JPH1070040A - 可変容量コンデンサ及びその製造方法並びにその機械的共振周波数設定方法 - Google Patents

可変容量コンデンサ及びその製造方法並びにその機械的共振周波数設定方法

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JPH1070040A
JPH1070040A JP8223895A JP22389596A JPH1070040A JP H1070040 A JPH1070040 A JP H1070040A JP 8223895 A JP8223895 A JP 8223895A JP 22389596 A JP22389596 A JP 22389596A JP H1070040 A JPH1070040 A JP H1070040A
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thickness
support arm
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electrode
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JP8223895A
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Yasuo Fujii
康生 藤井
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/16Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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    • H01G5/16Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes
    • H01G5/18Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes due to change in inclination, e.g. by flexing, by spiral wrapping

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Abstract

(57)【要約】 【課題】片持梁部材の電気的直列抵抗およびQを変えず
に、機械的共振周波数を小さくした可変容量コンデンサ
を提供する。 【解決手段】絶縁基板1に可変容量コンデンサの一方電
極となる固定電極2が形成され、この固定電極2に対し
て可変容量コンデンサの他方電極となる可動電極部4
c’が空隙gを介して対向配置され、この可動電極部4
c’は支持腕部4bを介して支持基部4a’により絶縁
基板1に固定され、固定電極2と可動電極部4c’との
間に印加した直流電圧により、固定電極2と可動電極部
4c’との間に生じる静電力により可動電極部4c’を
変位させて、可変容量を得るようにした可変容量コンデ
ンサにおいて、可動電極部4c’の厚みが、支持腕部4
bの厚みに対して、大きいことを特徴とする可変容量コ
ンデンサ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一方電極が固定で
他方電極が変位可能な片持梁構造をした可変容量コンデ
ンサおよびその製造方法並びにその機械的共振周波数設
定方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、自動車衝突防止装置、簡易無線装
置、無線ラン(LAN)などミリ波を使用するデバイス
が商品化されつつある。これらのデバイスのVCO(電
圧制御発振器)、周波数変調器などに使用される可変容
量コンデンサの需要がある。この可変容量コンデンサと
しては、従来バラクタダイオードがあるが、内部抵抗が
大きく共振回路のQ を低下させるという問題がある。
【0003】これに対し、本発明者は、先に電気的Qの
高い可変容量コンデンサとして、図13に示すように、
支持基部13a、支持腕部13bおよび可動電極部13
cからなる片持梁部材13を有して機械的動作を伴うコ
ンデンサを提案した(これを以下、「従来」という)。
【0004】この可変容量コンデンサの製造方法につい
て説明する。絶縁基板11に可変容量コンデンサの一方
電極となる固定電極12を形成する。つぎに、支持基部
13a、支持腕部13bおよび可動電極部13cからな
る片持梁部材13を、その可動電極部13cが固定電極
12と空隙gを介して対向するように絶縁基板11上に
配置する。この場合、機械的共振周波数の低い可変容量
コンデンサを製造するときには、片持梁部材13の全体
の厚み、特に可動電極部13cおよび支持腕部13bの
厚みを実線で示す通常の厚みよりは、破線で示すよう
に、一律に薄く形成している。
【0005】また、機械的共振周波数の高い可変容量コ
