JPH1115004A - Electrooptical device and production therefor - Google Patents

Electrooptical device and production therefor

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JPH1115004A
JPH1115004A JP9183024A JP18302497A JPH1115004A JP H1115004 A JPH1115004 A JP H1115004A JP 9183024 A JP9183024 A JP 9183024A JP 18302497 A JP18302497 A JP 18302497A JP H1115004 A JPH1115004 A JP H1115004A
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JP
Japan
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holding member
gap holding
cell gap
electro
liquid crystal
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JP9183024A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiharu Hirakata
吉晴 平形
Takeshi Nishi
毅 西
Shunpei Yamazaki
舜平 山崎
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly hold a cell gap without using particle shaped spacers in the electrooptical device of a simple matrix driving system. SOLUTION: Stripe shaped reflection electrodes 110, 210 and oriented films 120, 220 are respectively formed on glass substrates 100, 200. Moreover, cell gap holding members 300 for holding a cell gap are provided on the glass substrate 100. After insulative coated film surfaces formed on the electrodes 110 are flattened by a chemical and mechanical grinding method, the gap cell holding members 300 are formed by being patterned. Since the cell gap holding members 300 are fixed to the substrate 100 and heights of them are made uniformly, they can hold the cell gap uniformly on the whole of the substrates.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本明細書で開示する発明は、
単純マトリクス駆動方式の表示装置およびその製造方法
において、表示装置の基板間隔(セルギャプ)を保持す
る手段に関するものである。
TECHNICAL FIELD [0001] The invention disclosed in the present specification is:
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device of a simple matrix drive system and a method of manufacturing the same, which relates to means for maintaining a substrate gap (cell gap) of the display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】マトリクス型の液晶表示装置は単純マト
リクス型とアクティブマトリクス型の2種類がある。単
純マトリクス型液晶表示装置の構造は、X方向のストラ
イプ状電極を有する基板と、Y方向のストライプ状電極
を有する基板とが、液晶層を挟んでいる。単純マトリク
スでは、対向するX−Y電極によって直接液晶に電圧を
印加している。
2. Description of the Related Art There are two types of matrix type liquid crystal display devices, a simple matrix type and an active matrix type. In the structure of the simple matrix liquid crystal display device, a substrate having a stripe electrode in the X direction and a substrate having a stripe electrode in the Y direction sandwich a liquid crystal layer. In the simple matrix, a voltage is directly applied to the liquid crystal by the opposing XY electrodes.

【0003】他方、アクティブマトリクス型液晶表示装
置は、各画素にスイッチング機能を有するアクティブ素
子が設けられており、アクティブ素子によって電極に印
加する電圧のオン・オフを制御する構造となっている。
一般的に、画質の面ではアクティブマトリクスが優位で
あるが、単純マトリクスは上記したように非常に単純な
構造であるためコストパフォーマンスに優れている。
On the other hand, the active matrix type liquid crystal display device has an active element having a switching function in each pixel, and has a structure in which the active element controls on / off of a voltage applied to an electrode.
In general, the active matrix is superior in terms of image quality, but the simple matrix has a very simple structure as described above, and thus has excellent cost performance.

【0004】また、液晶表示装置等の電気光学装置で
は、2枚の基板間隔(セルギャップ)を確保するため
に、棒状や球状のスペーサが使用されている。セルギャ
ップの大きさは液晶層の厚みであり、液晶層の厚みは色
調、コントラスト、応答速度等の液晶表示装置の特性に
大きく影響する。
Further, in an electro-optical device such as a liquid crystal display device, a rod-shaped or spherical spacer is used in order to secure an interval (cell gap) between two substrates. The size of the cell gap is the thickness of the liquid crystal layer, and the thickness of the liquid crystal layer greatly affects characteristics of the liquid crystal display device such as color tone, contrast, and response speed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来セルギャップを確
保するためのスペーサを基板に配置する方法として、基
板表面に散布する方法や、配向膜を印刷するとき、配向
膜材料と共に印刷する方法がある。
Conventionally, as a method of arranging a spacer for securing a cell gap on a substrate, there is a method of spraying on a substrate surface, and a method of printing an alignment film together with an alignment film material when printing the alignment film. .

【0006】しかしながら、散布法、印刷法の何れの方
法でも、スペーサの分散密度がばらつくことを完全に回
避することは困難である。このため、セルギャップが場
所毎に異なるという問題が生ずる。また、基板毎にスペ
ーサの分散密度がばらついてしまい、表示装置毎にセル
ギャップがばらつくという問題が生ずる。また、複数個
のスペーサが凝集してしまうおそれもあり、複数個凝集
したスペーサは点欠陥として視覚されてしまう。
[0006] However, it is difficult to completely prevent the dispersion density of the spacers from fluctuating by any of the spraying method and the printing method. For this reason, there arises a problem that the cell gap differs from place to place. In addition, there is a problem that the dispersion density of the spacer varies for each substrate, and the cell gap varies for each display device. In addition, there is a possibility that a plurality of spacers may be aggregated, and a plurality of aggregated spacers may be visually recognized as point defects.

【0007】また、液晶注入する際に、液晶の流動よっ
て粒状のスペーサは流動し易く、分散密度が偏り、更に
は凝集してしまうという問題が生ずる。
In addition, when the liquid crystal is injected, there is a problem that the granular spacer is likely to flow due to the flow of the liquid crystal, the dispersion density is uneven, and the particles are aggregated.

【0008】また、一般にスペーサは規格品が用いられ
ているため、セルギャップを任意に決定することが難し
い。一般的に製造又は試作されている液晶表示装置のセ
ルギャップは、透過型であれば4〜6μm程度、反射型
であれば2〜3μm程度とされている。また、最近注目
されている強誘電性液晶や反強誘電性液晶を用いた液晶
表示装置では、その特性上、2μm以下という微細なセ
ルギャップが要求されている。
In addition, since standard spacers are generally used, it is difficult to arbitrarily determine a cell gap. Generally, the cell gap of a liquid crystal display device manufactured or prototyped is about 4 to 6 μm for a transmission type and about 2 to 3 μm for a reflection type. In addition, a liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal or an antiferroelectric liquid crystal, which has recently attracted attention, requires a fine cell gap of 2 μm or less due to its characteristics.

