JPH11151812A - インクジェット式記録ヘッド - Google Patents
インクジェット式記録ヘッドInfo
- Publication number
- JPH11151812A JPH11151812A JP9332779A JP33277997A JPH11151812A JP H11151812 A JPH11151812 A JP H11151812A JP 9332779 A JP9332779 A JP 9332779A JP 33277997 A JP33277997 A JP 33277997A JP H11151812 A JPH11151812 A JP H11151812A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure generating
- generating chamber
- recording head
- piezoelectric
- jet recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 17
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 12
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 8
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 5
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 claims description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 138
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 34
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 24
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 18
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910016063 BaPb Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- -1 R b Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910016062 BaRuO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018921 CoO 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
- 229910021617 Indium monochloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000877463 Lanio Species 0.000 description 1
- 229910012465 LiTi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910012949 LiV2O4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002673 PdOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019897 RuOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003114 SrVO Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M indium(1+);chloride Chemical compound [In]Cl APHGZSBLRQFRCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L iron(ii) gluconate Chemical compound [Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1629—Manufacturing processes etching wet etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14201—Structure of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/14233—Structure of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1607—Production of print heads with piezoelectric elements
- B41J2/161—Production of print heads with piezoelectric elements of film type, deformed by bending and disposed on a diaphragm
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14387—Front shooter
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14419—Manifold
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14491—Electrical connection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/03—Specific materials used
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/11—Embodiments of or processes related to ink-jet heads characterised by specific geometrical characteristics
Abstract
れ等を防止し、耐久性を確保することができるインクジ
ェット式記録ヘッドを提供する。 【解決手段】 ノズル開口111に連通する圧力発生室
12の一部を構成し、少なくとも上面が下電極60とし
て作用する振動板と、該振動板の表面に形成された圧電
体層70及び該圧電体層70の表面に形成された上電極
80からなり且つ前記圧力発生室に対向する領域に形成
された圧電体能動部320とからなる圧電振動子を備え
るインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧電体能
動部320が基本的に前記圧力発生室12に対向する領
域内に配置され且つ前記圧電体層70を前記圧電体能動
部320の主要部の幅より幅広として側壁まで延設した
幅広部321を前記圧力発生室の長手方向一端側に設け
ることにより振動板規制部を形成する。
Description
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板の表面に圧電体層を形成して、圧電体
層の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドに関する。
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電振動子により変形させて圧力発生室のインクを加圧し
てノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット
式記録ヘッドには、圧電振動子の軸方向に伸長、収縮す
る縦振動モードの圧電振動子を使用したものと、たわみ
振動モードの圧電振動子を使用したものの2種類が実用
化されている。
せることにより圧力発生室の容積を変化させることがで
きて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電振動子をノズル開口の配列ピッチに一致させて
櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられ
た圧電振動子を圧力発生室に位置決めして固定する作業
が必要となり、製造工程が複雑であるという問題があ
る。
40030号公報に見られるように圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電振動子を
作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する
関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困
難であるという問題がある。
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電振動子を形成したものが提案
されている。
る作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、
かつ簡便な手法で圧電振動子を作り付けることができる
ばかりでなく、圧電振動子の厚みを薄くできて高速駆動
が可能になるという利点がある。
面全体に設けたままで少なくとも上電極のみを各圧力発
生室毎に設けることにより、各圧力発生室に対応する圧
電振動子を駆動することができるが、単位駆動電圧当た
りの変位量および圧力発生室に対向する部分とその外部
とを跨ぐ部分で圧電体層へかかる応力の問題から、圧電
体層および上電極からなる圧電体能動部を圧力発生室外
に出ないように形成するのが望ましい。そして、このよ
うなたわみモードの圧電振動子を使用した記録ヘッドで
は、一般には、各圧力発生室に対応する圧電振動子は絶
縁体層で覆われ、この絶縁体層には各圧電振動子を駆動
するための電圧を供給するリード電極との接続部を形成
するために窓(以下、コンタクトホールという)が各圧
力発生室に対応して設けられており、各圧電振動子とリ
ード電極の接続部がコンタクトホール内に形成される。
電振動子を使用した記録ヘッドでは、圧電体能動部が圧
力発生室とその周壁との境界を横切る部分で、圧電体層
にクラックが発生し易いという問題がある。また、コン
タクトホールを形成した場合には、その周辺にクラック
等による破壊が発生し易く、変位低下が生じ易いという
問題がある。
部から周壁上まで延設した構造が提案されている。
た構造では、圧電振動子が圧力発生室と周壁との境界を
跨ぐ部分でクラック等が発生し易い。
