JPH11114360A

JPH11114360A - 排ガス処理装置

Info

Publication number: JPH11114360A
Application number: JP9277070A
Authority: JP
Inventors: Masato Koyashiki; 正人小屋敷
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-10-09
Filing date: 1997-10-09
Publication date: 1999-04-27

Abstract

(57)【要約】【課題】リアクタ内の吸着体を有効利用して、リアク
タの寿命を延長することができる排ガス処理装置を提供
する。【解決手段】排ガス処理装置３０のリアクタ３１を３
個の吸着筒部３２、３３、３４と、吸着筒部３２、３
３、３４の間に設けた気体撹拌部３５、３６で構成し、
気体撹拌部３５、３６にはＮ₂ガスを導入する配管３
７、３８と、気体撹拌部３５、３６の排ガスを検知する
ガス検知器４１、４２に接続する配管４３、４４とを設
ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は排ガス処理装置に関
し、さらに詳しくは、半導体装置を製造する製造装置等
で使用される特殊ガスを処理する、乾式排ガス除去器を
有する排ガス処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置の製造においては、成膜装置
としての各種ＣＶＤ装置や、加工装置としての各種プラ
ズマエッチング装置等が使用され、これら装置で使用さ
れるＳｉＨ₄やＳｉＨ₂Ｃｌ₂等のシラン系ガス、ＰＨ
₃ガス、Ｂ₂Ｈ₆等の特殊ガスを含む反応ガスは、それ
らがほとんど毒性や自然性を有するため、反応処理後の
排ガスは、そのまま大気に放出することができず、大気
に放出する前に、無害化処理がなされている。この排ガ
スの無害化処理法には、大別すると、酸化剤等の吸収液
を用いて無害化する湿式と、活性炭、合成ゼオライト、
金属酸化物、アルカリ金属等の吸着材を用いる乾式の２
種類の方法があり、排ガスの無害化処理を行う装置、即
ち排ガス処理装置は上記の無害化処理法を用いたもので
ある。湿式の排ガス処理装置は、大量の排ガスを処理す
るのに適しているが、除害効果が低く、一方、乾式の排
ガス処理装置は、除害効果は高いが、大量の排ガス処理
には不適で、処理吸着材の寿命が短いという、それぞれ
に一長一短いあり、目的に応じて使用されている。

【０００３】ここでは、従来例のポリシリコン膜やＳｉ
₃Ｎ₄膜等の成膜装置としてのＣＶＤ装置に取り付けら
れる、乾式法による排ガス処理装置の例を、この図４を
参照して従来例を説明する。まず、排ガス処理装置１
は、図４に示すように、ＣＶＤ装置の反応チャンバよ
り、排気配管６を通して送られてくる排ガス中の特殊ガ
スを空気（エアー）と反応させて酸化させて粒状にする
エアー混合器２と、エアー混合器２を通過した排ガス中
に含まれる粉末粒子を除去するフィルタ３と、フィルタ
３を通過した排ガス中の特殊ガスを、多孔質固体の粒状
の吸着体、又は酸化剤等を添着又は含浸させた多孔質固
体の粒状の吸着体に吸着させて除去する乾式排ガス除去
器（リアクタ）４と、リアクタ４を通過して除害された
排ガスを排気する排気ファン５等で概略構成されてい
る。上述したエアー混合器２、フィルタ３、リアクタ４
および排気ファン５は排気配管７、８、９により接続さ
れている。また、排気ファン５には除害された排ガスを
屋外に導く排気配管１０が接続されている。

【０００４】上述したエアー混合器２では、ＣＶＤ装置
で用いられる特殊ガスを含む反応ガスで、未反応のまま
反応チャンバより排出される特殊ガス、例えばシラン系
ガスと、配管１１を通して導入するエアーとを反応さ
せ、ＳｉＯ₂等の粉末粒子を形成する。この排ガス中の
シラン系ガスを反応させ、ＳｉＯ₂等の粉末粒子に変換
することで、エアー混合器２から排出される排ガス中の
シラン系ガス濃度は大幅に低下する。上述したＳｉＯ₂
等の粉末粒子を含む、エアー混合器２から排出される排
ガスは、フィルタ３においてＳｉＯ₂等の粉末粒子が除
去される。フィルタ３を通過してリアクタ４に送られる
排ガスは、シラン系ガス濃度が大幅に低下し、フィルタ
リング可能な粒径以上の粒子が含まれていない排ガスと
なるため、リアクタ４部でのシラン系ガス除去処理量が
少なくて済み、又排ガス中にフィルタリング可能な粒径
以上の粒子が含まれていない状態なので、リアクタ４の
微粒子による目詰りが起き難くなる等により、リアクタ
４の使用可能期間、即ちリアクタ４の寿命が長くなる。

