JPH11158604A - 物理蒸着装置の回転機構 - Google Patents
物理蒸着装置の回転機構Info
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- JPH11158604A JPH11158604A JP34445497A JP34445497A JPH11158604A JP H11158604 A JPH11158604 A JP H11158604A JP 34445497 A JP34445497 A JP 34445497A JP 34445497 A JP34445497 A JP 34445497A JP H11158604 A JPH11158604 A JP H11158604A
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- physical vapor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】物理蒸着装置における高真空、高温の密閉炉室
内に設置する回転機構として、リークや「きしみ」を生
じない、保守の容易な低コストの物理蒸着装置の回転機
構を提供すること。 【解決手段】コーティング材の噴射ノズル２を備えた、
真空、高温の密閉炉室１内に、被コーテイング物８を載
置する回転盤１１を設け、炉室１外で回転盤１１に並行
に対峙して、動力源１５で回転する回転体１４を配設
し、回転盤１１及び回転体１４の相対する面に磁力体１
７、１８を互いに引合うように配置した物理蒸着装置の
回転機構で、回転盤１１の回転軸１２及び回転体１４の
軸１６とも炉室１の壁を貫通しておらず、シール機構も
なく、動力はいわゆる非接触で回転盤１１を回転するか
ら、炉室１内が高真空且つ高温でもリークは生じない
し、シール機構や炉室との間の「きしみ」も生じない。
また、本発明回転機構は前記構成故、リークや「きし
み」の対策のために、装置が大型且つ複雑化する従来機
構より設備コストも低廉であり、保守も容易で低コスト
の物理蒸着装置の回転機構を提供し得る効果もある。
内に設置する回転機構として、リークや「きしみ」を生
じない、保守の容易な低コストの物理蒸着装置の回転機
構を提供すること。 【解決手段】コーティング材の噴射ノズル２を備えた、
真空、高温の密閉炉室１内に、被コーテイング物８を載
置する回転盤１１を設け、炉室１外で回転盤１１に並行
に対峙して、動力源１５で回転する回転体１４を配設
し、回転盤１１及び回転体１４の相対する面に磁力体１
７、１８を互いに引合うように配置した物理蒸着装置の
回転機構で、回転盤１１の回転軸１２及び回転体１４の
軸１６とも炉室１の壁を貫通しておらず、シール機構も
なく、動力はいわゆる非接触で回転盤１１を回転するか
ら、炉室１内が高真空且つ高温でもリークは生じない
し、シール機構や炉室との間の「きしみ」も生じない。
また、本発明回転機構は前記構成故、リークや「きし
み」の対策のために、装置が大型且つ複雑化する従来機
構より設備コストも低廉であり、保守も容易で低コスト
の物理蒸着装置の回転機構を提供し得る効果もある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、物理蒸着装置にお
ける回転機構に関するものである。
ける回転機構に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】工具の寿命延長のため、蒸着によるコー
ティングが採用されている。蒸着はＣＶＤ（化学蒸
着）、ＰＶＤ（物理蒸着）のいずれかで行われるが、ガ
ス化の困難な物質、例えばバナジュウムなどを蒸着しよ
うとするときは、後者のＰＶＤで行われ、このとき、Ｐ
ＤＶでは被コーティング物に対してコーティング材の廻
り込みが悪いので、被コーティング物に均等にコーティ
ングするため、被コーティング物を炉中で回転する必要
がある。
ティングが採用されている。蒸着はＣＶＤ（化学蒸
着）、ＰＶＤ（物理蒸着）のいずれかで行われるが、ガ
ス化の困難な物質、例えばバナジュウムなどを蒸着しよ
うとするときは、後者のＰＶＤで行われ、このとき、Ｐ
ＤＶでは被コーティング物に対してコーティング材の廻
り込みが悪いので、被コーティング物に均等にコーティ
