JPH1041682A - Adhesive film having shielding effect and transparency for electromagnetic wave, and display and electromagnetic wave shielding configuration using the film - Google Patents

Adhesive film having shielding effect and transparency for electromagnetic wave, and display and electromagnetic wave shielding configuration using the film

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JPH1041682A
JPH1041682A JP2457597A JP2457597A JPH1041682A JP H1041682 A JPH1041682 A JP H1041682A JP 2457597 A JP2457597 A JP 2457597A JP 2457597 A JP2457597 A JP 2457597A JP H1041682 A JPH1041682 A JP H1041682A
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adhesive
transparency
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adhesive film
electromagnetic wave
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JP2457597A
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Akishi Nakaso
Atsushi Takahashi
Minoru Tosaka
Koichi Tsuyama
Toshishige Uehara
Kazunori Yamamoto
寿茂 上原
昭士 中祖
和徳 山本
宏一 津山
実 登坂
敦之 高橋
Original Assignee
Hitachi Chem Co Ltd
日立化成工業株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive film, which has an excellent shielding effect against electromagnetic wave generated from the while surface of display, transparency, as well as transparency, non-visual recognizability and good adhesive characteristics, and a display using this film. SOLUTION: Width of a line constituting a geometric graph drawn with a conductive material on the surface of a clear plastic base material is less than or equal to 40μm, line interval is more than or equal to 200μm, line thickness is less than or equal to 40μm, part or the whole surface of the base material containing the geometric graph is covered with an adhesive, and an adhesive film is obtained which has the transparency and electromagnetic wave shielding effect with the difference in index of refraction less than or equal to 0.14 between the adhesive covering a geometric graph and clear plastic base material or the difference in index of refraction of less than or equal to 0.14 between an adhesive layer and the adhesive covering the geometric graph in the case where the clear plastic base material is laminated with the conductive material through an adhesive layer, and this film is used for display and electromagnetic shielding configuration.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明はCRT、PDP(プラズマ)、液晶、ELなどのディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性と透明性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体に関するものである。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to CRT, PDP (plasma), a liquid crystal, display using the adhesive film and the film has a shielding property and transparency of the electromagnetic wave generated from the display front surface, such as EL, electromagnetic shielding structure it relates.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害(Electr Along with the use of the Related Art In recent years various electric equipment and electronic applications equipment is increased, electromagnetic noise interference (Electr
o-Magnetic Interference;EMI)も増加の一途をたどっている。 o-Magnetic Interference; EMI) have also been increasing. ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズに分けられる。 Noise is divided into roughly the conduction noise radiated noise. 伝導ノイズの対策としては、ノイズフィルタなどを用いる方法がある。 As a measure of the conduction noise, there is a method of using such as noise filter. 一方、放射ノイズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、 On the other hand, as the measure of radiation noise, it is necessary to insulate the electromagnetically space,
筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。 A housing Toka to the metal body or highly conductive material, Toka inserting a metal plate between the circuit board and the circuit board, a method such as winding the cable with a metal foil have been taken. これらの方法では、回路や電源ブロックのEMIシールド効果を期待できるが、CRT、PDPなどのディスプレイ前面より発生するEMIシールド用途としては、不透明であるため適したものではなかった。 In these methods, it can be expected to EMI shielding effect of the circuit and a power supply block, CRT, as the EMI shielding applications generated from the front of the display such as PDP, was not suitable because it is opaque.

【0003】EMIシールド性と透明性を両立させる方法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法(特開平1−27880 As a method to achieve both EMI shielding and transparency, a method of forming a thin film conductive layer by depositing a metal or metal oxide on a transparent substrate (JP-A 1-27880
0号公報、特開平5−323101号公報参照)が提案されている。 0 JP, see Japanese Patent Laid-Open No. 5-323101) it has been proposed. 一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだEMIシールド材(特開平5−327274号公報、 Meanwhile, EMI shielding materials (JP-A 5-327274 discloses embedding a well-conducting fibers on the transparent substrate,
特開平5−269912号公報参照)や金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷したEMIシールド材料(特開昭62−57297号公報、特開平2−5 JP-5-269912 discloses reference) or a metal powder such as EMI shielding material printed directly a transparent substrate conductive resin containing (JP 62-57297, JP-A No. 2-5
2499号公報参照)、さらには、厚さが2mm程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材料(特開平5−283889号公報参照)が提案されている。 See JP 2499), and further, thickness to form a transparent resin layer on a transparent substrate such as polycarbonate of about 2 mm, shielding material (JP-forming a copper mesh pattern by electroless plating thereon 5 see Japanese Patent -283,889) have been proposed.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】EMIシールド性と透明性を両立させる方法として、特開平1−278800 As a method to achieve both EMI shielding and transparent [0005], JP-A-1-278800
号公報、特開平5−323101号公報に示されている透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚(数100Å〜2000Å)にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎるため、1GHzで要求される30d JP, method by depositing a metal or metal oxide on a transparent substrate as shown in JP-A-5-323101 to form a thin film conductive layer, the thickness (number extent that transparency can be achieved since the surface resistance of the conductive layer becomes too large when the 100Å~2000Å), 30d required in 1GHz
B以上のシールド効果に対して20dB以下と不十分であった。 Was 20dB or less and insufficient for the more shield effect B. 良導電性繊維を透明基材に埋め込んだEMIシールド材(特開平5−327274号公報、特開平5− Highly conductive fibers EMI shielding material embedded in a transparent substrate (Japanese Patent Laid-Open 5-327274, JP-A No. 5
269912号公報)では、1GHzのEMIシールド効果は40〜50dBと十分大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させるために必要な繊維径が35μmと太すぎるため、繊維が見えてしまい(以後視認性という)ディスプレイ用途には適したものではなかった。 In 269912 JP), EMI shielding effectiveness of 1GHz is large enough and 40~50DB, since the fiber diameter required to rule arranged conductive fibers so as not electromagnetic wave leakage 35μm and too thick, fibers visible it away was not suitable for (hereinafter visibility of) display applications. また、特開昭62−57297号公報、特開平2−52499号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷したEMIシールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からライン幅は、100μm Line addition, JP 62-57297 and JP Similarly for EMI shielding material by printing directly conductive resin on a transparent substrate comprising a metal powder or the like of JP-A-2-52499 and JP-the limitation of the printing accuracy width, 100μm
前後となり視認性が発現するため適したものではなかった。 Was not visibility becomes before and after suitable for expression. さらに特開平5−283889号公報に記載の厚さが2mm程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表面を粗化する必要がある。 Furthermore the thickness described in JP-A-5-283889 discloses to form a transparent resin layer on a transparent substrate such as polycarbonate of approximately 2 mm, with a shielding material obtained by forming a copper mesh pattern by electroless plating thereon, to ensure the adhesion of the electroless plating, it is necessary to roughen the surface of the transparent substrate. この粗化手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、ABS以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難となる。 As the roughening means, generally must be used highly toxic oxidant such as chromic acid or permanganic acid, the method, the resin other than ABS, it is difficult to perform the roughening satisfactory. この方法により、E By this method, E
MIシールド性と透明性は達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、フィルム化には適していない。 MI shielding and transparency even achieved, it is difficult to reduce the thickness of the transparent substrate is not suitable for a film. 透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができないため、そこからの電磁波の漏洩が大きくなる。 When the transparent substrate is thick, can not be brought into close contact with the display, electromagnetic wave leakage therefrom increases. また製造面においては、シールド材料を巻物等にすることができないため嵩高くなることや自動化に適していないために製造コストがかさむという欠点もある。 In the manufacturing, there is also a disadvantage that the manufacturing costly for not suitable for or automated bulk higher it is not possible to shield material roll or the like. ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性については、1GHzにおける30dB以上のEMIシールド機能ばかりでなく、良好な可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる接着性、シールド材の存在を目視で確認することができない特性である非視認性が必要とされる。 Display order The shielding of the electromagnetic waves generated from the display front, not only the EMI shield function described above 30dB in 1 GHz, good visible light transmission, not only further large visible light transmittance, to prevent leakage of electromagnetic waves adhesive which is adhered in close contact with the surface, the non-visibility is a characteristic that can not confirm the presence visually shielding material is required. また、接着性についてはガラスや汎用ポリマー板に対し比較的低温で容易に貼付き、長期間にわたって良好な密着性を有することが必要である。 Further, for adhesion-out easily stuck at a relatively low temperature to the glass and general purpose polymer plate, it is necessary to have good adhesion over a long period of time. しかし、これらの特性を十分に満たすものは得られていなかった。 However, those satisfying these properties sufficiently not been obtained. 本発明はかかる点に鑑み、E In view of the above points, E
MIシールド性と透明性・非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供することを目的とする。 And to provide an adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency with MI shielding and transparent and non-visibility and good adhesion properties.

