JPH11162164A - Dram and 3-transistor type dram - Google Patents

Dram and 3-transistor type dram

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JPH11162164A
JPH11162164A JP9324863A JP32486397A JPH11162164A JP H11162164 A JPH11162164 A JP H11162164A JP 9324863 A JP9324863 A JP 9324863A JP 32486397 A JP32486397 A JP 32486397A JP H11162164 A JPH11162164 A JP H11162164A
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JP
Japan
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dummy
bit line
word line
transistor
read
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Application number
JP9324863A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Kobayashi
俊宏 小林
Yutaka Tanaka
豊 田中
Takayuki Abe
隆行 安部
Kyosuke Ogawa
恭輔 小川
Masahiro Kimura
昌浩 木村
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
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Publication of JPH11162164A publication Critical patent/JPH11162164A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To use the single power supply of a device as an initial voltage of a dummy cell by delaying a timing when the dummy cell opens as compared with the timing when a memory cell opens by a specific amount of time and by constituting the dummy cell in the same dimension as the memory cell. SOLUTION: In a memory cell array 1, a 3-transistor-type memory cell 14 for storing 1 or 0 is connected to each intersecting part between a plurality of bit pairs and word lines. Further, a dummy cell 15 is connected to each intersecting part between each pair of bit line 11-1a, 11-1b... and a dummy read word line 13. A diffusion resistor 16 is inserted into the dummy read word line 13. By selecting the resistance of the diffusion resistor 16 so that the read bit line of the dummy cell 15 reaches a potential at the middle of L and H levels, a timing when the dummy cell opens can be delayed from that when the memory cell opens.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ダミーセルを用い
た読み出し方式を採るD−RAM及び3トランジスタ型
DRAMに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a D-RAM and a three-transistor DRAM employing a read method using dummy cells.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、DRAMは、各メモリセル内の
キャパシタに蓄積した電荷の有無に対応して、1ビット
の情報(“1”,“0”)を記憶する。その読み出し時
には、予め一定の電圧にプリチャージされたビット線に
前記キャパシタの電荷を転送し、その微小電圧をセンス
アンプで増幅して情報の読み出しを行っている。
2. Description of the Related Art Generally, a DRAM stores 1-bit information ("1", "0") according to the presence or absence of electric charge stored in a capacitor in each memory cell. At the time of reading, the electric charge of the capacitor is transferred to a bit line precharged to a predetermined voltage, and the minute voltage is amplified by a sense amplifier to read information.

【0003】そして、通常では、誤読み出しを防ぐため
に、“H”レベルと“L”レベルの中間の中間電位を出
力するダミーセルを用いる読み出し方式が採られてい
る。
In order to prevent erroneous reading, a reading method using a dummy cell which outputs an intermediate potential between the "H" level and the "L" level is usually adopted.

【0004】このダミーセルを用いる読み出し方式によ
れば、センスアンプはメモリセルの保持容量を感知する
際に、ダミーによる中間電位と選択したセルの保持容量
の値とを比較し、その比較結果により読み出しデータの
“H”レベル、“L”レベルを判別している。
According to the read method using the dummy cells, the sense amplifier compares the dummy potential with the value of the storage capacity of the selected cell when sensing the storage capacity of the memory cell, and reads the data based on the comparison result. The "H" level and the "L" level of the data are determined.

【0005】以下、このダミーセル方式を用いた従来の
DRAMについて説明する。
Hereinafter, a conventional DRAM using the dummy cell system will be described.

【0006】図6は、特開昭54−52432号公報に
開示された従来のDRAMの等価回路図であり、64×
64のメモリアレイの一行について示している。図7
は、図6に示したDRAMのロウ・デコーダの構成を示
す回路図である。
FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of a conventional DRAM disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-52432.
One row of 64 memory arrays is shown. FIG.
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a row decoder of the DRAM shown in FIG.

【0007】このDRAMは、バランス型フリップフロ
ップを用いたセンスアンプSAの左右ノードに一対のビ
ット線DL1 ,DL2 が接続され、その各ビット線DL
1 ,DL2 に、それぞれ複数個のメモリセルMC1 m
(m=1,…i…j,…32),MC2 m(m=1,…
k…l,…32)と1個のダミーセルDC1 ,DC21が
接続されている。そして、一方のビット線のメモリセル
と他方のビット線のダミーセルを同時に選択して情報の
読み出しを行うものである。
In this DRAM, a pair of bit lines DL1 and DL2 are connected to left and right nodes of a sense amplifier SA using a balanced flip-flop, and each bit line DL1
1 and DL2 each have a plurality of memory cells MC1 m
(M = 1,... I ... j,... 32), MC2 m (m = 1,.
.. 32) and one dummy cell DC1, DC21. Then, information is read out by simultaneously selecting a memory cell on one bit line and a dummy cell on the other bit line.

【0008】例えば、センスアンプSAの左側のメモリ
セルMC1 mの情報(例えば“0”)を読み出す場合
は、まず、信号φP ,φR の“L”レベルにより、ビッ
ト線DL1 ,DL2 のプリチャージとダミーセルDC1
,DC2 の書き込みが行われる。そして、信号φQ が
“H”レベルとなり、図7のロウ・デコーダにより、6
4本のワードラインWL1 m(m=1,…i…j,…3
2)のうちの所定の1本と、ダミーセル用ワードライン
DWL2 とが選択されて“H”レベルとなる。
For example, when reading information (for example, "0") of the memory cell MC1m on the left side of the sense amplifier SA, first, the precharge of the bit lines DL1 and DL2 is performed by the "L" level of the signals φP and φR. Dummy cell DC1
, DC2 are written. Then, the signal .phi.Q becomes "H" level, and the row decoder of FIG.
Four word lines WL1 m (m = 1,... I ... j,.
2) and the dummy cell word line DWL2 are selected and set to "H" level.

【0009】これによって、メモリセルMC1 mとダミ
ーセルDC2 のトランジスタがオンし、その結果、メモ
リセルMC1 mとビット線DL1 とダミーセルDC2 と
ビット線DL1 との間で電荷の分配が行われる。その
後、信号φsが“H”レベルとなることにより、センス
アンプSAによる記憶情報の弁別が行われ、ビット線D
L1 は“L”レベルに、ビット線DL2 は“H”レベル
になる。このようにして、メモリセルMC1 mの記憶情
報(例えば“0”)を読み出している。
As a result, the transistors of the memory cell MC1m and the dummy cell DC2 are turned on. As a result, charge is distributed between the memory cell MC1m, the bit line DL1, the dummy cell DC2, and the bit line DL1. Thereafter, when the signal φs becomes “H” level, discrimination of the stored information by the sense amplifier SA is performed, and the bit line D
L1 goes to "L" level and bit line DL2 goes to "H" level. Thus, the storage information (for example, "0") of the memory cell MC1m is read.

【0010】本例のDRAMでは、この読み出し時にメ
モリセルの記憶レベルがΔVだけ浮いている場合に、セ
ンスアンプSAの情報弁別能力が著しく低下するという
問題を解決するため、選択されたメモリセルをビット線
に接続するトランジスタのゲート印加信号φQ に対し、
同時に選択されるダミーセルをビット線に接続するトラ
ンジスタのゲート印加信号φQ ’の立上がりを遅延回路
DELで遅らせるようにしている。
In the DRAM of this embodiment, when the storage level of the memory cell is floating by ΔV at the time of reading, the information discriminating ability of the sense amplifier SA is remarkably reduced. In response to the gate application signal φQ of the transistor connected to the bit line,
At the same time, the rise of the gate application signal φQ ′ of the transistor connecting the selected dummy cell to the bit line is delayed by the delay circuit DEL.

【0011】上記のDRAMは、MOSトランジスタと
MOSキャパシタを1個ずつ設けて1個のメモリセルを
構成する1トランジスタ型であったが、近年、これより
も製造プロセスを簡素化できる3トランジスタ型のDR
AMが一般化されつつある。
The above-mentioned DRAM is a one-transistor type in which one MOS transistor and one MOS capacitor are provided to constitute one memory cell. In recent years, however, a three-transistor type which can further simplify the manufacturing process is described. DR
AM is being generalized.