【0009】強誘電性液晶はクロストークがない、視野
角が大きい、STN液晶よりも3桁以上速い高速スイッ
チング特性等の特性を有し、単純マトリクスでも高精
細、大画面化を実現し得る。強誘電性液晶を用いた液晶
パネルでは、強誘電性液晶をらせん構造を解除して配向
させる必要があり、セルギャップはらせんのピッチ以下
とする必要があり、2μm以下とする必要がある。
A ferroelectric liquid crystal has characteristics such as no crosstalk, a large viewing angle, and a high-speed switching characteristic that is three orders of magnitude faster than an STN liquid crystal, and can realize high definition and a large screen even with a simple matrix. In a liquid crystal panel using a ferroelectric liquid crystal, it is necessary to cancel the helical structure of the ferroelectric liquid crystal and to orient the liquid crystal.

【0010】しかしながら、従来の粒状のスペーサで
は、このような微細なセルギャップを維持することは、
非常に困難である。例えば、微細なセルギャップを維持
するためには、球状のスペーサも微細になり、粒経がき
わめて揃ったものを得るのは困難である。また、スペー
サ1つ1つを均一に分散させて配置させることも困難に
なる。
[0010] However, in the conventional granular spacer, maintaining such a fine cell gap is difficult.
Very difficult. For example, in order to maintain a fine cell gap, the spherical spacers are also fine, and it is difficult to obtain a spacer having a very uniform grain size. Also, it is difficult to uniformly disperse and arrange the spacers one by one.

【0011】本発明の目的は、上述した問題点を解消す
るため、従来のスペーサと異なるセルギャップ保持部材
を備えた単純マトリクス型駆動方式の電気光学装置およ
びその製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a simple matrix type driving type electro-optical device having a cell gap holding member different from a conventional spacer and a method of manufacturing the same to solve the above-mentioned problems.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上述の問題点を解決する
ために、本発明に係る電気光学装置は、対向する2枚の
基板を有する単純マトリクス型駆動方式の電気光学装置
において、前記基板の少なくとも一方には、前記一対の
基板間隔を保持するためのギャップ保持部材が設けら
れ、前記ギャップ保持部材の他方の基板と対向する面
は、化学的機械的研磨によって平坦化されていることを
特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, an electro-optical device according to the present invention is an electro-optical device of a simple matrix driving system having two opposing substrates. At least one is provided with a gap holding member for holding the gap between the pair of substrates, and a surface of the gap holding member facing the other substrate is flattened by chemical mechanical polishing. And

【0013】更に、上述の問題点を解決するために、本
発明に係る電気光学装置の製造方法は、対向する2枚の
基板を有する単純マトリクス型駆動方式の電気光学装置
の製造方法において、前記2枚の基板それぞれに電極を
形成する工程と、前記2枚の基板の少なくとも一方の基
板に対して、前記電極上に絶縁被膜を形成する工程と、
前記絶縁性被膜の表面を化学的機械的研磨する工程と、
研磨された前記絶縁性被膜をパターニングして、前記一
対の基板間隔を保持するためのギャップ保持部材を形成
する工程と、を有することを特徴とする。
Further, in order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention is directed to a method of manufacturing an electro-optical device of a simple matrix type having two opposing substrates. Forming an electrode on each of the two substrates; and forming an insulating coating on the electrodes for at least one of the two substrates;
A step of chemically and mechanically polishing the surface of the insulating coating,
Patterning the polished insulating film to form a gap holding member for holding the gap between the pair of substrates.

【0014】[0014]

【実施の形態】図1を用いて、本発明の実施の形態を説
明する。図1は、本実施の形態の単純マトリクス駆動方
式の電気光学装置の概略の斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic perspective view of an electro-optical device of a simple matrix driving system according to the present embodiment.

【0015】図1に示すように、対向する基板100、
200にはそれぞれ、ストライプ状の電極110、21
0、配向膜120、220が設けられている。更に、基
板100側には、基板100と200の間隔(セルギャ
ップ)を保持するために、セルギャップ保持部材300
が設けられている。セルギャップ保持部材300は従来
のスペーサに替わるものであり、絶縁性材料で形成さ
れ、複数個が基板100全体に分散して設けられてい
る。
As shown in FIG. 1, opposing substrates 100,
200 has striped electrodes 110 and 21 respectively.
0, alignment films 120 and 220 are provided. Further, on the substrate 100 side, a cell gap holding member 300 is provided in order to maintain an interval (cell gap) between the substrates 100 and 200.
Is provided. The cell gap holding member 300 is an alternative to a conventional spacer, and is formed of an insulating material, and a plurality of the cell gap holding members are dispersedly provided over the entire substrate 100.

【0016】セルギャップ保持部材300は配向膜12
0が形成される前に形成される。セルギャップ保持部材
300の形成工程は、電極110が形成された基板10
0に絶縁性被膜を形成し、この絶縁性被膜表面を化学的
機械的研磨方法によって平坦化した後、パターニングす
るという工程を有する。
The cell gap holding member 300 is formed of the alignment film 12.
Formed before 0 is formed. The step of forming the cell gap holding member 300 is performed by using the substrate 10 on which the electrode 110 is formed.
The method includes a step of forming an insulating film on the substrate, flattening the surface of the insulating film by a chemical mechanical polishing method, and then patterning the surface.

【0017】ギャップ保持部材300を構成する絶縁性
被膜材料としては、液晶に近い比重と熱膨張係数を有す
る樹脂材料が好ましい。例えば、ポリイミド、アクリ
ル、ポリアミド又はポリイミドアミドから選ばれた樹脂
材料が使用できる。また、基板に熱的な影響を与えるこ
とが少なく形成可能な、紫外線硬化性樹脂や熱硬化性樹
脂材料を用いることができる。
As the insulating coating material constituting the gap holding member 300, a resin material having a specific gravity close to that of liquid crystal and a thermal expansion coefficient is preferable. For example, a resin material selected from polyimide, acrylic, polyamide or polyimide amide can be used. In addition, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin material which can be formed with little thermal influence on the substrate can be used.