ンデンサを製造するときには、片持梁部材13の全体の
厚み、特に可動電極部13cおよび支持腕部13bの厚
みを実線で示す通常の厚みよりは、一点鎖線で示すよう
に、一律に厚く形成している。
【0006】この図13に示す可変容量コンデンサは、
固定電極12と可動電極部13cとの間に印加した直流
電圧により、固定電極12と可動電極部13cとの間に
静電引力が生じ、この静電引力により可動電極部13c
を固定電極12側に変位させて、所定の可変容量を得る
ようにしたものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記製
造方法により製造された可変コンデンサについては、つ
ぎのような問題点があった。即ち、可変容量コンデンサ
の機械的共振周波数を低くするために、片持梁部材13
全体を薄く形成した場合には、確かに機械的共振周波数
が低くなり、それと同時に、支持腕部13bのバネ定数
即ち剛性も低下し、同一印加電圧に対して片持梁部材1
3の変位量も大きくなって低電圧駆動が可能となり容量
変化も大きくなるが、その反対に、片持梁部材13の電
気的直列抵抗が大きくなってコンデンサの電気的Qが小
さくなっていた。
【0008】また、可変容量コンデンサの機械的共振周
波数を大きくするために、片持梁部材13全体を厚く形
成した場合には、確かに機械的共振周波数は高くなり、
それと同時に、電気的直列抵抗も低下してコンデンサの
電気的Qも大きくなるが、その反対に、支持腕部13b
のバネ定数が大きくなって、同一印加電圧に対して片持
梁部材13の変位量も小さくなって低電圧駆動ができず
容量変化も小さくなっていた。
【0009】更に、可変容量コンデンサの設計時に、駆
動電圧を中心に考えると、片持梁部材3の厚みが一律に
決まってしまうため、可変容量コンデンサの機械的共振
周波数を自由に定めることができないばかりか、コンデ
ンサの電気的Qも変化してしまう欠点があった。
【0010】そこで、本発明は、第1にコンデンサの電
気的Qが大きく機械的共振周波数の異なる可変容量コン
デンサ、第2にこの可変容量コンデンサの電気的Qを余
り低下させることなく製造することのできる可変容量コ
ンデンサの製造方法、第3に可変容量コンデンサの機械
的共振周波数を変えて設計の自由度を高める機械的共振
周波数設定方法をそれぞれ提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、下記の解決手段を採ることを特徴とす
る。
【0012】請求項1記載の発明は、絶縁基板に一方電
極となる固定電極が形成され、この固定電極に対して他
方電極となる可動電極部が空隙を介して対向配置され、
この可動電極部は支持腕部を介して支持基部により前記
絶縁基板に支持固定され、前記固定電極と前記可動電極
部との間に印加した電圧により前記可動電極部を変位さ
せて可変容量を得るようにした可変容量コンデンサにお
いて、前記可動電極部の厚みと前記支持腕部の厚みを相
互に違う厚みに構成したものである。
【0013】この発明は、可動電極部または支持腕部の
厚みを相互に変えて、機械的共振周波数を変えるが、片
持梁部材の電気的直列抵抗およびコンデンサの電気的Q
は、支持腕部および可動電極部の厚みが同一のものに比
べて余り変わらない。これは、可動電極部の抵抗と支持
腕部の抵抗とは直列になるが、一方の厚みが薄くなって
その抵抗が大きくなり、他方の厚みが厚くなってその抵
抗が小さくなっているからである。
【0014】請求項2記載の発明は、前記支持腕部の厚
みに対して、前記可動電極部の厚みを厚く構成したもの
である。
【0015】この発明は、片持梁部材の先端部に位置す
る可動電極部の厚みが支持腕部に比べて大きくなってい
るので、片持梁部材の先端部の質量が大きくなり、か
つ、バネ定数即ち剛性が小さくなっているので、機械的
共振周波数が小さくなる。片持梁部材の電気的直列抵抗
およびコンデンサのQは、支持腕部および可動電極部の
厚みが同一のものに比べて余り変わらない。これは、可
動電極の抵抗と支持腕部の抵抗とは直列になるが、支持
腕部の抵抗が大きくなっているのに対して、可動電極の
厚みが小さくなっているからである。
【0016】また、支持腕部の厚みが小さくなっている
ので、バネ定数が小さくなって、片持梁部材は従来と同
一の印加直流電圧に対する変位が大きくなり、容量変化
も大きくなる。そして、低電圧で従来と同一の容量変化
を得ることができる。
【0017】請求項3記載の発明は、前記支持腕部の厚
みに対して、前記可動電極部の厚みを薄く構成したもの
である。
【0018】この発明は、片持梁部材の先端に位置する
可動電極部の厚みが支持腕部に比べて小さくなっている
ので、片持梁部材の先端部の質量が小さくなり、かつ、
バネ定数即ち剛性が大きくなっているので、機械的共振
周波数が大きくなる。片持梁部材の電気的直列抵抗およ
びコンデンサの電気的Qは、支持腕部および可動電極部
の厚みが同一のものに比べて余り変わらない。支持腕部
の厚みが大きくなっているので、バネ定数が大きくなっ
て、従来と同一の直流電圧を印加した場合、変位は小さ
くなり、容量変化も小さくなるが、高い電圧を印加する
ことにより従来と同一の容量変化を得ることができる。
【0019】請求項4記載の発明は、絶縁基板に固定電
極を形成し、前記固定電極表面と該固定電極に連なる前
記絶縁基板の一部表面に跨って犠牲層を形成し、支持基
部、支持腕部、および可動電極部の各部分からなる金属
の片持梁部材であって、該支持基部を前記絶縁基板表面
に形成し、前記可動電極部が前記固定電極表面に対向す
るように、該支持腕部および該可動電極部を前記犠牲層
上に形成し、つぎに前記片持梁部材の前記可動電極部と
前記支持腕部のいずれか一方の露出表面に金属を堆積し
て該一方の厚みを他方の厚みに比べて厚く形成し、この
後、前記犠牲層をエッチングして除去するものである。
【0020】この製造方法においては、犠牲層は、固定
電極と可動電極の間に空隙幅を定めると共に、可動電極
を支持する支持腕部の内側(固定電極側)形状を特定す
る。片持梁部材は当初全体を同じ厚みに形成する。そし
て、片持梁部材のバネ定数や電気的直列抵抗を考慮して
可動電極と支持腕部の何れか一方を追加して、その厚み
を厚くする。この場合、支持基部の厚みに変更はない。
【0021】請求項5記載の発明は、絶縁基板に固定電
極を形成し、前記固定電極表面と該固定電極に連なる前
記絶縁基板の一部表面に跨って犠牲層を形成し、支持基
部、支持腕部、および可動電極部の各部分からなる金属
の片持梁部材であって、該支持基部を前記絶縁基板表面
に形成し、前記可動電極部が前記固定電極表面に対向す
るように、該支持腕部および該可動電極部を前記犠牲層
上に形成し、つぎに前記片持梁部材の前記可動電極部と
前記支持腕部のいずれか一方をエッチングして該一方の
厚みを他方の厚みに比べて薄く形成し、この後、前記犠
牲層をエッチングして除去するものである。
【0022】この製造方法においては、犠牲層は、固定
電極と可動電極の間に空隙幅を定めると共に、可動電極
を支持する支持腕部の内側(固定電極側)形状を特定す
る。片持梁部材は当初全体を同じ厚みに形成する。そし
て、片持梁部材のバネ定数や電気的直列抵抗を考慮して
可動電極と支持腕部の何れか一方をエッチングして、そ
の厚みを薄くする。この場合、支持基部の厚みに変更は
ない。
【0023】請求項6記載の発明は、絶縁基板に固定電
極が形成され、この固定電極に対し可動電極部が空隙を
介して対向配置され、この可動電極部は支持腕部を介し
て支持基部により前記絶縁基板に支持固定され、前記可
動電極部、支持腕部および支持基部は片持梁部材を構成
し、前記固定電極と前記片持梁部材との間に印加した電
圧により、前記可動電極部を変位させて可変容量を得る
ようにした可変容量コンデンサであって、前記可動電極
部と前記支持腕部の厚みを相対的に変えることにより、
前記片持梁部材の機械的共振周波数を定めるものであ
る。
【0024】この方法に於いて、可動電極と支持腕部
は、これらの厚みの一方を薄く構成した場合には他方を
厚く構成する。この構成は、片持梁部材全体の直列の電
気抵抗の変動を小さくする。結果的に、可変容量コンデ
ンサの電気的Qの変動を小さくする。また、片持梁部材
の機械的共振周波数は、ほぼ可動電極と支持腕部の質量
に反比例し、支持腕部の厚みに比例すると考えることが
できる。そして、片持梁部材のバネ定数は、支持腕部の
厚みに依存している。このことから、支持腕部の厚みを
次第に薄く構成すれば、機械的共振周波数は次第に小さ
くなり、逆に支持腕部の厚みを次第に厚くすれば、機械
的共振周波数は次第に大きくなる。なお、支持基部は、
電気抵抗および支持腕部の支持強度に影響を与えるの
で、支持梁部材の全体の構成を考慮してその厚みを決め
る。
【0025】また、機械的共振周波数は、可動電極の厚
みを次第に厚くしていくと、換言すれば、可動電極の質
量を増大すると次第に小さくなり、逆に厚みを次第に薄
くすると質量の減少に伴って次第に大きくなる。
【0026】更に、支持腕部の厚みを薄く構成すれば、
片持梁部材のバネ定数が小さくなるので、可動電極の位
置を可変する印加電圧が低くてよい。これとは逆に、支
持腕部の厚みを厚く構成すれば、バネ定数は大きくなる
ので、印加電圧を高くする必要がある。
【0027】
【発明の実施の形態】
(構造の実施例1)以下に、本発明の可変容量コンデン
サの構成について、図1を参照して説明する。
【0028】絶縁基板1にコンデンサの一方電極となる
固定電極2が形成される。この固定電極2に対してコン
デンサの他方電極となる可動電極部4c’が空隙gを介
して対向配置される。この可動電極部4c’は支持腕部
4bを介して支持基部4a’により絶縁基板1に支持固
定される。この場合、支持腕部4bの厚みは、可動電極
部4c’および支持基部4a’の厚みより薄く形成され
ている。そして、これらの支持基部4a’、支持腕部4
b、可動電極部4c’は、片持梁部材41を形成する。
【0029】この可変容量コンデンサは、固定電極2と
片持梁部材41との間に印加した直流電圧または交流電