【0005】 [0005]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載の発明は、EMIシールド性と透明性・非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供するため、(1)透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料において、幾何学図形を構成するライン幅が40μm以下、ライン間隔が200μm以上、ライン厚みが40μm以下で、その幾何学図形を含む基材の一部または全面を接着剤で被覆し、(2)幾何学図形を被覆する接着剤と透明プラスチック基材、または透明プラスチック基材が接着層を介して導電性材料と積層されている場合においては接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の差を0.14以下とするものである。 Means for Solving the Problems The invention described in claim 1 of the present invention, provides an adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency with EMI shielding and transparent and non-visibility and good adhesive properties to, (1) in the material having a geometric figure drawn with a conductive material to the surface of the transparent plastic substrate, line width constituting a geometrical figure is 40μm or less, the line interval is 200μm or more, the line thickness in but 40μm or less, to cover a part or entire surface of the substrate including the geometric shapes with an adhesive, (2) an adhesive and a transparent plastic substrate that covers the geometrical figure or a transparent plastic substrate, the adhesive layer is, it is laminated with a conductive material through is to the difference in refractive index between the adhesive covering the geometric shapes and the adhesive layer 0.14 or less. 請求項2に記載の発明は、透明性、安価、耐熱性良好で取扱性に優れたな電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供するため、透明プラスチック基材をポリエチレンテレフタレートフィルムとするものである。 Invention according to claim 2, transparency, low cost, to provide an adhesive film having excellent Do electromagnetic shielding properties and transparency and heat resistance good handling properties, which the transparent plastic substrate of polyethylene terephthalate film it is. 請求項3に記載の発明は、加工性に優れ、安価でEMIシールド性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供するため、導電性材料の厚みが3〜4 According to a third aspect of the invention, excellent in workability, in order to provide an adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency having excellent EMI shielding inexpensive, the thickness of the conductive material is 3 to 4
0μmの銅、アルミニウムまたはニッケルの金属箔を使用し、透明プラスチック基材への接着面を粗面とするものである。 Use copper 0 .mu.m, a metal foil of aluminum or nickel, it is for the adhesive surface to the transparent plastic substrate and a rough surface. 請求項4に記載の発明は、退色性が小さく、 The invention according to claim 4, fading is small,
コントラストの大きい電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供するため、導電性材料を銅として、少なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とするものである。 To provide an adhesive film having high electromagnetic shielding properties and transparency of the contrast, the conductive material as copper, and is characterized in that at least its surface has been blackened. 請求項5に記載の発明は、加工性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供するため、透明プラスチック基材上の幾何学図形がケミカルエッチングプロセスにより描画されたものであることを特徴とするものである。 The invention according to claim 5, in order to provide an adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and transparency in workability, it geometric shapes on the transparent plastic substrate is one that was drawn by the chemical etching process the one in which the features. 請求項6に記載の発明は、磁場シールド性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供するため、導電性材料を常磁性金属とするものである。 The invention of claim 6 is to provide an adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and transparency to the magnetic field shielding property is for the conductive material and the paramagnetic metal. 請求項7に記載の発明は、上記の電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムをディスプレイに用いたものである。 The invention according to claim 7, electromagnetic waves of the - in which using an adhesive film having a field and transparency in the display. 請求項8に記載の発明は、電磁波を発生する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体に設けて電磁波をシ−ルドすることや電磁波から装置、機器を守るため筐体特に透明性を要求される窓のような部位に設けた電磁波遮蔽構成体である。 The invention according to claim 8 generates an electromagnetic wave measuring apparatus, the electromagnetic wave is provided in the window or housing except the inside of the measuring equipment and manufacturing equipment - equipment since or electromagnetic waves to shield, housing to protect the equipment an electromagnetic wave shielding structure provided on site such as a window is particularly required transparency.

【0006】 [0006]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is described in detail below.
本発明でいう透明プラスチック基材とは、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、EVAなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可視光透過率が70 The transparent plastic substrate in the present invention, polyethylene terephthalate (PET), polyesters such as polyethylene naphthalate, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyolefins such as EVA, polyvinyl chloride, vinyl resins such as polyvinylidene chloride, polysulfone, polyether sulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide, total visible light transmittance in a film of plastic such as acrylic resin 70
%以上のものをいう。 It says% or more of the thing. これらは本発明の目的を妨げない程度に着色していても良く、さらに単層で使うこともできるが、2層以上を組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。 These may be colored to a degree that does not interfere with the object of the present invention, but further may be used in a single layer, it may be used as a multilayer film which combines two or more layers. このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが最も適している。 Among transparency, heat resistance, easy handling, polyethylene terephthalate film is the most suitable in terms of price. この透明プラスチック基材の厚みは、薄いと取扱性が悪く、厚いと可視光の透過率が低下するため5〜200μmが好ましい。 The thickness of the transparent plastic substrate, a thin and handling property is poor, 5 to 200 [mu] m for thick visible light transmittance is reduced is preferred. さらに好ましくは、10〜100μmが、より好ましくは、25〜50 More preferably, 10 to 100 [mu] m is more preferably, 25 to 50
μmである。 It is μm.