ッドにおいては、圧電振動子の駆動による振動板の変位
効率を向上するために、圧電振動子の両側に対応する部
分の振動板を薄くする構造が提案されている。しかしな
がら、このように変位を大きくとるようにすると、特
に、上述したような圧力発生室の周壁近傍にクラック等
の破壊が生じ易い傾向が助長される。
を成膜技術で形成した場合に生じ易い。なぜなら、成膜
技術で形成した圧電材料層は非常に薄く、材料層に大き
な残留応力が存在するため、圧電振動子を貼付したもの
に比較して剛性と強度が低いためである。
動部の圧力発生室の周壁近傍での割れ等を防止し、耐久
性を確保することができるインクジェット式記録ヘッド
を提供することを課題とする。
ノズル開口に連通する圧力発生室の一部を構成し、少な
くとも上面が下電極として作用する振動板と、該振動板
の表面に形成された圧電体層及び該圧電体層の表面に形
成された上電極からなり且つ前記圧力発生室に対向する
領域に形成された圧電体能動部とからなる圧電振動子を
備えるインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧電
体能動部が基本的に前記圧力発生室に対向する領域内に
配置され且つ少なくとも一ヶ所で前記圧力発生室に対向
する領域と周壁に対向する領域との境界を横切る連結部
を有し、前記連結部近傍に、前記振動板の振動板として
の動きを規制する振動規制部を有することを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
連結部近傍の振動が規制され、変位が緩やかに生じるの
で、連結部での割れ等による破壊が防止される。
て、前記振動板が、少なくとも前記圧電体能動部の幅方
向両側に当該圧電体能動部に対応する部分の厚さより薄
い薄肉部を有することを特徴とするインクジェット式記
録ヘッドにある。
振動板が薄膜部となっているので、圧電体能動部の駆動
による変位量が向上する。
において、前記振動規制部は、前記圧電体層を前記圧電
体能動部の主要部の幅より幅広として側壁まで延設した
幅広部を前記圧力発生室の長手方向一端側に設けること
により形成されていることを特徴とするインクジェット
式記録ヘッドにある。
層を幅広とした幅広部を設けることにより、連結部近傍
の振動が規制されて変位が緩やかになり、破壊等が防止
される。
て、前記振動規制部の前記圧電体層上には基本的に前記
上電極が設けられていることを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッドにある。
は圧電体能動部となるが、側壁まで延設されることによ
り振動が規制される。
において、前記振動規制部の前記圧電体層上の少なくと
も一部には前記上電極が設けられていないことを特徴と
するインクジェット式記録ヘッドにある。
の割れやすい領域の上電極を除去して、その領域での割
れを防止すると共に、割れが生じても絶縁破壊に至るの
を防止することができる。
の態様において、前記圧電体層は、前記圧電体能動部の
主要部から前記幅広部まで幅が徐々に変化していること
を特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
の破壊が生じやすい形状をなくし、耐久性を向上するこ
とができる。
において、前記振動規制部は、前記圧力発生室の幅と前
記圧電体能動部の幅との相対関係を主要部の相対関係か
ら変更することにより形成されていることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
圧電体能動部の幅と相対関係を変更することにより、振
動を規制し、連結部近傍の変位を緩やかにすることがで
きる。
て、前記振動規制部は、前記圧電体能動部の前記連結部
近傍の前記圧電体層及び前記上電極の両者を幅狭とした
幅狭部を設けることにより形成されていることを特徴と
するインクジェット式記録ヘッドにある。
の境界を横切る圧電体能動部の連結部近傍が他の部分の
幅より狭いので、周壁境界から圧力発生室に向かってた
わみが緩やかに生じるため、境界を横切る部分の応力が
小さくなり、クラック等の破壊が防止され、耐久性が向
上する。
て、前記振動規制部は、前記圧電体能動部の前記連結部
近傍の前記上電極のみを幅狭とした幅狭部を設けること
により形成されていることを特徴とするインクジェット
式記録ヘッドにある。
成されることにより、圧電体能動部の幅狭部が形成され
るが、非能動部が付随しているので、たわみがさらに小
さくなる。
かの態様において、前記圧電体能動部は、主要部から前
記幅狭部まで幅が徐々に変化していることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
クラック等が発生しやすい角部がないので、耐久性が向
上する。
れかの態様において、前記幅狭部の幅方向両側には、前
記圧力発生室とその周壁との境界の内縁部の少なくとも
一部に、その全体膜厚が前記圧電体能動部の周囲の全体
膜厚より厚い厚膜部が設けられていることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッドにある。
壁近傍での振動が規制され、また、厚膜部により振動板
が保護されるので、耐久性が向上する。
れかの態様において、前記幅狭部の前記圧力発生室内側
の端部から当該幅狭部が当該圧力発生室の長手方向の一
方の端部の前記境界を横切るまでの距離が、前記圧力発
生室の幅の1/2以上であることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドにある。
力発生室に向かってたわみが緩やかに生じるという効果
が確実に得られる。
れかの態様において、前記連結部が、前記圧力発生室の
何れかの側壁近傍に設けられていることを特徴とするイ
ンクジェット式記録ヘッドにある。
傍に存在するので、さらにたわみ難くなる。
れかの態様において、前記連結部が、前記圧力発生室の
長手方向の一方の端部に複数設けられていることを特徴
とするインクジェット式記録ヘッドにある。
れた連結部近傍の幅狭部が複数に形成されており、たわ
みを抑えたまま、圧力発生室に対向する圧電体能動部へ
の電圧の印加を容易にすることができる。
れかの態様において、前記連結部が、前記圧力発生室の
隅部境界を横切るように形成されていることを特徴とす
るインクジェット式記録ヘッドにある。
狭部が隅部を横切っているので、さらにたわみ難くな
る。
おいて、前記隅部は、前記圧力発生室に向かって開く角
が鋭角であることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッドにある。
い鋭角な隅部を横切るように連結部が形成されているの
で、さらにたわみ難くなる。
れかの態様において、前記振動規制部は、前記圧力発生
室の幅を他の部分より狭くすることにより形成されてい
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
を部分的に狭くすることにより、連結部近傍の振動が規
制される。
おいて、前記圧力発生室の幅方向一方側の周壁との境界
が、前記振動規制部から他の部分まで直線状に形成され
ていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドに
ある。
方向の少なくとも一方の周壁を直線的に形成できるの
で、耐久性が向上する。
おいて、前記圧電体能動部の幅方向一方側の縁部が、主
要部から前記振動規制部まで前記圧力発生室の長手方向
に亘って直線状に形成されていることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッドにある。
幅を狭くする部分において、一方側が直線的に形成でき
るので、当該圧電体能動部の角部が少なくなり、耐久性
が向上する。
れかの態様において、前記圧電体能動部の上面には絶縁
体層が形成され、前記圧電体能動部へ電圧を印加するた
めのリード電極と前記上電極との接続を行うコンタクト
部が、前記絶縁体層に形成されたコンタクトホール内に
形成されていることを特徴とするインクジェット式記録
ヘッドにある。
の電圧の印加は絶縁体層を介して形成されたコンタクト
部を介して行われる。
れかの態様において、前記圧電体能動部へ電圧を印加す
るためのリード電極と前記上電極との接続を行うコンタ
クト部が、前記圧力発生室の周壁に対向する部分に設け
られていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ドにある。
れたコンタクトホールを介して圧電体能動部への電圧印
加が行われる。
れかの態様において、前記幅広部の前記圧力発生室の前
記一端側の境界を越えた領域から前記上電極を縮幅して
信号伝送路が形成されていることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッドにある。
との間の沿面距離を確保して沿面放電を防止すると共
に、信号供給路の静電容量及び圧電体損を極めて小さく
することができる。
れかの態様において、前記上電極の少なくとも前記圧電
体層との接触面が、導電性酸化物膜で形成されているこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
欠損に基づく圧電特性の低下を防止することができる。
れかの態様において、前記圧力発生室がシリコン単結晶
基板に異方性エッチングにより形成され、前記圧電振動
子の各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたも
のであることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド
にある。
開口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ
比較的容易に製造することができる。
て説明する。
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す組立斜視
図、図2(a)及び(b)はそれぞれ1つの圧力発生室
の長手方向の異なる位置、つまり中央線及び圧電振動子
310の側端部での断面構造を示す図、図3は、その平
面位置関係を示す図である。
コン単結晶基板からなり、一方の面が開口面となり、ま
た他方の面には酸化シリコンからなる弾性膜50が形成
されている。流路形成基板10の開口面には、異方性エ
ッチングして隔壁11により区画された圧力発生室1
2、リザーバ13が形成され、さらにこれら圧力発生室
12とリザーバ13とを一定の流体抵抗で連通させる凹
部からなるインク供給口14が形成されている。
領域には、各圧力発生室12毎に独立させて膜形成方法
で作り付けられた後述する圧電振動子310が設けられ
ている。
室12の一端側で連通するようにノズル開口111を穿