【０００５】リアクタ４に導入された排ガスは、このリ
アクタ４内の多孔質固体の吸着体で吸着して除去され、
除害された排ガスがリアクタ４より排出され、この排出
された除害ガスは、排気ファン５により、排気配管１０
を通って大気中に放出される。なお、リアクタ４と排気
ファン５との間の排気配管９には、配管１３を介してガ
ス検知器１２が設けられていて、リアクタ４から排出さ
れる排ガス中の特殊ガス濃度が所定濃度以下の除害ガス
となることを常時監視できる状態になっている。

【０００６】上述した排ガス処理装置１のリアクタ４部
の詳細構造は、図５に示すように、円筒部２０内に設け
られた２枚のパンチング板２１、２２と、パンチング板
２１とパンチング板２２との間に充填された、特殊ガス
を吸着させる多孔質固体の吸着体２３と、排ガスの導入
側の接続フランジ部２４および除害ガスを排出する側の
接続フランジ部２５とで概略構成されている。リアクタ
４部に送られてくる排ガスは、円筒部２０と、接続フラ
ンジ部２４と、パンチング板２１とで囲まれた空洞部２
６に入り、パンチング板２１の小孔を通り、吸着体２３
の充填された円筒部２０内を、吸着体２３の間隙を通っ
て上方に向かって流れてゆく。排ガスがこの吸着体２３
の間隙を通って円筒部２０内を上方に流れてゆく時に、
排ガス中の特殊ガスは吸着体２３に吸着されてゆく。

【０００７】しかしながら、上述した排ガスの円筒部２
０内の上方への流れは、吸着体２３の充填された円筒部
２０内で均一な流れとなって上方に向かうのでなく、粒
状の吸着体２３の間隙が大きくて、排ガスの流れ易い部
分、例えば円筒部２０内壁と吸着体２３が接する部分等
では、排ガスの流量が大きくなり、この排ガスの経路付
近は特殊ガスの吸着量が多くなる。一般に吸着体２３の
吸着量は、排ガス中の特殊ガス濃度が多いほど吸着量が
多いので、排ガスの導入側の吸着体２３に特殊ガスが多
く吸着する。従って、吸着体２３の充填された円筒部２
０内には、排ガスの導入側より排ガスの排出側に向かっ
て吸着量が減少する分布が形成され、吸着体２３の吸着
量の同一となる面、即ち同一吸着量分布面は、排ガス流
量の面内分布に関係し、リアクタ４による排ガス処理の
時間経過と共に凹凸が激しくなる同一吸着量分布面とな
り、例えば図５の破線で示すようになる。なお、図５に
示す矢印の大きい場所は、排ガス流量の大きい場所を示
している。