【0012】すなわち、読みだし時において、1トラン
ジスタ型DRAMでは、メモリセル内のキャパシタとビ
ット線との間で直接電荷の分配を行うため、キャパシタ
の容量を大きくする必要があるのに対し、3トランジス
タ型では、メモリセルのキャパシタとビット線との間で
電荷の分配が行われない。従ってメモリセルのキャパシ
タを1トランジスタ型よりも小さくすることができるた
め、その分、製造プロセスを複雑化しないで済む。
That is, at the time of reading, in a one-transistor type DRAM, since charge is directly distributed between a capacitor in a memory cell and a bit line, the capacitance of the capacitor needs to be increased. In the transistor type, charge is not distributed between the capacitor of the memory cell and the bit line. Therefore, since the capacitor of the memory cell can be made smaller than that of the one-transistor type, the manufacturing process does not need to be complicated.

【0013】図8、従来の3トランジスタ型DRAMに
おける要部構成を示す回路図であり、選択された1個の
メモリセルが示されている。図9は、図8のDRAMに
おける読み出し時のビット線電位の変動を示すグラフで
ある。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of a conventional three-transistor DRAM, in which one selected memory cell is shown. FIG. 9 is a graph showing a change in bit line potential at the time of reading in the DRAM of FIG.

【0014】このDRAMの書き込み時には、ライトワ
ード線102が“H”レベルになり、その結果、メモリ
セル105のトランジスタ105cがオンして、ライト
ビット線103に転送された“H”レベル(“1”)、
“L”レベル(“0”)の書き込みデータをキャパシタ
CSに書き込む。
At the time of writing in this DRAM, the write word line 102 goes to "H" level, and as a result, the transistor 105c of the memory cell 105 is turned on, and the "H" level ("1") transferred to the write bit line 103 is turned on. ”),
Write data of “L” level (“0”) is written to the capacitor CS.

【0015】読み出し時には、プリチャージ信号PCS
によりトランジスタ121、122がオンされ、メモリ
セルビット線104,ダミービット線112がプリチャ
ージされ、リードワード線101とダミーリードワード
線111が同時に“H”レベルとなる。その結果、メモ
リセル105では、トランジスタ105aがオンし、こ
のとき、キャパシタCSに“1”が記憶されていれば、
トランジスタ105bを介して“L”レベルがメモリセ
ルビット線104へ転送され(図9のP1参照)、逆に
キャパシタCSに“0”が記憶されていれば、トランジ
スタ105bがオフであるため、メモリセルビット線1
04は“H”レベルのまま保持される(図9のP2参
照)。
At the time of reading, the precharge signal PCS
As a result, the transistors 121 and 122 are turned on, the memory cell bit line 104 and the dummy bit line 112 are precharged, and the read word line 101 and the dummy read word line 111 are simultaneously set to the “H” level. As a result, in the memory cell 105, the transistor 105a is turned on. At this time, if “1” is stored in the capacitor CS,
The “L” level is transferred to the memory cell bit line 104 via the transistor 105b (see P1 in FIG. 9). Conversely, if “0” is stored in the capacitor CS, the transistor 105b is off, so that the memory Cell bit line 1
04 is maintained at the “H” level (see P2 in FIG. 9).

【0016】一方、ダミーセル113では、トランジス
タ113bのゲートに初期電圧VDD/2が供給されて
いるため、ダミーリードワード線111の“H”レベル
によりトランジスタ113aがオンすると、ダミービッ
ト線112が“H”レベルと“L”レベルの中間電位に
設定される(図9のP3参照)。この中間電位は、正確
にはメモリセルに“H”レベルまたは“L”レベルが保
持されているときの電荷の時間に対するリーク量の変化
に対して、その中間程度の変化をするような電位であ
る。
On the other hand, in the dummy cell 113, since the initial voltage VDD / 2 is supplied to the gate of the transistor 113b, when the transistor 113a is turned on by the "H" level of the dummy read word line 111, the dummy bit line 112 becomes "H". The potential is set to an intermediate potential between the “L” level and the “L” level (see P3 in FIG. 9). This intermediate potential is a potential that changes about halfway between changes in the amount of leakage of the electric charge with time when the memory cell holds the “H” level or the “L” level. is there.

【0017】センスアンプ130は、センスタイミング
信号STSにより、所定のSTでメモリセルビット線1
04の電位をダミービット線112の電位と比較し、読
み出しデータの“H”レベル、“L”レベルを判別す
る。
In response to a sense timing signal STS, the sense amplifier 130 performs a memory cell bit line 1 at a predetermined ST.
The potential of the read data is compared with the potential of the dummy bit line 112 to determine the “H” level and the “L” level of the read data.

【0018】図10は、従来の他の3トランジスタ型D
RAMにおける要部構成を示す回路図である。
FIG. 10 shows another conventional three-transistor type D.
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a main configuration of a RAM.

【0019】このDRAMは、図8のDRAMにおい
て、ダミーセル113を別の構造のダミーセル141に
置き換えたものであり、他の構成は図8と同様である。
This DRAM differs from the DRAM of FIG. 8 in that the dummy cell 113 is replaced by a dummy cell 141 having another structure, and the other configuration is the same as that of FIG.

【0020】本例のダミーセル141は、他のメモリセ
ルとディメンジョン(トランジスタサイズ)が異なるト
ランジスタ141a,141bで構成され、トランジス
タ141bのゲートには、DRAMの供給電圧VDDが
初期電圧として印加されており、読み出し時にダミービ
ット線112を中間電位に設定する。
The dummy cell 141 of this embodiment is composed of transistors 141a and 141b having dimensions (transistor sizes) different from those of other memory cells. The supply voltage VDD of the DRAM is applied to the gate of the transistor 141b as an initial voltage. , The dummy bit line 112 is set to the intermediate potential at the time of reading.

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のDRAMでは次のような問題点があった。
However, the above-mentioned conventional DRAM has the following problems.

【0022】(1)上記公報(図6,図7)の1トラン
ジスタ型DRAMでは、ダミーセルによりビット線DL
2 を中間電位に設定するため、そのディメンジョンを他
のメモリセルと変える必要があった。回路の対称性や集
積度の観点から、ダミーセルのディメンジョンも他のメ
モリセルのそれと同じであることが望ましく、ダミーセ
ルのディメンジョンがメモリセルと異なって回路の対称
性が崩れると、DRAMの特性にバラツキが生ずる恐れ
があった。
(1) In the one-transistor DRAM of the above publication (FIGS. 6 and 7), the bit lines DL are provided by dummy cells.
In order to set 2 to an intermediate potential, its dimensions had to be changed from other memory cells. From the viewpoint of circuit symmetry and degree of integration, it is desirable that the dimensions of the dummy cells be the same as those of the other memory cells. If the dimensions of the dummy cells are different from the memory cells and the symmetry of the circuit is broken, the characteristics of the DRAM will vary. Could occur.

【0023】仮に、ダミーセルのディメンジョンを他の
メモリセルと同じにした場合でも、上記公報の例では、
ダミーセルのキャパシタに印加する初期電圧を、装置の
電源電位VDから、これよりも低い中間電位に変える必
要がある。この中間電位を生成するためには例えば抵抗
分割などの簡単な方法があるが、この方法では所望の電
位を正確に得るのが困難であり、また、そのために複雑
な回路を入れるのも集積度が重要なDRAMにとっては
問題である。
Even if the dimensions of the dummy cell are the same as those of the other memory cells,
It is necessary to change the initial voltage applied to the capacitor of the dummy cell from the power supply potential VD of the device to a lower intermediate potential. Although there is a simple method such as resistance division to generate the intermediate potential, it is difficult to obtain a desired potential accurately by this method. Is a problem for important DRAMs.