設して構成され、流路形成基板10の開口部を封止する
ように固定されている。
10に駆動信号を供給するフレキシブルケーブル120
が連結され、また、流路形成基板10は、ヘッドケース
130に固定保持されている。
表面に圧力発生室12、インク供給口14、及びリザー
バ13の領域をほぼ覆うように形成された下電極膜60
と、この下電極膜60上に整形された圧電体層70及び
上電極膜80からなる圧電体能動部320とをそれぞれ
積層して構成されている。圧電体能動部320は、図3
に示すように、圧力発生室12のノズル開口側からリザ
ーバ13の端部を越えて延び、かつ各圧力発生室12に
対向する領域では、基本的には、圧力発生室12の幅W
1よりも若干狭い幅W2を持ち、その側縁320a、3
20aが圧力発生室12と隔壁11との境界12a、1
2aよりも内側に位置する。また、圧電体能動部320
は、圧力発生室12のインク供給口14側の端部の領域
では、圧力発生室12の端部の境界12bよりも内側の
位置Pから、圧力発生室12の幅W1よりも大きな幅W
3となるように拡幅した幅広部321となり、フレキシ
ブルケーブル120と接続する端子部まで延びるように
整形されている。
フレキシブルケーブル120を介して圧電振動子310
に信号を印加すると、圧電振動子310が撓んで圧力発
生室12を収縮させる。圧力発生室12の収縮により加
圧された圧力発生室12のインクは、一部がノズル開口
111からインク滴として吐出する。インク滴の吐出が
終了して圧電振動子310が元の状態に戻ると、圧力発
生室12が膨張してインク供給口14を介してリザーバ
13のインクが圧力発生室12に流れ込む。
圧電体能動部320は、圧力発生室12に対向してたわ
み変位する領域では、その側縁320a,320aが圧
力発生室12の側方の境界12a、12aよりも内側に
位置しているから、流路形成基板10の拘束が可及的に
小さくなって大きくたわみ、低い駆動電圧でインク滴吐
出に必要な圧力を発生する。
傍では、圧電体能動部320は圧力発生室12の幅W1
よりも大きな幅W3を有するから、駆動された際のたわ
み変位が規制され、応力の集中が緩和される。
あって、この実施形態においては、上述した実施形態の
幅広部321の一部に上電極膜80が形成されていない
で圧電体層70が露出して不活性となった非能動部32
5、325が設けられている。不活性な非能動部325
は、圧電体層70が幅広になった領域の圧力発生室12
の内方端部で圧電体能動部320の主要部の幅W2より
外側の部分であり、その他の部分が圧電体能動部320
の幅広部321Aとなっている。
0の最も応力が集中し易い拡幅の開始位置P’の近傍が
不活性領域325となっているのでクラックが入り難
く、また、非能動部325にたとえクラックが生じて
も、ここには上電極膜80が存在しないため絶縁破壊に
至ることが防止される。
21の幅W3でもってリード部を形成するようにしてい
るが、図5(a)及び(b)に示すように、駆動信号を
減衰させることなく供給できる程度に、上電極膜80に
可及的に狭い幅W4のリード部85を形成することによ
り、下電極膜60と上電極膜80との間の沿面距離を確
保して沿面放電を防止するとともに、信号供給路の静電
容量、及び圧電体損が極めて小さくなり、応答速度の低
下や発熱を抑えることができる。
動部320の主要部の少なくとも幅方向両側の振動板、
すなわち、いわゆる腕部の振動板を他の部分より薄く形
成して駆動時に変位しやすいようにしてもよい。例え
ば、図6に示すように、圧電体能動部320の幅方向両
側に下電極膜除去部350を設ける。下電極膜除去部3
50は、下電極膜60を完全に除去したものであるが、
下電極膜60の厚さ方向の一部を除去して薄膜としたも
の、または、弾性膜50の厚さ方向の一部まで除去した
ものとしてもよい。また、下電極膜除去部350は、幅
方向両側だけでなく、端部外側にも設けてもよい。
能動部320の主要部が拡幅して幅広部に移行する領域
の幅が徐々に変化するようにしてもよい。すなわち、図
7に示すように、幅広部321Bの圧力発生室12の内
側端部を幅が徐々に変化する幅変化部322とすること
により、特に、主要部と幅広部との境界の内縁をR部と
し、これにより、幅広部の内側端部での割れ等がさらに
防止される。
態2に係るインクジェット式記録ヘッドを示す。かかる
インクジェット式記録ヘッドの基本構成は、流路形成基
板10内に設けたリザーバ13の代わりに共通インク室
を別部材で形成した以外は類似するので、類似の部材に
は同一の符号を付す。
ジェット式記録ヘッドを示す組立斜視図であり、図9
は、平面図及びその1つの圧力発生室の長手方向におけ
る断面構造を示す図である。
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ0.1〜2μmの弾性膜50が形成
されている。
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
ノズル開口111、圧力発生室12が形成されている。
結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)と約35度の角度をなす第2の(11
1)面とが出現し、(110)面のエッチングレートと
比較して(111)面のエッチングレートが約1/18
0であるという性質を利用して行われるものである。か
かる異方性エッチングにより、二つの第1の(111)
面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成される平
行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うこと
ができ、圧力発生室12を高密度に配列することができ
る。
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
各ノズル開口111は、圧力発生室12より幅狭で且つ
浅く形成されている。すなわち、ノズル開口111は、
シリコン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング
(ハーフエッチング)することにより形成されている。
なお、ハーフエッチングは、エッチング時間の調整によ
り行われる。
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口111の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐
出スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例え
ば、1インチ当たり360個のインク滴を記録する場
合、ノズル開口111は数十μmの溝幅で精度よく形成
する必要がある。
ンク室31とは、後述する封止板20の各圧力発生室1
2の一端部に対応する位置にそれぞれ形成されたインク
供給連通口21を介して連通されており、インクはこの
インク供給連通口21を介して共通インク室31から供
給され、各圧力発生室12に分配される。
対応したインク供給連通口21が穿設された、厚さが例
えば、0.1〜1mmで、線膨張係数が300℃以下
で、例えば2.5〜4.5[×10-6/℃]であるガラ
スセラミックスからなる。なお、インク供給連通口21
は、図10(a),(b)に示すように、各圧力発生室
12のインク供給側端部の近傍を横断する一のスリット
孔21Aでも、あるいは複数のスリット孔21Bであっ
てもよい。封止板20は、一方の面で流路形成基板10
の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外
力から保護する補強板の役目も果たす。また、封止板2
0は、他面で共通インク室31の一壁面を構成する。
室31の周壁を形成するものであり、ノズル開口数、イ
ンク滴吐出周波数に応じた適正な厚みのステンレス板を
打ち抜いて作製されたものである。本実施形態では、共
通インク室形成基板30の厚さは、0.2mmとしてい
る。
なり、一方の面で共通インク室31の一壁面を構成する
ものである。また、インク室側板40には、他方の面の
一部にハーフエッチングにより凹部40aを形成するこ
とにより薄肉壁41が形成され、さらに、外部からのイ
ンク供給を受けるインク導入口42が打抜き形成されて
いる。なお、薄肉壁41は、インク滴吐出の際に発生す
るノズル開口111と反対側へ向かう圧力を吸収するた
めのもので、他の圧力発生室12に、共通インク室31
を経由して不要な正又は負の圧力が加わるのを防止す
る。本実施形態では、インク導入口42と外部のインク
供給手段との接続時等に必要な剛性を考慮して、インク
室側板40を0.2mmとし、その一部を厚さ0.02
mmの薄肉壁41としているが、ハーフエッチングによ
る薄肉壁41の形成を省略するために、インク室側板4
0の厚さを初めから0.02mmとしてもよい。
側の弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.5μm
の下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜
70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電振動子
(圧電素子)を構成している。このように、弾性膜50
の各圧力発生室12に対向する領域には、各圧力発生室
12毎に独立して圧電振動子が設けられており、本実施
形態では、下電極膜60は圧電振動子の共通電極とし、
上電極膜80を圧電振動子の個別電極としているが、駆
動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。ま
た、本実施形態では、圧電体膜70を各圧力発生室12
に対応して個別に設けたが、圧電体膜を全体に設け、上
電極膜80を各圧力発生室12に対応するように個別に
設けてもよい。何れの場合においても、各圧力発生室1
2毎に圧電体能動部が形成されていることになる。
形成基板10上に、圧電体膜70等を形成するプロセス
を図11を参照しながら説明する。
成基板10となるシリコン単結晶基板のウェハを約11
00℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾
性膜50を形成する。
タリングで下電極膜60を形成する。下電極膜60の材
料としては、Pt等が好適である。これは、スパッタリ
ングやゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体膜70は、
成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で600〜10
00℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるか
らである。すなわち、下電極膜70の材料は、このよう
な高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければなら
ず、殊に、圧電体膜70としてPZTを用いた場合に
は、PbOの拡散による導電性の変化が少ないことが望
ましく、これらの理由からPtが好適である。
膜70を成膜する。この圧電体膜70の成膜にはスパッ
タリングを用いることもできるが、本実施形態では、金
属有機物を溶媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾
燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化
物からなる圧電体膜70を得る、いわゆるゾル−ゲル法
を用いている。圧電体膜70の材料としては、チタン酸
ジルコン酸鉛(PZT)系の材料がインクジェット式記
録ヘッドに使用する場合には好適である。
膜80を成膜する。上電極膜80は、導電性の高い材料
であればよく、Al、Au、Ni、Pt等の多くの金属
や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、P
tをスパッタリングにより成膜している。
0、圧電体膜70及び上電極膜80をパターニングす
る。
膜60、圧電体膜70及び上電極膜80を一緒にエッチ
ングして下電極膜60の全体パターンをパターニングす
る。次いで、図12(b)に示すように、圧電体膜70
及び上電極膜80のみをエッチングして圧電体能動部3
20のパターニングを行う。次に、図12(c)に示す
ように、各圧力発生室12(図12では圧力発生室12
は形成前であるが、破線で示す)の幅方向両側に対向し
た領域である圧電体能動部320の両側の振動板の腕に
相当する部分の下電極膜60を除去することにより、下
電極膜除去部350を形成する。このように下電極膜除
去部350を設けることにより、圧電体能動部320へ
の電圧印加による変位量の向上を図るものである。
60を完全に除去せずに厚さを薄くしたものでもよい。
また、圧電体能動部320の腕部に相当する部分に下電
極膜除去部350を形成しているが、これに限定され
ず、例えば、圧電体能動部320の両端部よりも長手方
向外側まで形成するようにしてもよいし、圧力発生室1
2の周縁部ほぼ全体に亘って形成してもよい。勿論、こ
の下電極除去部350は、必ずしも設ける必要はない。
ングした後には、好ましくは、各上電極膜80の上面の
少なくとも周縁、及び圧電体膜70および下電極膜60
の側面を覆うように電気絶縁性を備えた絶縁体層90を
形成する(図8参照)。絶縁体層90は、成膜法による
形成やまたエッチングによる整形が可能な材料、例えば
酸化シリコン、窒化シリコン、有機材料、好ましくは剛
性が低く、且つ電気絶縁性に優れた感光性ポリイミドで
形成するのが好ましい。
20の一端部に対応する部分の上面を覆う部分の一部に
は後述するリード電極100と接続するために上電極膜
80の一部を露出させるコンタクトホール90aが形成
されている。そして、このコンタクトホール90aを介
して各上電極膜80に一端が接続し、また他端が接続端
子部に延びるリード電極100が形成されている。リー
ド電極100は、駆動信号を上電極膜80に確実に供給
できる程度に可及的に狭い幅となるように形成されてい
る。
3に示す。
膜80の周縁部、圧電体膜70および下電極膜60の側
面を覆うように絶縁体層90を形成する。この絶縁体層
90の好適な材料は上述した通りであるが、本実施形態
ではネガ型の感光性ポリイミドを用いている。
層90をパターニングすることにより、各圧力発生室1
2の外部で端部近傍に対応する部分にコンタクトホール
90aを形成する。なお、図13(b)には、説明の都
合上、圧力発生室12外の周壁に対向する領域のコンタ
クトホール90a部分の断面を示す。また、本発明で
は、コンタクトホール90aでリード電極100と上電
極膜80との接続を図っているが、上電極膜80を基板
の端部まで延設して、直接フレキシブルケーブル等と接
続するようにしてもよい。また、コンタクトホール90
aは、圧力発生室12に対向する領域内に設けてもよ
い。
全面に成膜した後、パターニングすることにより、リー
ド電極100を形成する。
して膜形成を行った後、図13(c)に示すように、前
述したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板の異方性
エッチングを行い、圧力発生室12等を形成する。な
お、以上説明した一連の膜形成及び異方性エッチング
は、一枚のウェハ上に多数のチップを同時に形成し、プ
ロセス終了後、図8に示すような一つのチップサイズの
流路形成基板10毎に分割する。また、分割した流路形
成基板10を、封止板20、共通インク室形成基板3
0、及びインク室側板40と順次接着して一体化し、イ
ンクジェット式記録ヘッドとする。
は、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導
入口42からインクを取り込み、共通インク室31から
ノズル開口111に至るまで内部をインクで満たした
後、図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、
リード電極100を介して下電極膜60と上電極膜80
との間に電圧を印加し、弾性膜50、下電極膜60及び
圧電体膜70をたわみ変形させることにより、圧力発生
室12内の圧力が高まりノズル開口111からインク滴
が吐出する。
録ヘッドの圧力発生室12と圧電体能動部320等との
平面位置関係を図14に示す。
上電極膜80からなる圧電体能動部320は、基本的に
は圧力発生室12に対向する領域内に設けられており、
圧力発生室12の幅より若干狭い幅で形成されている。
しかしながら、圧力発生室12の一端部においては、圧
力発生室12に対向する領域から周壁に対向する領域へ
横切る連結部近傍の幅狭部323を介して連続的に延設
されており、圧力発生室12と周壁との境界近傍に位置
する幅狭部323は他の部分より幅が狭くなっている。
なお、本実施形態の幅狭部323は、圧電体膜70及び
上電極膜80の両者を幅狭に形成したものである。
0μm、圧電体能動部320の幅が35〜40μm、幅
狭部323の圧電体層70の幅が10〜15μmであ
る。
た際の圧力発生室12内とその周壁境界から圧力発生室
12に向かってたわみが緩やかに生じるため、幅狭部3
23の応力が小さくなり、クラック等の破壊が防止さ
れ、耐久性が向上する。
幅狭部323の圧力発生室12側の端部、すなわち、圧
電体能動部320の幅が小さくなり始めた地点から幅狭
部323が周壁との境界を横切るまでの距離(Lとして
図示する)が圧力発生室12の幅の1/2以上であるの
が好ましい。
部323との境界近傍の外縁の隅部をR部とし、さら
に、幅が徐々に変化するようにパターニングするのが好
ましい。
ンクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍の圧電体能
動部等のパターン形状を示す。
部323Aを上電極膜80を幅狭とすることにより形成
し、幅狭部323Aの両側に、上電極膜80を有さない
圧電体膜70からなる非能動部(不活性部)325Aを
有するようにした以外は実施形態1と同様である。
の部分でのたわみが抑制されてクラック等による破壊が
防止され、耐久性が向上する。
るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍の圧電
体能動部等のパターン形状を示す。
壁側に片寄らせて圧電体能動部320を細くした幅狭部
323Bを形成している。このようにすることで、能動
部となる幅狭部323Bが電圧を印加された際の圧力発
生室12の端部でのたわみが、連結部が中央にある場合
より小さくなる。なお、幅狭部323Bは、上電極膜8
0のみを幅狭にすることにより形成され、幅狭部323
Bの一方側には、非能動部325Bが存在する。勿論、
非能動部325Bの圧電体膜70を除去してもよい。
例に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍
の圧電体能動部等のパターン形状を示す。
壁側に片寄らせて圧電体能動部320を細くした幅狭部
323C形成している。このようにすることで、能動部
となる幅狭部323Cが電圧を印加された際の圧力発生
室12の端部でのたわみが、連結部が中央にある場合よ
り小さくなる。なお、幅狭部323Cは、上電極膜80
及び圧電体膜70を幅狭にすることにより形成されてい
る。
内方に向かう角が鋭角な隅部上に設けると、さらにたわ
みにくくなり、クラック等による破壊がさらに良好に防
止される。
例に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍
の圧電体能動部等のパターン形状を示す。
室12の二つの隅部に対向する領域に設けた以外は図1
7の実施形態と同様であり、したがって、二つの幅狭部
323Dの間は圧電体膜70及び上電極膜80が除去さ
れている。なお、本実施形態の効果も図17の実施形態
とほぼ同様である。
例に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍
の圧電体能動部等のパターン形状を示す。
室12の二つの隅部近傍に対向する領域に設けた以外は
図17の実施形態と同様であり、したがって、幅狭部3
23Eの間は圧電体膜70及び上電極膜80が除去され
ている。本実施形態の効果は基本的には図17の実施形
態とほぼ同様である。なお、このようにコンタクトホー
ル90aを圧力発生室12に対向する領域ではなく、そ
の外側に設けていることにより、コンタクトホール90
a近傍でのクラック等の発生が防止される。
ンタクトホール90aは、圧力発生室12に対向する領
域外に設けられるが、この場合の電圧印加を考えると、
図18又は図19の実施形態のように二つ以上の幅狭の
連結部を有しているのが好ましい。
係るインクジェット式記録ヘッドの要部平面図を示す。
本実施形態のインクジェット式記録ヘッドの基本構成は
実施形態2と同様であるので、類似の部分には同一符号
を付す。
基本的には圧力発生室12に対向する領域内にあり、そ
の周囲には、下電極除去部350が形成されている。ま
た、圧電体能動部320は、圧力発生室12の長手方向
端部で幅狭部323Fを介して周壁に対向する領域まで
延設されている。以上は、上述した実施形態2と同様で
あるが、本実施形態では、幅狭部323Fの幅方向両側
に厚膜部360が設けられている。厚膜部360は、幅
狭部323Fの幅方向両側で圧力発生室12と周壁との
境界の内側に対向する領域であり、下電極膜除去部35
0より厚い膜で構成されていればよい。すなわち、本実
施形態では、厚膜部360は、下電極膜60を除去しな