ングするため、被コーティング物を炉中で回転する必要
がある。
【０００３】従来の物理蒸着装置では、特開昭６４−２
７１３１号公報に開示され、また図２に示すように、前
記被コーティング物を回転するための部材は前記炉室外
から直接回転されていた。即ち、特開昭公報に記載の超
電導薄膜製造装置における基板ホルダ（４）は、炉室に
相当する真空チャンバ（１）の外から、該チャンバ
（１）を貫通し一端がモータに連結された軸（９）によ
り、傘歯車（８ａ）、（８ｂ）からなる回転装置（８）
を介して回転されるようになっている。（（ ）内符号
は前記特開昭公報で使用のもの）
７１３１号公報に開示され、また図２に示すように、前
記被コーティング物を回転するための部材は前記炉室外
から直接回転されていた。即ち、特開昭公報に記載の超
電導薄膜製造装置における基板ホルダ（４）は、炉室に
相当する真空チャンバ（１）の外から、該チャンバ
（１）を貫通し一端がモータに連結された軸（９）によ
り、傘歯車（８ａ）、（８ｂ）からなる回転装置（８）
を介して回転されるようになっている。（（ ）内符号
は前記特開昭公報で使用のもの）
【０００４】また図２に示すものでは、コーティング材
の噴射ノズル２を備え、真空、高温となし得る密閉炉室
１内に設置された回転盤３は、その回転軸４を前記炉室
１の底部１ａ上に設置した軸受部５に支持するととも
に、炉室１の底部１ａに設けたシール機構６を貫通して
炉室１の下方に延び、モータ等の動力源７に連結されて
いる。なお、８は被コーティング物、例えば工具を示
す。
の噴射ノズル２を備え、真空、高温となし得る密閉炉室
１内に設置された回転盤３は、その回転軸４を前記炉室
１の底部１ａ上に設置した軸受部５に支持するととも
に、炉室１の底部１ａに設けたシール機構６を貫通して
炉室１の下方に延び、モータ等の動力源７に連結されて
いる。なお、８は被コーティング物、例えば工具を示
す。
【０００５】しかしながら、作業時には前記炉室１の内
部は10-5torr程度の高真空であり、また約５００℃の高
温となるため、前記シール機構６からのリーク（ｌｅａ
ｋ）が生じたり、また前記回転軸４とシール機構６等と
の間で「きしみ」を生ずることがある。即ち、前記炉室
１における高真空、高温の条件下では、高温による外部
との激しい温度差が大きな熱膨張の差を生じ、このため
シール機構６等からのリークが発生することがあり、ま
た前記条件下では軸受部５に液体による潤滑が使用でき
ないため、冷却を伴わないグラファイト等による固体潤
滑に頼らざるを得ず、しかも高温による外部との激しい
温度差が大きな熱膨張の差を生じて、回転軸４等の回転
部材と、シール機構６、炉室１の壁等の固定部材間で
「きしみ」を発生し、前記回転盤３の回転を不円滑と
し、場合によっては回転軸４、シール機構６、炉室１の
壁等の破損を来すおそれがあり、以上の対策のためには
前記装置が大型且つ複雑化し、多くの設備及び保守費用
を要するという問題点がある。
部は10-5torr程度の高真空であり、また約５００℃の高
温となるため、前記シール機構６からのリーク（ｌｅａ
ｋ）が生じたり、また前記回転軸４とシール機構６等と
の間で「きしみ」を生ずることがある。即ち、前記炉室
１における高真空、高温の条件下では、高温による外部
との激しい温度差が大きな熱膨張の差を生じ、このため
シール機構６等からのリークが発生することがあり、ま
た前記条件下では軸受部５に液体による潤滑が使用でき
ないため、冷却を伴わないグラファイト等による固体潤
滑に頼らざるを得ず、しかも高温による外部との激しい
温度差が大きな熱膨張の差を生じて、回転軸４等の回転
部材と、シール機構６、炉室１の壁等の固定部材間で
「きしみ」を発生し、前記回転盤３の回転を不円滑と
し、場合によっては回転軸４、シール機構６、炉室１の
壁等の破損を来すおそれがあり、以上の対策のためには
前記装置が大型且つ複雑化し、多くの設備及び保守費用
を要するという問題点がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】よって、本発明が解決
しようとする課題は、物理蒸着装置における高真空、高
温の密閉炉室内に設置する回転機構として、前記リーク
や「きしみ」を生ずることのない、即ち保守の容易な低