【0007】本発明の導電性材料としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の1種または2種以上を組み合わせた合金を使用することができる。 [0007] As the conductive material of the present invention uses copper, aluminum, nickel, iron, gold, silver, stainless steel, tungsten, chromium, one or more combinations alloy of metals such as titanium be able to. 導電性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムまたはニッケルが適しており、厚みが3〜40μmの金属箔であることが好ましい。 Conductivity, ease of circuit processing, copper in terms of price, and aluminum or nickel suitable, preferably has a thickness of metal foil 3~40Myuemu. 厚みが40μm以上では、 The thickness of 40μm or more,
ライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなるためであり、厚みが3μm以下では、表面抵抗が大きくなり、シールド効果に劣るためである。 Or difficult formation of line widths is because the viewing angle is narrowed, the thickness of 3μm or less, the surface resistance increases, because the poor shielding effect. 導電性材料が、銅であり、少なくともその表面が黒化処理されたものであると、コントラストが高くなり好ましい。 Conductive material is a copper and in which at least its surface is blackened, preferably Nari high contrast. また、導電性材料が経時的に酸化され退色されることが防止できる。 The conductive material can be prevented from being over time oxidized fading.
黒化処理は、幾何学図形の形成前後で行えば良いが、通常形成後において、プリント配線板分野で行われている方法を用いて行うことができる。 Blackening treatment may be performed before and after formation of geometric shapes, but after the normal formation can be carried out using methods that are carried out in the printed wiring board art. 例えば、亜塩素酸ナトリウム(31g/l)、水酸化ナトリウム(15g/ For example, sodium chlorite (31 g / l), sodium hydroxide (15 g /
l)、燐酸三ナトリウム(12g/l)の水溶液中、9 l), in an aqueous solution of trisodium phosphate (12g / l), 9
5℃で2分間処理することにより行うことができる。 At 5 ° C. can be carried out by treating 2 minutes. また、導電性材料が、常磁性金属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。 The conductive material is, if it is a paramagnetic metal, preferably for excellent magnetic shielding property. かかる導電性材料を上記プラスチック基材に密着させる方法としては、アクリルやエポキシ系樹脂を主成分とした接着層を介して貼り合わせるのが最も簡便である。 Such a conductive material as a method for adhering to the plastic substrate, it is most convenient for laminating with an adhesive layer mainly composed of acrylic or epoxy resin. 導電層の膜厚を小さくする必要がある場合には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの1または2個以上の方法を組み合わせることにより達成できる。 If you need to reduce the thickness of the conductive layer, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plate method, chemical vapor deposition, of a thin film forming technique such as electroless, electroplating at least 1 or 2 the method can be achieved by combining. 導電性材料の膜厚は、40μm以下のものが適用できるが、薄いほどディスプレイの視野角が広がりEMIシールド材料として好ましく、18μm以下とすることがさらに好ましい。 The film thickness of the conductive material can be applied include the 40μm or less, preferably as an EMI shielding material spread the viewing angle of thinner displays, and even more preferably to a 18μm or less.

【0008】本発明中の幾何学図形とは正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、 [0008] equilateral triangle with geometric shapes in the present invention, isosceles, triangle, such as right-angled triangle, square, rectangular,
ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの(正)n角形、円、だ円、星形などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返しあるいは2 Rhombus, a parallelogram, a square such as trapezoidal, (positive) hexagonal, (positive) octagonal, (positive) dodecagon, (positive) twenty square, such as the (positive) n polygon, circle, ellipse, star a pattern which is a combination of such shapes, repetition or 2 alone of these units
種類以上の組み合わせで使うこともできる。 It can also be used in more types of combination. EMIシールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性からは同一のライン幅なら(正)n角形のn数が大きいほど開口率が上がり可視光透過性が大きくなるので有利である。 Advantageously, but from the standpoint of EMI shielding is most effective triangle, if the same line width (positive) visible light transmission as n n number of rectangular large aperture ratio is increased increases from the visible light transmission it is. このような幾何学図形を描く方法としては、上記導電性材料付きの透明プラスチック基材をケミカルエッチングプロセスによって作製するのが、加工性の点から効果的である。 As a method to draw such a geometrical figure, to produce a transparent plastic substrate with the conductive material by chemical etching process is effective from the viewpoint of processability. その他に、幾何学図形を描いたマスクを用いて透明プラスチック基材上に配した感光性樹脂層を露光、現像し無電解めっきや電気めっきを組み合わせて幾何学図形を形成する方法などがある。 In addition, exposing the photosensitive resin layer disposed on the transparent plastic substrate using a mask drawn geometric shapes, and a method of forming a developed geometric shapes by combining electroless plating and electroplating.

【0009】このような幾何学図形のライン幅は40μ [0009] The line width of such geometric shapes 40μ
m以下、ライン間隔は200μm以上、ライン厚みは4 m or less, the line spacing is 200μm or more, the line thickness 4
0μm以下の範囲とされる。 0μm are the following range. また幾何学図形の非視認性の観点からライン幅は25μm以下、可視光透過率の点からライン間隔は500μm以上、ライン厚み18μm The invisibility of the viewpoint from the line width of the geometrical figure is 25μm or less, a line spacing from the viewpoint of visible light transmittance 500μm or more, the line thickness 18μm
以下がさらに好ましい。 Less is more preferable. ライン間隔は、大きいほど可視光透過率は向上するが、この値が大きくなり過ぎると、 Line spacing is the more visible light transmittance is improved large, if this value is too large,
EMIシールド性が低下するため、1mm以下とするのが好ましい。 Since the EMI shielding property is lowered, preferably to 1mm or less. なお、ライン間隔は、幾何学図形等の組合わせ等で複雑となる場合、繰り返し単位を基準としてその面積を正方形の面積に換算し、その一辺の長さをライン間隔とする。 Incidentally, line spacing, when a complicated combination such as geometric shapes, the areas of the repeating units based in terms of the area of ​​a square, the length of one side thereof and line spacing.

【0010】次にこの幾何学図形を被覆する接着剤は前述した透明プラスチック基材との屈折率の差が0.14 [0010] Next the difference in refractive index between the transparent plastic substrate adhesive described above covering the geometric figure 0.14
以下とされる。 It is following. また透明プラスチック基材が接着層を介して導電性材料と積層されている場合においては、接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の差が0. In the case where the transparent plastic substrate is laminated with a conductive material through the adhesive layer, the difference in refractive index between the adhesive covering the adhesive layer and the geometric figure is 0.
14以下とされる。 It is 14 or less. これは、透明プラスチック基材と接着剤の屈折率、または接着剤と接着層の屈折率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率の差が0.14以下であると可視光透過率の低下が少なく良好となる。 This is the refractive index of the transparent plastic substrate and the adhesive, or the refractive index of the adhesive and the adhesive layer are different is because the visible light transmittance decreases, the difference in the refractive index is 0.14 or less visible decrease in the light transmittance is less favorable. そのような要件を満たす接着剤の材料としては、透明プラスチック基材がポリエチレンテレフタレート(n=1.575;屈折率)の場合、ビスフェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂(いずれも屈折率が1.55〜1.60)を使うことができる。 As a material of the adhesive satisfying such requirements, a transparent plastic substrate is polyethylene terephthalate; in the case of (n = 1.575 refractive index), bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resins, tetra-hydroxyphenyl methane type epoxy resin , novolak type epoxy resins, resorcin type epoxy resins, polyalcohol polyglycol type epoxy resins, polyolefin type epoxy resins, alicyclic or epoxy resin (both refractive index 1.55 to 1.60), such as halogenated bisphenol can use it can. エポキシ樹脂以外では天然ゴム(n Natural rubber other than epoxy resin (n
=1.52)、ポリイソプレン(n=1.521)、ポリ1,2− = 1.52), polyisoprene (n = 1.521), poly 1,2
ブタジエン(n=1.50)、ポリイソブテン(n=1.505〜 Butadiene (n = 1.50), polyisobutene (n = 1.505~
1.51)、ポリブテン(n=1.5125)、ポリ−2−ヘプチル−1,3−ブタジエン(n=1.50)、ポリ−2−t− 1.51), polybutene (n = 1.5125), poly-2-heptyl-1,3-butadiene (n = 1.50), poly -2-t-
ブチル−1,3−ブタジエン(n=1.506)、ポリ−1, Butyl-1,3-butadiene (n = 1.506), poly-1,
3−ブタジエン(n=1.515)などの(ジ)エン類、ポリオキシエチレン(n=1.4563)、ポリオキシプロピレン(n=1.4495)、ポリビニルエチルエーテル(n=1.45 (Di) enes such as 3-butadiene (n = 1.515), polyoxyethylene (n = 1.4563), polyoxypropylene (n = 1.4495), polyvinyl ethyl ether (n = 1.45
4)、ポリビニルヘキシルエーテル(n=1.4591)、ポリビニルブチルエーテル(n=1.4563)などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート(n=1.4665)、ポリビニルプロピオネート(n=1.4665)などのポリエステル類、ポリウレタン(n=1.5〜1.6)、エチルセルロース(n=1.479)、ポリ塩化ビニル(n=1.54〜1.55)、ポリアクリロニトリル(n=1.52)、ポリメタクリロニトリル(n=1.52)、ポリスルホン(n=1.633)、ポリスルフィド(n=1.6)、フェノキシ樹脂(n=1.5〜1.6) 4), polyvinyl hexyl ether (n = 1.4591), polyethers such as polyvinyl butyl ether (n = 1.4563), polyvinyl acetate (n = 1.4665), polyesters such as polyvinyl propionate (n = 1.4665), polyurethane (n = 1.5-1.6), ethyl cellulose (n = 1.479), polyvinyl chloride (n = from 1.54 to 1.55), polyacrylonitrile (n = 1.52), polymethacrylonitrile polyacrylonitrile (n = 1.52), polysulfone (n = 1.633), polysulfide (n = 1.6), a phenoxy resin (n = 1.5 to 1.6)
などを挙げることができる。 And the like. これらは、好適な可視光透過率を発現する。 It expresses a suitable visible light transmittance.

【0011】一方、透明プラスチック基材がアクリル樹脂の場合、上記の樹脂以外に、ポリエチルアクリレート(n=1.4685)、ポリブチルアクリレート(n=1.46 Meanwhile, if the transparent plastic substrate is an acrylic resin, in addition to the aforementioned resins, polyethyl acrylate (n = 1.4685), polybutyl acrylate (n = 1.46
6)、ポリ−2−エチルヘキシルアクリレート(n=1.46 6), poly-2-ethylhexyl acrylate (n = 1.46
3)、ポリ−t-ブチルアクリレート(n=1.4638)、ポリ−3−エトキシプロピルアクリレート(n=1.465)、 3), poly -t- butyl acrylate (n = 1.4638), poly-3-ethoxypropyl acrylate (n = 1.465),
ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート(n=1.46 Poly oxycarbonyl tetramethacrylate (n = 1.46
5)、ポリメチルアクリレート(n=1.472〜1.480)、ポリイソプロピルメタクリレート(n=1.4728)、ポリドデシルメタクリレート(n=1.474)、ポリテトラデシルメタクリレート(n=1.4746)、ポリ−n−プロピルメタクリレート(n=1.484)、ポリ−3,3,5−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート(n=1.484)、ポリエチルメタクリレート(n=1.485)、ポリ−2−ニトロ−2−メチルプロピルメタクリレート(n=1.4868)、 5), polymethyl acrylate (n = 1.472-1.480), poly isopropyl methacrylate (n = 1.4728), poly dodecyl methacrylate (n = 1.474), poly tetradecyl methacrylate (n = 1.4746), poly -n- propyl methacrylate (n = 1.484), polymethyl -3,3,5-trimethyl cyclohexyl methacrylate (n = 1.484), polyethyl methacrylate (n = 1.485), poly-2-nitro-2-methylpropyl methacrylate (n = 1.4868),
ポリテトラカルバニルメタクリレート(n=1.4889)、 Polytetramethylene carba sulfonyl methacrylate (n = 1.4889),
ポリ−1,1−ジエチルプロピルメタクリレート(n= Poly-1,1-diethyl-propyl methacrylate (n =
1.4889)、ポリメチルメタクリレート(n=1.4893)などのポリ(メタ)アクリル酸エステルが使用可能である。 1.4889), poly (meth) acrylic acid esters such as polymethyl methacrylate (n = 1.4893) can be used. これらのアクリルポリマーは必要に応じて、2種以上共重合してもよいし、2種類以上をブレンドして使うこともできる。 These acrylic polymers are optionally may be copolymerized or two or more kinds may be used by blending two or more kinds.

【0012】さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使うこともできる。 Furthermore acrylic resin and epoxy acrylate as copolymer resins with other acrylic, urethane acrylates, polyether acrylates, may also be used, such as polyester acrylates. 特に接着性の点から、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、1,6 Particularly from the viewpoint of adhesiveness, epoxy acrylate, polyether acrylate is excellent, as the epoxy acrylates, 1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げられる。 - hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, allyl alcohol diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether, diglycidyl adipate, diglycidyl phthalate, polyethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, (meth) acrylic acid adduct of sorbitol tetraglycidyl ether. エポキシアクリレートは分子内に水酸基を有するため接着性向上に有効であり、これらの共重合樹脂は必要に応じて、2種以上併用することができる。 Epoxy acrylate is effective in improving adhesion for having a hydroxyl group in the molecule, these copolymer resins as needed, can be used in combination of two or more. 接着剤の主成分となるポリマーの重量平均分子量は、1,000以上のものが使われる。 The weight average molecular weight of the main component of the adhesive polymers, 1,000 or more of is used. 分子量が1,0 Molecular weight is 1,0
00以下だと組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下する。 Adhesion to an adherend is lowered to 00 that it follows cohesion of the composition is too low.

【0013】接着剤の硬化剤としてはトリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、エチルメチルイミダゾールなどを使うことができる。 [0013] triethylenetetramine as a curing agent for the adhesive, xylene diamine, amines such as diaminodiphenylmethane, phthalic anhydride, maleic anhydride, dodecyl succinic anhydride, pyromellitic acid anhydride, acid such as anhydrous benzophenone tetracarboxylic acid anhydride can be used diaminodiphenylsulfone, tris (dimethylaminomethyl) phenol, polyamide resin, dicyandiamide, and ethyl methyl imidazole. これらは単独で用いてもよいし、2種以上混合して用いてもよい。 These may be used alone or may be used in combination of two or more. これらの架橋剤の添加量は上記ポリマー100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましくは1〜30重量部の範囲で選択するのがよい。 The amount of the crosslinking agent is 0.1 to 50 parts by weight relative to the polymer 100 parts by weight, and it is preferably selected in the range of 1 to 30 parts by weight. この添加量が、0.1 The amount of this addition, 0.1
重量部未満であると硬化が不十分となり、50重量部を越えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。 Curing is less than parts by weight is insufficient, excessively crosslinking exceeds 50 parts by weight, it may adversely affect the adhesive properties. 本発明で使用する接着剤の樹脂組成物には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。 The present invention as necessary to the resin composition of the adhesive used, the diluent, a plasticizer, an antioxidant, may be added additives such as fillers and tackifiers. そして、この接着剤の樹脂組成物は、透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料の基材の一部または全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱硬化工程をへたのち、本発明に係る接着フィルムにする。 Then, the resin composition of the adhesive, in order to cover a portion or the entire surface of the substrate of the material in which a geometrical figure drawn with a conductive material to the surface of the transparent plastic substrate is coated, solvent drying, after f the heat-hardening step, to the adhesive film according to the present invention. 上記で得られた電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムは、該接着フィルムの接着剤によりCRT、PDP、液晶、ELなどのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリル板、ガラス板等の板やシートに貼り付けてディスプレイに使用する。 Electromagnetic wave obtained by the above sheet - adhesive film having field resistance and transparency, CRT by an adhesive of the adhesive film, PDP, liquid crystal, or use paste directly display such as EL, an acrylic plate, a glass plate or the like It is used to display and paste it into the plate or sheet. また、この接着フィルムは、電磁波を発生する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞくための窓や筐体に上記と同様にして使用する。 Further, the adhesive film generates an electromagnetic wave measuring apparatus, used in the same manner as described above in the window and the housing for excluding internal measuring instruments and manufacturing equipment. さらに、電波塔や高圧線等により電磁波障害を受ける恐れのある建造物の窓や自動車の窓等に設ける。 Further, it provided in a window or car windows of a building that may undergo electromagnetic interference by radio tower high voltage cable or the like. そして、導電性材料で描かれた幾何学図形にはアース線を設けることが好ましい。 Then, it is preferable to provide the ground wire to the geometrical figure drawn with a conductive material.

【0014】本発明は、透明プラスチック基材上の導電性材料が除去された部分は密着性向上のために意図的に凹凸を有していたり、導電性材料の背面形状を転写したりするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわれるが、その凹凸面に透明プラスチック基材と屈折率が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さえられ、透明性が発現するようになる。 The present invention, conductive material is removed portion on the transparent plastic substrate or had intentionally irregularities in order to improve adhesion, to or transferred back shape of the conductive material the light is scattered by the surface, but the transparency is impaired, the transparent plastic substrate on uneven surface and a refractive index close resin is applied to smooth irregular reflection is minimized, it is expressed transparency so as to. さらに透明プラスチック基材上の導電性材料で描写された幾何学図形は、 Further geometrical figure is depicted a conductive material on a transparent plastic substrate,
ライン幅が非常に小さいため肉眼で視認されない。 The line width is not visible to the naked eye so small. またピッチも十分に大きいため見掛け上透明性を発現すると考えられる。 Also believed to express the on transparency apparent for pitch even large enough. 一方、遮蔽すべき電磁波の波長に比べて、 On the other hand, compared to the wavelength of the electromagnetic wave to be shielded,
幾何学図形のピッチは十分に小さいため、優れたシールド性を発現すると考えられる。 Since the pitch of the geometrical figure is much smaller, it is believed to express the excellent shielding property.

【0015】 [0015]

【実施例】 【Example】

(実施例) <接着フィルム1の作製例>透明プラスチック基材として厚さ50μmの透明PETフィルム(屈折率n=1. (Example) transparent PET film having a thickness of 50μm as a transparent plastic substrate <Preparation Example of adhesive film 1> (refractive index n = 1.
575)を用い、その上に接着層となるエポキシ系接着シート(ニカフレックスSAF;ニッカン工業(株) With 575), an epoxy-based adhesive sheet comprising an adhesive layer thereon (NIKAFLEX SAF; Nikkan Kogyo Co.,
製、n=1.58)を介して導電性材料である厚さ18 Ltd., n = 1.58) is an electrically conductive material through a thickness 18
μmの電解銅箔の粗化面がエポキシ系接着シート側になるようにして、180℃、30kgf/cm 2の条件で加熱ラミネートして接着させた。 roughened surface of electrolytic copper foil μm is set to be the epoxy adhesive sheet side was 180 ° C., allowed to adhere by heating the laminate under the conditions of 30 kgf / cm 2. 得られた銅箔付きPE The resulting copper foil PE
Tフィルムにフォトリソ工程(レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離)を経て、ライン幅25μm、ライン間隔500μ Photolithography to T film (resist film sticking - exposure - development - chemical etching - resist film peeling) via a line width 25 [mu] m, line spacing 500μ
mの銅格子パターンの幾何学図形をPETフィルム上に形成し構成材料1を得た。 The geometric shapes of the copper grid pattern of m to obtain a structure material 1 formed on the PET film. この構成材料1上に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約40μmになるように塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム1 Applied to the adhesive dry coating thickness of below on the construction material 1 is about 40 [mu] m, the adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency and dried 1
を得た。 It was obtained. そして、接着フィルム1をロールラミネータを使用し市販のアクリル板(コモグラス;(株)クラレ製、厚み3mm)に110℃、20kgf/cm 2の条件で加熱圧着した。 Then, the adhesive film 1 using a roll laminator commercially available acrylic plate (Komogurasu; manufactured by Kuraray Co., Ltd., thickness 3mm) to 110 ° C., and thermocompression bonding under the conditions of 20 kgf / cm 2.

【0016】<接着フィルム2の作製例>透明プラスチック基材として厚さ25μmの透明PETフィルムを用い、この上に導電性材料である厚み25μmのアルミニウム箔を、接着層となるパイララックスLF−0200 [0016] Using the transparent PET film having a thickness of 25μm as a transparent plastic substrate <Preparation Example of adhesive film 2>, Pyralux LF-0200 an aluminum foil having a thickness of 25μm which is a conductive material thereon, the adhesive layer
(デュポン・ジャパンリミテッド製、アクリル系接着フィルム、n=1.47)を介して、ロールラミネータにより170℃、20kg/cm 2の条件でラミネートした。 (DuPont Japan Limited, Ltd., an acrylic-based adhesive film, n = 1.47) through a, 170 ° C. by a roll laminator, was laminated under the conditions of 20 kg / cm 2. このアルミ付きPETフィルムに接着フィルム1の作製例と同様のフォトリソ工程を経て、ライン幅25μ Through the same photolithography process as in Production Example of the adhesive film 1 in this aluminum with PET film, the line width of 25μ
m、ライン間隔250μmのアルミ格子パターンの幾何学図形をPETフィルム上に形成し構成材料2を得た。 m, the geometric shapes of the aluminum grating pattern line spacing 250μm to obtain a structure material 2 is formed on a PET film.
この構成材料2の上に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約3 An adhesive dry coating thickness of below over the constituent material 2 is approximately 3
0μmになるように塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム2を得た。 Coated to a 0 .mu.m, to obtain an adhesive film 2 having electromagnetic shielding properties and transparency by drying. そして、接着フィルム2を市販のアクリル板に110℃、30kgf/ Then, 110 ° C. The adhesive film 2 on the commercial acrylic plate, 30 kgf /
cm 、30分の条件で熱プレス機を使って加熱圧着した。 cm 2, and thermocompression bonding using a hot press at 30 minutes.

【0017】<接着フィルム3の作製例>透明プラスチック基材として厚さ50μmの透明PETフィルムを用い、この上に、マスクを用いて導電性材料となる無電解ニッケルめっきを行い、ライン幅12μm、ライン間隔500μm、ライン厚み2μmのニッケル格子パターンの幾何学図形をPETフィルム上に作製し構成材料3を得た。 [0017] Using the transparent PET film having a thickness of 50μm as a transparent plastic substrate <Preparation Example of adhesive film 3>, on the perform electroless nickel plating as a conductive material using a mask, the line width of 12 [mu] m, line spacing 500 [mu] m, the geometric shapes of the nickel grid pattern of lines thickness 2μm obtain a structure material 3 was prepared on a PET film. この構成材料3の上に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約70μmになるように塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム3を得た。 Applied to the adhesive dry coating thickness of below over the constituent material 3 is about 70 [mu] m, to obtain an adhesive film 3 having electromagnetic shielding properties and transparency by drying. そして、 And,
接着フィルム3をロールラミネータを使用して市販のアクリル板に110℃、20kgf/cm 、30分の条件で加熱圧着した。 110 ° C. Commercially available acrylic plate an adhesive film 3 by using a roll laminator, was heated and pressed under the conditions of 20 kgf / cm 2, 30 minutes.

【0018】 <接着剤1の組成物> TBA-HME(日立化成工業(株)製;高分子量エポキシ樹脂、Mw=30万) 100重量部、 YD-8125(東都化成(株)製;ビスフェノールA型エポキシ樹脂) 25重量部、 IPDI(日立化成工業(株)製;マスクイソシアネート) 12.5重量部、 2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3重量部、 MEK 330重量部 シクロヘキサノン 15重量部 上記接着剤の成分をMEKとシクロヘキサノンに溶解させ、接着剤1のワニスを作製した。 [0018] <Adhesive 1 composition> TBA-HME (manufactured Hitachi Chemical Co., high molecular weight epoxy resin, Mw = 30 50,000) 100 parts by weight, YD-8125 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., bisphenol A type epoxy resin) 25 parts by weight, IPDI (Hitachi Chemical Co., Ltd .; mask isocyanate) 12.5 parts by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole 0.3 parts by weight, MEK 330 parts by weight cyclohexanone 15 parts by weight the above the components of the adhesive dissolved in MEK and cyclohexanone to prepare a adhesive 1 varnish. このワニスをガラス板に流延し、加熱乾燥して得られるフィルムの屈折率は1.57であった。 The varnish was cast on a glass plate, the refractive index of the resulting film by heating drying was 1.57.

【0019】 <接着剤2の組成物> YP−30(東都化成(株)製;フェノキシ樹脂、Mw=6万)100重量部、 YD−8125(東都化成(株)製;ビスフェノールA型エポキシ樹脂) 10重量部、 IPDI(日立化成工業(株)製;マスクイソシアネート) 5重量部、 2−エチル−4−メチルイミダゾール 0.3重量部、 MEK 285重量部、 シクロヘキサノン 5重量部、 上記接着剤の成分をMEKとシクロヘキサノンに溶解させ、接着剤2のワニスを作製した。 [0019] <composition of the adhesive 2> YP-30 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., a phenoxy resin, Mw = 6 50,000) 100 parts by weight, YD-8125 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd., bisphenol A type epoxy resin ) 10 parts by weight, IPDI (Hitachi Chemical Co., Ltd .; mask isocyanate) 5 parts by weight, 0.3 parts by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole, MEK 285 parts by weight of cyclohexanone, 5 parts by weight of the adhesive dissolving the components in MEK and cyclohexanone to prepare a adhesive 2 varnish. このワニスをガラス板に流延し、加熱乾燥して得られるフィルムの屈折率は1.55であった。 The varnish was cast on a glass plate, the refractive index of the resulting film by heating drying was 1.55.

【0020】 <接着剤3の組成物> HTR−600LB(帝国化学産業(株)製;ポリアクリル酸エステル、Mw= 70万) 100重量部、 コロネートL(日本ポリウレタン(株)製;3官能イソシアネート) 4.5重量部、 ジブチル錫ジラウリレート 0.4重量部、 トルエン 450重量部、 酢酸エチル 10重量部、 上記接着剤の成分をトルエンと酢酸エチルに溶解させ、 [0020] <composition of the adhesive 3> HTR-600LB (manufactured Teikoku Chemical Industry Co., polyacrylic acid ester, Mw = 70 50,000) 100 parts by weight of Coronate L (manufactured by Nippon Polyurethane Co., trifunctional isocyanate ) 4.5 parts by weight, dibutyltin dilaurate 0.4 part by weight, 450 parts by weight of toluene, ethyl acetate 10 parts by weight, the component of the adhesive is dissolved in toluene and ethyl acetate,
接着剤3のワニスを作製した。 The varnish of adhesive 3 was produced. このワニスをガラス板に流延し、加熱乾燥して得られるフィルムの屈折率は1. Cast varnish on a glass plate, the refractive index of the obtained film and dried by heating 1.
47であった。 It was 47.

【0021】(実施例1)接着剤1を使用し接着フィルム1の作製例の手順で得た接着フィルムを実施例1とした。 [0021] (Example 1) and the adhesive film obtained in the procedure of Preparation Example of adhesive film 1 using an adhesive 1 of Example 1. (実施例2)接着剤2を使用し接着フィルム2の作製例の手順で得た接着フィルムを実施例2とした。 (Example 2) and the adhesive film obtained in the procedure of Preparation Example of adhesive film 2 using an adhesive 2 and Example 2. (実施例3)接着剤3を使用し接着フィルム3の作製例の手順で得た接着フィルムを実施例3とした。 And (Example 3) Example 3 An adhesive film was obtained by the procedure of Preparation Example of adhesive film 3 using an adhesive 3. (実施例4)ライン幅を25μmから35μmにし、それ以外の条件は全て実施例1と同様にして得た接着フィルムを実施例4とした。 (Example 4) was the line width from 25μm to 35 [mu] m, and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions as in Example 1 and Example 4. (実施例5)ライン幅を25μmから12μmにし、それ以外の条件は全て実施例2と同様にして得た接着フィルムを実施例5とした。 (Example 5) and line width from 25μm to 12 [mu] m, and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions as in Example 2 and Example 5. (実施例6)ライン間隔を500μmから800μmにし、それ以外の条件は全て実施例3と同様にして得た接着フィルムを実施例6とした。 (Example 6) to 800μm the line interval from 500 [mu] m, and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions Examples 3 and 6. (実施例7)ライン間隔を500μmから250μmにし、それ以外の条件は全て実施例1と同様にして得た接着フィルムを実施例7とした。 (Example 7) and line spacing from 500μm to 250 [mu] m, and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions as in Example 1 and Example 7. (実施例8)ライン厚みを25μmから35μmにし、 (Example 8) line thickness from 25μm to 35 [mu] m,
それ以外の条件は全て実施例2と同様にして得た接着フィルムを実施例8とした。 The adhesive film obtained in the same manner as all other conditions as in Example 2 was as in Example 8. (実施例9)導電性材料として黒化処理された銅を使い、それ以外の条件は全て実施例1と同様にして得た接着フィルムを実施例9とした。 (Example 9) using a blackened copper as a conductive material, and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions as in Example 1 and Example 9. (実施例10)実施例1で形成した格子パターンの代わりに正3角形の繰り返しパターンを作製した。 To produce a regular triangle of the repetitive pattern in place of the grating pattern formed in Example 10 Example 1. (実施例11)実施例1で形成した格子パターンの代わりに正6角形の繰り返しパターンを作製した。 To prepare a regular hexagon repeating pattern instead of the lattice pattern formed (Example 11) Example 1. (実施例12)実施例1で形成した格子パターンの代わりに正8角形と正方形よりなる繰り返しパターンを作製した。 To prepare a repeating pattern made of regular octagon and square, instead of the grating pattern formed in Example 12 Example 1.

【0022】(比較例1)アルミニウムの代わりにIT [0022] (Comparative Example 1) IT instead of aluminum
O膜を2,000Å全面蒸着させたITO蒸着PETを使い、パターンを形成しないで、直接接着剤を塗布した。 O film using the ITO-deposited PET obtained by 2,000Å entirely deposited, without forming a pattern was applied directly adhesive. その後、実施例1と同様にして得た接着フィルムを比較例1とした。 Then, a sample of Comparative Example 1 An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1. (比較例2)透明プラスチック基材として厚さ25μm Thickness 25μm (Comparative Example 2) transparent plastic substrate
の透明PETフィルムを用い、この上に導電性材料であるアルミニウムを、2000Å蒸着させた。 Using a transparent PET film, an aluminum which is a conductive material thereon, was 2000Å deposition. 幾何学図形を形成せず、直接接着剤2を塗布した。 Without forming a geometrical figure, it was applied directly adhesive 2. そして、実施例2と同様にして得た接着フィルムを比較例2とした。 Then, a sample of Comparative Example 2 An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 2. (比較例3)ライン幅を25μmから50μmにし、それ以外の条件は全て実施例1と同様にして得たフィルムを比較例3とした。 (Comparative Example 3) was the line width from 25μm to 50 [mu] m, and Comparative Example 3 A film was obtained in the same manner all the other conditions as in Example 1. (比較例4)ライン間隔を250μmから150μmにし、それ以外の条件は全て実施例2と同様にして得た接着フィルムを比較例4とした。 (Comparative Example 4) and line spacing from 250μm to 150 [mu] m, and Comparative Example 4 An adhesive film was obtained in the same manner all the other conditions as in Example 2. (比較例5)ライン厚を25μmから70μmにし、それ以外の条件は全て実施例2と同様にして得た接着フィルムを比較例5とした。 (Comparative Example 5) and line thickness of from 25μm to 70 [mu] m, and Comparative Example 5 An adhesive film was obtained in the same manner all the other conditions as in Example 2. (比較例6)接着剤としてフェノール-ホルムアルデヒド樹脂(Mw=5万、n=1.73)を使い、その他の条件は全て実施例1と同様にして得た接着フィルムを比較例6とした。 (Comparative Example 6) phenol as an adhesive - formaldehyde resin (Mw = 5 million in, n = 1.73) using the and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions of Example 1 and Comparative Example 6. (比較例7)接着剤としてポリジメチルシロキサン(M (Comparative Example 7) polydimethylsiloxane as an adhesive (M
w=4.5万、n=1.43)を使い、その他の条件は全て実施例3と同様にして得た接着フィルムを比較例7とした。 w = 4.5 million in, n = 1.43) using the and the adhesive film obtained in the same manner as all other conditions in Example 3 and Comparative Example 7. (比較例8)接着剤としてポリビニリデンフルオライド(Mw=12万、n=1.42)を使い、その他の条件は全て実施例3と同様にして得た接着フィルムを比較例8 (Comparative Example 8) polyvinylidene fluoride (Mw = 12 million in, n = 1.42) as an adhesive to use, compare an adhesive film obtained in the same manner as all other conditions Example 3 Example 8
とした。 And the. (比較例9)透明プラスチック基材として厚み60μm (Comparative Example 9) Thickness 60μm as a transparent plastic substrate
の充填剤入りポリエチレンフィルム(可視光透過率20 Of filled polyethylene film (visible light transmittance 20
%以下)を使い、その他の条件は全て実施例1と同様にして得たフィルムを比較例9とした。 % Or less) use was the other conditions obtained in the same manner as in Example 1 Film of Comparative Example 9.

【0023】以上のようにして得られた接着フィルム用いた構成物のEMIシールド性、可視光透過率、非視認性、加熱処理前後の接着特性、退色特性を測定した。 The above way EMI shielding of the construct using the adhesive film obtained, the visible light transmittance, non-visibility, adhesion properties before and after heat treatment was measured fading characteristics. 結果を表1と表2に示す。 The results shown in Table 1 and Table 2.

【0024】 [0024]

【表1】 [Table 1]

【0025】 [0025]

【表2】 [Table 2]

【0026】なお、EMIシールド性は、同軸導波管変換器(日本高周波(株)製、TWC−S−024)のフランジ間に試料を挿入し、スペクトロアナライザー(Y [0026] Incidentally, EMI shielding properties, the coaxial waveguide converter (Nippon RF Co., TWC-S-024) sample was inserted into between the flanges, spectrometer analyzer (Y
HP製、8510Bベクトルネットワークアナライザー)を用い、周波数1GHzで測定した。 Ltd. HP, using 8510B vector network analyzer) were measured at a frequency of 1 GHz. 可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計((株)日立製作所製、200−10型)を用いて、400〜800nmの透過率の平均値を用いた。 Measurement of visible light transmittance, double-beam spectrophotometer (Hitachi, Ltd., Ltd., 200-10 type) was used to using the average value of the transmittance of 400 to 800 nm. 非視認性は、アクリル板に貼付けた接着フィルムを0.5m離れた場所から目視して導電性材料で描かれた幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認識できないものを非常に良、良好とし、認識できるものをNGとした。 Non visibility, evaluated by whether recognize geometrical figure drawn visually and conductivity material from a distance 0.5m adhesive film adhered to an acrylic plate, a very good and can not be recognized, and good, and those that can be recognized as NG. 接着力は、引張り試験器(東洋ボールドウィン(株)製、テンシロンUTM−4 Adhesion, tensile tester (Toyo Baldwin Co., Tensilon UTM-4
−100)を使用し、幅10mm、90°方向、剥離速度50mm/分で測定した。 Using the -100), width 10 mm, 90 ° direction, was measured at a peel rate of 50 mm / min. 屈折率は、屈折計((株) Refractive index, refractometer (Co.
アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計)を使用し、2 Atago Optical Machinery Co., Ltd., using an Abbe refractometer), 2
5℃で測定した。 It was measured at 5 ℃.