いで残すことにより形成されているが、さらに、圧電体
膜70、上電極膜80を残してもよいし、絶縁体層等の
他の膜を積層するようにしてもよい。
れた際の幅狭部323Fのたわみ変位がさらに規制され
ることになる。また、圧力発生室12と周壁との境界内
側に対向する部分の振動板が厚膜部360で保護される
ので、振動板の耐久性が向上するという効果も奏する。
実施形態では、幅狭部323Gが圧力発生室12の隅部
に対向する領域を横切るように形成され、他方の隅部の
境界内側に厚膜部360Aが設けられており、同様の効
果を奏する。
形態4に係るインクジェット式記録ヘッドの圧力発生室
近傍の圧電体能動部等のパターン形状を示す。本実施形
態も基本的構成は実施形態2と同様であり、類似の部分
には同一の符号を付す。
部323Hに対応する圧力発生室12の一端部に幅狭部
380を形成して振動規制部370Aとし、当該振動規
制部370Aに対応する端部から圧電体能動部320が
周壁まで延設されるている。
20に電圧を印加した際に、圧力発生室12の幅狭部3
80である振動規制部370Aでは、上述したように、
圧電体能動部320を幅狭部323Hとすることによ
り、駆動時の変位を規制すると共に、圧力発生室12の
幅を狭くすることにより、さらに変位を規制するもので
あり、他の部分と比較して変位が小さくなり、その周壁
境界から圧力発生室12に向かってたわみが緩やかに生
じるため、振動規制部370Aに位置する圧電体能動部
320の応力が小さくなり、クラック等の破壊が防止さ
れ、耐久性が向上する。
圧電体能動部320の幅を狭くしているが、必ずしも狭
くする必要はない。また、このように圧力発生室12の
幅を狭くする際に、一方の側部を直線上にすることによ
り、特にクラック等が発生しやすい圧電体膜70の角部
を少なく抑えることができるので、耐久性がさらに向上
するという効果を奏する。
を形成して振動規制部とした実施形態において、下電極
除去部を設けてもよく、この場合、振動規制部も含めて
全体に設けてもよいし、振動規制部以外に設けてもよ
い。
は圧力発生室12に対向する位置に設けられている。
ンクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍の圧電体能
動部等のパターン形状を示す。
圧力発生室12の周壁に対向する部分に設けた以外は上
述した実施形態と同様である。なお、この場合には、コ
ンタクトホール90a近傍での変位が実質的にないの
で、この部分でのクラック等の破壊が生じ難くなる。
インクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍の圧電体
能動部等のパターン形状を示す。
幅狭部380Aを設ける共に、幅狭部380Aに対応す
る圧電体能動部320を幅広部321Cとして、振動規
制部370Bとしたものであり、他の部分と比較して変
位が小さくなり、その周壁境界から圧力発生室12に向
かってたわみが緩やかに生じるため、振動規制部370
Bに位置する圧電体能動部320の応力が小さくなり、
クラック等の破壊が防止され、耐久性が向上する。
は、幅方向両側から幅を徐々に狭めて縁部を曲線で形成
し、また、圧電体能動部320の幅広部323Iは、幅
方向両側の幅を徐々に広げて縁部を曲線で形成するよう
にしている。これにより、クラック等が発生しやすい圧
電体膜70の角部を少なく抑えることができるので、耐
久性がさらに向上するという効果を奏する。
インクジェット式記録ヘッドの圧力発生室近傍の圧電体
能動部等のパターン形状を示す。
の端部以外に幅狭部380Bを設けて振動規制部370
Cとした以外は上述した実施形態と基本的に同様であ
る。
て、圧力発生室12の側部周壁上に圧電体能動部320
の幅狭部323Iを形成し、幅狭部323J上にコンタ
クトホール90aを形成するようにしている。
分の振動が規制され、その部分で幅狭部323Iが周壁
上まで延設されているので、幅狭部232Iでのクラッ
ク等の破壊が生じ難い。
電体能動部320の連結部を設けるのは、振動規制部が
圧力発生室12の端部以外に設けられた場合に限定され
ず、上述した各実施形態のように振動規制部を端部に設
けた場合にも側方に延びる連結部を設けてもよい。
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
ンク室形成板30をガラスセラミックス製としてもよ
く、さらには、薄肉膜41を別部材としてガラスセラミ
ックス製としてもよく、材料、構造等の変更は自由であ
る。
を流路形成基板10の端面に形成しているが、面に垂直
な方向に突出するノズル開口を形成してもよい。
を図26、その流路の断面を図27にぞれぞれ示す。こ
の実施形態では、ノズル開口111が圧電振動子とは反
対のノズル基板140に穿設され、これらノズル開口1
11と圧力発生室12とを連通するノズル連通口22
が、封止板20,共通インク室形成板30及び薄肉板4
1A及びインク室側板40Aを貫通するように配されて
いる。
Aとインク室側板40Aとを別部材とし、インク室側板
40に開口40bを形成した以外は、基本的に上述した
実施形態と同様であり、同一部材には同一符号を付して
重複する説明は省略する。
た各実施形態と同様に、振動規制部を設けて、圧電体能
動部の振動を規制して圧力発生室の周縁との境界近傍の
割れ等を防止することができる。
内に形成したタイプのインクジェット式記録ヘッドにも
同様に応用できる。
びリソグラフィプロセスを応用することにより製造でき
る薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、
勿論これに限定されるものではなく、例えば、基板を積
層して圧力発生室を形成するもの、あるいはグリーンシ
ートを貼付もしくはスクリーン印刷等により圧電体膜を
形成するもの、又は結晶成長により圧電体膜を形成する
もの等、各種の構造のインクジェット式記録ヘッドに本
発明を採用することができる。
として下電極膜とは別に弾性膜を設けたが、下電極膜が
弾性膜を兼ねるようにしてもよい。
縁体層を設けた例を説明したが、これに限定されず、例
えば、絶縁体層を設けないで、各上電極に異方性導電膜
を熱溶着し、この異方性導電膜をリード電極と接続した
り、その他、ワイヤボンディング等の各種ボンディング
技術を用いて接続したりする構成としてもよい。
80の材料としてPt等を例示したが、特に圧電体層7
0としてPZTを用いた場合に、Ptの代わりに導電性
酸化物を用いるのが好ましい。これは、PtがPZTか
ら酸素を取り込むことに起因して、圧電特性の低下が生
じる虞があるからである。この場合、上電極膜80を成
膜する際に導電性酸化物材料を用いてもよいし、圧電体
層70上に成膜された後に界面に導電性酸化膜を形成す
る導電性材料を用いてもよい。
O,Ti2O3,Ti3O5,,Ti4O7,Ti5O9,Ti6O11,Ti7O13,Ti8O15,Ti
9O17,VO,VO2,V2O3,V3O5,V4O7,V5O9,V6O11,V7O13,V8O
15、次の組成式で0≦x<2であるSnO2-x,NbO,NbO2,La
O,SmO,NdO,Fe3O4,ReO3,ReO2,Rh2O3,RhO2,CrO2,MoO2,WO
2,RuO2,OsO2,IrO2,PtO2,LiTi2O4,LiV2O4,K2P8W32O112,R
b2P8W32O112,Tl2P8W32O112,LaTiO3,CeTiO3,CaVO3,CaV
O3,SrVO3,次の組成式で0.23<x<1であるLa1-xSrxV
O3,La4BaCu5O13-y,La5SrCu6O15,La2SrCu2O6.2, 次の組
成式で0.4≦x≦0.45であるGd1-xSrxVO3,CaCrO3,SrCr
O3, 次の組成式で0.2<x<0.4であるLa1-xSrxMrO3,SrF
eO3,SrCoO3,LaCoO3, 次の組成式で0<x<1であるLa
1-x,SrxCoO3,LaNiO3,LaCuO3,EuNbO3,Nb12O29,CaRuO3,Sr
RuO3, 次の組成式で0<x<1であるCa1-xSrxRuO3,BaRuO
3, 次の組成式で0<x<1であるBa1-xKxRuO3,La0.5Na
0.5RuO3,SrIrO3,BaPbO3, 次の組成式で0<x<0.5であ
り且つ0<y<1であるBa1-xSrxPbO3-y, 次の組成式で0
<x<1であるBaPb1-xBixO3, 次の組成式で0<x<1で
あるBa1-xKxBiO3,BaPb0.75Sb0.25O3,CaMoO3,SrMoO3,BaM
oO3, 次の組成式で0<x<1である(Ba,Ca,Sr)TiO3-x,La
4Re6O19,La4Ru6O19,Bi3Ru3O11,La3Ni2O7,La4Ni3O10,Nd2
NiO4,La2CuO4,Sr2RuO4, 次の組成式で0<y<1であるNd
2Mo2O7-y, 次の組成式で0<y<1であるSm2Mo2O7-y, 次
の組成式で0<y<1であるGd2Mo2O7-y, 次の組成式で0
<y<1であるPb2Tc2O7-y, 次の組成式で0<y<1であ
るTl2Ru2O7-y, 次の組成式で0<y<1であるPb2Ru
2O7-y, 次の組成式で0<y<1であるBi2Ru2O7-y, 次の
組成式で0<y<1であるLu2Ru2O7-y, 次の組成式で0<
y<1であるTl2Rh2O7-y, 次の組成式で0<y<1であるB
i2Rh2O7-y, 次の組成式で0<y<1であるPb2Re2O7-y,
次の組成式で0<y<1であるCd2Re2O7-y, 次の組成式で
0<y<1であるTl2Os2O7-y, 次の組成式で0<y<1であ
るPb2Os2O7-y,次の組成式で0<y<1であるLn2Os2O7-y,
次の組成式で0<y<1であるTl2Ir2O7-y, 次の組成式
で0<y<1であるPb2Ir2O7-y, 次の組成式で0<y<1で
あるBi2Ir2O7-y, 次の組成式で0<y<1であるLu2Ir2O
7-y,Li2RuO3,Cu6O8ScCl,Cu6O8InCl, 次の組成式で0.01
<x<1であるPd1-xLixO, 次の組成式で0<x<1である
CuxV2O5,Na2V2O5,K0.3MoO3,Rb0.3MoO3,Tl0.3MoO3,Mo17O
47, 次の組成式で0<y<1であるTl2O3-y, 次の組成式
で0<y<1であるTlO1-yFを挙げることができる。
b,Ru等を挙げることができ、これらを用いて上電極
膜80を形成した場合には、圧電体層70との界面に、
それぞれIrOx,PdOx,RbOx,RuOxの層
が形成され、同様の効果を奏する。勿論、これらの材料
で形成した層の上にさらにPt等の導電性膜を積層して
上電極膜80としてもよい。
い限り、種々の構造のインクジェット式記録ヘッドに応
用することができる。
電圧印加による振動を相対的に規制した振動規制部を設
け、この振動規制部で圧電体能動部が周壁上まで延設さ
