JPH11118128A - 排ガス処理用燃焼器 - Google Patents

排ガス処理用燃焼器

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JPH11118128A
JPH11118128A JP30490097A JP30490097A JPH11118128A JP H11118128 A JPH11118128 A JP H11118128A JP 30490097 A JP30490097 A JP 30490097A JP 30490097 A JP30490097 A JP 30490097A JP H11118128 A JPH11118128 A JP H11118128A
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JP
Japan
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gas
wall
flame
exhaust gas
combustion
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JP30490097A
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English (en)
Inventor
Yoshiro Takemura
與四郎 竹村
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Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 排ガスの分解率が高く、しかもクリーニング
のためのメンテナンス期間を長くできるようにした排ガ
ス処理用燃焼器を提供する。 【解決手段】 燃焼室11に臨んで、内壁12と外壁1
3とに挟まれ底板14で閉塞させた環状の保炎部15を
設け、前記内壁12または外壁13の一方に、助燃ガス
Bを前記保炎部15に向けて旋回流を作り出すように噴
出する助燃ガス用炎孔23を、内壁12または外壁13
の他方に、排ガスAを前記保炎部15に向けて前記助燃
ガスBと同一回転方向に旋回流を作り出すように噴出す
る排ガス用炎孔22をそれぞれ互いに対向させて設け
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置から排出されるシランガス等を含む有害可燃性の排
ガスを燃焼処理するための、燃焼式排ガス処理設備に用
いられる排ガス処理用燃焼器(バーナ)に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体製造装置からはシランS
iH4 やジシランSi26等の有害可燃ガスを含むガスが
排出されるが、このような排ガスは、そのままでは大気
に放出することはできない。そこで、これらの排ガスを
除害装置に導いて、燃焼による酸化無害化処理を行うこ
とが一般に行われている。この処理方法としては、助燃
ガスを用いて炉内に火炎を形成し、この火炎により排ガ
スを燃焼させるようにしたものが広く採用されている。
【0003】このような燃焼式除害装置において、助燃
ガスとしては、水素、都市ガス、LPG等を燃料ガスと
し、酸素もしくは空気を酸化剤としたものが通常使用さ
れており、この装置の運転費用は、これらの燃料ガスや
酸化剤の消費に伴うコストが大半を占めている。そこ
で、少ない助燃ガスによって如何に多くの有害な排ガス
を高効率のもとで分解するかが、この種の装置の性能を
評価する尺度の一つになっている。
【0004】また、シランを酸化するとシリカSiO2
が生成されるが、このSiO2 は粉末状で燃焼室の壁面
や炎孔に付着して不良燃焼を誘発したり、燃焼室を閉塞
したりする。このため、SiO2 を除去するクリーニン
グ作業を定期的に行う必要があるが、これを人手により
行っているのが現状で、この作業間隔が長い程メンテナ
ンスが容易とされ、クリーニング作業の間隔の長さもま
た重要な評価要素の一つとされている。
【0005】従来の前記燃焼式除害装置に使用される燃
