6 which is a projection exposure again in the direction of the arrow while being placed on the substrate stage 5 Guide 7 moving on, comes to the glass plate transfer position shown in FIG. ここで、ガラスプレート6はプレート搬送アーム8 The glass plate 6 plate transfer arm 8
によって持ち上げられるが、その際に基板ステージ5はバネ等(図示せず)で基板ステージ5側に押圧される接地用接点9に機械的に接触することでMΩオーダの高抵抗素子10を介して電源のグランドに接続される。 While it lifted by the substrate stage 5 in that case via MΩ high resistance element 10 of the order by mechanical contact to the ground contact 9 which is pressed to the substrate stage 5 side by a spring or the like (not shown) It is connected to the power supply of the ground. このため、基板ステージ5に静電気が発生するとされるガラスプレート6を基板ステージ5から持ち上げる時でも、 Therefore, even if the glass plate 6 which static electricity is to be generated on the substrate stage 5 when lifting from the substrate stage 5,
発生する静電気は高抵抗素子10を介してグランドに流れるので基板ステージ5に静電気が帯電することはない。 Static electricity generated is never static electricity charged on the substrate stage 5 flows through the ground via the high-resistance element 10. また、仮に基板ステージ5に静電気が帯電していても基板ステージ5と接地用接点9が接触した瞬間に静電気を一気に放電することはなくミリ秒オーダで穏やかに放電するので機器が損傷することはない。 Further, the equipment may be damaged because if static electricity on the substrate stage 5 is gently discharged at once discharge order of milliseconds rather than to static electricity at the moment the grounding contact point 9 and the substrate stage 5 is in contact also be charged Absent. また、接地用接点9を複数箇所に設けてもいい。 In addition, it also provided the ground for contact 9 at a plurality of locations. なお、ガラスプレート6にはイオナイザー11によりイオン化された気体(例えば空気)を吹き付けて(気体供給手段)、ガラスプレート6に帯電する静電気を中和すれば更に効果的に静電気を除去することができる。 Incidentally, the glass plate 6 by blowing ionized gas (e.g. air) by ionizer 11 (gas supply means), can be removed more effectively static when neutralizing static electricity charged to a glass plate 6 . この後、ガラスプレート6はこの露光装置の後工程にあるデベロッパ装置(図示せず)に搬送され、デベロッパ装置により現像することにより、当該ガラスプレート6上に回路パターンが形成される。 Thereafter, the glass plate 6 is transferred to developer apparatus in the process after the exposure device (not shown), by developing the developer apparatus, the circuit pattern is formed on the glass plate 6.

【0010】なお、基板ステージ5に絶縁性の材質の部分がある場合には接地用接点9は導電性の材質の部分に接触するようにする。 [0010] Incidentally, is to contact the portion of the material of the electrically conductive ground contacts 9 when the substrate stage 5 is made of a portion of the insulation. また、接地用接点9は基板ステージ5側に設けても良い。 The ground contacts 9 may be provided on the substrate stage 5 side.

【0011】さらに、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。 Furthermore, the present invention is not limited to the above embodiment. 例えば、基板ステージ5は気体支持浮上に代えて、磁気的浮上であっても良い。 For example, the substrate stage 5 in place of the gas support floating, may be magnetically levitated. 磁気浮上ステージは、ガイド7に永久磁石と電磁石とを設け、基板ステージ5にガイドの永久磁石に対向させて永久磁石を配設し、ガイド7の電磁石に対向させて鉄などの磁性部材を配設することにより構成できる。 Magnetic levitation stage, provided the permanent magnets and electromagnets to guide 7, a permanent magnet is disposed to face the guide of the permanent magnets on the substrate stage 5, to face the electromagnet of the guide 7 distributing the magnetic member such as iron It can be configured by setting. そして、電磁石に供給する電流を調整することにより基板ステージ5の移動を制御することができる。 Then, it is possible to control the movement of the substrate stage 5 by adjusting the current supplied to the electromagnet. 磁気浮上ステージを用いることにより、ガイド7に吹き出す気体に起因する発塵をなくすことができ、露光工程での歩留りを向上することができる。 By using magnetic levitation stage, it is possible to eliminate the dust due to the gas to be blown into the guide 7, it is possible to improve the yield in the exposure step.