れるようにしたので、この部分のたわみが他の部分より
小さくなり、クラック等の破壊が防止され、耐久性が向
上するという効果を奏する。
録ヘッドを示す組立斜視図である。
ある。
録ヘッドの圧電体層、上電極及び下電極の構造を圧力発
生室との関連で示す平面図である。
構造で示す図である。
子の構造で示す図である。
子の構造で示す図である。
子の構造で示す図である。
録ヘッドの分解斜視図である。
録ヘッドを示す図であり、図2の平面図及び断面図であ
る。
である。
である。
である。
る。
平面図である。
平面図である。
平面図である。
平面図である。
平面図である。
る。
平面図である。
ある。
平面図である。
平面図である。
平面図である。
式記録ヘッドの分解斜視図である。
式記録ヘッドを示す断面図である。
Claims (24)
- 【請求項1】 ノズル開口に連通する圧力発生室の一部
を構成し、少なくとも上面が下電極として作用する振動
板と、該振動板の表面に形成された圧電体層及び該圧電
体層の表面に形成された上電極からなり且つ前記圧力発
生室に対向する領域に形成された圧電体能動部とからな
る圧電振動子を備えるインクジェット式記録ヘッドにお
いて、 前記圧電体能動部が基本的に前記圧力発生室に対向する
領域内に配置され且つ少なくとも一ヶ所で前記圧力発生
室に対向する領域と周壁に対向する領域との境界を横切
る連結部を有し、前記連結部近傍に、前記振動板の振動
板としての動きを規制する振動規制部を有することを特
徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項2】 請求項1において、前記振動板が、少な
くとも前記圧電体能動部の幅方向両側に当該圧電体能動
部に対応する部分の厚さより薄い薄肉部を有することを
特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、前記振動規制
部は、前記圧電体層を前記圧電体能動部の主要部の幅よ
り幅広として側壁まで延設した幅広部を前記圧力発生室
の長手方向一端側に設けることにより形成されているこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項4】 請求項3において、前記振動規制部の前
記圧電体層上には基本的に前記上電極が設けられている
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項5】 請求項3又は4において、前記振動規制
部の前記圧電体層上の少なくとも一部には前記上電極が
設けられていないことを特徴とするインクジェット式記
録ヘッド。 - 【請求項6】 請求項3〜5の何れかにおいて、前記圧
電体層は、前記圧電体能動部の主要部から前記幅広部ま
で幅が徐々に変化していることを特徴とするインクジェ
ット式記録ヘッド。 - 【請求項7】 請求項1又は2において、前記振動規制
部は、前記圧力発生室の幅と前記圧電体能動部の幅との
相対関係を主要部の相対関係から変更することにより形
成されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッド。 - 【請求項8】 請求項7において、前記振動規制部は、
前記圧電体能動部の前記連結部近傍の前記圧電体層及び
前記上電極の両者を幅狭とした幅狭部を設けることによ
り形成されていることを特徴とするインクジェット式記
録ヘッド。 - 【請求項9】 請求項7において、前記振動規制部は、
前記圧電体能動部の前記連結部近傍の前記上電極のみを
幅狭とした幅狭部を設けることにより形成されているこ
とを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項10】 請求項7〜9の何れかにおいて、前記
圧電体能動部は、主要部から前記幅狭部まで幅が徐々に
変化していることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッド。 - 【請求項11】 請求項8〜10の何れかにおいて、前
記幅狭部の幅方向両側には、前記圧力発生室とその周壁
との境界の内縁部の少なくとも一部に、その全体膜厚が
前記圧電体能動部の周囲の全体膜厚より厚い厚膜部が設
けられていることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッド。 - 【請求項12】 請求項8〜11の何れかにおいて、前
記幅狭部の前記圧力発生室内側の端部から当該幅狭部が
当該圧力発生室の長手方向の一方の端部の前記境界を横
切るまでの距離が、前記圧力発生室の幅の1/2以上で
あることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項13】 請求項8〜12の何れかにおいて、前
記連結部が、前記圧力発生室の何れかの側壁近傍に設け
られていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ド。 - 【請求項14】 請求項8〜12の何れかにおいて、前
記連結部が、前記圧力発生室の長手方向の一方の端部に
複数設けられていることを特徴とするインクジェット式
記録ヘッド。 - 【請求項15】 請求項8〜14の何れかにおいて、前
記連結部が、前記圧力発生室の隅部境界を横切るように
形成されていることを特徴とするインクジェット式記録
ヘッド。 - 【請求項16】 請求項15において、前記隅部は、前
記圧力発生室に向かって開く角が鋭角であることを特徴
とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項17】 請求項7〜16の何れかにおいて、前
記振動規制部は、前記圧力発生室の幅を他の部分より狭
くすることにより形成されていることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッド。 - 【請求項18】 請求項17において、前記圧力発生室
の幅方向一方側の周壁との境界が、前記振動規制部から
他の部分まで直線状に形成されていることを特徴とする
インクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項19】 請求項18において、前記圧電体能動
部の幅方向一方側の縁部が、主要部から前記振動規制部
まで前記圧力発生室の長手方向に亘って直線状に形成さ
れていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ド。 - 【請求項20】 請求項1〜19の何れかにおいて、前
記圧電体能動部の上面には絶縁体層が形成され、前記圧
電体能動部へ電圧を印加するためのリード電極と前記上
電極との接続を行うコンタクト部が、前記絶縁体層に形
成されたコンタクトホール内に形成されていることを特
徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項21】 請求項1〜20の何れかにおいて、前
記圧電体能動部へ電圧を印加するためのリード電極と前
記上電極との接続を行うコンタクト部が、前記圧力発生
室の周壁に対向する部分に設けられていることを特徴と
するインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項22】 請求項1〜21の何れかにおいて、前
記連結部の前記圧力発生室の前記一端側の境界を越えた
領域から前記上電極を縮幅して信号伝送路が形成されて
いることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。 - 【請求項23】 請求項1〜22の何れかにおいて、前
記上電極の少なくとも前記圧電体層との接触面が、導電
性酸化物膜で形成されていることを特徴とするインクジ
ェット式記録ヘッド。 - 【請求項24】 請求項1〜23の何れかにおいて、前
記圧力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチング
により形成され、前記圧電振動子の各層が成膜及びリソ
グラフィ法により形成されたものであることを特徴とす
るインクジェット式記録ヘッド。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33277997A JP3414227B2 (ja) | 1997-01-24 | 1997-12-03 | インクジェット式記録ヘッド |
US09/012,598 US6113225A (en) | 1997-01-24 | 1998-01-23 | Ink jet type recording head |
DE69809807T DE69809807T2 (de) | 1997-01-24 | 1998-01-23 | Tintenstrahlaufzeichnungskopf |
EP98101182A EP0855273B1 (en) | 1997-01-24 | 1998-01-23 | Ink jet type recording head |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9-26074 | 1997-01-24 | ||
JP2607497 | 1997-01-24 | ||
JP25221597 | 1997-09-17 | ||
JP9-252215 | 1997-09-17 | ||
JP9-255522 | 1997-09-19 | ||
JP25552297 | 1997-09-19 | ||
JP33277997A JP3414227B2 (ja) | 1997-01-24 | 1997-12-03 | インクジェット式記録ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11151812A true JPH11151812A (ja) | 1999-06-08 |
JP3414227B2 JP3414227B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=27458425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33277997A Expired - Fee Related JP3414227B2 (ja) | 1997-01-24 | 1997-12-03 | インクジェット式記録ヘッド |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6113225A (ja) |
EP (1) | EP0855273B1 (ja) |
JP (1) | JP3414227B2 (ja) |