【0018】また、絶縁性被膜のパターニングする方法
としては、エッチング方法が挙げられる。本実施形態で
は、絶縁性被膜の下部構造は非常に単純な構造を有して
いるため、絶縁性被膜とのエッチング選択比をとりやす
く、絶縁性被膜の材料の選択幅が大きい。また、他のパ
ターニング方法として、絶縁性被膜を感光性材料で形成
し、感光、現像処理でパターニングする方法を用いるこ
とができる。
As a method of patterning the insulating film, an etching method can be used. In the present embodiment, since the lower structure of the insulating film has a very simple structure, it is easy to obtain an etching selectivity with the insulating film, and the material of the insulating film has a wide selection range. As another patterning method, a method in which an insulating film is formed from a photosensitive material, and patterning is performed by exposure and development processing can be used.

【0019】セルギャップ保持部材300は柱状形状を
有し、他方の基板200と対向する面300aは化学的
機械的研磨によって平坦化されている。このため、基板
を貼り合わせても、うねりが生ずることを抑制、防止す
ることができる。更に、研磨処理によってセルギャップ
保持部材300の高さを適宜に設定できる。このため3
μm以下、更には2μm以下のような狭いセルギャップ
でも均一に、精度良く保持することが可能である。な
お、セルギャップ保持部材300の形成位置、個数はセ
ルギャップを保持でき、かつ表示の妨げにならないよう
に、決定すればよい。
The cell gap holding member 300 has a columnar shape, and a surface 300a facing the other substrate 200 is flattened by chemical mechanical polishing. For this reason, even if the substrates are bonded, generation of undulation can be suppressed or prevented. Further, the height of the cell gap holding member 300 can be appropriately set by the polishing process. Therefore 3
It is possible to uniformly and accurately hold even a narrow cell gap of not more than 2 μm, not more than 2 μm. The formation position and the number of the cell gap holding members 300 may be determined so that the cell gap can be held and display is not hindered.

【0020】[0020]

【実施例】【Example】

[実施例1] 本実施例では、本発明をSTN反射型液
晶パネルに応用した例を示す。図1は本実施例の液晶パ
ネルの概略の斜視図である。図1に示すように、ガラス
基板100には、ストライプ状の反射電極110、配向
膜120、基板100全体に均等に分布してセルギャッ
プを保持するためのセルギャップ保持部材300が設け
られている。他方ガラス基板200には、透明電極21
0、配向膜220が設けられている。ガラス基板100
と200は配向膜120、220を内側にして対向さ
れ、ガラス基板100と200の間隔はセルギャップ保
持部材300によって確保され、この基板の隙間に図示
しないSTN液晶が封止されている。
Embodiment 1 In this embodiment, an example in which the present invention is applied to an STN reflective liquid crystal panel will be described. FIG. 1 is a schematic perspective view of the liquid crystal panel of the present embodiment. As shown in FIG. 1, a glass substrate 100 is provided with a stripe-shaped reflective electrode 110, an alignment film 120, and a cell gap holding member 300 that is distributed evenly over the entire substrate 100 and holds a cell gap. . On the other hand, the transparent electrode 21
0, an alignment film 220 is provided. Glass substrate 100
And 200 are opposed to each other with the alignment films 120 and 220 inside. The gap between the glass substrates 100 and 200 is secured by the cell gap holding member 300, and an STN liquid crystal (not shown) is sealed in the gap between the substrates.

【0021】以下、図2〜5を用いて、本実施例の反射
型液晶パネルの作製方法を説明する。まず、ガラス基板
100上に、反射電極110を構成する金属膜を形成す
る。本実施例では、アルミニウム膜を400nm膜厚に
スパッタリング法によって成膜し、パターニングして、
ストライプ状の反射電極110を形成する。反射電極1
10は紙面に垂直な方向に延在する構造となっている
(図2(A))。
Hereinafter, a method of manufacturing the reflection type liquid crystal panel of this embodiment will be described with reference to FIGS. First, a metal film forming the reflective electrode 110 is formed on the glass substrate 100. In this embodiment, an aluminum film is formed to a thickness of 400 nm by a sputtering method, and is patterned.
A stripe-shaped reflective electrode 110 is formed. Reflective electrode 1
Reference numeral 10 denotes a structure extending in a direction perpendicular to the paper surface (FIG. 2A).

【0022】次に、セルギャップ保持部材130を構成
する絶縁材料でなる被膜10を形成する。本実施例で
は、スピンコート法によって感光性ポリイミド膜10を
厚さ3.5 μmに形成し、30分間、常温で放置(レ
ベリング)して、感光性ポリイミド膜10の膜厚をアク
ティブマトリクス基板全面に渡って均一になるようにす
る。そして、上面に感光性ポリイミド膜10が形成され
たガラス基板100を120℃で3分間プリベークする
(図2(B))。
Next, a film 10 made of an insulating material for forming the cell gap holding member 130 is formed. In this embodiment, the photosensitive polyimide film 10 is formed to a thickness of 3.5 μm by spin coating, and left (leveling) for 30 minutes at room temperature to adjust the thickness of the photosensitive polyimide film 10 to the entire surface of the active matrix substrate. To be uniform. Then, the glass substrate 100 having the photosensitive polyimide film 10 formed on the upper surface is pre-baked at 120 ° C. for 3 minutes (FIG. 2B).