焼器の一般的な構成を図9及び図10に示す。これは、
円筒型燃焼室1の天井中心部に処理すべき排ガスAを燃
焼室1内に導入する排ガス用ノズル2を、この排ガス用
ノズル2の外周部に助燃ガスBを燃焼室1内に導入する
複数の助燃ガス用ノズル3をそれぞれ設けるとともに、
燃焼室1の下端に燃焼ガス出口4を一体に連接する。こ
れによって、前記助燃ガス用ノズル3から噴出される助
燃ガスBで円状に並んで形成される火炎の中心部に排ガ
スAを通過させ、この通過の際に排ガスAを火炎と混合
させて燃焼させて、この燃焼後の燃焼ガスを燃焼ガス出
口4から外部に排出するようにしたものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例にあっては、助燃ガスの火炎は助燃ガス用ノズルの
先方に形成されて、その内側に設けた排ガス用ノズルか
ら前方に吹き出す排ガスは助燃ガスの火炎と必ずしも充
分に混合せず、排ガスの分解率が充分ではなかった。こ
の分解率を向上させるためには、助燃ガス量を増加させ
て大きな火炎を形成することで排ガスを燃焼し易くする
必要があるが、このようにすると、排ガスの分解に寄与
しない助燃ガス量も増大して、装置の運転コストが増大
してしまう。しかも、排ガスの燃焼によって生成された
SiO2 が燃焼室の壁面に付着してしまい、状況によっ
ては一週間に1〜2回のクリーニング作業を行う必要が
あるといった問題があった。
【0007】なお、円状に並ぶ火炎をその先端が中心側
に傾斜するように形成することにより、排ガスが個々の
火炎の高温部分に効率良く曝されるようにしたものや、
火炎を長時間維持する炎導管を設けることにより、火炎
と排ガスとの接触を効率良く行わせるようにしたもの等
が種々提案されている。しかしながら、これらの提案は
上記問題を完全に解消したものではないと考えられる。
【0008】本発明は上記事情に鑑みて為されたもの
で、排ガスの分解率が高く、しかもクリーニングのため
のメンテナンス期間を長くできるようにした排ガス処理
用燃焼器を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の排ガス処理用燃
焼器は、燃焼室に臨んで、内壁と外壁とに挟まれ底板で
閉塞させた環状の保炎部を設け、前記内壁または外壁の
一方に、助燃ガスを前記保炎部に向けて旋回流を作り出
すように噴出する助燃ガス用炎孔を、内壁または外壁の
他方に、排ガスを前記保炎部に向けて前記助燃ガスと同
一回転方向に旋回流を作り出すように噴出する排ガス用
炎孔をそれぞれ互いに対向させて設けたことを特徴とす
る。
【0010】これにより、助燃ガスと排ガスとを同一回
転方向に旋回流を作り出すように保炎部に向けて噴出す
ることで、助燃ガスの火炎と処理対象の排ガスとの混合
を高めて、排ガスを高い効率のもとに燃焼分解するとと
もに、この時の旋回炎及び旋回流でシラン燃焼後のSi
2 が各炎孔の近傍や燃焼室の壁面に付着するのを防止
して、排ガスを長時間に亘って安定的に燃焼処理するこ
とができる。
【0011】ここに、円筒状の燃焼室にあっては、前記
内壁を円柱体の外周面で、前記外壁を前記円柱体の周囲
を囲繞する円筒体の内周面でそれぞれ構成することが好
ましい。
【0012】また、前記燃焼室を構成する壁面に該燃焼
室の内部に空気を噴射する空気噴射ノズルを設けること
が好ましく、これにより、この空気噴射ノズルから噴射
される空気で燃焼処理したガスを冷却するとともに、冷
却後の燃焼ガスを燃焼室外に速やかに排出することがで
きる。
【0013】前記空気噴射ノズルを該噴射ノズルから噴
射される空気が燃焼室内部で旋回流を形成するように設
けることが好ましく、これにより、燃焼処理したガスの
冷却及び燃焼室外への排出、更には燃焼室の壁面に付着
するSiO2 の除去をより効果的に行うことができる。
【0014】更に、前記底板に前記保炎部に向けて一次
空気を噴射する一次空気噴射ノズルを設けることが好ま
しく、これにより、燃焼性を改善するとともに、保炎部
を区画構成する内外壁の表面に付着するSiO2 を更に