コストの物理蒸着装置の回転機構を提供することにあ
る。
しようとする課題は、物理蒸着装置における高真空、高
温の密閉炉室内に設置する回転機構として、前記リーク
や「きしみ」を生ずることのない、即ち保守の容易な低
コストの物理蒸着装置の回転機構を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明物理蒸着装置の回転機構では、コーティング
材の噴射ノズルを備えた、真空、高温となし得る密閉炉
室内に、被コーテイング物を載置する回転盤を設け、前
記炉室外において前記回転盤に並行に対峙して、動力源
により回転する回転体を配設するとともに、前記回転盤
及び回転体の相対する面に磁力体を互いに引き合うよう
に配置した。
め、本発明物理蒸着装置の回転機構では、コーティング
材の噴射ノズルを備えた、真空、高温となし得る密閉炉
室内に、被コーテイング物を載置する回転盤を設け、前
記炉室外において前記回転盤に並行に対峙して、動力源
により回転する回転体を配設するとともに、前記回転盤
及び回転体の相対する面に磁力体を互いに引き合うよう
に配置した。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図１により
詳細に説明する。なお、図２と同一符号は同一物、部材
等を示し、説明を省略する。本発明物理蒸着装置におけ
る回転機構では、コーティング材の噴射ノズル２を備
え、真空、高温となし得る密閉炉室１内に設置された回
転盤１１は、その回転軸１２を前記炉室１の底部１ａ上
に設置した軸受部１３に支持されている。前記回転盤１
１は、後記磁力体１７、１８による磁性の影響を受けな
いように、アルミニゥム等の磁性遮断材より構成されて
いる。１４は回転盤１１と同形の回転体で、前記炉室１
の下方において、前記回転盤１１に並行に対峙して配設
され、、モータ等の動力源１５により軸１６を介して回
転されるように構成されている。
詳細に説明する。なお、図２と同一符号は同一物、部材
等を示し、説明を省略する。本発明物理蒸着装置におけ
る回転機構では、コーティング材の噴射ノズル２を備
え、真空、高温となし得る密閉炉室１内に設置された回
転盤１１は、その回転軸１２を前記炉室１の底部１ａ上
に設置した軸受部１３に支持されている。前記回転盤１
１は、後記磁力体１７、１８による磁性の影響を受けな
いように、アルミニゥム等の磁性遮断材より構成されて
いる。１４は回転盤１１と同形の回転体で、前記炉室１
の下方において、前記回転盤１１に並行に対峙して配設
され、、モータ等の動力源１５により軸１６を介して回
転されるように構成されている。
【０００９】１７、１８は磁力体で、前記回転盤１１の
下面外周付近及び前記回転体１４の上面外周付近の同位
置に、互いに引き合うように、磁極を逆にして固定され
ている。上記磁力体１７、１８の引付け力を高めるため
には、前記回転盤１１と回転体１４はできるだけ接近さ
せて配設するのが望ましい。また前記動力源１５には、
定速モータのほか加減速モータまたは変速機構付きモー
タが採用でき、後者によれば回転体１４の始動の際、前
記磁力体１８を介し回転盤１１の磁力体１７を円滑に追
従させて、回転盤１１の回転が不円滑となることがな
い。
下面外周付近及び前記回転体１４の上面外周付近の同位
置に、互いに引き合うように、磁極を逆にして固定され
ている。上記磁力体１７、１８の引付け力を高めるため
には、前記回転盤１１と回転体１４はできるだけ接近さ
せて配設するのが望ましい。また前記動力源１５には、
定速モータのほか加減速モータまたは変速機構付きモー
タが採用でき、後者によれば回転体１４の始動の際、前
記磁力体１８を介し回転盤１１の磁力体１７を円滑に追
従させて、回転盤１１の回転が不円滑となることがな
い。
【００１０】前記の如き構成の本発明物理蒸着装置の回
転機構では、前記回転盤１１上に被コーテイング物８、
例えば工具を載置した上炉室１を密閉し、密閉炉室１内
を高真空、例えば10-5torr、高温、例えば５００℃とす
る。この状態で、動力源１５、例えば加減速モータによ
り軸１６を介して回転体１４を徐々に回転すれば、その
磁力体１８が炉室１の壁を隔てて回転盤１１の磁力体１
７を引き付けつつ、回転盤１１を回転体１４と同方向へ