【0023】次に、感光性ポリイミド膜10の上面を化
学的機械的研磨(CMP)処理によって平坦化する。本
実施例では、CMPのスラリにシリカ(SiO2 )微粉
を酸性溶液中に分散させたコロイド状ものを用いる。C
MP処理の条件は、基板を50rpmで、研磨布を50
rpmで回転させ、研磨時間は3分間とする。このCM
P処理工程によって、感光性ポリイミド膜10の上層を
1μm研磨し、研磨された感光性ポリイミド膜20の膜
厚が、反射電極110表面から2.6μmとなるように
した。
Next, the upper surface of the photosensitive polyimide film 10 is flattened by a chemical mechanical polishing (CMP) process. In the present embodiment, a colloidal material in which silica (SiO 2 ) fine powder is dispersed in an acidic solution in a CMP slurry is used. C
The conditions for the MP treatment were as follows: the substrate was 50 rpm, and the polishing cloth was 50
The rotation is performed at rpm, and the polishing time is 3 minutes. This CM
In the P treatment step, the upper layer of the photosensitive polyimide film 10 was polished by 1 μm so that the polished photosensitive polyimide film 20 had a thickness of 2.6 μm from the surface of the reflective electrode 110.

【0024】なお、本実施例では、CMP処理の際のス
ラリにはシリカ微粉を酸性溶液中に分散させたものを用
いたが、酸化アルミニウム(Al23 )や酸化セリウ
ム(CeO2 )など酸性溶液中に分散させたものを用い
てもよい。CMP処理を施す材料によってスラリを変え
ることが望ましい。また、CMP処理を施す材料や研磨
量によって、最適な基板回転数、研磨布回転数および時
間を決定すればよい。
In this embodiment, a slurry in which silica fine powder is dispersed in an acidic solution is used as a slurry for the CMP treatment. However, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), or the like is used. A material dispersed in an acidic solution may be used. It is desirable to change the slurry depending on the material to be subjected to the CMP treatment. Further, the optimum substrate rotation speed, polishing cloth rotation speed and time may be determined according to the material to be subjected to the CMP treatment and the polishing amount.

【0025】CMP処理された感光性ポリイミド膜20
の膜厚によって、セルギャップ(基板間隔)が決定され
る。よって、CMP処理前の感光性ポリイミド膜10の
膜厚はセルギャップの大きさ、CMP処理の研磨量から
適宜に設定すればよい。
Photosensitive polyimide film 20 after CMP treatment
Determines the cell gap (substrate spacing). Therefore, the thickness of the photosensitive polyimide film 10 before the CMP treatment may be appropriately set based on the size of the cell gap and the polishing amount in the CMP treatment.

【0026】また、基板毎にCMP処理前の感光性ポリ
イミド膜10の膜厚がばらついても、CMP処理の研磨
量を調節することで、基板毎の感光性ポリイミド膜20
の膜厚を均等にできる。
Further, even if the thickness of the photosensitive polyimide film 10 before the CMP process varies for each substrate, the polishing amount of the CMP process is adjusted to adjust the photosensitive polyimide film 20 for each substrate.
Can be made uniform in film thickness.

【0027】次に、CMP処理された感光性ポリイミド
膜20をパターニングするために、図2(D)に示すよ
うに、感光性ポリイミド膜20をフォトマスク30で覆
う。図2(D)ではフォトマスク30は分断しているよ
うに描かれているが、実際には一体的なものであり、正
円状の開口部が複数設けられた構成を有する。
Next, as shown in FIG. 2D, the photosensitive polyimide film 20 is covered with a photomask 30 in order to pattern the CMP-processed photosensitive polyimide film 20. Although the photomask 30 is illustrated as being divided in FIG. 2D, it is actually integral and has a configuration in which a plurality of circular openings are provided.

【0028】図2(D)に示す状態で、紫外光を照射す
る。その後現像処理を行い、280℃で1時間ポストベ
ークを施す。こうして、図2(E)に示すように、感光
性ポリイミド膜20の紫外線が照射された部分が残存
し、円柱状のセルギャップ保持材300が形成される。
In the state shown in FIG. 2D, ultraviolet light is irradiated. Thereafter, development processing is performed, and post-baking is performed at 280 ° C. for 1 hour. Thus, as shown in FIG. 2E, the portion of the photosensitive polyimide film 20 irradiated with the ultraviolet rays remains, and the columnar cell gap holding material 300 is formed.

【0029】次に、配向膜120を形成する。配向膜材
料にはポリイミド系の垂直配向膜を用いる。このポリイ
ミド系の垂直配向膜をスピンコート法、フレキソ印刷法
もしくはスクリーン印刷法によって基板100上に形成
する。本実施例では、ギャップ保持部材300に物理的
な衝撃を小さくするため、スピンコート法によって配向
膜300を形成する。その後、180℃の熱風を送り込
むことによって加熱(ベーク)し、ポリイミドを硬化さ
せる。硬化後の配向膜120の膜厚は100nmになる
ようにした。(図2(F))。
Next, an alignment film 120 is formed. As the alignment film material, a polyimide vertical alignment film is used. This polyimide vertical alignment film is formed on the substrate 100 by spin coating, flexographic printing, or screen printing. In this embodiment, the alignment film 300 is formed by spin coating in order to reduce physical impact on the gap holding member 300. Thereafter, heating (baking) is performed by sending hot air of 180 ° C. to cure the polyimide. The thickness of the alignment film 120 after curing was set to 100 nm. (FIG. 2 (F)).

【0030】図5は図2(F)の状態の基板100の上
面図である。本実施例では、ギャップ保持部材300の
形状は底面が直径3μmの正円の円柱状とする。また、
その高さは配向膜120表面から約2.5μmとする。
またギャップ保持部材300は規則的に配置し、その配
置密度は50個/mm2 とする。ギャップ保持部材30
0の配置密度は、例えば、従来のスペーサの分散密度と
同程度の、40〜160個/mm2 程度とすればよく、
ギャップ保持部材300の強度に合わせて設定すればよ
い。
FIG. 5 is a top view of the substrate 100 in the state of FIG. In the present embodiment, the shape of the gap holding member 300 is a cylindrical shape whose bottom surface is a perfect circle having a diameter of 3 μm. Also,
The height is about 2.5 μm from the surface of the alignment film 120.
The gap holding members 300 are arranged regularly, and the arrangement density is set to 50 pieces / mm 2 . Gap holding member 30
The arrangement density of 0 may be, for example, about 40 to 160 pieces / mm 2, which is about the same as the dispersion density of the conventional spacer.
What is necessary is just to set according to the intensity | strength of the gap holding member 300.