効果的に除去することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
乃至図8を参照して説明する。図1及び図2は、本発明
の第1の実施の形態を示すもので、炉壁10に囲まれた
燃焼室11に臨んで、同心円状の内壁12と外壁13と
に挟まれ底板14で閉塞させた環状の保炎部15が設け
られている。ここに、前記内壁12は先端に丸みを持た
せた円柱体16の外周面で、外壁13は該円柱体16の
周囲を囲繞する円筒体17の内周面でそれぞれ構成さ
れ、両者16,17は前記底板14と一体に形成されて
いる。また、前記円柱体16の高さは、前記円筒体17
の高さよりも低く設定されている。
【0016】そして、前記底板14から前記円柱体16
の内部に達して、例えば半導体製造装置から排出された
シランガスSiH4 等を含んだ窒素を主成分とする排ガ
ス等の処理すべき排ガスAを保持し導く排ガス室20
が、同じく円筒体17の内部に達して、例えば水素と酸
素の予混合気等の助燃ガスBを保持し導く助燃ガス室2
1がそれぞれ設けられている。
【0017】前記円柱体16の外周面には、前記排ガス
室20と保炎部15とを連通する複数の排ガス用炎孔2
2が、前記円筒体17の内周面には、前記助燃ガス室2
1と保炎部15とを連通する複数の助燃ガス用炎孔23
が互いに対向する位置に設けられている。そして、前記
排ガス用炎孔22は、排ガス室20の略接線方向に延び
て排ガスAを保炎部15に向けて旋回流を作り出すよう
に吹き出し、助燃ガス用炎孔23は、保炎部15の略接
線方向に延びて助燃ガスBを保炎部15に向けて旋回流
れを作り出すように吹き出し、しかもこれらの吹き出し
方向が同一回転方向(図2のX方向)となるように構成
されている。
【0018】更に、前記円筒体17と燃焼室11の側面
を接続して燃焼室11の一部を構成する該円筒体17の
端面17aには、燃焼室11の内部に向けて空気Cを噴
射する複数の空気噴射ノズル24が設けられているとと
もに、燃焼室11の下端には、燃焼ガス出口25が一体
に連接されている。
【0019】次に、この実施の形態の作用について説明
する。先ず、助燃ガスBは、助燃ガス室21内に導かれ
て保持され、円筒体17の内周面に設けられ助燃ガス用
炎孔23から保炎部15に向けて旋回流を作り出すよう
に噴出する。そして、図示しない着火元により点火され
ると、円筒体17の内周面に旋回炎を形成する。
【0020】ここで、助燃ガスBは旋回炎を形成する
が、旋回炎は小さな当量比のもとでも安定して燃焼でき
る特徴を備えている。即ち、強く旋回しているために火
炎相互に熱とラジカルを供給し合い、また火炎が円筒体
17の内周面に沿って形成されることから該壁面が加熱
されると共に加熱された壁面により未燃予混合気等の助
燃ガスBが加熱されて保炎性が高くなる。そして、通常
であれば、未燃ガスを発生したり消炎するような小さな
当量比においても未燃ガスを発生することなく、また振
動燃焼を誘発することなく安定して燃焼させることがで
きる。
【0021】一方、円柱体16の内部に達する排ガス室
20内に導かれ保持された処理すべき排ガスAは、円柱
体16の外周面に設けられた排ガス用炎孔22から保炎
部15に向けて助燃ガスBと同一回転方向の旋回流を作
り出すように噴出する。すると、この排ガスAが助燃ガ
スBの旋回炎と混合して燃焼するが、この際、助燃ガス
Bと排ガスAが同一方向に強く旋回するように吹き出さ
れるために、助燃ガスBの火炎と排ガスAの混合状態は
良く、吹き出された排ガスAの全てが火炎と混合して燃
焼して、排ガスの燃焼分解率は非常に高くなる。
【0022】また、前記空気噴射ノズル24から燃焼室
11内に噴射された空気は、次のように作用する。即
ち、燃焼処理後の燃焼ガスは高温で冷却する必要があ
り、また、この燃焼ガスを燃焼室11の外部に速やかに
排出する必要があるが、この空気噴射ノズル24から燃
焼室11内に噴射された空気を燃焼処理した高温の旋回
流ガスと混合させて該ガスを冷却し、混合によって流量
を増した排ガスを燃焼ガス出口部25を通じて燃焼室1
1から滞ることなく速やかに排出することができる。
【0023】ここに、助燃ガスBとして予混合気を使用