【0024】(2)上記図8及び図10の3トランジス
タ型DRAMでも、上記公報のDRAMと同様の問題が
生ずる。すなわち、図8のDRAMでは、ダミーセル1
13のトランジスタ113bのゲートに印加する初期電
圧VDD/2を生成する必要があり、また、図10のD
RAMでは、ダミーセル140のトランジスタ140
a,140bのディメンジョンを変える必要がある。
(2) The three-transistor DRAM shown in FIGS. 8 and 10 has the same problem as the DRAM disclosed in the above publication. That is, in the DRAM of FIG.
It is necessary to generate an initial voltage VDD / 2 to be applied to the gate of the transistor 113b of FIG.
In the RAM, the transistor 140 of the dummy cell 140
It is necessary to change the dimensions of a and 140b.

【0025】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、ダミーセルを
メモリセルと同一のディメンジョンで構成でき、しかも
ダミーセルの初期電圧として装置の単一電源を用いるこ
とができるDRAM及び3トランジスタ型DRAMを提
供することである。またその他の目的は、特性及び集積
度の向上を可能にするDRAM及び3トランジスタ型D
RAMを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. An object of the present invention is to make it possible to form a dummy cell with the same dimensions as a memory cell and to use a single unit of the device as an initial voltage of the dummy cell. An object of the present invention is to provide a DRAM and a three-transistor type DRAM which can use a power supply. Another object is to provide a DRAM and a three-transistor type D that can improve the characteristics and the degree of integration.
To provide RAM.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明であるDRAMの特徴は、読み出しモー
ド時に第1及び第2のビット線を電源電位でプリチャー
ジするプリチャージ回路と、前記読み出しモード時に供
給される外部信号に基づき、ロウアドレスで指定される
第1及び第2のワード線の選択動作を行うワード線選択
回路と、前記第1のビット線と前記第1のワード線との
交差箇所に接続され、該第1のワード線の選択時に開い
て、プリチャージされた前記第1のビット線へ高レベル
/低レベルに対応した記憶情報を出力するメモリセル
と、前記第2のビット線と前記第2のワード線との交差
箇所に接続され、該第2のワード線の選択時に開いて、
プリチャージされた前記第2のビット線を前記高レベル
と低レベルの中間のレベルである中間電位に設定するダ
ミーセルと、前記第1及び第2のワード線の選択後の所
定のタイミングで前記第1と第2のビット線の電位を比
較し、前記メモリセルより読み出された情報を判別して
出力するセンスアンプとを備えたDRAMにおいて、前
記ダミーセルの開くタイミングを前記メモリセルの開く
タイミングよりも所定時間遅らせるディレイ手段を設
け、前記ダミーセルは、前記メモリセルと同一のディメ
ンジョンで構成すると共に、前記第2のビット線を前記
中間電位に設定するための電荷を前記電源電位を用いて
保持する構成にしたことにある。
In order to achieve the above object, a DRAM according to a first aspect of the present invention is characterized by a precharge circuit for precharging first and second bit lines with a power supply potential in a read mode. A word line selection circuit for selecting first and second word lines designated by a row address based on an external signal supplied in the read mode, the first bit line and the first word A memory cell connected to a crossing point of the first word line and opened when the first word line is selected, and outputting storage information corresponding to a high level / low level to the precharged first bit line; Connected to the intersection of a second bit line and the second word line, and opened when the second word line is selected,
A dummy cell for setting the precharged second bit line to an intermediate potential that is an intermediate level between the high level and the low level; and a dummy cell at a predetermined timing after selection of the first and second word lines. In a DRAM including a sense amplifier that compares the potentials of the first and second bit lines and determines and outputs information read from the memory cell, the timing of opening the dummy cell is determined by the timing of opening the memory cell. A delay means for delaying the dummy cell by a predetermined time, the dummy cell has the same dimensions as the memory cell, and holds a charge for setting the second bit line to the intermediate potential using the power supply potential. In the configuration.

【0027】この第1の発明によれば、ディレイ手段に
より、ダミーセルの開くタイミングをメモリセルの開く
タイミングよりも所定時間遅らせるので、ダミーセル
を、メモリセルと同一のディメンジョンで構成し且つ装
置の単一の電源電位を用いる構成にしても、ダミーセル
は第2のビット線を的確に中間電位に設定し、センスア
ンプは、読み出された情報の判別を正確に行って出力す
る。
According to the first aspect of the present invention, the timing of opening the dummy cell is delayed by a predetermined time from the timing of opening the memory cell by the delay means, so that the dummy cell has the same dimension as that of the memory cell and has a single device. Even in the configuration using the power supply potential, the dummy cell accurately sets the second bit line to the intermediate potential, and the sense amplifier accurately determines and outputs the read information.

【0028】第2の発明であるDRAMの特徴は、上記
第1の発明において、前記ディレイ手段を、前記ワード
線選択回路と前記ダミーセルとの間の位置の前記第2の
ワード線に介設された拡散抵抗としたことにある。
A feature of the DRAM according to the second invention is that, in the first invention, the delay means is provided on the second word line at a position between the word line selection circuit and the dummy cell. That is, the diffusion resistance has been set.

【0029】この第2の発明によれば、ディレイ手段
は、集積化された回路内でも容易に形成される。
According to the second aspect, the delay means can be easily formed even in an integrated circuit.

【0030】第3の発明であるDRAMの特徴は、上記
第1の発明において、前記ディレイ手段は、前記第2の
ワード線を前記第1のワード線よりも遅らせて選択する
ために前記外部信号を遅延するディレイ回路で構成した
ことにある。
A third aspect of the present invention is a DRAM according to the first aspect, wherein the delay means selects the second word line later than the first word line to select the second word line. In a delay circuit for delaying the delay time.

【0031】この第3の発明によれば、ディレイ手段
は、簡単に構成される。
According to the third aspect, the delay means is simply configured.

【0032】第4の発明である3トランジスタ型DRA
Mの特徴は、第1のMOS型トランジスタのソースまた
はドレインとなる一方の電極を第2のMOS型トランジ
スタのゲートに接続し、もう一方の電極をライト用ビッ
ト線に接続し、第2のMOS型トランジスタのソースを
接地し、そのドレインを第3のMOS型トランジスタの
ソースまたはドレインとなる一方の電極に接続し、もう
一方の電極をリード用ビット線に接続し、前記第1のM
OS型トランジスタのゲートをライト用ワード線に接続
し、前記第3のMOS型トランジスタのゲートをリード
用ワード線に接続したメモリセルと、前記第2のMOS
型トランジスタと同一サイズで構成された第4のMOS
型トランジスタのゲートを電源に接続し、そのソースを
接地し、そのドレインを前記第3のMOS型トランジス
タと同一サイズで構成された第5のMOS型トランジス
タのソースまたはドレインとなる一方の電極に接続し、
もう一方の電極をダミー用ビット線に接続し、前記第5
のMOS型トランジスタのゲートをダミー用ワード線に
接続したダミーセルと、第6のMOS型トランジスタの
ドレインを前記電源に接続し、そのソースを前記リード
用ビット線に接続すると共に、第7のMOS型トランジ
スタのドレインを前記電源に接続し、そのソースを前記
ダミー用ビット線に接続したプリチャージ回路と、読み
出しモード時に、ロウアドレスで指定される前記リード
用ワード線及び前記ダミー用ワード線を選択して活性化
するワード線選択回路と、前記ワード線選択回路と前記
ダミーセルとの間の位置の前記ダミー用ワード線に介設
された拡散抵抗と、前記リード用ビット線と前記ダミー
用ビット線を入力信号とする差動増幅器とを備え、前記
読み出しモード時に、前記リード用ビット線及び前記ダ
ミー用ビット線をプリチャージしておき、前記リード用
ワード線及び前記ダミー用ワード線の選択後の所定のタ
イミングで、前記差動増幅器により前記リード用ビット
線と前記ダミー用ビット線の電位を比較し、前記メモリ
セルより読み出された情報を判別して出力することにあ
る。
Fourth invention, a three-transistor type DRA
The feature of M is that one electrode serving as a source or a drain of the first MOS transistor is connected to the gate of the second MOS transistor, the other electrode is connected to the write bit line, The source of the transistor is grounded, the drain of the transistor is connected to one electrode serving as the source or drain of the third MOS transistor, and the other electrode is connected to a read bit line.
A memory cell having a gate of an OS transistor connected to a write word line and a gate of the third MOS transistor connected to a read word line;
Fourth MOS having the same size as the type transistor
The gate of the type transistor is connected to the power supply, the source is grounded, and the drain is connected to one electrode serving as the source or drain of a fifth MOS transistor having the same size as the third MOS transistor. And
The other electrode is connected to the dummy bit line, and the fifth
A dummy cell in which the gate of the MOS transistor is connected to a dummy word line, a drain of the sixth MOS transistor is connected to the power supply, and a source thereof is connected to the read bit line. A precharge circuit in which a drain of a transistor is connected to the power supply and a source thereof is connected to the dummy bit line, and a read word line and a dummy word line specified by a row address are selected in a read mode. A word line selection circuit to be activated by a dummy word line, a diffusion resistor provided in the dummy word line at a position between the word line selection circuit and the dummy cell, the read bit line and the dummy bit line. A differential amplifier as an input signal, wherein in the read mode, the read bit line and the dummy bit line The differential amplifier compares the potentials of the read bit line and the dummy bit line at a predetermined timing after the read word line and the dummy word line are selected, The purpose is to determine and output the information read out.