【0031】また本実施例では、全てのセルギャップ保
持部材300を反射電極110上であって、またガラス
基板100と200を対向した状態で、セルギャップ保
持部材300の上面300aが透明電極210と対向す
る位置に形成する。
Further, in this embodiment, the upper surface 300a of the cell gap holding member 300 is in contact with the transparent electrode 210 with all the cell gap holding members 300 on the reflective electrode 110 and the glass substrates 100 and 200 facing each other. It is formed at a position facing the same.

【0032】ガラス基板100、200の表面(液晶材
料と接する面)はストライプ状の電極110と210等
の多層構造によって周期的に凹凸が生ずる。ガラス基板
100と200を対向すると、この凹凸のためにセルギ
ャップが周期的に変化する。そこで本実施例では、この
セルギャップの周期的変化に対応して、上記したよう
に、全てのセルギャップ保持部材300をセルギャップ
がほぼ同じになる位置に設け、かつセルギャップ保持部
材300の高さを全てCMP処理によってほぼ同一とす
ることで、セルギャップを基板全体で均一に維持するよ
うにした。
The surfaces of the glass substrates 100 and 200 (the surfaces in contact with the liquid crystal material) are periodically uneven due to the multilayer structure of the striped electrodes 110 and 210 and the like. When the glass substrates 100 and 200 face each other, the cell gap periodically changes due to the unevenness. Therefore, in the present embodiment, in response to the periodic change of the cell gap, as described above, all the cell gap holding members 300 are provided at positions where the cell gaps are substantially the same, and the height of the cell gap holding member 300 is raised. The cell gaps were made substantially the same by the CMP process so that the cell gap was maintained uniform over the entire substrate.

【0033】図2(F)では、配向膜120によって、
ギャップ保持部材300の側面や上面300aが覆われ
ていないように図示した。これは、本実施例では感光性
ポリイミド膜10がスピンコート法によって形成されて
おり、また感光性ポリイミド膜10の膜厚が数十〜数百
nmに対し、ギャップ保持部材300の高さが数μmで
あるので、図示のとおり直立したギャップ保持部材30
0の側面や上面300aでは、配向膜120が完全な膜
を成していない場合もあるためである。そこで、図2
(F)ではガラス基板100の水平面に形成され、完全
に膜を成している配向膜120のみを図示した。
In FIG. 2F, the orientation film 120 causes
The illustration is made such that the side surface and the upper surface 300a of the gap holding member 300 are not covered. This is because, in the present embodiment, the photosensitive polyimide film 10 is formed by a spin coating method, and the thickness of the gap holding member 300 is several μm, the gap holding member 30 erected as shown in FIG.
This is because the alignment film 120 may not form a complete film on the 0 side surface or the upper surface 300a. Therefore, FIG.
(F) shows only the alignment film 120 which is formed on the horizontal surface of the glass substrate 100 and completely forms a film.

【0034】次に、図3を用いてガラス基板200に対
する処理を説明する。ガラス基板200上にカラーフィ
ルタ230を形成し、次にカラーフィルタ230をアク
リル樹脂、エポキシ樹脂からなる保護膜240を形成す
る。本実施例では、保護膜240を厚さ1μmのアクリ
ル樹脂で形成する。なお、図1ではカラーフィルタ23
0および保護膜240は省略されている(図3
(A))。
Next, processing for the glass substrate 200 will be described with reference to FIG. A color filter 230 is formed on the glass substrate 200, and then a protective film 240 made of an acrylic resin or an epoxy resin is formed on the color filter 230. In this embodiment, the protective film 240 is formed of an acrylic resin having a thickness of 1 μm. Note that, in FIG.
0 and the protective film 240 are omitted (FIG.
(A)).

【0035】次に、ITO(インディウム錫酸化物)や
SnO2(酸化スズ)等の透明導電膜でなる透明電極2
10を形成する。本実施例では、スパッタリング法によ
ってITO膜を成膜しパターニングして、ストライプ状
の透明電極210を形成した。そして、配向膜120と
同じ工程によって、ポリイミド系の垂直配向膜でなる配
向膜220を形成する(図3(B))。
Next, a transparent electrode 2 made of a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide) or SnO 2 (tin oxide) is used.
Form 10. In this embodiment, an ITO film is formed by sputtering and patterned to form a striped transparent electrode 210. Then, an alignment film 220 made of a polyimide-based vertical alignment film is formed by the same process as the alignment film 120 (FIG. 3B).

【0036】次に、配向膜120、220それぞれにラ
ビング処理を施す。本実施例では、毛足の長さ2〜3m
mのバフ布(レイヨン、ナイロン等の繊維)を巻き付け
たローラーで配向膜120、220を擦る。ラビング方
向は、ガラス基板100、200の一つの対角線方向と
し、かつガラス基板100と200を対向した状態で配
向膜120と220のラビング方向が直交するようにす
る。
Next, a rubbing treatment is applied to each of the alignment films 120 and 220. In the present embodiment, the length of the hair foot is 2-3 m.
The alignment films 120 and 220 are rubbed with a roller around which a buff cloth (fiber such as rayon or nylon) is wound. The rubbing direction is one diagonal direction of the glass substrates 100 and 200, and the rubbing directions of the alignment films 120 and 220 are orthogonal to each other with the glass substrates 100 and 200 facing each other.

【0037】ガラス基板100では、ギャップ保持部材
300が配向膜120よりも突出しているので、ギャッ
プ保持部材300が損傷したり、剥離したりするおそれ
があるが、バフ布の種類や植毛密度、あるいはローラー
の回転数、ラビング回数等の条件を合わせることで、こ
のような問題を回避することができる。
In the glass substrate 100, since the gap holding member 300 protrudes from the alignment film 120, the gap holding member 300 may be damaged or peeled off. By adjusting the conditions such as the number of rotations of the roller and the number of times of rubbing, such a problem can be avoided.