し、助燃ガスの当量比を小さくすれば低NOx燃焼が可
能となる。そして、旋回炎を形成すると旋回の中心部の
気流の圧力が低下して、中心部に火炎の先方から排ガス
用炎孔22及び助燃ガス用炎孔23に向けて逆流する自
己循環流が発生し、この循環流が炎孔からの火炎及び燃
焼ガスと混合して低NOx性を向上させる作用をする。
【0024】しかも、火炎は旋回しているが、この旋回
流がシランSiH4 が燃焼して生成されるシリカSiO2
が排ガス用炎孔22及び助燃ガス用炎孔23に付着する
のを防ぐ作用をなす。即ち、シランSiH4 が燃焼する
とシリカSiO2 が生成されるが、このシリカSiO2
排ガス用炎孔22や助燃ガス用炎孔23の付近に付着す
ると、助燃ガスBや排ガスAの吹き出し量を減らした
り、吹き出し方向を変えたりして、吹き出しを不安定に
することがある。このような状況になると、ガスの吹き
出しが静定せず、安定な燃焼が不可能になる。
【0025】ところが、この実施の形態にあっては、排
ガス用炎孔22及び助燃ガス用炎孔23による旋回炎が
あるため、この旋回炎により排ガス用炎孔22及び助燃
ガス用炎孔23の先端部にも早い流れが発生して、この
流れが各炎孔22,23の先端部をクリーニングする作
用をなし、生成したシリカSiO2 が炎孔22,23の
先端部に付着するのを防ぐ働きをする。
【0026】さらに、この効果は、各炎孔22,23の
先端部だけにとどまらない。つまり、火炎が燃焼室11
の内部で旋回していることから、燃焼室11の壁表面に
も早い流れが発生して燃焼室11の壁面をクリーニング
して、この表面に付着したシリカSiO2 を除去する働
きをする。
【0027】このように、旋回流により、炎孔22,2
3の表面及び燃焼室11の壁面に付着したシリカSiO2
をセルフクリーニングすることにより、人手によるク
リーニング作業の間隔を大幅に延長して、メンテナンス
を容易にすることができる。
【0028】なお、この実施の形態においては、内壁側
に排ガス用炎孔を、外壁側に助燃ガス用炎孔をそれぞれ
設けた例を示しているが、この逆、即ち内壁側に助燃ガ
ス用炎孔を、外壁側に排ガス用炎孔をそれぞれ設けても
良い。更に、円筒状のものに限らず、四角形等の多角形
状のものでよいのは勿論である。このことは、以下の各
実施の形態においても同様である。
【0029】図3及び図4は、本発明の第2の実施の形
態を示すもので、これは、外壁13を構成する円筒体1
7として、燃焼室11の一部を構成する端面17aが円
錐面形状を有するものを使用するとともに、この端面1
7aに空気噴射ノズル24aを該空気噴射ノズル24a
から燃焼室11の内部に向けて噴射される空気Cが旋回
流を作り出すように設けたものである。
【0030】この実施の形態にあっては、空気噴射ノズ
ル24aから噴射される空気Cで燃焼室11内に旋回流
を作り出すことにより、排ガス用炎孔22及び助燃ガス
用炎孔23からの旋回流を弱めることなく、燃焼室11
内に旋回流を旺盛に発生させて、燃焼室11の側壁に付
着するシリカをより効果的に除去することができる。
【0031】図5及び図6は、本発明の第3の実施の形
態を示すもので、これは、底板14に保炎部15に向け
て一次空気Dの噴射する一次空気噴射ノズル30を設け
たものである。
【0032】この実施の形態にあっては、必要に応じて
一次空気噴射ノズル30から保炎部15に一次空気を供
給して酸素濃度を増大させることにより、燃焼性を改善
することができる。しかも、一次空気Dを下方に吹き出
すことにより、環状保炎部15における旋回流に下方へ
の速度を付加し、円筒体17の表面を流れる流速を増大
させて、円筒体17の表面に付着するシリカを更に効果
的に除去することができる。
【0033】図7及び図8は、本発明の第4の実施の形
態を示すもので、これは、円筒体17の内径と燃焼室1
1の内径を同径として、燃焼室11の側面上部に空気噴
射ノズル24bを旋回流を形成するように設けたもので
ある。
【0034】なお、前記各実施の形態において、燃焼用
バーナを形成する材料としては、セラミックスや耐熱金
属材が好適である。また、上方から下方に吹き出す火炎