【0012】なお、マスクステージ2が浮上型のステージの場合に、本実施の形態の接地用接点9と高抵抗素子10とをマスクステージにも適用することができる。 [0012] Incidentally, it is possible to mask stage 2 is in the case of a flying stage, ground contacts 9 of the present embodiment and a high-resistance element 10 is applied to the mask stage. ガラスプレート6の大型化に伴い、マスク3、マスクステージ2も大型化され静電気の影響が大きくなるので、本実施の形態の接地用接点9と高抵抗素子10とを用いることにより効果的に静電気を除去することができる。 As the size of the glass plate 6, the mask 3, the influence of static electricity is the mask stage 2 is also large increases, effectively static electricity by using a grounding contact 9 of the present embodiment and the high resistance element 10 it can be removed. これによりマスク3をマスクステージ2から持ち上げる際の静電気の帯電を防止することができる。 Thus it is possible to prevent charging of the static electricity to lift the mask 3 from the mask stage 2.

【0013】接地手段はステージが図2に示すガラスプレート6受け渡し位置以外の位置にあるときにも接地するものであっても良いし、更に、移動中においても継続的に接地するものであっても良い。 [0013] It grounding means the stage may be one which is also grounded when in a position other than the glass plate 6 transfer position shown in FIG. 2, further, there is also grounded continuously during movement it may be. これにより帯電がより徹底して防止できる。 This by the charging can be prevented and more thorough. なお、露光装置としては、マスク3とガラスプレート6とを静止した状態で露光し、ガラスプレート6を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート型の露光装置にも、マスクとガラスプレート6とを同期移動して露光する走査型の露光装置にも、マスクとガラスプレート6とを密接させて露光するプロキシミティ型の露光装置にも適用することができる。 As the exposure apparatus, the mask 3 and the glass plate 6 is exposed in a state of rest, in step-and-repeat type exposure apparatus that moves sequentially step the glass plate 6, synchronized with the mask and the glass plate 6 the scanning type exposure apparatus that exposes moving also can be applied to a proximity type exposure apparatus that exposes by close contact with the mask and the glass plate 6. 露光装置としては、液晶表示素子用だけでなく、半導体素子を露光する露光装置等にも幅広く適用することができる。 As the exposure device, not only for a liquid crystal display device it can also be widely applied to an exposure apparatus that exposes a semiconductor.

【0014】また、露光光としてKrFエキシマレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(193n Further, KrF excimer laser as the exposure light (248 nm), ArF excimer laser (193 n
m)、F 2レーザ(157nm)のみならず、X線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。 m), not only the F 2 laser (157 nm) only, it is possible to use a charged particle beam such as X-ray or electron beam. 例えば、 For example,
電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト(LaB 6 )、タンタル(Ta) As the electron gun in the case of using an electron beam, thermionic emission type lanthanum hexaboride (LaB 6), tantalum (Ta)
を用いることができる。 It can be used.

【0015】投影光学系4の倍率は縮小系、等倍及び拡大系のいずれでも良い。 The projection optical system 4 of the magnification reduction system, may be either an equal magnifying system or a magnifying. また、投影光学系4としては、 Further, as the projection optical system 4,
エキシマレーザを用いる場合は硝材として石英や蛍石を用い、X線を用いる場合は反射屈折系の光学系にし(マスクも反射型タイプのものを用いる)、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電気光学系を用いれば良い。 A quartz or fluorite as the glass material when using the excimer laser, when using X-rays to the optical system of the catadioptric system (masks used as a reflective type), and optical in the case of using an electron beam it may be used an electro-optical system consisting of an electron lens and a deflector as a system. なお、電子線が通過する光路は真空にする。 The optical path through which an electron beam passes is evacuated.