【0038】次に、ガラス基板100又は200の一方
に、基板を貼り合わせるためのシール材を塗布する。本
実施例では、ガラス基板200側の周縁部に、紫外線硬
化型樹脂でなるシール材を液晶注入口を残して塗布し
た。そしてガラス基板100と200を対向させて、セ
ルギャップがギャップ保持部材300の高さになるよう
にプレスし、この状態で紫外線を照射して、シール材を
硬化させる。
Next, one of the glass substrates 100 and 200 is coated with a sealing material for bonding the substrates. In this embodiment, a sealing material made of an ultraviolet curable resin is applied to the peripheral portion on the glass substrate 200 side, leaving a liquid crystal injection port. Then, the glass substrates 100 and 200 are opposed to each other, and pressed so that the cell gap becomes the height of the gap holding member 300. In this state, ultraviolet rays are irradiated to cure the sealing material.

【0039】次に、液晶400を液晶注入口より注入す
る。その後、液晶注入口に封止剤を塗布し、紫外線を照
射することによって封止剤を硬化させ、液晶をセル内に
完全に封止する。そして、ガラス基板200の背面に位
相差板510、偏光子520、前方散乱板530をそれ
ぞれ設けた。以上の工程を経て、図4に示すフルカラー
STN液晶パネルが完成した。
Next, the liquid crystal 400 is injected from the liquid crystal injection port. Thereafter, a sealant is applied to the liquid crystal injection port, and the sealant is cured by irradiating ultraviolet rays to completely seal the liquid crystal in the cell. Then, a retardation plate 510, a polarizer 520, and a forward scattering plate 530 were provided on the back surface of the glass substrate 200, respectively. Through the above steps, the full-color STN liquid crystal panel shown in FIG. 4 was completed.

【0040】図4は、液晶パネルの断面図であり、図4
において、ストライプ状の反射電極110は紙面に水平
な方向に延在し、ストライプ状の透明電極210は紙面
に垂直な方向に延在している。
FIG. 4 is a sectional view of the liquid crystal panel.
2, the stripe-shaped reflective electrode 110 extends in a direction horizontal to the plane of the paper, and the stripe-shaped transparent electrode 210 extends in a direction perpendicular to the plane of the paper.

【0041】本実施例において、ギャップ保持部材30
0をガラス基板100側に設けたのは、ガラス基板20
0側にはカラーフィルタ230を設けているためであ
る。ギャップ保持部材300は化学的機械的研磨処理が
施されている。この研磨処理は物理的な力を加えるの
で、不良の発生率ができるだけ小さくするために、本実
施例ではカラーフィルタ230が設けられていないガラ
ス基板100側にセルギャップ保持部材300を設け
た。
In this embodiment, the gap holding member 30
0 is provided on the glass substrate 100 side because the glass substrate 20
This is because the color filter 230 is provided on the 0 side. The gap holding member 300 has been subjected to a chemical mechanical polishing process. Since the polishing process applies a physical force, the cell gap holding member 300 is provided on the side of the glass substrate 100 on which the color filter 230 is not provided in order to minimize the occurrence rate of defects.

【0042】なお、本実施例ではフルカラーパネルの例
を示したが、白黒表示用パネルや、3板式の投射用パネ
ル等にはカラーフィルタ230が不要なため、この場合
はどちらのガラス基板100、200にセルギャップ保
持部材300を設けても良い。即ち、作製工程において
不良の発生率が少なくなるように、セルギャップ保持部
材300を設ける基板を選択すればよい。
In this embodiment, an example of a full-color panel is shown. However, since a color filter 230 is not required for a black-and-white display panel, a three-panel projection panel, or the like, in this case, either of the glass substrates 100, The cell gap holding member 300 may be provided at 200. That is, a substrate on which the cell gap holding member 300 is provided may be selected so that the incidence of defects in the manufacturing process is reduced.

【0043】また、本実施例では反射型の液晶パネルの
例を示したが、透過型のパネルにも本実施例のセルギャ
ップ保持部材300を採用できる。
In this embodiment, an example of a reflection type liquid crystal panel is shown. However, the cell gap holding member 300 of this embodiment can also be used for a transmission type panel.

【0044】また、本実施例では、ギャップ保持部材3
00を規則的に配置したが、例えば図6に示すように、
ランダムに配置しても良い。この場合でも、ギャップ保
持部材300の位置はフォトマスク30によって決定さ
れるため、従来のスペーサのように一箇所に凝集するこ
とがない。
In the present embodiment, the gap holding member 3
00 are arranged regularly, for example, as shown in FIG.
They may be arranged at random. Even in this case, since the position of the gap holding member 300 is determined by the photomask 30, it does not aggregate at one place unlike the conventional spacer.

【0045】本実施例では、ギャップ保持部材300の
底面を正円としたが、ギャップ保持部300の底面は楕
円形、流線形、あるいは、三角形、四角形などの多角形
状であってもよく、セルギャップを制御できる形状であ
り、また強度が得られるあれば、いかなる形状を有する
ことも許される。また、本実施例では、ギャップ保持部
材300は全て同形としたが、複数種の形状を有したギ
ャップ保持部材300を同一基板状に形成することもで
きる。本実施例では、フォトマスク30によって、ギャ
ップ保持部材300の底面の形状を決定しているため、
ギャップ保持部材300の底面の形状を変化させること
が、容易にかつ高精度に行える。
In this embodiment, the bottom surface of the gap holding member 300 is a perfect circle. However, the bottom surface of the gap holding portion 300 may be elliptical, streamlined, or polygonal such as triangular or square. Any shape is allowed as long as the shape can control the gap and the strength can be obtained. Further, in the present embodiment, all the gap holding members 300 have the same shape, but the gap holding members 300 having a plurality of types of shapes may be formed on the same substrate. In this embodiment, since the shape of the bottom surface of the gap holding member 300 is determined by the photomask 30,
The shape of the bottom surface of the gap holding member 300 can be easily and accurately changed.