回転する。回転盤１１が所定回転数に達しところで、噴
射ノズル２から被コーティング物８に向けてコーティン
グ材を噴射すれば、コーテイング材は回転する被コーテ
ィング物８にむらなく物理蒸着する。
転機構では、前記回転盤１１上に被コーテイング物８、
例えば工具を載置した上炉室１を密閉し、密閉炉室１内
を高真空、例えば10-5torr、高温、例えば５００℃とす
る。この状態で、動力源１５、例えば加減速モータによ
り軸１６を介して回転体１４を徐々に回転すれば、その
磁力体１８が炉室１の壁を隔てて回転盤１１の磁力体１
７を引き付けつつ、回転盤１１を回転体１４と同方向へ
回転する。回転盤１１が所定回転数に達しところで、噴
射ノズル２から被コーティング物８に向けてコーティン
グ材を噴射すれば、コーテイング材は回転する被コーテ
ィング物８にむらなく物理蒸着する。
【００１１】上記作業時において、前記回転盤１１の回
転軸１２及び回転体１４の軸１６はいずれも炉室１の壁
を貫通しておらず、シール機構もないので、炉室１内が
高真空、高温にも拘らず、回転機構を原因とするリーク
は生じないし、又前記シール機構や炉室１との間で「き
しみ」も生じない。
転軸１２及び回転体１４の軸１６はいずれも炉室１の壁
を貫通しておらず、シール機構もないので、炉室１内が
高真空、高温にも拘らず、回転機構を原因とするリーク
は生じないし、又前記シール機構や炉室１との間で「き
しみ」も生じない。
【００１２】
【発明の効果】本発明に係る物理蒸着装置の回転機構
は、コーティング材の噴射ノズルを備えた、真空、高温
となし得る密閉炉室内に、被コーテイング物を載置する
回転盤を設け、前記炉室外において前記回転盤に並行に
対峙して、動力源により回転する回転体を配設するとと
もに、前記回転盤及び回転体の相対する面に磁力体を互
いに引き合うように配置したので、前記回転盤の回転軸
及び回転体の軸とも炉室の壁を貫通しておらず、シール
機構もなく、動力はいわゆる非接触で回転盤を回転せし
めるから、炉室内が高真空且つ高温にも拘らず、回転機
構を原因とするリークは生じないし、また前記シール機
構や炉室との間での「きしみ」も生じないという効果が
ある。また、本発明回転機構は、炉室内に設けた前記回
転盤に並行に、炉室外に動力源で回転する回転体を配設
し、回転盤と回転体の相対する面に磁力体を互いに引き
合うように配置したのみの構成故、前記リークや「きし
み」の対策のために、装置が大型且つ複雑化する従来機
構より設備コストも低廉であり、保守も容易で低コスト
の物理蒸着装置の回転機構を提供し得る効果もある。
は、コーティング材の噴射ノズルを備えた、真空、高温
となし得る密閉炉室内に、被コーテイング物を載置する
回転盤を設け、前記炉室外において前記回転盤に並行に
対峙して、動力源により回転する回転体を配設するとと
もに、前記回転盤及び回転体の相対する面に磁力体を互
いに引き合うように配置したので、前記回転盤の回転軸
及び回転体の軸とも炉室の壁を貫通しておらず、シール
機構もなく、動力はいわゆる非接触で回転盤を回転せし
めるから、炉室内が高真空且つ高温にも拘らず、回転機
構を原因とするリークは生じないし、また前記シール機
構や炉室との間での「きしみ」も生じないという効果が
ある。また、本発明回転機構は、炉室内に設けた前記回
転盤に並行に、炉室外に動力源で回転する回転体を配設
し、回転盤と回転体の相対する面に磁力体を互いに引き
合うように配置したのみの構成故、前記リークや「きし
み」の対策のために、装置が大型且つ複雑化する従来機
構より設備コストも低廉であり、保守も容易で低コスト
の物理蒸着装置の回転機構を提供し得る効果もある。
【図１】本発明物理蒸着装置における回転機構の一実施
形態の全体構成を示す一部断面略図。
形態の全体構成を示す一部断面略図。
【図２】従来の物理蒸着装置における回転機構の一実施
形態の全体構成を示す一部断面略図。
形態の全体構成を示す一部断面略図。
１ 密閉炉室 ２ 噴射ノズル ３、１１ 回転盤
４、１２ 回転軸５、１３ 軸受部 ６ シール
機構 ７、１５ 動力源８ 被コーテイング材 １
４ 回転体 １６ 軸 １７、１８ 磁力体。
４、１２ 回転軸５、１３ 軸受部 ６ シール
機構 ７、１５ 動力源８ 被コーテイング材 １