【0033】この第4の発明によれば、3トランジスタ
型DRAMにおいて、上記第1及び第2の発明と同様の
作用を呈する。
According to the fourth aspect, the three-transistor DRAM exhibits the same operation as the first and second aspects.

【0034】第5の発明である3トランジスタ型DRA
Mの特徴は、第1のMOS型トランジスタのソースまた
はドレインとなる一方の電極を第2のMOS型トランジ
スタのゲートに接続し、もう一方の電極をライト用ビッ
ト線に接続し、第2のMOS型トランジスタのソースを
接地し、そのドレインを第3のMOS型トランジスタの
ソースまたはドレインとなる一方の電極に接続し、もう
一方の電極をリード用ビット線に接続し、前記第1のM
OS型トランジスタのゲートをライト用ワード線に接続
し、前記第3のMOS型トランジスタのゲートをリード
用ワード線に接続したメモリセルと、前記第2のMOS
型トランジスタと同一サイズで構成された第4のMOS
型トランジスタのゲートを電源に接続し、そのソースを
接地し、そのドレインを前記第3のMOS型トランジス
タと同一サイズで構成された第5のMOS型トランジス
タのソースまたはドレインとなる一方の電極に接続し、
もう一方の電極をダミー用ビット線に接続し、前記第5
のMOS型トランジスタのゲートをダミー用ワード線に
接続したダミーセルと、第6のMOS型トランジスタの
ドレインを前記電源に接続し、そのソースを前記リード
用ビット線に接続すると共に、第7のMOS型トランジ
スタのドレインを前記電源に接続し、そのソースを前記
ダミー用ビット線に接続したプリチャージ回路と、読み
出しモード時に供給される外部信号に基づき、ロウアド
レスで指定される前記リード用ワード線及び前記ダミー
用ワード線を選択して活性化するワード線選択回路と、
前記ダミー用ワード線を前記リード用ワード線よりも遅
らせて活性化するために前記外部信号を遅延するディレ
イ回路とを備え、前記読み出しモード時に、前記リード
用ビット線及び前記ダミー用ビット線をプリチャージし
ておき、前記リード用ワード線及び前記ダミー用ワード
線の選択後の所定のタイミングで、前記差動増幅器によ
り前記リード用ビット線と前記ダミー用ビット線の電位
を比較し、前記メモリセルより読み出された情報を判別
して出力することにある。
The three-transistor type DRA according to the fifth invention
The feature of M is that one electrode serving as a source or a drain of the first MOS transistor is connected to the gate of the second MOS transistor, the other electrode is connected to the write bit line, The source of the transistor is grounded, the drain of the transistor is connected to one electrode serving as the source or drain of the third MOS transistor, and the other electrode is connected to a read bit line.
A memory cell having a gate of an OS transistor connected to a write word line and a gate of the third MOS transistor connected to a read word line;
Fourth MOS having the same size as the type transistor
The gate of the type transistor is connected to the power supply, the source is grounded, and the drain is connected to one electrode serving as the source or drain of a fifth MOS transistor having the same size as the third MOS transistor. And
The other electrode is connected to the dummy bit line, and the fifth
A dummy cell in which the gate of the MOS transistor is connected to a dummy word line, a drain of the sixth MOS transistor is connected to the power supply, and a source thereof is connected to the read bit line. A precharge circuit having a drain connected to the power supply and a source connected to the dummy bit line, and the read word line and the read word line specified by a row address based on an external signal supplied in a read mode. A word line selection circuit for selecting and activating a dummy word line;
A delay circuit for delaying the external signal in order to activate the dummy word line later than the read word line, and to set the read bit line and the dummy bit line in the read mode. The differential amplifier compares the potentials of the read bit line and the dummy bit line at a predetermined timing after the read word line and the dummy word line are selected, and The purpose is to determine and output the information read out.

【0035】この第5の発明によれば、3トランジスタ
型DRAMにおいて、上記第1及び第3の発明と同様の
作用を呈する。
According to the fifth aspect, the three-transistor DRAM exhibits the same operation as the first and third aspects.

【0036】[0036]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係
るDRAMの全体構成を示すブロック図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a DRAM according to the first embodiment of the present invention.

【0037】このDRAMは、情報を記憶するメモリセ
ルアレイ1と、メモリセルアレイ1の行方向を選択する
ロウデコーダ2と、メモリセルアレイ1の列方向を選択
するカラムデコーダ3とを備えている。さらに、メモリ
セルアレイ1には、読み出しデータ/書き込みデータを
増幅するためのセンスアンプ部4が接続され、このセン
スアンプ部4を介して入力バッファ5A、出力バッファ
5Bが接続されている。
This DRAM includes a memory cell array 1 for storing information, a row decoder 2 for selecting a row direction of the memory cell array 1, and a column decoder 3 for selecting a column direction of the memory cell array 1. Further, a sense amplifier unit 4 for amplifying read data / write data is connected to the memory cell array 1, and an input buffer 5A and an output buffer 5B are connected via the sense amplifier unit 4.

【0038】入力バッファ5Aには書き込みデータI0
〜I15が入力され、出力バッファ5Bからは読み出し
データO0〜O15が出力されるようになっている。出
力バッファ5Bは、出力イネーブルOE(バー)で出力
状態が制御される。
The write data I0 is input to the input buffer 5A.
To I15, and read data O0 to O15 are output from the output buffer 5B. The output state of the output buffer 5B is controlled by the output enable OE (bar).

【0039】また、ロウデコーダ2には、ロウアドレス
A9〜A16を駆動するロウアドレスバッファ6が接続
され、カラムデコーダ3にはカラムアドレスA0〜A8
を駆動するカラムアドレスバッファ7が接続されてい
る。そして、リフレッシュ用(CBR方式)のアドレス
発生カウンタ8が設けられ、さらに、本DRAMの動作
タイミングを生成するクロック生成回路9が設けられて
いる。クロック生成回路9には、書き込みイネーブルW
E(バー)とロウアドレスストローブRAS(バー)と
カラムアドレスストローブCAS(バー)が供給され
る。
The row decoder 2 is connected to a row address buffer 6 for driving row addresses A9 to A16, and the column decoder 3 is connected to column addresses A0 to A8.
Are connected. An address generation counter 8 for refresh (CBR system) is provided, and a clock generation circuit 9 for generating operation timing of the DRAM is provided. The clock generation circuit 9 has a write enable W
E (bar), row address strobe RAS (bar), and column address strobe CAS (bar) are supplied.

【0040】図2は、図1に示したメモリセルアレイ1
及びロウデコーダ2の構成を示す概略図である。
FIG. 2 shows the memory cell array 1 shown in FIG.
2 is a schematic diagram showing a configuration of a row decoder 2. FIG.