【0046】また本実施例では、複数のセルギャップ保
持部材300の配置密度を均一に形成したが、例えば強
度を大きくする等の目的で、特定領域のギャップ保持部
材の配置密度多くしてもよい。本実施例では、フォトマ
スク30によって、その配置密度を決定しているため、
ギャップ保持部材300の配置密度を変化させること
が、容易にかつ高精度に行える。
In this embodiment, the arrangement density of the plurality of cell gap holding members 300 is uniform, but the arrangement density of the gap holding members in a specific region may be increased for the purpose of, for example, increasing the strength. . In the present embodiment, since the arrangement density is determined by the photomask 30,
Changing the arrangement density of the gap holding members 300 can be easily and accurately performed.

【0047】[実施例2] 実施例1ではSTN−液晶
パネルの例を示したが、本発明を強誘電型性液晶を用い
た液晶パネルに応用することも可能である。本実施例で
は、図1〜5に示す反射型パネルにおいて、セルギャッ
プ保持部材300を、反射電極110からの高さ1.5
μm、直径2μmの正円状の底面を有する円柱状に形成
する。セルギャップ保持部材300の作製方法、形成位
置、配置密度は実施例1と同じにする。
[Second Embodiment] In the first embodiment, an example of an STN-liquid crystal panel has been described. However, the present invention can be applied to a liquid crystal panel using a ferroelectric liquid crystal. In this embodiment, in the reflective panel shown in FIGS.
It is formed in a cylindrical shape having a regular circular bottom having a diameter of 2 μm and a diameter of 2 μm. The manufacturing method, formation position, and arrangement density of the cell gap holding member 300 are the same as those in the first embodiment.

【0048】セルギャップ保持部材300によって、セ
ルギャップの大きさを任意に決定することができ、また
その位置形成位置も制御できる。更に他方の基板面に対
向する面が平坦化されている。このため、セルギャップ
保持部材300によって、強誘電液晶のらせんのピッチ
よりも小さいセルギャップを基板全体で高精度に、均一
に維持することができる。
The size of the cell gap can be arbitrarily determined by the cell gap holding member 300, and the position of the cell gap can be controlled. Further, the surface facing the other substrate surface is flattened. Therefore, the cell gap holding member 300 can maintain a cell gap smaller than the helical pitch of the ferroelectric liquid crystal with high accuracy and uniformity over the entire substrate.

【0049】強誘電性液晶はクロストークがない、視野
角が大きい、STN液晶よりも3桁以上速い高速スイッ
チング特性等の特性を有し、単純マトリクス駆動方式で
も高精細、大画面化を実現し得る。よって、本実施例の
セルギャップ保持部材300を用いることにより、低コ
ストで高精細、大画面の強誘電性液晶パネルを提供する
ことが可能になる。
The ferroelectric liquid crystal has characteristics such as no crosstalk, a large viewing angle, and a high-speed switching characteristic that is three orders of magnitude faster than the STN liquid crystal, and realizes high definition and a large screen even with a simple matrix driving method. obtain. Therefore, by using the cell gap holding member 300 of the present embodiment, it is possible to provide a low-cost, high-definition, large-screen ferroelectric liquid crystal panel.

【0050】また、強誘電性液晶の代わりに反強誘電性
液晶を用いることができる。反強誘電性液晶を用いた場
合も、セルギャップは液晶のらせん構造が消滅するよう
に2μm以下にする必要があるが、本実施例のセルギャ
ップ部材300を用いることにより、セルギャップを
1.5μm以下とすることができる。
Further, an antiferroelectric liquid crystal can be used instead of the ferroelectric liquid crystal. Even when an antiferroelectric liquid crystal is used, the cell gap needs to be 2 μm or less so that the helical structure of the liquid crystal disappears. However, by using the cell gap member 300 of this embodiment, the cell gap is set to 1. It can be 5 μm or less.

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明の電気光学装置は従来のスペーサ
に替わって、少なくとも一方の基板に固定されたギャッ
プ保持部材を設けたため、セルギャップを高精度に、均
一に保持することが可能になる。
According to the electro-optical device of the present invention, a gap holding member fixed to at least one of the substrates is provided in place of the conventional spacer, so that the cell gap can be held with high accuracy and uniformity. .

【0052】即ち、ギャップ保持部材を構成する絶縁性
被膜の表面を化学的機械的研磨することにより、ギャッ
プ保持部材の高さを任意に設定でき、かつ他方の基板と
対向する面を平坦化することができる。更に、絶縁性被
膜をパターニングしてギャップ保持部材を作製している
ため、その作製位置を任意に設定できる。このような特
長を有するため、本発明のギャップ保持部材によって、
セルギャップを精度良く均一に保持することが可能にな
る。従って、表示特性の良好な単純マトリクス駆動方式
の電気光学装置を提供することができる。
That is, by chemically and mechanically polishing the surface of the insulating film constituting the gap holding member, the height of the gap holding member can be arbitrarily set, and the surface facing the other substrate is flattened. be able to. Further, since the gap holding member is manufactured by patterning the insulating film, the manufacturing position can be set arbitrarily. Because of these features, the gap holding member of the present invention
The cell gap can be accurately and uniformly maintained. Therefore, it is possible to provide a simple matrix driving type electro-optical device having good display characteristics.

【0053】本発明の電気光学装置は単純マトリクス構
造であるので、ギャップ保持部材を構成する絶縁性被膜
の下部構造は、アクティブマトリクスの素子基板に比べ
て非常に単純である。従って、絶縁性被膜の表面を化学
的機械的研磨を施しても、この研磨工程による不良の発
生率は、アクティブマトリクスの素子基板に比べて非常
に少ない。従って、低コストで、生産性良く、表示特性
の良好な単純マトリクス駆動方式の電気光学装置を提供
することができる。
Since the electro-optical device of the present invention has a simple matrix structure, the lower structure of the insulating film constituting the gap holding member is much simpler than the active matrix element substrate. Therefore, even when the surface of the insulating film is subjected to chemical mechanical polishing, the rate of occurrence of defects due to this polishing step is very small as compared with the active matrix element substrate. Therefore, it is possible to provide an electro-optical device of a simple matrix driving system at low cost, with good productivity, and with good display characteristics.