DE (1) | DE69809807T2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005238845A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットプリントヘッドの圧電アクチュエータ、及びその形成方法 |
JP2006321059A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 液滴吐出ヘッド、インクジェットプリントヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2008100382A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Seiko Epson Corp | 接合基板、液体噴射ヘッド及びその製造方法、並びに液体噴射装置 |
JP2011523612A (ja) * | 2008-04-18 | 2011-08-18 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 鉛フリー抵抗体組成物 |
JP2012171096A (ja) * | 2011-02-17 | 2012-09-10 | Seiko Epson Corp | 圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 |
JP2014073629A (ja) * | 2012-10-04 | 2014-04-24 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及び画像形成装置 |
JP2015171809A (ja) * | 2014-02-18 | 2015-10-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射装置 |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1148475A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-23 | Seiko Epson Corp | インクジェット式記録ヘッド |
US6502928B1 (en) * | 1998-07-29 | 2003-01-07 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording head and ink jet recording apparatus comprising the same |
JP4300610B2 (ja) * | 1998-12-25 | 2009-07-22 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録ヘッド及びプリンタ装置 |
US6755511B1 (en) * | 1999-10-05 | 2004-06-29 | Spectra, Inc. | Piezoelectric ink jet module with seal |
US6774541B1 (en) * | 1999-11-18 | 2004-08-10 | Kri, Inc. | Piezoelectric element, process for producing the piezoelectric element, and head for ink-jet printer using the piezoelectric element |
US6693033B2 (en) * | 2000-02-10 | 2004-02-17 | Motorola, Inc. | Method of removing an amorphous oxide from a monocrystalline surface |
JP2002001955A (ja) * | 2000-06-26 | 2002-01-08 | Toshiba Tec Corp | インクジェットプリンタヘッドおよびその製造方法 |
JP2002248765A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-09-03 | Fuji Xerox Co Ltd | インクジェット式記録ヘッドおよびインクジェット式記録装置 |
US20020096683A1 (en) * | 2001-01-19 | 2002-07-25 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabricating GaN devices utilizing the formation of a compliant substrate |
US6709989B2 (en) | 2001-06-21 | 2004-03-23 | Motorola, Inc. | Method for fabricating a semiconductor structure including a metal oxide interface with silicon |
US6693298B2 (en) | 2001-07-20 | 2004-02-17 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabricating epitaxial semiconductor on insulator (SOI) structures and devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form same |
US7019332B2 (en) * | 2001-07-20 | 2006-03-28 | Freescale Semiconductor, Inc. | Fabrication of a wavelength locker within a semiconductor structure |
US20030026310A1 (en) * | 2001-08-06 | 2003-02-06 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabrication for a lighting device |
US6639249B2 (en) * | 2001-08-06 | 2003-10-28 | Motorola, Inc. | Structure and method for fabrication for a solid-state lighting device |
US6673667B2 (en) * | 2001-08-15 | 2004-01-06 | Motorola, Inc. | Method for manufacturing a substantially integral monolithic apparatus including a plurality of semiconductor materials |
US6911155B2 (en) * | 2002-01-31 | 2005-06-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Methods and systems for forming slots in a substrate |
US20030140496A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-07-31 | Shen Buswell | Methods and systems for forming slots in a semiconductor substrate |
US7051426B2 (en) * | 2002-01-31 | 2006-05-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method making a cutting disk into of a substrate |
JP4708667B2 (ja) * | 2002-08-08 | 2011-06-22 | キヤノン株式会社 | アクチュエータおよび液体噴射ヘッド |
JP2004114558A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Brother Ind Ltd | インクジェットプリンタヘッド及びその製造方法 |
US7169619B2 (en) * | 2002-11-19 | 2007-01-30 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method for fabricating semiconductor structures on vicinal substrates using a low temperature, low pressure, alkaline earth metal-rich process |
US6806202B2 (en) | 2002-12-03 | 2004-10-19 | Motorola, Inc. | Method of removing silicon oxide from a surface of a substrate |
US6963090B2 (en) * | 2003-01-09 | 2005-11-08 | Freescale Semiconductor, Inc. | Enhancement mode metal-oxide-semiconductor field effect transistor |
US20050036004A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Barbara Horn | Methods and systems for conditioning slotted substrates |
US8491076B2 (en) | 2004-03-15 | 2013-07-23 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Fluid droplet ejection devices and methods |
US7281778B2 (en) | 2004-03-15 | 2007-10-16 | Fujifilm Dimatix, Inc. | High frequency droplet ejection device and method |
CN101094770B (zh) | 2004-12-30 | 2010-04-14 | 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司 | 喷墨打印 |