【0041】本実施形態のメモリセルアレイ1は、複数
のビット線対11−1a,11−1b、11−2a,1
1−2b、…と、ワード線12−1,12−2…の各交
差箇所に、“1”または“0”の情報を記憶する3トラ
ンジスタ型のメモリセル14がそれぞれ接続されてい
る。さらに、各ビット線対11−1a,11−1b、1
1−2a,11−2b、…とダミーリードワード線13
との各交差箇所には、ダミーセル15が接続されてい
る。ダミーリードワード線13には、本実施形態の特徴
を成す拡散抵抗16が挿入されている。
The memory cell array 1 of this embodiment has a plurality of bit line pairs 11-1a, 11-1b, 11-2a, 1
, And the word lines 12-1, 12-2,..., Are connected to three-transistor type memory cells 14 that store information of “1” or “0”, respectively. Further, each bit line pair 11-1a, 11-1b, 1
1-2a, 11-2b,... And the dummy read word line 13
Is connected to a dummy cell 15 at each intersection. A diffusion resistor 16 which is a feature of the present embodiment is inserted in the dummy read word line 13.

【0042】そして、各ビット線対11−1a,11−
1b、…には、それぞれセンスアンプ4−1,4−2…
が接続され、ワード線12−1…は、ロウデコーダ2に
接続され、さらにダミーリードワード線13が拡散抵抗
16を介してロウデコーダ2に接続されている。
Each bit line pair 11-1a, 11-
1b,... Have sense amplifiers 4-1 and 4-2, respectively.
Are connected to the row decoder 2, and the dummy read word lines 13 are connected to the row decoder 2 via the diffusion resistors 16.

【0043】ロウデコーダ2は、メモリセル用デコード
部2aとダミー用デコード部2bで構成され、メモリセ
ル用デコード部2aは、クロック生成回路9でRAS
(バー)より生成されるロウデコードクロックRCLに
より、ロウアドレスバッファ6からのロウアドレスA9
〜A16をデコードし、ワード線12−1…中の所定の
ものを選択する。ダミー用デコード部2bは、ロウデコ
ードクロックRCLにより、ロウアドレスバッファ6か
らのアドレスA9をデコードし、ダミーリードワード線
13を活性化する。
The row decoder 2 comprises a memory cell decoding section 2a and a dummy decoding section 2b.
The row address A9 from the row address buffer 6 is generated by the row decode clock RCL generated from (bar).
To A16, and a predetermined one of the word lines 12-1... Is selected. The dummy decode unit 2b decodes the address A9 from the row address buffer 6 by the row decode clock RCL, and activates the dummy read word line 13.

【0044】図3は、図2に示したメモリセルアレイ1
の詳細を示す回路図であり、説明を簡単にするためにセ
ンスアンプ4−1の列のみが示されている。
FIG. 3 shows the memory cell array 1 shown in FIG.
Is a circuit diagram showing the details of the first embodiment, and only columns of the sense amplifiers 4-1 are shown for simplification of the description.

【0045】同図に示すように、メモリセル14は、左
右対称の一対のメモリセル14A(偶数用),14B
(奇数用)からなり、各メモリセル14A,14Bは、
それぞれ読み出し用トランジスタ14aと電荷保持用ト
ランジスタ14bと書き込み用トランジスタ14cとキ
ャパシタCSとで構成されている。メモリセル14Aに
は、リードワード線(偶数)12−1aとライトワード
線(偶数)12−1bが接続され、メモリセル14Bに
は、リードワード線(奇数)12−1cとライトワード
線(奇数)12−1dが接続されている。
As shown in the figure, the memory cell 14 includes a pair of symmetrical memory cells 14A (for even numbers) and 14B.
(For odd numbers), and each memory cell 14A, 14B
Each is composed of a reading transistor 14a, a charge holding transistor 14b, a writing transistor 14c, and a capacitor CS. A read word line (even) 12-1a and a write word line (even) 12-1b are connected to the memory cell 14A, and a read word line (odd) 12-1c and a write word line (odd) are connected to the memory cell 14B. ) 12-1d are connected.

【0046】また、ダミーセル15も左右対称の一対の
ダミーセル15A(偶数用),15B(奇数用)からな
り、各ダミーセル15A,15Bは、読み出し用トラン
ジスタ15aと電荷保持用トランジスタ15bとで構成
され、トランジスタ15bのゲートに印加される初期電
圧は、DRAMの電源電位VDDと同じであり、さらに
はトランジスタ15a,15bのディメンジョンは、メ
モリセル14のトランジスタ14a,14bと同一にな
っている。すなわち、ダミーセル15A,15Bは、そ
れぞれメモリセル14A,14Bの書き込み部を省いた
形状となっている。
The dummy cell 15 also comprises a pair of symmetrical dummy cells 15A (for even numbers) and 15B (for odd numbers). Each of the dummy cells 15A and 15B is composed of a readout transistor 15a and a charge holding transistor 15b. The initial voltage applied to the gate of the transistor 15b is the same as the power supply potential VDD of the DRAM, and the dimensions of the transistors 15a and 15b are the same as those of the transistors 14a and 14b of the memory cell 14. That is, the dummy cells 15A and 15B have a shape in which the write portions of the memory cells 14A and 14B are omitted.

【0047】そして、ダミーセル15A,15Bには、
ダミーリードワード線(偶数)13a、ダミーリードワ
ード線(奇数)13bがそれぞれ接続され、その各ダミ
ーリードワード線(偶数)13a及びダミーリードワー
ド線(奇数)13bが拡散抵抗16a,16bを介して
ロウデコーダ2に接続されると共に、ワード線12−1
a〜ワード線12−1dが直接ロウデコーダ2に接続さ
れている。
The dummy cells 15A and 15B have
A dummy read word line (even number) 13a and a dummy read word line (odd number) 13b are connected to each other, and the dummy read word line (even number) 13a and the dummy read word line (odd number) 13b are connected via diffusion resistors 16a and 16b. Connected to the row decoder 2 and the word line 12-1.
a to the word line 12-1d are directly connected to the row decoder 2.

【0048】さらに、電源VDDとビット線対11−1
a,11−1bとの間には、プリチャージ用トランジス
タ18a,18bがそれぞれ接続されると共に、ビット
線対11−1a,11−1b間にはプリチャージ用トラ
ンジスタ18cが接続されて、プリチャージ回路18が
構成されている。これらトランジスタ18a〜18cの
ゲートには、プリチャージ時にプリチャージ信号PCG
が印加されるようになっている。
Further, the power supply VDD and the bit line pair 11-1
a, 11-1b are connected to precharge transistors 18a, 18b, respectively, and between the bit line pair 11-1a, 11-1b, a precharge transistor 18c is connected, so that precharge is performed. A circuit 18 is configured. The gates of these transistors 18a to 18c have precharge signals PCG at the time of precharge.
Is applied.

【0049】また、ビット線対11−1a,11−1b
間に接続されたセンスアンプ4−1は、トランジスタ4
a,4bからなる差動増幅器で構成され、センスタイミ
ング信号STSによる所定のタイミングで動作し、読み
出し時におけるビット線対11−1a,11−1bの微
妙な電位差を増幅してメモリセル14の記憶情報の
“H”レベル、“L”レベルを判別し、データ線19
a,19aへ出力するものである。
The bit line pairs 11-1a and 11-1b
The sense amplifier 4-1 connected between the transistors 4
a, 4b, and operates at a predetermined timing according to the sense timing signal STS to amplify a delicate potential difference between the bit line pair 11-1a and 11-1b at the time of reading to store data in the memory cell 14. The “H” level and the “L” level of the information are determined, and the data line 19
a, 19a.

【0050】次に、本実施形態のDRAMの読み出し時
の動作を図4のグラフを参照しつつ説明する。なお、図
4は、本実施形態の読み出し時のビット線電位の変動を
示すグラフである。
Next, the read operation of the DRAM of this embodiment will be described with reference to the graph of FIG. FIG. 4 is a graph showing the fluctuation of the bit line potential at the time of reading in the present embodiment.

【0051】読み出し時では、書き込みイネーブルWE
(バー)を“H”レベル(非活性化)にし、アドレスA
0〜A16を与えて行う。プリチャージ信号PCGは
“H”レベルになり、ビット線対11−1a,11−1
bがVDDにプリチャージされる。また、ロウアドレス
ストローブRAS(バー)は“L”レベル(活性化)と
なり、ロウアドレスバッファ6からのロウアウドレスA
9〜A16がロウデコーダ2に取り込まれる。ロウアド
レスA9〜A16がロウデコーダ2でデコードされる
と、ロウデコーダ2により、n本のリードワード線12
−1…のうちの所望のワード線と、ダミーリードワード
線13とが同時に選択される。
At the time of reading, write enable WE
(Bar) is set to the “H” level (inactive), and the address A
This is performed by giving 0 to A16. The precharge signal PCG attains the "H" level, and the bit line pair 11-1a, 11-1
b is precharged to VDD. Also, the row address strobe RAS (bar) becomes “L” level (activated), and the row address A from the row address buffer 6 is
9 to A16 are taken into the row decoder 2. When the row addresses A9 to A16 are decoded by the row decoder 2, the row decoder 2 causes the n read word lines 12
.. And the dummy read word line 13 are simultaneously selected.

【0052】例えばリードワード線(偶数)12−1a
が選択されて“H”レベルになったとすると、トランジ
スタ14aがオンし、このとき、キャパシタCSに
“1”が記憶されていれば、トランジスタ14bを介し
て“L”レベルがビット線対11−1bへ転送され(図
4のQ1参照)、逆にキャパシタCSに“0”が記憶さ
れていれば、トランジスタ14bがオフであるため、ビ
ット線対11−1bは“H”レベルのまま保持される
(図9のQ2参照)。このとき、ビット線対11−1b
の電位は、図4のQ1,Q2に示すように、リークによ
って時間と共に低減していく。
For example, a read word line (even number) 12-1a
Is selected and turned to the "H" level, the transistor 14a is turned on. At this time, if "1" is stored in the capacitor CS, the "L" level is changed to the bit line pair 11- through the transistor 14b. 1b (see Q1 in FIG. 4). Conversely, if "0" is stored in the capacitor CS, the transistor 14b is off, and the bit line pair 11-1b is held at the "H" level. (See Q2 in FIG. 9). At this time, the bit line pair 11-1b
Is gradually reduced by leakage as shown by Q1 and Q2 in FIG.

【0053】一方、ダミーセル15では、ダミーリード
ワード線(偶数)13aが選択された結果、該ダミーリ
ードワード線(偶数)13aが“H”レベルになってダ
ミーセル15Aのトランジスタ15aがオンするが、こ
のとき拡散抵抗16aのディレイ作用により、トランジ
スタ15aのオンするタイミングがメモリセル14のト
ランジスタ14aのオンタイミングよりも所定時間DL
(図4参照)だけ遅れる。
On the other hand, in the dummy cell 15, as a result of selecting the dummy read word line (even number) 13a, the dummy read word line (even number) 13a becomes "H" level and the transistor 15a of the dummy cell 15A is turned on. At this time, due to the delay effect of the diffusion resistor 16a, the timing at which the transistor 15a is turned on is a predetermined time DL longer than the timing at which the transistor 14a of the memory cell 14 is turned on.
(See FIG. 4).

【0054】その結果、ビット線対11−1aの電位
は、図4のQ3に示すように低減し、センスタイミング
ST時付近では“L”レベル(Q1)と“H”レベル
(Q2)の中間の電位(Q3)を推移することになる。
したがって、ダミーセル15の読み出しビット線がQ3
のような推移状態になるように拡散抵抗16の抵抗値を
設定する必要がある。
As a result, the potential of the bit line pair 11-1a is reduced as shown by Q3 in FIG. 4, and the potential between the "L" level (Q1) and the "H" level (Q2) is near the sense timing ST. (Q3).
Therefore, the read bit line of the dummy cell 15 is Q3
It is necessary to set the resistance value of the diffusion resistor 16 so as to make the transition state as described above.

【0055】そして、所定のセンスタイミングSTで活
性化するセンスタイミング信号STSにより、センスア
ンプ4−1はビット線対11−1bの電位をビット線対
11−1aの中間電位と比較して、読み出しデータの
“H”レベル、“L”レベルを判別し、その結果をデー
タ線19a,19bを介して出力バッファ5Bへ出力す
る。このとき、出力イネーブルOE(バー)は活性化さ
れているので、16ビットの読み出しデータO0〜O1
5が出力バッファ5Bより外部へ出力される。
Then, in response to a sense timing signal STS activated at a predetermined sense timing ST, the sense amplifier 4-1 compares the potential of the bit line pair 11-1b with the intermediate potential of the bit line pair 11-1a to read. The data "H" level and "L" level are determined, and the result is output to the output buffer 5B via the data lines 19a and 19b. At this time, since the output enable OE (bar) is activated, the 16-bit read data O0 to O1 is output.
5 is output from the output buffer 5B to the outside.

【0056】このように、本実施形態では、ダミーリー
ドワード線13に拡散抵抗16を挿入することにより、
読み出し時に、選択したメモリセル14よりタイミング
を遅らせてダミーセル15を開かせるているので、従来
回路のように、ダミーセルの初期電圧に中間電位を使用
しなくとも済むだけでなく、ダミーセル15は、書き込
み部を除いてメモリセル14と同一のものを使用するこ
とができる。これにより、回路が簡単化され、高集積化
が可能になる。
As described above, in this embodiment, by inserting the diffusion resistor 16 into the dummy read word line 13,
At the time of reading, the dummy cell 15 is opened with a timing delayed from the selected memory cell 14, so that not only the intermediate voltage need not be used for the initial voltage of the dummy cell as in the conventional circuit, but also the dummy cell 15 Except for the part, the same memory cell 14 can be used. This simplifies the circuit and enables high integration.

【0057】次に、本発明の第2実施形態を説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described.

【0058】図5は、本発明の第2実施形態に係るDR
AMにおけるメモリセルアレイ1及びロウデコーダ2の
構成を示す概略図である。
FIG. 5 shows a DR according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a memory cell array 1 and a row decoder 2 in AM.

【0059】本実施形態が上述の第1実施形態と異なる
点は、第1実施形態では拡散抵抗16を用いてダミーセ
ル15を開くタイミングをメモリセルアレイ1内部にて
自動発生しているのに対し、本実施形態ではダミーセル
15を開くタイミングを外部信号にて制御できるような
構成になっている点である。
This embodiment is different from the first embodiment in that the timing of opening the dummy cell 15 using the diffusion resistor 16 is automatically generated inside the memory cell array 1 in the first embodiment. The present embodiment is characterized in that the timing for opening the dummy cell 15 can be controlled by an external signal.

【0060】具体的には、ロウデコーダ2内に複数個の
インバータを縦続接続したディレイ回路2cを設け、ク
ロック生成回路9からのロウデコードクロックRCLを
ディレイ回路2cを介してダミー用デコード部2bへ供
給するものである。ディレイ回路2cのディレイ値は、
図4に示したように、ダミーセル15の読み出しビット
線がQ3のような推移状態になるように設定する必要が
ある。
More specifically, a delay circuit 2c in which a plurality of inverters are connected in cascade is provided in the row decoder 2, and a row decode clock RCL from the clock generation circuit 9 is sent to the dummy decode unit 2b via the delay circuit 2c. Supply. The delay value of the delay circuit 2c is
As shown in FIG. 4, it is necessary to set the read bit line of the dummy cell 15 to have a transition state like Q3.

【0061】このような構成であっても、上記第1実施
形態と同様の作用効果を得ることができる。
Even with such a configuration, the same operation and effect as in the first embodiment can be obtained.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
であるDRAMによれば、ダミーセルの開くタイミング
をメモリセルの開くタイミングよりも所定時間遅らせる
ディレイ手段を設け、ダミーセルは、メモリセルと同一
のディメンジョンで構成したので、回路の特性を向上さ
せることが可能になる。さらに、ダミーセルは、第2の
ビット線を中間電位に設定するための電荷を装置の電源
電位を用いて保持する構成にしたので、ダミーセルの初
期電圧として装置の単一電源を用いることができる。こ
れにより、従来のようなダミーセル用に中間電位を生成
する必要がなくなり、回路の集積度を向上させることが
可能になる。
As described above in detail, according to the DRAM of the first aspect, the delay means for delaying the timing of opening the dummy cell by a predetermined time from the timing of opening the memory cell is provided. Since they are configured with the same dimensions, the characteristics of the circuit can be improved. Furthermore, since the dummy cell is configured to hold the electric charge for setting the second bit line to the intermediate potential by using the power supply potential of the device, a single power supply of the device can be used as the initial voltage of the dummy cell. As a result, it is not necessary to generate an intermediate potential for the dummy cell as in the related art, and the degree of integration of the circuit can be improved.