【0054】また、本発明の電気光学装置は、セルギャ
ップ保持部材を有するため特に、3μm以下のセルギャ
ップの維持が要求される反射型液晶パネルや投射用液晶
パネル、また2μm以下のセルギャップの維持が要求さ
れる強誘電性液晶パネル、反強誘電性液晶パネル等の微
細なセルギャップを維持する電気光学装置に好適であ
る。
Further, since the electro-optical device of the present invention has a cell gap holding member, it is particularly necessary to maintain a cell gap of 3 μm or less, such as a reflection type liquid crystal panel or a projection liquid crystal panel, or a cell gap of 2 μm or less. It is suitable for an electro-optical device that maintains a fine cell gap, such as a ferroelectric liquid crystal panel or an antiferroelectric liquid crystal panel that requires maintenance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本実施例の単純マトリクス型液晶パネルの概
略の構成を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of a simple matrix type liquid crystal panel of the present embodiment.

【図2】 本実施例の単純マトリクス型液晶パネルの作
製工程を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of a simple matrix type liquid crystal panel of the present embodiment.

【図3】 本実施例の単純マトリクス型液晶パネルの作
製工程を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of the simple matrix type liquid crystal panel of the present embodiment.

【図4】 本実施例の単純マトリクス型液晶パネルの概
略の断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a simple matrix type liquid crystal panel of the present embodiment.

【図5】 本実施例のギャップ保持部材の配置を示す上
面図である。
FIG. 5 is a top view showing the arrangement of the gap holding members of the present embodiment.

【図6】 ギャップ保持部材の他の配置例を示す上面図
である。
FIG. 6 is a top view showing another arrangement example of the gap holding member.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 感光性ポリイミド膜 20 平坦化(CMP処理)された感光性ポリイミド膜 30 フォトマスク 100 ガラス基板 110 反射電極 120 配向膜 200 ガラス基板 210 透明電極 220 配向膜 230 カラーフィルタ 240 保護膜 300 ギャップ保持部材 400 液晶 510 位相差板 520 偏光子 530 前方散乱板 Reference Signs List 10 photosensitive polyimide film 20 photosensitive polyimide film planarized (CMP treatment) 30 photomask 100 glass substrate 110 reflective electrode 120 alignment film 200 glass substrate 210 transparent electrode 220 alignment film 230 color filter 240 protective film 300 gap holding member 400 Liquid crystal 510 Retardation plate 520 Polarizer 530 Forward scattering plate

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向する2枚の基板を有する単純マトリ
クス型駆動方式の電気光学装置において、 前記2枚の基板の少なくとも一方には、前記一対の基板
間隔を保持するためのギャップ保持部材が設けられ、前
記ギャップ保持部材の他方の基板と対向する面は化学的
機械的研磨によって平坦化されていることを特徴とする
電気光学装置。
1. An electro-optical device of a simple matrix drive system having two opposing substrates, wherein at least one of the two substrates is provided with a gap holding member for maintaining a distance between the pair of substrates. An electro-optical device, wherein a surface of the gap holding member facing the other substrate is planarized by chemical mechanical polishing.
【請求項2】 請求項1において、前記ギャップ保持部
材は、ポリイミド、アクリル、ポリアミド又はポリイミ
ドアミドから選ばれた樹脂材料でなることを特徴とする
電気光学装置。
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the gap holding member is made of a resin material selected from the group consisting of polyimide, acrylic, polyamide, and polyimide amide.
【請求項3】 請求項1において、前記ギャップ保持部
材は、紫外線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂材料でなるこ
とを特徴とする電気光学装置。
3. The electro-optical device according to claim 1, wherein the gap holding member is made of an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin material.
【請求項4】 請求項1〜3において、前記ギャップ保
持部材は柱状であることを特徴とする電気光学装置。
4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the gap holding member has a columnar shape.
【請求項5】 対向する2枚の基板を有する単純マトリ
クス型駆動方式の電気光学装置の製造方法において、 前記2枚の基板それぞれに電極を形成する工程と、 前記2枚の基板の少なくとも一方の基板に対して、前記
電極上に絶縁被膜を形成する工程と、 前記絶縁性被膜の表面を化学的機械的研磨する工程と、 研磨された前記絶縁性被膜をパターニングして、前記一
対の基板間隔を保持するためのギャップ保持部材を形成
する工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の
製造方法。
5. A method of manufacturing an electro-optical device of a simple matrix type driving method having two opposing substrates, comprising: forming an electrode on each of the two substrates; and forming at least one of the two substrates. A step of forming an insulating film on the electrode on the substrate; a step of chemically and mechanically polishing the surface of the insulating film; patterning the polished insulating film to form a gap between the pair of substrates; Forming a gap holding member for holding the electro-optical device.
【請求項6】 請求項5において、前記絶縁性被膜は、
ポリイミド、アクリル、ポリアミド又はポリイミドアミ
ドから選ばれた樹脂材料でなることを特徴とする電気光
学装置の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the insulating film comprises:
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising a resin material selected from polyimide, acrylic, polyamide and polyimide amide.
【請求項7】 請求項5において、前記絶縁性被膜は、
紫外線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂材料でなることを特
徴とする電気光学装置の製造方法。
7. The insulating film according to claim 5, wherein
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising a UV curable resin or a thermosetting resin material.
【請求項8】 請求項5〜7において、前記ギャップ保
持部材は柱状であることを特徴とする電気光学装置の製
造方法。
8. The method according to claim 5, wherein the gap holding member has a columnar shape.
JP9183024A 1997-05-22 1997-06-23 Electrooptical device and production therefor Pending JPH1115004A (en)

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