US7988247B2 (en) | 2007-01-11 | 2011-08-02 | Fujifilm Dimatix, Inc. | Ejection of drops having variable drop size from an ink jet printer |
US7837305B2 (en) * | 2007-01-30 | 2010-11-23 | Panasonic Corporation | Piezoelectric element, ink jet head, and ink jet recording device |
JP5743182B2 (ja) * | 2010-11-19 | 2015-07-01 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの製造方法 |
JP6123998B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2017-05-10 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッドおよび液体噴射装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05286131A (ja) * | 1992-04-15 | 1993-11-02 | Rohm Co Ltd | インクジェットプリントヘッドの製造方法及びインクジェットプリントヘッド |
JP3144948B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2001-03-12 | 日本碍子株式会社 | インクジェットプリントヘッド |
US5545461A (en) * | 1994-02-14 | 1996-08-13 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic diaphragm structure having convex diaphragm portion and method of producing the same |
JP3501860B2 (ja) * | 1994-12-21 | 2004-03-02 | 日本碍子株式会社 | 圧電/電歪膜型素子及びその製造方法 |
US5933167A (en) * | 1995-04-03 | 1999-08-03 | Seiko Epson Corporation | Printer head for ink jet recording |
WO1998018632A1 (fr) * | 1996-10-28 | 1998-05-07 | Seiko Epson Corporation | Tete d'enregistrement a jet d'encre |
-
1997
- 1997-12-03 JP JP33277997A patent/JP3414227B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-23 EP EP98101182A patent/EP0855273B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-23 DE DE69809807T patent/DE69809807T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-23 US US09/012,598 patent/US6113225A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005238845A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Samsung Electronics Co Ltd | インクジェットプリントヘッドの圧電アクチュエータ、及びその形成方法 |
JP4638750B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2011-02-23 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | インクジェットプリントヘッドの圧電アクチュエータ、及びその形成方法 |
JP2006321059A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Fuji Xerox Co Ltd | 液滴吐出ヘッド、インクジェットプリントヘッド及びインクジェットプリンタ |
JP2008100382A (ja) * | 2006-10-17 | 2008-05-01 | Seiko Epson Corp | 接合基板、液体噴射ヘッド及びその製造方法、並びに液体噴射装置 |
JP2011523612A (ja) * | 2008-04-18 | 2011-08-18 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 鉛フリー抵抗体組成物 |
JP2012171096A (ja) * | 2011-02-17 | 2012-09-10 | Seiko Epson Corp | 圧電アクチュエーター、液体噴射ヘッド、および液体噴射装置 |
JP2014073629A (ja) * | 2012-10-04 | 2014-04-24 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及び画像形成装置 |
JP2015171809A (ja) * | 2014-02-18 | 2015-10-01 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0855273A3 (en) | 1999-08-18 |
EP0855273B1 (en) | 2002-12-04 |
EP0855273A2 (en) | 1998-07-29 |
DE69809807T2 (de) | 2003-04-24 |
US6113225A (en) | 2000-09-05 |
DE69809807D1 (de) | 2003-01-16 |
JP3414227B2 (ja) | 2003-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3414227B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
WO1999003682A1 (fr) | Tete d'impression a jets d'encre, procede de fabrication de cette derniere et imprimante a jets d'encre | |
US6315400B1 (en) | Ink jet recording head and ink jet recorder | |
JP3725390B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 | |
JP2000246888A (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 | |
US6309055B1 (en) | Ink jet printing head having a reduced width piezoelectric activating portion | |
JP3693118B2 (ja) | シリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法並びに液体噴射ヘッド | |
JP3551748B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JP3695507B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッドの製造方法 | |
JP4186084B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 | |
JPH11115184A (ja) | アクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッド | |
JPH1178002A (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JPH11157070A (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JP3384294B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JP3374900B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JPH11138809A (ja) | アクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッド | |
JPH11105281A (ja) | アクチュエータ及びインクジェット式記録ヘッド | |
JP3552017B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JPH11300961A (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法 | |
JP3557891B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JP3633811B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 | |
JP2000085133A (ja) | インクジェット式記録ヘッドの製造方法 | |
JP3371780B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JPH11115185A (ja) | インクジェット式記録ヘッド | |
JPH1178015A (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030304 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080404 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090404 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100404 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |