JPH1097984A - 基板回転塗布装置 - Google Patents
基板回転塗布装置Info
- Publication number
- JPH1097984A JPH1097984A JP26909296A JP26909296A JPH1097984A JP H1097984 A JPH1097984 A JP H1097984A JP 26909296 A JP26909296 A JP 26909296A JP 26909296 A JP26909296 A JP 26909296A JP H1097984 A JPH1097984 A JP H1097984A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cup
- lid
- shaped body
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 基板回転塗布装置において、基板から飛散し
た液体粒子が蓋体に衝突した後、二次的に基板に再付着
することが少ない塗布装置を提供する。 【解決手段】 基板回転塗布装置１の蓋体５の内周端縁
下降部に、断面が下側に開いたリング状体５ａを設ける
ことにより、液体粒子の飛翔方向に対して緩やかな傾斜
面とすることができ、液体粒子の跳ね返りによる二次的
な液体粒子の発生が防止され、基板Ｓへの再付着が減少
する。
た液体粒子が蓋体に衝突した後、二次的に基板に再付着
することが少ない塗布装置を提供する。 【解決手段】 基板回転塗布装置１の蓋体５の内周端縁
下降部に、断面が下側に開いたリング状体５ａを設ける
ことにより、液体粒子の飛翔方向に対して緩やかな傾斜
面とすることができ、液体粒子の跳ね返りによる二次的
な液体粒子の発生が防止され、基板Ｓへの再付着が減少
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、大型ガラス基板
等の枚葉タイプの基板上に感光材料等の液体を均一に塗
布または分散するための基板回転塗布装置に関する。
等の枚葉タイプの基板上に感光材料等の液体を均一に塗
布または分散するための基板回転塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、基板上に液体を塗布した場合、
この液体を均一に分散させるために、カップを蓋体で閉
塞するタイプの基板回転塗布装置が用いられている。カ
ップを蓋体で閉塞することにより、カップ内部の乱気流
の発生を低減し、基板端部より飛散した液体粒子の基板
上面への再付着を減少させ得るというものである。
この液体を均一に分散させるために、カップを蓋体で閉
塞するタイプの基板回転塗布装置が用いられている。カ
ップを蓋体で閉塞することにより、カップ内部の乱気流
の発生を低減し、基板端部より飛散した液体粒子の基板
上面への再付着を減少させ得るというものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のカップ
および蓋体の形状のまま基板回転塗布装置を回転させた
場合、通常蓋体またはカップの側壁は飛散する液体粒子
方向に対して垂直面となっているので、基板端部より飛
散した液体粒子がカップ内壁あるいは蓋体下面等に衝突
することにより、二次的な液体粒子が発生し基板に跳ね
返り易い。この二次的な液体粒子が基板上面に付着する
と、基板に塗布された液体の均一性を損なうという問題
がある。
および蓋体の形状のまま基板回転塗布装置を回転させた
場合、通常蓋体またはカップの側壁は飛散する液体粒子
方向に対して垂直面となっているので、基板端部より飛
散した液体粒子がカップ内壁あるいは蓋体下面等に衝突
することにより、二次的な液体粒子が発生し基板に跳ね
返り易い。この二次的な液体粒子が基板上面に付着する
と、基板に塗布された液体の均一性を損なうという問題
がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の請求項１の発明は、基板をカップ内にセットし、次い
でカップ上面を蓋体で閉塞してからカップを回転して塗
布する回転塗布装置において、前記蓋体の内周面下降部
には、カップ内に入り込む寸法であって断面が下方に向
かって開いて湾曲したリング状体を設けたことを特徴と
する基板回転塗布装置、にある。この装置によれば、二
次的な液体粒子の発生を減少させることができる。
の請求項１の発明は、基板をカップ内にセットし、次い
でカップ上面を蓋体で閉塞してからカップを回転して塗
布する回転塗布装置において、前記蓋体の内周面下降部
には、カップ内に入り込む寸法であって断面が下方に向
かって開いて湾曲したリング状体を設けたことを特徴と
する基板回転塗布装置、にある。この装置によれば、二
次的な液体粒子の発生を減少させることができる。
【０００５】上記課題を解決するための請求項２の発明
は、請求項１の基板回転塗布装置において、前記蓋体の
内周面下降部の湾曲したリング状体の高さが可変である
ことにより、この湾曲したリング状体の下端と前記蓋体
の下面との距離が調整可能であることを特徴とする。こ
の装置によれば、二次的な液体粒子の発生を減少させる
ことができるとともに基板のサイズや塗布液体の特性に
応じた装置の調整が可能となる。
は、請求項１の基板回転塗布装置において、前記蓋体の
内周面下降部の湾曲したリング状体の高さが可変である
ことにより、この湾曲したリング状体の下端と前記蓋体
の下面との距離が調整可能であることを特徴とする。こ
の装置によれば、二次的な液体粒子の発生を減少させる
ことができるとともに基板のサイズや塗布液体の特性に
応じた装置の調整が可能となる。
【０００６】上記課題を解決するための請求項３の発明
は、請求項１または請求項２の基板回転塗布装置におい
て、前記湾曲したリング状体を蓋体に納まる平坦な板状
体の下面周辺に設け、この平坦な板状体を蓋体の下面に
所定間隔離して取り付け、さらにこの間隔が調整可能で
あることを特徴とする。この装置によれば、二次的な液
体粒子の発生を減少させることができるとともに、基板
のサイズや塗布液体の特性に応じた装置の調整が可能と
なり、さらにカップ内部の乱気流を低減させるように、
前記板状体と基板との距離を調整することができる。
は、請求項１または請求項２の基板回転塗布装置におい
て、前記湾曲したリング状体を蓋体に納まる平坦な板状
体の下面周辺に設け、この平坦な板状体を蓋体の下面に
所定間隔離して取り付け、さらにこの間隔が調整可能で
あることを特徴とする。この装置によれば、二次的な液
体粒子の発生を減少させることができるとともに、基板
のサイズや塗布液体の特性に応じた装置の調整が可能と
なり、さらにカップ内部の乱気流を低減させるように、
前記板状体と基板との距離を調整することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の基板回転塗布装
置の一実施形態を示す断面図である。塗布装置の回転軸
に平行な面での断面を示している。図１において、基板
回転塗布装置１はいわゆる密閉カップ型の装置であり、
基板Ｓをセットするためのチャック台２と、このチャッ
ク台２を回転させるための駆動部３と、カップ４（斜線
部）と、カップ４を閉塞するための蓋体５と、そして蓋
体５を上下動させるための駆動部６とを備えている。チ
ャック台２は、平面形状がほぼ正方形あるいは円形をな
し、チャック台中心下部に設けられた回転軸２ａを介し
て、駆動部３に接続されている。チャック台２は通常、
金属、樹脂材料またはそれらの複合材料等により形成し
たものを使用することができ、形状、寸法等は、載置対
象となる基板Ｓに対応して適宜設定することができる。
このようなチャック台２における基板Ｓの保持機構は特
に制限されない。
置の一実施形態を示す断面図である。塗布装置の回転軸
に平行な面での断面を示している。図１において、基板
回転塗布装置１はいわゆる密閉カップ型の装置であり、
基板Ｓをセットするためのチャック台２と、このチャッ
ク台２を回転させるための駆動部３と、カップ４（斜線
部）と、カップ４を閉塞するための蓋体５と、そして蓋
体５を上下動させるための駆動部６とを備えている。チ
ャック台２は、平面形状がほぼ正方形あるいは円形をな
し、チャック台中心下部に設けられた回転軸２ａを介し
て、駆動部３に接続されている。チャック台２は通常、
金属、樹脂材料またはそれらの複合材料等により形成し
たものを使用することができ、形状、寸法等は、載置対
象となる基板Ｓに対応して適宜設定することができる。
このようなチャック台２における基板Ｓの保持機構は特
に制限されない。
【０００８】駆動部３は、回転軸２ａを介してチャック
台２を高速回転させるためのものであり、通常、モータ
ー等の公知の手段を使用することができる。カップ４
は、上記チャック台の直下に設けられている。このカッ
プ４には、液排出口４ａが底面周囲に少なくとも１ケ所
設けられている。駆動部６は、上記蓋体５を上下動する
ためのものであり、通常、エアーシリンダー等の公知の
手段を用いることができ、蓋体５とは蓋体５の中心部と
駆動部６との間に設けられた軸部６ａを介して接続され
ている。本発明の基板回転塗布装置は、この蓋体５の下
面側端縁部であって内周面下降部に、断面が下方に向か
って開いて湾曲したリング状体５ａを設けたことに特徴
がある。このリング状体により、基板Ｓから飛散した液
体粒子がカップ内壁あるいは蓋体下面等に衝突すること
による二次的な液体粒子の発生を減少させることができ
る。
台２を高速回転させるためのものであり、通常、モータ
ー等の公知の手段を使用することができる。カップ４
は、上記チャック台の直下に設けられている。このカッ
プ４には、液排出口４ａが底面周囲に少なくとも１ケ所
設けられている。駆動部６は、上記蓋体５を上下動する
ためのものであり、通常、エアーシリンダー等の公知の
手段を用いることができ、蓋体５とは蓋体５の中心部と
駆動部６との間に設けられた軸部６ａを介して接続され
ている。本発明の基板回転塗布装置は、この蓋体５の下
面側端縁部であって内周面下降部に、断面が下方に向か
って開いて湾曲したリング状体５ａを設けたことに特徴
がある。このリング状体により、基板Ｓから飛散した液
体粒子がカップ内壁あるいは蓋体下面等に衝突すること
による二次的な液体粒子の発生を減少させることができ
る。
【０００９】図２は、本発明の基板回転塗布装置の他の
実施形態を示す断面図である。この実施形態では、湾曲
したリング状体５ａの高さは可変となっている。これに
より、この湾曲したリング状体の下端と前記蓋体の下面
との距離が調整可能となり、基板サイズや塗布液体の特
性に適応した調整が可能となる。リング状体５ａの高さ
は、例えば、前記リング状体を蓋体に結合する取り付け
ネジ８を上下動することによって調整可能とすることが
できる。
実施形態を示す断面図である。この実施形態では、湾曲
したリング状体５ａの高さは可変となっている。これに
より、この湾曲したリング状体の下端と前記蓋体の下面
との距離が調整可能となり、基板サイズや塗布液体の特
性に適応した調整が可能となる。リング状体５ａの高さ
は、例えば、前記リング状体を蓋体に結合する取り付け
ネジ８を上下動することによって調整可能とすることが
できる。
【００１０】図３は、本発明の基板回転塗布装置の他の
実施形態を示す断面図である。この実施形態の場合は、
湾曲したリング状体５ａを蓋体５に納まる平坦な板状体
７の周辺下面に設け、この平坦な板状体を蓋体の下面に
所定間隔離して取り付けたことに特徴がある。さらにこ
の間隔が調整可能であることを特徴としている。間隔の
調整は、例えば板状体を蓋体に結合する取り付けネジ８
を上下動させることにより可能となる。このように、板
状体７を設けることによりカップ内部に発生する乱気流
を低減できる効果がある。
実施形態を示す断面図である。この実施形態の場合は、
湾曲したリング状体５ａを蓋体５に納まる平坦な板状体
７の周辺下面に設け、この平坦な板状体を蓋体の下面に
所定間隔離して取り付けたことに特徴がある。さらにこ
の間隔が調整可能であることを特徴としている。間隔の
調整は、例えば板状体を蓋体に結合する取り付けネジ８
を上下動させることにより可能となる。このように、板
状体７を設けることによりカップ内部に発生する乱気流
を低減できる効果がある。
【００１１】図４は、上述の本発明の基板回転塗布装置
１における、断面が湾曲したリング状体５ａの作用を説
明するための図である。回転軸の左側半分のみが図示さ
れている。図４に示されるように、予め所定の液体Ｌの
塗布が行われた基板Ｓがチャック台２に載置され、駆動
部３により回転軸２ａを介してチャック台２が回転され
る。このチャック台２の回転に伴って基板Ｓ上の液体Ｌ
に遠心力が作用し、液体Ｌは基板Ｓの周辺方向に均一に
分散する。そして分散された液体Ｌは基板Ｓの端部より
液体粒子ｌとなって飛散し、やがて蓋体５の下面に設け
られた湾曲したリング状体５ａに衝突する。このとき、
この湾曲面は液体粒子の飛翔方向に対して緩やかな曲面
であるために、液体粒子ｌの跳ね変りによる二次的な液
体粒子の発生がほとんど生じない。そして、液体粒子ｌ
は、その大部分が湾曲面に沿って、この湾曲面の下端ま
で流れ、やがてカップ４の底面に滴下する。カップ４底
面にたまった液体Ｌは排出口４ａよりカップ外部に排出
される。
１における、断面が湾曲したリング状体５ａの作用を説
明するための図である。回転軸の左側半分のみが図示さ
れている。図４に示されるように、予め所定の液体Ｌの
塗布が行われた基板Ｓがチャック台２に載置され、駆動
部３により回転軸２ａを介してチャック台２が回転され
る。このチャック台２の回転に伴って基板Ｓ上の液体Ｌ
に遠心力が作用し、液体Ｌは基板Ｓの周辺方向に均一に
分散する。そして分散された液体Ｌは基板Ｓの端部より
液体粒子ｌとなって飛散し、やがて蓋体５の下面に設け
られた湾曲したリング状体５ａに衝突する。このとき、
この湾曲面は液体粒子の飛翔方向に対して緩やかな曲面
であるために、液体粒子ｌの跳ね変りによる二次的な液
体粒子の発生がほとんど生じない。そして、液体粒子ｌ
は、その大部分が湾曲面に沿って、この湾曲面の下端ま
で流れ、やがてカップ４の底面に滴下する。カップ４底
面にたまった液体Ｌは排出口４ａよりカップ外部に排出