【0063】第2の発明であるDRAMによれば、上記
第1の発明において、ディレイ手段を、ワード線選択回
路とダミーセルとの間の位置の第2のワード線に介設さ
れた拡散抵抗としたので、第1の発明と同様の効果の奏
するほか、集積化された回路内にディレイ手段を簡単に
形成することができる。
According to the DRAM of the second aspect, in the first aspect, the delay means is provided with a diffusion resistor provided on the second word line at a position between the word line selection circuit and the dummy cell. Therefore, the same effect as that of the first invention can be obtained, and the delay means can be easily formed in the integrated circuit.

【0064】第3の発明であるDRAMによれば、上記
第1の発明において、ディレイ手段は、第2のワード線
を第1のワード線よりも遅らせて選択するために外部信
号を遅延するディレイ回路で構成したので、第1の発明
と同様の効果の奏するほか、ディレイ手段をより簡単に
構成することができる。
According to the DRAM of the third aspect, in the first aspect, the delay means delays an external signal in order to select the second word line later than the first word line. Since the circuit is constituted by a circuit, the same effects as those of the first invention can be obtained, and the delay means can be constituted more simply.

【0065】第4の発明である3トランジスタ型DRA
Mによれば、上記第1及び第2の発明と同様の効果を奏
する。
Four-transistor type three-transistor DRA
According to M, the same effects as those of the first and second inventions are provided.

【0066】第5の発明である3トランジスタ型DRA
Mによれば、上記第1及び第3の発明と同様の効果を奏
する。
The three-transistor type DRA according to the fifth invention
According to M, the same effects as those of the first and third aspects can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態に係るDRAMの全体構
成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of a DRAM according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したメモリセルアレイ1及びロウデコ
ーダ2の構成を示す概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a memory cell array 1 and a row decoder 2 shown in FIG.

【図3】図2に示したメモリセルアレイ1の詳細を示す
回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing details of a memory cell array 1 shown in FIG. 2;

【図4】第1実施形態における読み出し時のビット線電
位の変動を示すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing a change in bit line potential at the time of reading in the first embodiment.

【図5】本発明の第2実施形態に係るDRAMにおける
メモリセルアレイ1及びロウデコーダ2の構成を示す概
略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a configuration of a memory cell array 1 and a row decoder 2 in a DRAM according to a second embodiment of the present invention.

【図6】従来のDRAMの等価回路図である。FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of a conventional DRAM.

【図7】図6に示したDRAMのロウ・デコーダの構成
を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a row decoder of the DRAM shown in FIG. 6;

【図8】従来の3トランジスタ型DRAMにおける要部
構成を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a main configuration of a conventional three-transistor DRAM.

【図9】図8のDRAMにおける読み出し時のビット線
電位の変動を示すグラフである。
9 is a graph showing a change in bit line potential at the time of reading in the DRAM of FIG. 8;

【図10】従来の他の3トランジスタ型DRAMにおけ
る要部構成を示す回路図である。
FIG. 10 is a circuit diagram showing a main configuration of another conventional three-transistor DRAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 ロウデコーダ 2c ディレイ回路 4−1,4−2… センスアンプ 5B 出力バッファ 6 ロウアドレスバッファ 9 クロック生成回路 11−1a,11−1b… ビット線対 12−1a リードワード線(偶数) 12−1b ライトワード線(偶数) 12−1c ライトワード線(奇数) 12−1d リードワード線(奇数) 13 ダミーリードワード線 13a ダミーリードワード線(偶数) 13b ダミーリードワード線(奇数) 14 メモリセル 14a 読み出し用トランジスタ 14b 電荷保持用トランジスタ 14c 書き込み用トランジスタ 15 ダミーセル 15a ダミーセルの読み出し用トランジスタ 15b ダミーセルの電荷保持用トランジスタ 16 拡散抵抗 16a,16b 拡散抵抗 19a,19a データ線 CS キャパシタ RAS(バー) ロウアドレスストローブ RCL ロウデコードクロック A9〜A16 ロウアドレス 1 Memory cell array 2 Row decoder 2c Delay circuit 4-1 4-2 Sense amplifier 5B Output buffer 6 Row address buffer 9 Clock generation circuit 11-1a, 11-1b ... Bit line pair 12-1a Read word line (even number) 12-1b Write word line (even number) 12-1c Write word line (odd number) 12-1d Read word line (odd number) 13 Dummy read word line 13a Dummy read word line (even number) 13b Dummy read word line (odd number) 14 Memory Cell 14a Readout transistor 14b Charge retention transistor 14c Write transistor 15 Dummy cell 15a Dummy cell readout transistor 15b Dummy cell charge retention transistor 16 Diffusion resistance 16a, 16b Diffusion resistance 19a, 19a Data line CS capacitor RAS (bar) Row address strobe RCL Row decode clock A9 to A16 Row address