【0016】 [0016]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、浮上型ステージを確実にグランドへ接地することができるので、ステージに静電気が帯電するのを防ぎ、特に、ステージから基板を取り除くときに発生する静電気を効果的に除去することができ、ステージの故障や基板の破損を防止できる。 As is evident from the foregoing description, according to the present invention, it is possible to ground the floating type stage to ensure the ground, preventing the static electricity on the stage is charged, in particular, when removing the substrate from the stage It can effectively eliminate static electricity generated, thereby preventing malfunction or damage of the substrate stage.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の一実施例を示す図であって、露光装置の基板ステージが露光位置にある場合を示す図である。 [1] A diagram showing an embodiment of the present invention, the substrate stage of the exposure apparatus is a diagram showing a case in the exposure position.

【図2】本発明の一実施例を示す図であって、露光装置の基板ステージがガラスプレート受け渡し位置にある場合を示す図である。 [Figure 2] A diagram showing an embodiment of the present invention, the substrate stage of the exposure apparatus is a diagram showing a case in glass plate transfer position.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 露光照明系 2 マスクステージ 3 マスク 4 投影光学系 5 基板ステージ 6 ガラスプレート 7 ガイド 8 プレート搬送アーム 9 接地用接点 10 高抵抗素子 1 exposure illumination system 2 mask stage 3 mask 4 projection optical system 5 substrate stage 6 glass plate 7 Guide 8 plate transfer arm 9 ground contacts 10 high resistance element

Claims (6)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 基板を載置してベース上を移動可能なステージにおいて、 前記ステージは前記ベース上を非接触で移動する浮上型ステージであり、 少なくとも前記ステージから前記基板を取り除く際に、 1. A placing a substrate movable on the base stage, the stage is a floating type stage that moves on the base in a non-contact, in removing the substrate from at least the stage,
    前記ステージと機械的に接触して前記ステージを接地する接地手段を設けたことを特徴とするステージ。 Stage, characterized in that a grounding means for grounding the stage in contact with the stage and the mechanical.
  2. 【請求項2】 請求項1記載のステージにおいて、少なくとも前記ステージに載置された前記基板にイオン化された気体を供給する気体供給手段を備えたことを特徴とするステージ。 2. A stage according to claim 1, wherein, stage, characterized in that with a gas supply means for supplying ionized gas to the substrate placed on at least the stage.
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載のステージにおいて、前記浮上型ステージは磁気的に浮上していることを特徴とするステージ。 3. An apparatus according to claim 1 or claim 2 stages according stage, characterized in that the flying stage has emerged magnetically.
  4. 【請求項4】 マスクのパターンを基板に露光する露光装置において、前記基板を載置して移動可能なステージとして請求項1乃至請求項3記載のいずれかに記載のステージを用いたことを特徴とする露光装置。 4. A exposure apparatus for exposing a pattern of a mask onto a substrate, characterized by using the stage according to any one of claims 1 to 3, wherein said substrate as placed and which is movable stage and to the exposure device.
  5. 【請求項5】 請求項4記載の露光装置において、前記基板はガラスプレートであることを特徴とする露光装置。 5. The exposure apparatus according to claim 4, wherein the exposure apparatus, wherein the substrate is a glass plate.
  6. 【請求項6】 パターンを有した基板であるマスクの前記パターンを感光基板に露光する露光装置において、前記マスクを載置して移動可能なステージとして請求項1 6. The exposure apparatus for exposing a photosensitive substrate with the pattern of the mask is a substrate having a pattern, it claims a movable stage by placing the mask 1
    乃至請求項3記載のいずれかに記載のステージを用いたことを特徴とする露光装置。 To an exposure apparatus characterized by using the stage according to claim 3, wherein.
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