される。
【００１２】
（実施例）以下、図面を参照して、本発明の一実施例に
ついて説明する。図１の基板回転塗布装置において、湾
曲面５ａを設けた蓋体と、湾曲面を設けない通常の形状
の蓋体とを用いて、それぞれ幅５５０ｍｍ、長さ６５０
ｍｍ、板厚０．７ｍｍのＬＣＤカラーフィルター用ガラ
ス基板Ｓを準備し、塗布液として、固形分濃度６．５
％、粘度２．５ｃｐｓのフォトレジスト（東京応化工業
株式会社製「ＯＦＰＲ−８００」）を準備した。塗布液
を塗布された基板Ｓを、基板回転塗布装置にセットし、
５３６ｍｍ×６３６ｍｍの範囲内において、均一な膜厚
分布を得るように基板Ｓを回転させた後、乾燥させ、平
均１００００Å程度の膜厚とした基板にて外観を検査し
たところ、湾曲面を設けない蓋体を使用した場合、表面
には液体粒子の衝突によるクレーター状の欠陥が多数
（０．２個／ｃｍ2 程度）見られたのに対し、湾曲面を
設けた蓋体を使用した場合には、欠陥がほとんど発生せ
ず、安定した膜形成が可能であることが確認された。
ついて説明する。図１の基板回転塗布装置において、湾
曲面５ａを設けた蓋体と、湾曲面を設けない通常の形状
の蓋体とを用いて、それぞれ幅５５０ｍｍ、長さ６５０
ｍｍ、板厚０．７ｍｍのＬＣＤカラーフィルター用ガラ
ス基板Ｓを準備し、塗布液として、固形分濃度６．５
％、粘度２．５ｃｐｓのフォトレジスト（東京応化工業
株式会社製「ＯＦＰＲ−８００」）を準備した。塗布液
を塗布された基板Ｓを、基板回転塗布装置にセットし、
５３６ｍｍ×６３６ｍｍの範囲内において、均一な膜厚
分布を得るように基板Ｓを回転させた後、乾燥させ、平
均１００００Å程度の膜厚とした基板にて外観を検査し
たところ、湾曲面を設けない蓋体を使用した場合、表面
には液体粒子の衝突によるクレーター状の欠陥が多数
（０．２個／ｃｍ2 程度）見られたのに対し、湾曲面を
設けた蓋体を使用した場合には、欠陥がほとんど発生せ
ず、安定した膜形成が可能であることが確認された。
【００１３】
【発明の効果】以上に詳述のように、本発明の基板回転
塗布装置は、蓋体の内周面下降部に、カップ内に入り込
む寸法であって断面が下方に向かって開いて湾曲したリ
ング状体を設けたので液体粒子の発生がほとんど発生せ
ず、欠陥がほとんどない安定した膜形成が可能である。
塗布装置は、蓋体の内周面下降部に、カップ内に入り込
む寸法であって断面が下方に向かって開いて湾曲したリ
ング状体を設けたので液体粒子の発生がほとんど発生せ
ず、欠陥がほとんどない安定した膜形成が可能である。
【図１】 本発明の基板回転塗布装置の一実施形態を示
す断面図である。
す断面図である。
【図２】 本発明の基板回転塗布装置の他の実施形態を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】 本発明の基板回転塗布装置の他の実施形態を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図４】 本発明の基板回転塗布装置における、断面が
湾曲したリング状体の作用を説明するための図である。
湾曲したリング状体の作用を説明するための図である。
１ 基板回転塗布装置 ２ チャック台 ２ａ 回転軸 ３ チャック台駆動部 ４ カップ ４ａ 液排出口 ５ 蓋体 ５ａ 断面が湾曲したリング状体 ６ 蓋体上下動駆動部 ７ 平坦な板状体 ８ 取り付けネジ Ｓ 基板 Ｌ 液体 ｌ 液体粒子
Claims (3)
- 【請求項１】 基板をカップ内にセットし、次いでカッ
プ上面を蓋体で閉塞してからカップを回転して塗布する
回転塗布装置において、前記蓋体の内周面下降部には、
カップ内に入り込む寸法であって断面が下方に向かって
開いて湾曲したリング状体を設けたことを特徴とする基
板回転塗布装置。 - 【請求項２】 前記蓋体の内周面下降部の湾曲したリン
グ状体の高さが可変であることにより、この湾曲したリ
ング状体の下端と前記蓋体の下面との距離が調整可能で
あることを特徴とする請求項１記載の基板回転塗布装
置。 - 【請求項３】 前記湾曲したリング状体を蓋体に納まる
平坦な板状体の下面周辺に設け、この平坦な板状体を蓋
体の下面に所定間隔離して取り付け、さらにこの間隔が
調整可能であることを特徴とする請求項１または請求項
２記載の基板回転塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26909296A JPH1097984A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 基板回転塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26909296A JPH1097984A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 基板回転塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1097984A true JPH1097984A (ja) | 1998-04-14 |
Family
ID=17467568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26909296A Withdrawn JPH1097984A (ja) | 1996-09-20 | 1996-09-20 | 基板回転塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1097984A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100739214B1 (ko) * | 1999-09-24 | 2007-07-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 도포막 형성방법 및 도포처리장치 |
| JP2014179642A (ja) * | 2010-03-24 | 2014-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
-
1996
- 1996-09-20 JP JP26909296A patent/JPH1097984A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100739214B1 (ko) * | 1999-09-24 | 2007-07-13 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 도포막 형성방법 및 도포처리장치 |
| JP2014179642A (ja) * | 2010-03-24 | 2014-09-25 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04300673A (ja) | 回転式塗布装置及び回転式塗布方法 | |
| JPH1097984A (ja) | 基板回転塗布装置 | |
| JPH0910658A (ja) | 塗布方法および塗布装置 | |
| JP3605852B2 (ja) | 基板の回転塗布装置 | |
| JP2000237669A (ja) | スピンコート法による薄膜の形成装置及び形成方法 | |
| JP4447673B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JP2849863B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JPH10340841A (ja) | スピン塗布装置 | |
| JPS61206221A (ja) | スピン塗布装置 | |
| JPH029476A (ja) | スピンコーティング装置 | |
| JP2649219B2 (ja) | スピンチャックおよび処理液塗布方法 | |
| JPH05253528A (ja) | スピンコータによる角型基板への液塗布方法および装置 | |
| JPH05115828A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH03175615A (ja) | スピン塗布装置 | |
| JPH02149367A (ja) | スピン塗布装置 | |
| JPH11179264A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPH01139172A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH01228575A (ja) | スピンコーター | |
| JPH02160074A (ja) | 塗布装置の制御方法 | |
| JPH03293055A (ja) | 塗布装置 | |
| JP2603431B2 (ja) | 塗布装置 | |
| JP2004039977A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPS63100973A (ja) | 塗布装置 | |
| KR0127189Y1 (ko) | 감광막 도포장치 | |
| JP2002370053A (ja) | 微粒子散布装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031202 |