【0027】 [0027]

【発明の効果】本発明により得られる電磁波シールドと透明性を有する接着フィルムは実施例からも明らかなように、被着体に密着して使用できるので電磁波漏れがなくEMIシールド性が特に良好である。 Adhesive film having an electromagnetic shielding and transparency obtained by the present invention exhibits as is clear from the examples, an EMI shielding property without the electromagnetic wave leakage is particularly good because it can be used in close contact with the adherend is there. また、可視光透過率、非視認性などの光学特性が良好で、しかも長時間にわたって高温での接着特性の変化が少なく良好であり、それらに優れた接着フィルムを提供することができる。 Further, the visible light transmittance, the optical characteristics such as non-visibility is good, yet a good little change in adhesion properties at high temperatures for a long time, it is possible to provide an adhesive film excellent in them. また、請求項2に記載の透明プラスチック基材をポリエチレンテレフタレートフィルムとすることにより、 Further, by the transparent plastic substrate of claim 2, polyethylene terephthalate film,
透明性、耐熱性が良好なうえ、安価で取扱性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供することができる。 Transparency, after the heat resistance is good, it is possible to provide an adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency with excellent handling properties at low cost. 請求項3に記載の導電性材料の厚みが、3〜40μmの銅、アルミニウムまたはニッケルの金属箔を使用し、透明プラスチック基材への接着面を粗面とすることにより、加工性に優れ、安価でEMIシールド性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供することができる。 The thickness of the conductive material according to claim 3, copper 3~40Myuemu, by using a metal foil of aluminum or nickel, the adhesive surface of the transparent plastic substrate and a rough surface, excellent workability, it is possible to provide an adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency having excellent EMI shielding properties at low cost. 請求項4に記載の導電性材料を銅として、少なくともその表面を黒化処理されたものとすることにより、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供することができる。 As the copper conductive material according to claim 4, at least the surface by what was blackened, fading is small, to provide an adhesive film having high electromagnetic shielding properties and transparency of the contrast can. 請求項5に記載の透明プラスチック基材上の幾何学図形をケミカルエッチングプロセスにより描画させることにより、加工性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供することができる。 By drawing the chemical etching process geometric shapes on a transparent plastic substrate of claim 5, it is possible to provide an adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and transparency in workability. 請求項6に記載の導電性材料を常磁性金属とすることにより、磁場シールド性に優れた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを提供することができる。 The conductive material according to claim 6 by a paramagnetic metal, it is possible to provide an adhesive film having excellent electromagnetic wave shielding properties and transparency to the magnetic field shielding property. 請求項7、8に記載の電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムをディスプレイや電磁波遮蔽構成体に用いることによりEMIシ−ルド性に優れ、可視光透過率が大きいのでディスプレイの輝度を高めることなく通常の状態とほぼ同様の条件下でディスプレイを見ることができ、しかも導電性材料で描かれた幾何学図形が視認できないので違和感なく見ることができる。 Electromagnetic waves according to claim 7, 8 - EMI sheet by using an adhesive film having a field and transparency to display or electromagnetic shielding structure - excellent field resistance, since the visible light transmittance is greater the brightness of the display enhanced display can be viewed in much the same conditions as normal conditions without, and since geometrical figure drawn with a conductive material can not be visually recognized can be seen without discomfort.

フロントページの続き (72)発明者 高橋 敦之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 登坂 実 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 津山 宏一 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館工場内 Of the front page Continued (72) inventor Atsushi Takahashi Noriyuki Ibaraki Prefecture Shimodate City Oaza Ogawa 1500 address Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. Shimodate the laboratory (72) inventor Minoru Noborizaka Ibaraki Prefecture Shimodate City Oaza Ogawa 1500 address Hitachi Chemical Industry Co., Ltd. Shimodate the laboratory (72) inventor Koichi Tsuyama Ibaraki Prefecture Shimodate City Oaza Ogawa 1500 address Hitachi Chemical industry Co., Ltd. Shimodate in the factory

Claims (8)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】(1)透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料において、幾何学図形を構成するライン幅が40μm以下、ライン間隔が200μm以上、ライン厚みが40μm以下であり、その幾何学図形を含む基材の一部または全面を接着剤で被覆し、(2)幾何学図形を被覆する接着剤と透明プラスチック基材、または透明プラスチック基材が接着層を介して導電性材料と積層されている場合においては接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の差が0.14以下であることを特徴とする電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。 1. A (1) the material having a geometrical figure drawn with a conductive material to the surface of the transparent plastic substrate, line width constituting a geometrical figure is 40μm or less, the line interval is 200μm or more, and the line thickness of 40μm or less, to cover a part or entire surface of the substrate including the geometric shapes with an adhesive, (2) an adhesive and a transparent plastic substrate that covers the geometrical figure or a transparent plastic substrate, an electromagnetic wave shielding property, characterized in that but when being laminated with a conductive material with an adhesive layer is not more than the difference of 0.14 in refractive index between the adhesive covering the geometric shapes and the adhesive layer adhesive film having transparency.
  2. 【請求項2】透明プラスチック基材がポリエチレンテレフタレートフィルムである請求項1に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。 Adhesive film wherein the transparent plastic substrate has an electromagnetic wave shielding property and transparency of claim 1 is polyethylene terephthalate film.
  3. 【請求項3】導電性材料が厚み3〜40μmの銅、アルミニウムまたはニッケルの金属箔で、透明プラスチック基材への接着面が粗面である請求項1又は請求項2に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。 3. A conductive material having a thickness of 3~40μm copper, a metal foil of aluminum or nickel, electromagnetic shielding according to claim 1 or claim 2 adhesive surface of the transparent plastic substrate is a rough surface adhesive film having transparency and.
  4. 【請求項4】導電性材料が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項3に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。 Wherein a conductive material is copper, an adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency of claim 3, wherein at least the surface of which is blackened.
  5. 【請求項5】透明プラスチック基材上の幾何学図形がケミカルエッチングプロセスにより描画されたものであることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。 The electromagnetic wave shielding property and transparency according to any one of claims 5] claims 1 to 4 geometric shapes on the transparent plastic substrate is characterized in that drawn by chemical etching process adhesive film with.
  6. 【請求項6】導電性材料が常磁性金属である請求項1、 6. The method of claim 1 the conductive material is a paramagnetic metal,
    請求項2又は請求項5に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。 Adhesive film having electromagnetic shielding property and transparency according to claim 2 or claim 5.
  7. 【請求項7】請求項1ないし請求項6に記載の電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムを用いたディスプレイ。 Display using an adhesive film having field resistance and transparency - 7. electromagnetic waves according to claims 1 to 6.
  8. 【請求項8】請求項1ないし請求項6に記載の電磁波シ−ルド性と透明性を有する接着フィルムを設けた電磁波遮蔽構成体。 8. The electromagnetic wave according to claims 1 to 6 - electromagnetic shielding structure provided with an adhesive film having a field and transparency.
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