【０００８】一方、吸着体２３の特殊ガスの吸着量には
限界があり、吸着が飽和してしまった吸着体２３の層の
上面位置も、図５の破線のような分布を持って、排ガス
処理時間と共に上方に移動してゆく。この吸着が飽和し
てしまった吸着体２３の層の上面位置が、ある位置より
上方にくると、リアクタ４上部より排出される排ガス中
の特殊ガス濃度は、所定濃度以上となり、除害ガスと見
なせなくなる。これがリアクタ４の使用限度、即ちリア
クタ４の破過状態であり、新たなリアクタと交換しなけ
ればならない。即ち、上述した排ガス処理装置１におい
ては、吸着体２３の同一吸着量分布面が平面的な分布と
ならず、図５の破線のような分布となるために、円筒部
２０内に充填された吸着体２３全体が有効に利用されな
い状態でリアクタ４の破過が起こるため、リアクタ４の
寿命が短くなるという問題がある。また、リアクタ４の
寿命を長くするためには、円筒部２０を長くし、排ガス
の通過する吸着体２３の充填領域を長くすればよいが、
余り長くすると、リアクタ４部におけるガス流に対する
抵抗が大きくなり、ＣＶＤ装置の必要な排気流量の確保
が出来なくなるため、単に円筒部２０を長くすることは
できない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の排ガス処理
装置における乾式排ガス除去器（リアクタ）は、リアク
タの円筒部面内の排ガス流量分布の不均一により、円筒
部内に充填された吸着体全体を有効に利用できず、リア
クタの寿命を長くすることが困難であるという問題があ
った。本発明は、上記事情を考慮してなされたものであ
り、その目的は、リアクタ内の吸着体を有効利用して、
リアクタの寿命を延長することができる排ガス処理装置
を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の排ガス処理装置
は、上述の課題を解決するために提案するものであり、
排ガス中の特殊ガスを吸着して除害する乾式排ガス除去
器を有する排ガス処理装置において、特殊ガスを吸着す
る吸着体の充填された複数の吸着筒部と、複数の前記吸
着筒部間に設けた気体撹拌部とを具備した乾式排ガス除
去器を有することを特徴とするものである。

【００１１】本発明によれば、上述した如く排ガス処理
装置を構成することにより、乾式排ガス除去器を通過す
る排ガスの、乾式排ガス除去器の途中における排ガス中
の特殊ガス濃度の面内分布をほぼ一定にする領域を持た
せることで、乾式排ガス除去器に充填された吸着体の有
効利用が可能となる。従って乾式排ガス除去器が破過す
るまでの期間、所謂乾式排ガス除去器の寿命を長くする
ことができ、この排ガス処理装置を使用する半導体製造
装置の稼働率を向上させることができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的実施の形態
例につき、添付図面を参照して説明する。なお従来技術
の説明で参照した図４、図５中の構成部分と同様の構成
部分には、同一の参照符号を付すものとする。

【００１３】本実施の形態例はポリシリコン膜やＳｉ₃
Ｎ₄膜等の成膜装置としてのＣＶＤ装置に接続する排ガ
ス処理装置に本発明を適用した例であり、これを図１〜
図３を参照して説明する。まず、本実施の形態例の排ガ
ス処理装置３０は、図１に示すように、ＣＶＤ装置の反
応チャンバより、排気配管６を通して送られてくる排ガ
ス中の特殊ガスを空気（エアー）と酸化反応させて粒状
にするエアー混合器２と、エアー混合器２を通過した排
ガス中に含まれる粉末粒子を除去するフィルタ３と、本
発明の特徴部である、フィルタ３を通過した排ガス中の
特殊ガスを、多孔質固体の粒状の吸着体、又は酸化剤等
を添着又は含浸させた多孔質固体の粒状の吸着体等に吸
着させて除去する排ガス除去器（リアクタ）３１と、リ
アクタ３１を通過して除害された排ガスを排気する排気
ファン５等で概略構成されている。上述したエアー混合
器２、フィルタ３、リアクタ４および排気ファン５は排
気配管７、８、９により接続されている。また、排気フ
ァン５には除害された排ガスを屋外に導く排気配管１０
が接続されている。

【００１４】上述した本発明の特徴部であるリアクタ３
１は、図１に示すように、粒状の吸着体を充填した複数
の吸着筒部、例えば３個の吸着筒部３２、３３、３４
と、複数の吸着筒部間に設けた気体撹拌部、例えば複数
の吸着筒部が３個の吸着筒部３２、３３、３４の場合
は、これら吸着筒部３２、３３、３４間の２個の気体撹
拌部３５、３６とで構成されている。気体撹拌部３５、
３６には、不活性ガス、例えばＮ₂ガスを導入して排ガ
スを撹拌するための配管３７、３８が設けられており、
この配管３７、３８の気体撹拌部３５、３６に近い部分
には逆止弁３９、４０が設けられている。なお、気体撹
拌部３５、３６へのＮ₂ガスの導入口を複数個設けて、
排ガスを撹拌する構成としてもよい。また、この気体撹
拌部３５、３６には、気体撹拌部３５、３６内の排ガス
中の特殊ガス濃度を検知するガス検知器４１、４２に接
続する配管４３、４４が設けられている。