に適用した例を示しているが、水平方向に吹き出すよう
にした火炎に適用してもよい。また、助燃ガスとして
は、水素と酸素の予混合気に限定されることなく、都市
ガス若しくはLPGと酸素、空気若しくは酸素富化空気
との予混合気でも良いことは勿論である。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
助燃ガスと排ガスとを同一回転方向に旋回流を作り出す
ように噴出することにより、助燃ガスの火炎と処理対象
物たる排ガスとの混合を高めて、排ガスを高効率のもと
に燃焼分解することができる。しかも、旋回炎を形成し
て燃焼することにより、シランSiH4燃焼後のシリカS
iO2 が炎孔近傍に付着するのを防止して、排ガスを安
定的に燃焼処理するとともに、燃焼室の壁面に付着する
SiO2 も旋回流により除去することができる。
【0036】また、助燃ガスとして予混合気を使用して
予混合燃焼を行うことにより、低当量比のもとに低NO
x燃焼を行うことができる。更に、空気噴射ノズルを設
けて、この噴射ノズルから噴射される空気が燃焼室内部
で旋回流を形成するようにすることにより、燃焼室壁に
付着するシリカSiO2 を更に効果的に除去して、クリ
ーニングのためのメンテナンス期間を延長することがで
きる。
【0037】また、底板に前記保炎部に向けて一次空気
を噴射する一次空気噴射ノズルを設けることにより、燃
焼性を改善するとともに、保炎部を区画構成する内外壁
の表面に付着するシリカSiO2 を更に効果的に除去す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す縦断面図。
【図2】図1のI−I線断面図。
【図3】本発明の第2の実施の形態を示す縦断面図。
【図4】図3のII−II線断面図。
【図5】本発明の第3の実施の形態を示す縦断面図。
【図6】図5のIII−III線断面図。
【図7】本発明の第4の実施の形態を示す縦断面図。
【図8】図7のIV−IV線断面図。
【図9】従来例を示す縦断面図。
【図10】図9のV−V線断面図。
【符号の説明】
11 燃焼室 12 内壁 13 外壁 14 底板 15 保炎部 16 円柱体 17 円筒体 20 排ガス室 21 助燃ガス室 22 排ガス用炎孔 23 助燃ガス用炎孔 24,24a,24b 空気噴射ノズル 30 一次空気噴射ノズル

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 燃焼室に臨んで、内壁と外壁とに挟まれ
    底板で閉塞させた環状の保炎部を設け、前記内壁または
    外壁の一方に、助燃ガスを前記保炎部に向けて旋回流を
    作り出すように噴出する助燃ガス用炎孔を、内壁または
    外壁の他方に、排ガスを前記保炎部に向けて前記助燃ガ
    スと同一回転方向に旋回流を作り出すように噴出する排
    ガス用炎孔をそれぞれ互いに対向させて設けたことを特
    徴とする排ガス処理用燃焼器。
  2. 【請求項2】 前記内壁を円柱体の外周面で、前記外壁
    を前記円柱体の周囲を囲繞する円筒体の内周面でそれぞ
    れ構成したことを特徴とする請求項1記載の排ガス処理
    用燃焼器。
  3. 【請求項3】 前記燃焼室を構成する壁面に該燃焼室の
    内部に空気を噴射する空気噴射ノズルを設けたことを特
    徴とする請求項1または2記載の排ガス処理用燃焼器。
  4. 【請求項4】 前記空気噴射ノズルを該噴射ノズルから
    噴射される空気が燃焼室内部で旋回流を形成するように
    設けたことを特徴とする請求項3記載の排ガス処理用燃
    焼器。
  5. 【請求項5】 前記底板に前記保炎部に向けて一次空気
    を噴射する一次空気噴射ノズルを設けたことを特徴とす
    る請求項1乃至4のいずれかに記載の排ガス処理用燃焼
    器。
JP30490097A 1997-10-20 1997-10-20 排ガス処理用燃焼器 Pending JPH11118128A (ja)

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