圧による静電吸引力により、可動電極部4c’と固定電
極2との空隙gを変え、可動電極部4c’と固定電極2
との間に形成される容量を変えるものであり、この容量
可変の機能がVCO(電圧制御発振器)、周波数変調器
などに使用される。
【0030】また、この可変容量コンデンサは、厚みの
薄い支持腕部4bの抵抗と、厚みの厚い可動電極部4
c’の抵抗とが直列になるので、片持梁部材41の電気
的直列抵抗およびコンデンサの電気的Qが、従来の可動
電極部と支持腕部の厚みが等しいものに比べて、余り変
わらない。これは、電気抵抗は片持梁部材41の各部の
厚みに依存しており、厚み寸法が小さくなるにつれて電
気抵抗が高くなり、逆に厚み寸法が大きくなるにつれて
電気抵抗が小さくなるからである。支持椀部4bの電気
抵抗は従来の支持椀部の電気抵抗より大きい。また、可
動電極部4c’の電気抵抗は従来の可動電極の電気抵抗
より小さい。
【0031】また、この可変容量コンデンサは、片持梁
部材41の先端部に位置する可動電極部4c’の厚みが
支持腕部4bに比べて厚くなっているので、支持腕部4
bに対する可動電極部4c’の質量が相対的に大きくな
り、かつ、可動電極4c ’の厚みと同じ厚みのときに比
べて支持腕部4bのバネ定数即ち剛性が小さくなってい
るので、機械的共振周波数が小さくなる。
【0032】また、支持腕部4bの厚みが可動電極4
c’の厚みに比べて薄くなっているので、バネ定数が小
さくなって、従来と同一の直流電圧を印加した場合、従
来のものに比べて片持梁部材41の変位が大きくなり、
容量変化も大きくなる。そして、従来より低い電圧で従
来のものと同一の容量変化を得ることができる。
【0033】(構造の実施例2)つぎに、本発明の第2
実施例の可変容量コンデンサの構造について、図7を参
照して説明する。
【0034】絶縁基板1にコンデンサの一方電極となる
固定電極2が形成される。この固定電極2に対してコン
デンサの他方電極となる可動電極部4cが空隙gを介し
て対向配置される。この可動電極部4cは支持腕部4
b’を介して支持基部4a’により絶縁基板1に固定さ
れる。この場合、支持基部4a’および支持腕部4b’
の厚みは、可動電極部4cの厚みより厚く形成される。
そして、支持基部4a’、支持腕部4b’および可動電
極部4cは、片持梁部材42を形成する。
【0035】この可変容量コンデンサは、固定電極2と
片持梁部材42との間に印加した直流電圧または交流電
圧の静電吸引力により、可動電極部4cと固定電極2と
の空隙gを変えて、可動電極部4cと固定電極2との間
に形成される容量を変えるものである。
【0036】また、この可変容量コンデンサにおいて
は、可動電極部4cはその厚みが支持基部4a’および
支持腕部4b’に比べて薄くてその抵抗値は大きいが、
支持基部4a’および支持腕部4b’の厚みが可動電極
部4cに比べて厚くて、その抵抗値が小さいので、片持
梁部材42の電気的直列抵抗およびコンデンサのQは、
従来の可動電極部と支持腕部の厚みが等しいものに比べ
て、余り変わらない。
【0037】また、この可変容量コンデンサは、片持梁
部材42の先端部に位置する可動電極部4cの厚みが支
持腕部4bに比べて薄くなっているので、片持梁部材4
2の可動電極部4cの先端質量が小さくなり、かつ、支
持腕部4bのバネ定数即ち剛性が大きくなっているの
で、機械的共振周波数が大きくなる。また、支持腕部4
b’の厚みが大きくなっているので、バネ定数が大きく
なって、従来と同一の電圧を印加すると、片持梁部材4
2の変位は小さくなって、容量変化も小さくなるが、直
流の高電圧を印加することにより従来と同一の容量変化
を得ることができる。
【0038】つぎに、図10において、支持腕部4bの
厚みtを種々変えた場合の機械的共振周波数の変化を表
1に示す。なお、片持梁部材4および固定電極2の幅
(図10において奥行き)は500μmである。
【0039】
【表1】
【0040】この表1により、支持腕部4bの厚みtが
可動電極部4cの厚みに比較して相対的に薄い場合に
は、機械的共振周波数が小さくなり、大きい場合には、
機械的共振周波数が大きくなることが理解できる。な
お、表1において、t=2.0μmの場合は、可動電極
部4cの厚みと支持腕部4bの厚みが同一の場合を示し
ている。
【0041】(製造方法の実施例1)つぎに、本発明の
可変容量コンデンサの第1実施例の製造方法について図
2から図6を参照して説明する。
【0042】図2において、石英(SiO2)よりなる
絶縁基板1上に、チタン(Ti)を500オンク゛ストロ-ムの
厚みに、その後、金(Au)を0.3μmの厚みに順次
蒸着して成膜する。フォトレジストを固定電極2の形状
にパターンニング後、このフォトレジストをマスクとし
て上層のAu膜の不要部分を王水で、下層のTi膜の不
要部分をフッ酸でそれぞれエッチング除去して矩形状の
固定電極2を形成する。 図3において、絶縁基板1と
固定電極2の上に酸化亜鉛(ZnO)をスパッタリング
により成膜する。フォトレジストを犠牲層3の形状にパ
ターンニング後、このフォトレジストをマスクとしてZ
nO膜の不要部分をリン酸、硝酸および水の混合溶液で
エッチング除去して犠牲層3を形成する。この犠牲層3
は、固定電極2の上と、この固定電極2の一辺を越えた
基板1の上の一部分にも形成されている。
【0043】図4において、絶縁基板1および犠牲層3
の上にアウミニウム(Al)をスパッタリングまたは蒸
着により成膜する。フォトレジストを片持梁部材4の形
状にパターニング後、このフォトレジストをマスクとし
てAl膜の不要部分をイオンミルまたはRIE(反応性
イオンエッチング)により除去して、片持梁部材4を形
成する。この片持梁部材4は、犠牲層3の上に設けた可
動電極部4cと、犠牲層3に添着したように設けた支持
腕部4bと、絶縁基板1の上に設けた支持基部4aとで
形成されている。
【0044】図5において、絶縁基板1と片持梁部材4
との上に、支持基部4aと可動電極部4c上に窓を有す
るレジストをパターニングする。このレジストをマスク
として蒸着によりAlを成膜し、前記窓を通してAlが
堆積されて厚みを増した支持基部4a’と可動電極4
c’を形成する。そして、不要なレジストとその上のA
l膜をリフトオフにより除去する。
【0045】なお、このリフトオフの他に、片持梁部材
4を全体に厚く形成して、支持腕部4bに窓を有するレ
ジストマスクを形成して、この窓を通してイオンミルあ
るいはRIEにより支持腕部4bを薄くドライエッチン
グしてもよい。
【0046】図6において、基板1全体を濃硝酸中に浸
漬してZnOからなる犠牲層3をエッチング除去し、犠
牲層3の後に空隙gの形成された本実施例の可変コンデ
サを得る。このとき、Alは硝酸と反応して不動体を形
成するためエッチングされない。また、60℃のアセチ
ルアセトンの溶液を用いれば、Alを全く溶解すること
なく、ZnOのみをエッチング除去することができる。
【0047】本実施例の製造方法は、犠牲層3をエッチ
ングして、この後に空隙gを形成し、支持腕部4bに比
べて厚みの厚い支持基部4a’および可動電極部4c’
からなる片持梁部材41を形成することができる。
【0048】(構造の実施例2)つぎに、本発明の第2
実施例の可変容量コンデンサの構造について、図7を参
照して説明する。
【0049】絶縁基板1にコンデンサの一方電極となる
固定電極2が形成される。この固定電極2に対してコン
デンサの他方電極となる可動電極部4cが空隙gを介し
て対向配置される。この可動電極部4cは支持腕部4
b’を介して支持基部4a’により絶縁基板1に固定さ
れる。この場合、支持基部4a’および支持腕部4b’
の厚みは、可動電極部4cの厚みより厚く形成される。
そして、支持基部4a’、支持腕部4b’および可動電
極部4cは、片持梁部材42を形成する。
【0050】この可変容量コンデンサは、固定電極2と
片持梁部材42との間に印加した直流電圧または交流電
圧の静電吸引力により、可動電極部4cと固定電極2と
の空隙gを変えて、可動電極部4cと固定電極2との間
に形成される容量を変えるものである。
【0051】また、この可変容量コンデンサにおいて
は、可動電極部4cはその厚みが支持基部4a’および
支持腕部4b’に比べて薄くてその抵抗値は大きいが、
支持基部4a’および支持腕部4b’の厚みが可動電極
部4cに比べて厚くて、その抵抗値が小さいので、片持
梁部材42の電気的直列抵抗およびコンデンサのQは、
従来の可動電極部と支持腕部の厚みが等しいものに比べ
て、余り変わらない。
【0052】また、この可変容量コンデンサは、片持梁
部材42の先端部に位置する可動電極部4cの厚みが支
持腕部4bに比べて薄くなっているので、片持梁部材4
2の可動電極部4cの先端質量が小さくなり、かつ、支
持腕部4bのバネ定数即ち剛性が大きくなっているの
で、機械的共振周波数が大きくなる。また、支持腕部4
b’の厚みが大きくなっているので、バネ定数が大きく
なって、従来と同一の電圧を印加すると、片持梁部材4
2の変位は小さくなって、容量変化も小さくなるが、高
電圧を印加することにより従来と同一の容量変化を得る
ことができる。
【0053】(製造方法の実施例2)つぎに、本発明の
可変容量コンデンサの第2実施例の製造方法について図
8および図9を参照して説明する。
【0054】本実施例の製造方法は、第1実施例の製造
方法における第1工程(図2)〜第3工程(図4)を同
一にするので、その説明を援用する。
【0055】図4において、絶縁基板1と片持梁部材4
との上に、支持基部4aと支持腕部4b上に窓を有する
レジストをパターニングする。このレジストをマスクと
して蒸着によりAlを成膜し、図8に示すように、前記
窓を通してAlが堆積されて厚みを増した支持基部4
a’と支持腕部4b’を形成する。そして、不要なレジ
ストとその上のAlをリフトオフにより除去する。
【0056】なお、このリフトオフの他に、片持梁部材
4を全体に厚く形成して、可動電極部4cに窓を有する
レジストマスクを形成して、この窓を通してイオンミル
あるいはRIEにより可動電極部4cを薄くエッチング
してもよい。
【0057】図9において、基板1全体をを濃硝酸中に
浸漬してZnOからなる犠牲層3をエッチング除去し、
犠牲層3の後に空隙gの形成された本実施例の可変コン
デサを得る。
【0058】以上のように、本実施例の製造方法は、図
8に示す工程において、支持基部4aと支持腕部4bの
上に窓を有するレジストマスクを形成し、この窓を通し
てアルミニウムを堆積するので、可動電極部4cに比べ
て支持基部4a’および支持腕部4b’の厚みの厚い片
持梁部材42を形成することができる。
【0059】(製造方法の第3実施例)本発明に係る可
変容量コンデンサの製造方法としては、上記製法の他
に、図4において、支持基部4a、支持腕部4bおよび
可動電極部4cからなる片持梁部材4を設計上の最大値
の厚さに形成した後、可動電極部4cまたは支持腕部4
bを周知のエッチング技術を用いて選択的にエッチング
して、これらの部分の厚みを薄く形成してもよい。
【0060】(周波数設定方法の実施例)本発明の可変
容量コンデンサの機械的共振周波数設定方法について説
明する。ギガヘルツ(GHz)台の高周波の回路、例えば、
高周波発振回路に用いる可変容量コンデンサは、コンデ
ンサの電気的Qが高い方が高周波回路のQを低下させな
いためには好ましい。また、可動電極部を有する可変容
量コンデンサは、その機械的共振周波数が高い方が可変
容量コンデンサの動作周波数の適用領域を広げる観点か
ら望ましい。
【0061】可変容量コンデンサの電気的Qは、コンデ
ンサの静電容量と端子間抵抗により求められる。この静
電容量は、例えば図1において、固定電極2と可動電極
部4c’の対向面積と両者間の空隙gに依存し、また、
端子間抵抗は、固定電極2および片持梁部材41の電気
抵抗、特に、固定電極2に比べて長く構成されている片
持梁部材41の電気抵抗に依存している。片持梁部材4
1の電気抵抗は、可動電極部4c’の電気抵抗、支持腕
部4bの電気抵抗および支持基部4a’の電気抵抗が直
列に接続された抵抗と考えることができ、可動電極部4
c’、支持腕部4b、支持基部4a’の厚みを変更する
ことにより変えることができる。可動電極部、支持腕部
の厚みを厚く構成するとそれらの電気抵抗は小さくな
り、逆に厚みを薄くすると電気抵抗は大きくなる。
【0062】可変容量コンデンサを設計する場合には、
コンデンサの初期容量(可変操作開始前の容量)および
コンデンサの容積が優先的に決められる。従って、可動
電極部4c’の面積および支持腕部4bの長さを変更要
素とすることは考慮されない。このため、片持梁部材4
1の機械的共振周波数は、主に可動電極部4c’と支持
腕部4bの厚みに依存して決められる。一方、コンデン
サの電気的Qを重視する観点からは、片持梁部材41の
電気抵抗を大幅に変えることは好ましくなく許容値の範
囲内に維持することが必要になる。
【0063】片持梁部材41の機械的共振周波数は、可
動電極部4c’と支持腕部4bの質量に比例する。従っ
て、可動電極部4cと支持腕部4bの何れか一方または
双方の厚みを可変要素とすれば、機械的共振周波数を変
えることができる。また、片持梁部材41の機械的共振
周波数は、支持腕部4bの厚みに比例する。従って、支
持腕部の厚みを可変要素とすれば、機械的共振周波数を
変えることができる。上述の考察に基づいて、可動電極
部4c’と支持腕部4bの厚みを相対的に変えることに
より、コンデンサの電気的Qを許容値の範囲に維持しつ
つ、片持梁部材41の機械的共振周波数を所定の周波数
に定めることができる。ここで、相対的とは、可動電極
部4c’と支持腕部4bの厚みが同一でないことをい
い、換言すれば、一方から見ると他方は厚く、他方から
見ると一方は薄い関係にあることをいう。
【0064】更に、可変容量コンデンサの設計には、片
持梁部材41のバネ定数が考慮される。このバネ定数
は、支持腕部4bの厚みに依存している。支持腕部4b
の厚みを次第に薄くするとバネ定数は小さくなり、逆
に、支持腕部4bの厚みを次第に厚くするとバネ定数は
次第に大きくなる。従って、固定電極2と片持梁部材4
1の間に印加する直流電圧を低くする場合は、支持腕部
4bの厚みを薄く構成することが必要である。また、図
7に示すように、支持腕部4bのバネ定数が大きい場合
には、可動電極部4cを変位させるために固定電極2と
片持梁部材42の間に大きな直流電圧の印加が必要にな
る。
【0065】実際の可変容量コンデンサの設計には、上
述の種々の制約を考慮して、図1に示すように、片持梁
部材41の厚み、特に、可動電極部4cと支持腕部4b
の厚みの設計上の上限と下限、つまり最大許容値と最小
許容値を定める。この上限と下限の間の厚みが可動電極
部4c’と支持腕部4bの厚みを定める許容範囲とな
り、この許容範囲には、図13に示すように可動電極部
13cと支持腕部13bの厚みが等しいものが存在す
る。
【0066】従って、可動電極部4cと支持腕部4bの
厚みを相対的に変える方法には、第1に、可動電極部4
cと支持腕部4bの設計上の下限の厚みから可動電極部
4cまたは支持腕部4bの厚みを厚く形成する方法、第
2に、可動電極部4cと支持腕部4bの設計上の上限の
厚みから可動電極部4cと支持腕部4bの厚みを択一的
に薄く加工する方法、第3に、可動電極部4cと支持腕
部4bの標準の厚みから一方を薄く構成し他方を厚く構
成する方法がある。
【0067】つぎに、可変容量コンデンサの具体的な機
械的共振周波数設定方法を述べる。図4において、片持
梁部材4の厚みを設計上の最大許容値に形成する。この
後、可変容量コンデンサの使用周波数に応じて、図11
に示すような実測グラフを参照しながら、例えば、エッ
チング技術などにより、支持腕部4bの厚みを薄く加工
するか、または、可動電極部4cの厚みを薄く加工する
ことにより、所期の機械的共振周波数を有する可変容量
コンデンサを得る。
【0068】また、図4において、片持梁部材4の可動
電極部4cと支持腕部4bの厚みを設計上の最小許容値
に形成する。この後、可変容量コンデンサの使用周波数
に応じて、図11に示すような実測グラフを参照しなが
ら、例えば、蒸着、スパッタリング、メッキなどによ
り、支持腕部4bの厚みを厚く加工するか、または、可
動電極部4cの厚みを厚く加工することにより、所期の
機械的共振周波数を有する可変容量コンデンサを得る。
【0069】上述の方法に於いて、図1に示すように、
支持腕部4bの厚みを薄くすると可動電極部4c’の厚
みは相対的に厚くなる。支持腕部4bの厚みを薄く構成
すると、支持腕部4bの電気抵抗が大きくなると共にバ
ネ定数が小さくなり、また、図11に示すように、片持
梁部材41の機械的共振周波数は低くなる。図1に示す
ように、可動電極部4c’の相対的に厚い厚みは、可動
電極部4c’の電気抵抗を小さくし支持腕部4bに於け
る電気抵抗の増大を補うことになると共に可動電極4
c’の質量を増大して機械的共振周波数を低下させる。
つまり、図12における機械的共振周波数fo を低い方
(図の左側)に移行し、可変容量コンデンサの動作周波
数の適用範囲fを狭める。
【0070】一方、図7に示すように、支持腕部4b’
の厚みを厚くすると可動電極部4cの厚みは相対的に薄
く構成される。支持腕部4b’の厚みを厚く構成する
と、支持腕部4b’の電気抵抗が小さくなると共にバネ
定数が大きくなり、図11に示すように、片持梁部材4
2の機械的共振周波数は高くなる。図7に示すように、
可動電極部4cが支持腕部4b’より薄い厚みは、可動
電極の質量を減少して機械的共振周波数を大きくする。
つまり、図12における機械的共振周波数fo を高い方
(図の右側)に移行し、可変容量コンデンサの動作周波
数の適用範囲fを拡大する。
【0071】上述の構成により、可変容量コンデンサの
機械的共振周波数を変えて、可変容量コンデンサの設計
の自由度を向上させることができる。
【0072】なお、この可変容量コンデンサの機械的共
振周波数の設定方法は、片持梁部材を作成後、その機械
的共振周波数が目的とする機械的共振周波数からずれて
いた場合の機械的共振周波数の調整方法としても適用さ
れる。
【0073】
【発明の効果】請求項1記載の発明は、可動電極部また
は支持腕部の厚みを相互に違う厚味にしたので、コンデ
ンサの電気的Qを、支持腕部および可動電極部の厚みが
同一のものに比べて余り変えずに維持することができ
る。また、コンデンサの電気的Qを維持しつつ機械的共
振周波数を変えることができる。したがって、可変容量
コンデンサの用途に応じて動作周波数の適用範囲を決め
ることができる。
【0074】請求項2記載の発明は、支持腕部の厚みに
比べて可動電極部の厚みが大きくなっているので、片持
梁部材の電気的直列抵抗およびコンデンサの電気的Qは
余り変わらずに、機械的共振周波数が低くなる。また、
低電圧駆動が可能で、片持梁部材の変位も大きく、容量
変化を大きくなる。
【0075】請求項3記載の発明は、支持腕部の厚みに
比べて可動電極部の厚みが小さくなっているので、片持
梁部材の電気的直列抵抗および電気的Qを余り変えず
に、機械的共振周波数を高くすることができる。
【0076】請求項4記載の発明は、支持腕部の厚みに
対し可動電極部の厚みを厚く形成する。これにより、電
気的直列抵抗および電気的Qを余り変えることなく、機
械的共振周波数を小さくすることができる。
【0077】請求項5記載の発明は、可動電極部の厚み
に対し支持腕部の厚みを厚く形成する。これにより、電
気的直列抵抗およびコンデンサの電気的Qを余り変える
ことなく、機械的共振周波数を大きくすることができ
る。
【0078】請求項6記載の方法を採用することによ
り、可変容量コンデンサの電気的Qを大きく変えること
なく、可変容量コンデンサの機械的共振周波数を設定な
いし調整すりことができ、これにより可変容量コンデン
サの動作周波数の利用領域を変えることができる。ま
た、機械的共振周波数設定手段としては、片持梁部材の
可動電極と支持腕部の厚みを変更要素として用いるの
で、用途に応じて可変容量コンデンサの機械的共振周波