【００１５】気体撹拌部３５、３６近傍の詳細構造、例
えば図１のＰ部の詳細構造は、図２に示すように、吸着
筒部３２、３３の吸着体２３を充填した円筒部３２ａ、
３３ａの内径と略等しい内径を持つ気体撹拌部３５が、
吸着筒部３２と吸着筒部３３間に配置され、２個のＯリ
ング４５、４６と、複数個の留め具４７、４８、４９、
５０とにより機密性を保持した状態で、しかも脱着可能
な状態で接続されている。気体撹拌部３５、３６には、
Ｎ₂ガスが配管３７を通って導入される。このＮ₂ガス
の導入で、吸着筒部３２のパンチング板３２ｂより、吸
着筒部３３のパンチング板３３ｂまでの空間にある排ガ
スが撹拌され、この空間内で排ガス中の特殊ガス濃度が
均一化される。従ってリアクタの排ガスの導入側にある
吸着筒部３２内の排ガスの流れの容易さで発生する排ガ
ス流量の面内分布を持ち、この排ガス流量の面内分布に
関係する排ガス中の特殊ガス濃度の面内分布を持つ排ガ
スがパンチング板３２ｂより排出されても、気体撹拌部
３５へのＮ₂ガス導入で、吸着筒部３３へ向かう排ガス
の、パンチング板３３ｂ部における排ガス中の特殊ガス
濃度の面内分布はほぼ均一となる。

【００１６】なお、吸着筒部３２、３３、３４の形状は
同一形状で、吸着筒部３２、３３、３４の吸着体の充填
された部分の断面積が従来例の排ガス流量の確保された
リアクタ４の断面積と略同じである場合は、吸着筒部３
２、３３、３４の長さは略従来例のリアクタ４の長さの
約１／３程度にすることで、本発明の排ガス処理装置に
おける排ガス流量も従来のリアクタ４と同程度の排ガス
流量が確保できるものにする。これら吸着筒部３２、３
３、３４の交換用の吸着筒部は、例えば図３に示すよう
に、吸着筒部の両端に、Ｏリングと複数の留め具にて、
シール板を密着させた状態で保管および運搬されるもの
とする。

【００１７】吸着筒部３２、３３、３４に充填する吸着
体としては、複数の除害する特殊ガス、例えば有機ガ
ス、シラン系ガス、ハロゲンガス等に対応させた複数の
吸着体、例えば活性炭、活性炭に過マンガン酸カリや酸
化銅等の酸化剤を添着させた吸着体および炭酸ナトリウ
ム等のアルカリ剤等を混在させたものとする。なお、吸
着筒部３２、３３、３４に充填する吸着体は、各種吸着
体を混在させた状態の吸着体とせず、各々の吸着筒部３
２、３３、３４ごとに、主に吸着する特殊ガスの吸着体
のみを充填してもよい。

【００１８】上述した複数の吸着体を混在させた吸着筒
部３２、３３、３４を用いるリアクタ３１おいては、気
体撹拌部３５、３６に接続するガス検知器４１、４２を
検知ガスの切り替え可能なものとする。なお、リアクタ
３１の上部に接続したガス検知器１２も、検知ガスの切
り替えが可能なものとする。各々の吸着筒部３２、３
３、３４ごとに、主に吸着する特殊ガスの吸着体を変え
たリアクタ３１の場合は、気体撹拌部３５、３６に接続
するガス検知器４１、４２は、吸着筒部３２、３３で吸
着する特殊ガスのみが検知できればよい。なおこの場合
においても、リアクタ３１の上部に接続したガス検知器
１２は、検知ガスの切り替えが可能なものとする。

【００１９】次に、上述した排ガス処理装置３０の動作
に関して述べる。まず、ＣＶＤ装置からの排ガスは、排
気配管６を通りエアー混合器２に送られ、エアー混合器
２内で排ガス中の特殊ガスと配管１１より送られてくる
エアーとが反応して、微粒子の酸化物が生成され、特殊
ガスの濃度が低減される。その後上記微粒子を含む排ガ
スは、排気配管７を通りフィルタ３に送られ、ここでエ
アー混合器２で生成された微粒子の酸化物や、ＣＶＤ装
置の反応チャンバ内より排ガスに含まれて送られてきた
粒子等がフィルタリングされる。フィルタ３より排出さ
れる排ガスは、特殊ガスの濃度が低減され、フィルタリ
ング可能な粒径以上の粒子の含まれていない排ガスとな
って、排気配管８を通りリアクタ３１へ送られる。