４ 回転体 １６ 軸 １７、１８ 磁力体。
Claims (2)
- 【請求項１】コーティング材の噴射ノズルを備えた、真
空、高温となし得る密閉炉室内に、被コーテイング物を
載置する回転盤を設け、前記炉室外において前記回転盤
に並行に対峙して、動力源により回転する回転体を配設
するとともに、前記回転盤及び回転体の相対する面に磁
力体を互いに引き合うように配置したことを特徴とする
物理蒸着装置の回転機構。 - 【請求項２】前記動力源が可変速であることを特徴とす
る請求項１記載の物理蒸着装置の回転機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34445497A JPH11158604A (ja) | 1997-11-29 | 1997-11-29 | 物理蒸着装置の回転機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34445497A JPH11158604A (ja) | 1997-11-29 | 1997-11-29 | 物理蒸着装置の回転機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158604A true JPH11158604A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18369400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34445497A Pending JPH11158604A (ja) | 1997-11-29 | 1997-11-29 | 物理蒸着装置の回転機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158604A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101136536B1 (ko) | 2010-06-25 | 2012-04-17 | 한국기계연구원 | 자석을 이용한 코팅 장치 |
| CN102844827A (zh) * | 2010-04-19 | 2012-12-26 | 株式会社明电舍 | 真空电容器 |
| US8749946B2 (en) | 2008-12-02 | 2014-06-10 | Meidensha Corporation | Vacuum capacitor |
| US8755166B2 (en) | 2008-12-02 | 2014-06-17 | Meidensha Corporation | Vacuum capacitor |
-
1997
- 1997-11-29 JP JP34445497A patent/JPH11158604A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8749946B2 (en) | 2008-12-02 | 2014-06-10 | Meidensha Corporation | Vacuum capacitor |
| US8755166B2 (en) | 2008-12-02 | 2014-06-17 | Meidensha Corporation | Vacuum capacitor |
| CN102844827A (zh) * | 2010-04-19 | 2012-12-26 | 株式会社明电舍 | 真空电容器 |
| US8749947B2 (en) | 2010-04-19 | 2014-06-10 | Meidensha Corporation | Vacuum capacitor |
| KR101136536B1 (ko) | 2010-06-25 | 2012-04-17 | 한국기계연구원 | 자석을 이용한 코팅 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051101 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060808 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061212 |