数を高低いずれにも設定ないし調整することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の可変容量コンデンサの第1実施例の
斜視図
【図2】 本発明の可変容量コンデンサの製造方法の第
1実施例において、絶縁基板に固定電極を形成する工程
【図3】 同じく、固定電極およびその周囲の絶縁基板
に犠牲層を形成する工程図
【図4】 同じく、犠牲層および絶縁基板上に、膜形成
手段により、可動電極部、支持腕部および支持基部より
なる支持梁部材を形成する工程図
【図5】 同じく、膜形成手段により支持基部および可
動電極部の厚みを厚くする工程図
【図6】 同じく、基板全体をエッチング液に浸漬して
犠牲層を除去し、その後に空隙を形成する工程図
【図7】 本発明の可変容量コンデンサの第2実施例の
斜視図
【図8】 本発明の可変容量コンデンサの製造方法の第
2実施例において、膜形成手段により支持基部および支
持腕部の厚みを厚くする工程図
【図9】 同じく、基板全体をエッチング液に浸漬して
犠牲層を除去し、その後に空隙を形成する工程図
【図10】 本発明の可変容量コンデンサの製造方法に
おいて、支持腕部の厚みtを変えた場合の具体例を示す
【図11】 同じく、支持腕部の厚みtに対する機械的
共振周波数の特性図
【図12】 同じく、機械的共振周波数に対する振幅の
特性図
【図13】 従来の可変容量コンデンサの形態図
【符号の説明】
1 絶縁基板 2 固定電極 3 犠牲層 4、41、42 片持梁部材 4a、4a’ 支持基部 4b、4b’ 支持腕部 4c、4c’ 可動電極部 g 空隙

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基板に一方電極となる固定電極が形
    成され、この固定電極に対して他方電極となる可動電極
    部が空隙を介して対向配置され、この可動電極部は支持
    腕部を介して支持基部により前記絶縁基板に支持固定さ
    れ、前記固定電極と前記可動電極部との間に印加した電
    圧により前記可動電極部を変位させて可変容量を得るよ
    うにした可変容量コンデンサにおいて、 前記可動電極部の厚みと前記支持腕部の厚みを相互に違
    う厚みに構成したことを特徴とする可変容量コンデン
    サ。
  2. 【請求項2】 前記支持腕部の厚みに対して、前記可動
    電極部の厚みを厚く構成したことを特徴とする請求項1
    記載の可変容量コンデンサ。
  3. 【請求項3】 前記支持腕部の厚みに対して、前記可動
    電極部の厚みを薄く構成したことを特徴とする請求項1
    記載の可変容量コンデンサ。
  4. 【請求項4】 絶縁基板に固定電極を形成し、前記固定
    電極表面と該固定電極に連なる前記絶縁基板の一部表面
    に跨って犠牲層を形成し、 支持基部、支持腕部、および可動電極部の各部分からな
    る金属の片持梁部材であって、該支持基部を前記絶縁基
    板表面に形成し、前記可動電極部が前記固定電極表面に
    対向するように、該支持腕部および該可動電極部を前記
    犠牲層上に形成し、つぎに前記片持梁部材の前記可動電
    極部と前記支持腕部のいずれか一方の露出表面に金属を
    堆積して該一方の厚みを他方の厚みに比べて厚く形成
    し、 その後、前記犠牲層をエッチングして除去することを特
    徴とする可変容量コンデンサの製造方法。
  5. 【請求項5】 絶縁基板に固定電極を形成し、前記固定
    電極表面と該固定電極に連なる前記絶縁基板の一部表面
    に跨って犠牲層を形成し、 支持基部、支持腕部、および可動電極部の各部分からな
    る金属の片持梁部材であって、該支持基部を前記絶縁基
    板表面に形成し、前記可動電極部が前記固定電極表面に
    対向するように、該支持腕部および該可動電極部を前記
    犠牲層上に形成し、つぎに前記片持梁部材の前記可動電
    極部と前記支持腕部のいずれか一方をエッチングして該
    一方の厚みを他方の厚みに比べて薄く形成し、 その後、前記犠牲層をエッチングして除去することを特
    徴とする可変容量コンデンサの製造方法。
  6. 【請求項6】 絶縁基板に固定電極が形成され、この固
    定電極に対し可動電極部が空隙を介して対向配置され、
    この可動電極部は支持腕部を介して支持基部により前記
    絶縁基板に支持固定され、前記可動電極部、支持腕部お
    よび支持基部は片持梁部材を構成し、前記固定電極と前
    記片持梁部材との間に印加した電圧により、前記可動電
    極部を変位させて可変容量を得るようにした可変容量コ
    ンデンサであって、 前記可動電極部と前記支持腕部の厚みを相対的に変える
    ことにより、前記片持梁部材の機械的共振周波数を定め
    ることを特徴とする可変容量コンデンサの機械的共振周
    波数設定方法。
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