【００２０】リアクタ３１に導入された排ガスは、吸着
筒部３２内に充填された吸着体の間隙を通りながら上方
の気体撹拌部３５に送らる。排ガスが吸着筒部３２内の
吸着体の間隙を通る際に、排ガス中の特殊ガスが吸着体
に吸着され、排ガス中の特殊ガスの濃度は上方に進むに
従って低下してゆく。但し吸着筒部３２内の断面におけ
る排ガスの流量分布は、従来例のリアクタ４の説明で述
べた如く、排ガスの流れ易さに応じた流量分布となり、
この排ガスの流量分布に対応した状態の排ガス中の特殊
ガス濃度分布を持つ排ガスが、吸着筒部３２上面より気
体撹拌部３５に流れてくる。気体撹拌部３５に入った、
特殊ガス濃度分布を持つ排ガスは、配管３７より導入さ
れるＮ₂ガスによって撹拌され、気体撹拌部３５内にお
いてはほぼ均一な特殊ガス濃度分布を持つ排ガスとな
る。

【００２１】気体撹拌部３５内でほぼ均一な特殊ガス濃
度分布を持つ排ガスは、吸着筒部３３に送られ、ここで
又排ガス中の特殊ガスが吸着体に吸着されながら上方へ
と送られて行く。吸着筒部３３より排出され、気体撹拌
部３６に入った排ガスは、ここで又配管３８より送られ
たＮ₂ガスによって撹拌され、気体撹拌部３６内におい
てはほぼ均一な特殊ガス濃度分布を持つ排ガスとなる。
このほぼ均一な特殊ガス濃度分布となった排ガスが、更
に吸着筒部３４に送られ、ここで又排ガス中の特殊ガス
が吸着体に吸着されながら上方に向かい、吸着筒部３４
より排出される時は特殊ガス濃度が所定濃度以下となっ
た除害ガスとなって、排気ファン５より排気配管１０を
通って大気中に放出される。

【００２２】上述した排ガス処理装置３０は、従来のリ
アクタ４の円筒部２０の大きさを長さ方向に略３等分し
た程度の３個の吸着筒部３２、３３、３４と、吸着筒部
３２、３３、３４の間に設けた２個の気体撹拌部３５、
３６とでリアクタ３１を構成しているので、ＣＶＤ装置
での必要な排ガス流量を確保でき、しかもリアクタ３１
に導入された排ガスが、２個の気体撹拌部３５、３６で
ほぼ均一な特殊ガスの濃度分布となって上方に位置する
吸着筒部３３や吸着筒部３４に向かうため、吸着筒部３
３や吸着筒部３４内の吸着体の同一吸着量分布面の変化
の時間依存は、吸着筒部３２の同一吸着量分布面の時間
依存と同様で、平面的な分布より凹凸状の分布面へと変
化し、リアクタ３１の破過時点における同一吸着量分布
面の凹凸の深さは、従来のリアクタ４の破過時点での同
一吸着量分布面の凹凸の深さより浅い状態、即ち吸着体
全体の特殊ガスの吸着量が多い状態となる。従ってリア
クタ３１の使用限度、即ちリアクタ３１の破過までの期
間が長くなり、リアクタ３１の寿命を長くすることがで
きる。

【００２３】また、上述した排ガス処理装置３０におい
ては、気体撹拌部３５、３６にガス検知器４１、４２を
設けたことで、吸着筒部３２、３３の特殊ガスの吸着能
力を監視できる。従って、例えば吸着筒部３２の吸着体
の吸着量が限界にきて吸着能力が大きく低下した段階を
知り、吸着筒部３２のみを新たな吸着筒部に交換して、
再度排ガス処理装置３０を稼働させることで、吸着筒部
の使用数、即ち吸着体量の節約をすることもできる。な
お、この新たな吸着筒部の交換に際して、吸着筒部３３
を最下部に設置し、その上部の吸着筒部には吸着筒部３
４を設置し、新たな吸着筒部を最上部に設置してもよ
い。なお又、主に除害する特殊ガスごとに異なる吸着体
を各々の吸着筒部３２、３３、３４に充填した場合に
は、気体撹拌部３５、３６に接続するガス検知器４１、
４２を設けたことで、各々の吸着筒部３２、３３、３４
の破過を監視でき、破過した吸着筒部のみを交換するこ
とができる。