フロントページの続き (72)発明者 安部 隆行 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 (72)発明者 小川 恭輔 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 木村 昌浩 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内Continuing on the front page (72) Inventor Takayuki Abe 580-1, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside the Toshiba Semiconductor System Technology Center (72) Inventor Kyosuke Ogawa 25-1, Ekimae Honcho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Toshiba Microelectronics Co., Ltd. (72) Inventor Masahiro Kimura 25-1 Ekimae Honcho, Kawasaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba Microelectronics Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 読み出しモード時に第1及び第2のビッ
ト線を電源電位でプリチャージするプリチャージ回路
と、前記読み出しモード時に供給される外部信号に基づ
き、ロウアドレスで指定される第1及び第2のワード線
の選択動作を行うワード線選択回路と、前記第1のビッ
ト線と前記第1のワード線との交差箇所に接続され、該
第1のワード線の選択時に開いて、プリチャージされた
前記第1のビット線へ高レベル/低レベルに対応した記
憶情報を出力するメモリセルと、前記第2のビット線と
前記第2のワード線との交差箇所に接続され、該第2の
ワード線の選択時に開いて、プリチャージされた前記第
2のビット線を前記高レベルと低レベルの中間のレベル
である中間電位に設定するダミーセルと、前記第1及び
第2のワード線の選択後の所定のタイミングで前記第1
と第2のビット線の電位を比較し、前記メモリセルより
読み出された情報を判別して出力するセンスアンプとを
備えたDRAMにおいて、 前記ダミーセルの開くタイミングを前記メモリセルの開
くタイミングよりも所定時間遅らせるディレイ手段を設
け、 前記ダミーセルは、前記メモリセルと同一のディメンジ
ョンで構成すると共に、前記第2のビット線を前記中間
電位に設定するための電荷を前記電源電位を用いて保持
する構成にしたことを特徴とするDRAM。
1. A precharge circuit for precharging first and second bit lines with a power supply potential in a read mode, and a first and a second address specified by a row address based on an external signal supplied in the read mode. A word line selection circuit for selecting a second word line; a word line selection circuit connected to an intersection of the first bit line and the first word line; A memory cell for outputting storage information corresponding to a high level / low level to the first bit line, and a second bit line connected to an intersection of the second word line; A dummy cell which is opened when the word line is selected to set the precharged second bit line to an intermediate potential which is an intermediate level between the high level and the low level; Choice At a later specified timing, the first
And a sense amplifier that compares the potential of the second bit line with the potential of the second bit line to determine and output information read from the memory cell. A delay unit for delaying a predetermined time; the dummy cell having the same dimension as the memory cell, and holding the electric charge for setting the second bit line to the intermediate potential using the power supply potential; A DRAM characterized in that:
【請求項2】 前記ディレイ手段は、前記ワード線選択
回路と前記ダミーセルとの間の位置の前記第2のワード
線に介設された拡散抵抗であることを特徴とする請求項
1記載のDRAM。
2. The DRAM according to claim 1, wherein said delay means is a diffusion resistor provided on said second word line at a position between said word line selection circuit and said dummy cell. .
【請求項3】 前記ディレイ手段は、前記第2のワード
線を前記第1のワード線よりも遅らせて選択するために
前記外部信号を遅延するディレイ回路で構成したことを
特徴とする請求項1記載のDRAM。
3. The delay circuit according to claim 1, wherein said delay means comprises a delay circuit for delaying said external signal in order to select said second word line later than said first word line. The DRAM as described.
【請求項4】 第1のMOS型トランジスタのソースま
たはドレインとなる一方の電極を第2のMOS型トラン
ジスタのゲートに接続し、もう一方の電極をライト用ビ
ット線に接続し、第2のMOS型トランジスタのソース
を接地し、そのドレインを第3のMOS型トランジスタ
のソースまたはドレインとなる一方の電極に接続し、も
う一方の電極をリード用ビット線に接続し、前記第1の
MOS型トランジスタのゲートをライト用ワード線に接
続し、前記第3のMOS型トランジスタのゲートをリー
ド用ワード線に接続したメモリセルと、 前記第2のMOS型トランジスタと同一サイズで構成さ
れた第4のMOS型トランジスタのゲートを電源に接続
し、そのソースを接地し、そのドレインを前記第3のM
OS型トランジスタと同一サイズで構成された第5のM
OS型トランジスタのソースまたはドレインとなる一方
の電極に接続し、もう一方の電極をダミー用ビット線に
接続し、前記第5のMOS型トランジスタのゲートをダ
ミー用ワード線に接続したダミーセルと、 第6のMOS型トランジスタのドレインを前記電源に接
続し、そのソースを前記リード用ビット線に接続すると
共に、第7のMOS型トランジスタのドレインを前記電
源に接続し、そのソースを前記ダミー用ビット線に接続
したプリチャージ回路と、 読み出しモード時に、ロウアドレスで指定される前記リ
ード用ワード線及び前記ダミー用ワード線を選択して活
性化するワード線選択回路と、 前記ワード線選択回路と前記ダミーセルとの間の位置の
前記ダミー用ワード線に介設された拡散抵抗と、 前記リード用ビット線と前記ダミー用ビット線を入力信
号とする差動増幅器とを備え、 前記読み出しモード時に、前記リード用ビット線及び前
記ダミー用ビット線をプリチャージしておき、前記リー
ド用ワード線及び前記ダミー用ワード線の選択後の所定
のタイミングで、前記差動増幅器により前記リード用ビ
ット線と前記ダミー用ビット線の電位を比較し、前記メ
モリセルより読み出された情報を判別して出力すること
を特徴とする3トランジスタ型DRAM。
4. A second MOS transistor, wherein one electrode serving as a source or a drain of the first MOS transistor is connected to the gate of the second MOS transistor, and the other electrode is connected to a write bit line. The source of the transistor is grounded, the drain of the transistor is connected to one electrode serving as the source or the drain of the third MOS transistor, and the other electrode is connected to the bit line for reading. A memory cell having a gate connected to a write word line and a gate of the third MOS transistor connected to a read word line; and a fourth MOS transistor having the same size as the second MOS transistor. The gate of the transistor is connected to a power supply, its source is grounded, and its drain is connected to the third transistor.
Fifth M having the same size as the OS transistor
A dummy cell connected to one electrode serving as a source or a drain of the OS transistor, the other electrode connected to a dummy bit line, and a gate of the fifth MOS transistor connected to a dummy word line; The drain of the sixth MOS transistor is connected to the power supply, the source is connected to the read bit line, the drain of the seventh MOS transistor is connected to the power supply, and the source is connected to the dummy bit line. A word line selection circuit for selecting and activating the read word line and the dummy word line specified by a row address in a read mode; and a word line selection circuit and the dummy cell. Between the dummy bit line and the read bit line and the dummy bit line. A differential amplifier that uses a read bit line as an input signal, and in the read mode, the read bit line and the dummy bit line are precharged, and the read word line and the dummy word line are At a predetermined timing after the selection, the potential of the read bit line and the dummy bit line are compared by the differential amplifier, and information read from the memory cell is determined and output. 3-transistor DRAM.
【請求項5】 第1のMOS型トランジスタのソースま
たはドレインとなる一方の電極を第2のMOS型トラン
ジスタのゲートに接続し、もう一方の電極をライト用ビ
ット線に接続し、第2のMOS型トランジスタのソース
を接地し、そのドレインを第3のMOS型トランジスタ
のソースまたはドレインとなる一方の電極に接続し、も
う一方の電極をリード用ビット線に接続し、前記第1の
MOS型トランジスタのゲートをライト用ワード線に接
続し、前記第3のMOS型トランジスタのゲートをリー
ド用ワード線に接続したメモリセルと、 前記第2のMOS型トランジスタと同一サイズで構成さ
れた第4のMOS型トランジスタのゲートを電源に接続
し、そのソースを接地し、そのドレインを前記第3のM
OS型トランジスタと同一サイズで構成された第5のM
OS型トランジスタのソースまたはドレインとなる一方
の電極に接続し、もう一方の電極をダミー用ビット線に
接続し、前記第5のMOS型トランジスタのゲートをダ
ミー用ワード線に接続したダミーセルと、 第6のMOS型トランジスタのドレインを前記電源に接
続し、そのソースを前記リード用ビット線に接続すると
共に、第7のMOS型トランジスタのドレインを前記電
源に接続し、そのソースを前記ダミー用ビット線に接続
したプリチャージ回路と、 読み出しモード時に供給される外部信号に基づき、ロウ
アドレスで指定される前記リード用ワード線及び前記ダ
ミー用ワード線を選択して活性化するワード線選択回路
と、 前記ダミー用ワード線を前記リード用ワード線よりも遅
らせて活性化するために前記外部信号を遅延するディレ
イ回路とを備え、 前記読み出しモード時に、前記リード用ビット線及び前
記ダミー用ビット線をプリチャージしておき、前記リー
ド用ワード線及び前記ダミー用ワード線の選択後の所定
のタイミングで、前記差動増幅器により前記リード用ビ
ット線と前記ダミー用ビット線の電位を比較し、前記メ
モリセルより読み出された情報を判別して出力すること
を特徴とする3トランジスタ型DRAM。
5. A method according to claim 1, wherein one electrode serving as a source or a drain of the first MOS transistor is connected to a gate of the second MOS transistor, and the other electrode is connected to a write bit line. The source of the transistor is grounded, the drain of the transistor is connected to one electrode serving as the source or the drain of the third MOS transistor, and the other electrode is connected to the bit line for reading. A memory cell having a gate connected to a write word line and a gate of the third MOS transistor connected to a read word line; and a fourth MOS transistor having the same size as the second MOS transistor. The gate of the transistor is connected to a power supply, its source is grounded, and its drain is connected to the third transistor.
Fifth M having the same size as the OS transistor
A dummy cell connected to one electrode serving as a source or a drain of the OS transistor, the other electrode connected to a dummy bit line, and a gate of the fifth MOS transistor connected to a dummy word line; The drain of the sixth MOS transistor is connected to the power supply, the source is connected to the read bit line, the drain of the seventh MOS transistor is connected to the power supply, and the source is connected to the dummy bit line. A word line selection circuit that selects and activates the read word line and the dummy word line specified by a row address based on an external signal supplied in a read mode; A delay for delaying the external signal in order to activate the dummy word line later than the read word line. In the read mode, the read bit line and the dummy bit line are precharged, and at a predetermined timing after selection of the read word line and the dummy word line, 3. A three-transistor DRAM, wherein a potential of the read bit line and a potential of the dummy bit line are compared by a differential amplifier to determine and output information read from the memory cell.
JP9324863A 1997-11-26 1997-11-26 Dram and 3-transistor type dram Withdrawn JPH11162164A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9343138B2 (en) 2013-12-16 2016-05-17 Samsung Electronics Co., Ltd. Sense amplifier, semiconductor memory device using thereof and read method thereof
WO2018047035A1 (en) * 2016-09-12 2018-03-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Memory device, driving method thereof, semiconductor device, electronic component, and electronic device

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