【００２４】以上、本発明を実施の形態例により説明し
たが、本発明はこの実施の形態例に何ら限定されるもの
ではない。例えば、本発明の実施の形態例では、ＣＶＤ
装置に接続する排ガス処理装置として説明したが、プラ
ズマエッチング装置に接続する排ガス処理装置であって
もよい。また、本発明の実施の形態例では、吸着筒部に
充填する多孔質固体の粒状の吸着体を活性炭や活性炭に
過マンガン酸カリや酸化銅等の酸化剤を添着させた吸着
体等で説明したが、合成ゼオライト、活性アルミナ、シ
リカゲル等の多孔質固体の粒状の吸着体であってもよ
い。更に、本発明の実施の形態例では、３個の吸着筒部
と３個の吸着筒部の間に設置した２個の気体撹拌部とで
構成するリアクタで説明したが、２個又は、４個以上の
吸着筒部とその複数の吸着筒部の間に設置した気体撹拌
部でリアクタを構成してもよい。更にまた、本発明の実
施の形態例では、各々の気体撹拌部に接続するガス検知
器を設けた状態のリアクタで説明したが、各々の吸着筒
部に充填する吸着体を、除害する複数の特殊ガスに対応
した複数の吸着体を混在させたものとした場合には、各
々の気体撹拌部に接続するガス検知器を設けなくともよ
い。

【００２５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の排ガス処理装置は、特殊ガスを吸着する吸着体の充填
された複数の吸着筒部と複数の上記吸着筒部間に設けた
気体撹拌部とを有してリアクタを構成させることによ
り、半導体製造装置の排ガス流量を確保した状態で、リ
アクタの寿命を長くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の排ガス処理装置の概略図である。

【図２】図１のＰ部の詳細構造図である。

【図３】本発明の排ガス処理装置における吸着筒部の保
管や運搬時における、吸着筒部の概略断面図である。

【図４】従来の排ガス処理装置の概略図である。

【図５】従来の排ガス処理装置のリアクタの作用を説明
するための、リアクタの概略断面図である。

【符号の説明】

１，３０…排ガス処理装置、２…エアー混合器、３…フ
ィルタ、４，３１…リアクタ、５…排気ファン、６，
７，８，９，１０…排気配管、１１，１３，３７，３
８，４３，４４…配管、１２，４１，４２…ガス検知
器、２３…吸着体、２４，２５…接続フランジ部、２６
…空洞部、３２，３３，３４…吸着筒部、３５，３６…
気体撹拌部、３９，４０…逆止弁

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＨ０１Ｌ 21/3065

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】排ガス中の特殊ガスを吸着して除害する
乾式排ガス除去器を有する排ガス処理装置において、特殊ガスを吸着する吸着体の充填された複数の吸着筒部
と、複数の前記吸着筒部間に設けた気体撹拌部とを具備した
乾式排ガス除去器を有することを特徴とする排ガス処理
装置。
【請求項２】複数の前記吸着筒部は、除害する複数の
特殊ガスに対応する複数の吸着体の混在した吸着体を充
填したものであることを特徴とする、請求項１に記載の
排ガス処理装置。
【請求項３】複数の前記吸着筒部は、除害する複数の
特殊ガスに対応して、各々の前記吸着筒部に主に除害す
る特殊ガスごとの吸着体を充填したものであることを特
徴とする、請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項４】前記気体撹拌部は、不活性ガスの導入に
より排ガスを撹拌させる構成であることを特徴とする、
請求項１に記載の排ガス処理装置。
【請求項５】前記気体撹拌部に特殊ガス濃度を検知す
るガス検知器を設けたことを特徴とする、請求項１に記
載の排ガス処理装置。