JPH10314503A - Apparatus fordegassing fluid - Google Patents

Apparatus fordegassing fluid

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JPH10314503A
JPH10314503A JP12539397A JP12539397A JPH10314503A JP H10314503 A JPH10314503 A JP H10314503A JP 12539397 A JP12539397 A JP 12539397A JP 12539397 A JP12539397 A JP 12539397A JP H10314503 A JPH10314503 A JP H10314503A
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tank
fluid
degassing
capillary
bubbles
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Application number
JP12539397A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Kono
隆 河野
Original Assignee
Sony Corp
ソニー株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize an apparatus for degassing a fluid and sufficiently degas a fluid by successively installing a first tank and a second tank provided with degassing promoting means in a supply line through which a pressurized fluid is pneumatically supplied from a storage source.
SOLUTION: When a developing liquid is supplied to a first tank 12 from a developing liquid tank through a supply line 11, the developing liquid passes glass tubes from lower sides of respectively fine glass tubes which are capillary tubes 13 in the first tank 12 and moves upward. The dissolved gas in the developing liquid adheres as fine bubbles in the inner walls of the respectively fine capillary 13 glass tubes, and as the bubbles increase, the mutually neighboring fine bubbles are brought into contact with one another to form larger bubbles and due to the flow of the liquid the large bubbles move upward of the capillary tubes 13 and degassing is thus carried out. The developing liquid in the upper parts of the capillary tubes 12 is supplied to near the bottom part of a second tank 20 through a supply pipe 14, stirred by a stirring apparatus 23 in the bottom part, and due to the decreased pressure in the tank, the bubbles in the developing liquid further easily float up. The resultant developing liquid after degassing is sent to a developing apparatus, so that degassing of a fluid can be carried out by a miniaturized apparatus.
COPYRIGHT: (C)1998,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気体により加圧して供給される流体中に含まれる気体を除去するための脱気装置に関するものである。 The present invention relates to relates to a degassing device for removing gas contained in the fluid to be pressurized supply through gas.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、例えば半導体製造においては、半導体基板の表面にパターン形成を行なう場合、半導体基板の表面に、レジストを塗布して、パターンマスクを利用してレジストを露光させた後、現像液によってレジストを現像することにより、所望のパターンのレジストが半導体基板の表面に形成されるようになっている。 In a conventional, for example, a semiconductor fabrication, when performing pattern formation on the surface of the semiconductor substrate, the surface of the semiconductor substrate, resist is applied, after exposing the resist by using a pattern mask, developing by developing the resist by the liquid, the resist of a desired pattern and is formed on the surface of the semiconductor substrate. このようなレジストの現像を行なう場合、従来は、現像液を貯蔵する現像液タンクから、現像液タンク内を窒素等の気体によって加圧したり、ポンプ等を使用することにより、現像液を供給ラインを介して現像装置内に圧送するようになっている。 When performing development of such a resist, conventionally, a developer tank for storing developer, or the developer tank pressurized by a gas, such as nitrogen, by using a pump or the like, the supply line a developer It is adapted to pumping into the developing device through the.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような現像液の圧送は、加圧によって現像液中に気体が溶解しやすくなる。 [SUMMARY OF THE INVENTION Incidentally, pumping of such developer, a gas is easily dissolved in a developer solution by pressurization. これにより、現像液が現像装置内に供給され、圧力が解放された後に、現像液中の溶存気体が、現像液内で微小気泡を発生させることになる。 Thus, the developer is supplied into the developing apparatus, after the pressure is released, the gas dissolved in the developing solution, so that to generate microbubbles in developer solution. この微小気泡が、現像の際に、半導体基板の表面に付着すると、微小気泡の部分にて現像が進行せず、現像不良が発生して、半導体製造の歩留まりが低下してしまうことになる。 The microbubbles, during development, when attached to the surface of the semiconductor substrate, does not proceed development at portions of the microbubbles, and development failure occurs, the yield of semiconductor manufacturing is be decreased. このため、現像液中の溶存気体を除去するために、 Therefore, in order to remove dissolved gases in the developer,
従来は、現像液の供給ラインの現像装置手前にて、バッファータンクを備えることにより、現像液が一旦バッファータンク内に貯留され、バッファータンク内にて撹拌されることにより、現像液中の溶存気体の脱気を促進するようにしている。 Conventionally, in the developing device before the supply line of the developing solution, by providing a buffer tank, the developer is temporarily stored in the buffer tank, by being stirred at the buffer tank, the gas dissolved in the developing solution so that to promote the degassing of.

【0004】しかしながら、このようなバッファータンクを使用しても、現像液自体が粘性を有していることから、脱気が不十分であり、現像不良の発生が不可避であるという問題があった。 However, the use of such a buffer tank, the developer itself because it has a viscosity, a degassing insufficient, occurrence of development failure is a problem that it is unavoidable . また、このようなバッファータンクは比較的大型であり、設置スペースの点で問題があった。 Moreover, such a buffer tank is relatively large, there is a problem in terms of installation space.

【0005】本発明は、以上の点に鑑み、小型に構成されると共に、流体の脱気が十分に行われるようにした、 [0005] The present invention has been made in view of the above, along with configured compact and as degassing fluid is sufficiently carried out,
流体の脱気装置を提供することを目的としている。 And its object is to provide a deaerator fluid.

【0006】 [0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によれば、貯蔵源から加圧されて流体が圧送される供給ライン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二のタンクと、前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備えている、流体の脱気装置により、達成される。 SUMMARY OF THE INVENTION The above object is achieved according to the present invention, the first tank and the second tank fluid pressurized from storage source is provided sequentially in the feed line to be pumped , and a degassing promoting means provided on the first tank, the deaeration device in fluid, is achieved.

【0007】本発明による流体の脱気装置は、好ましくは、前記第一のタンクが、脱気促進手段として、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷き詰めたキャピラリーを有しており、このキャピラリーの下方にて貯蔵源からの供給ラインが開口していると共に、第二のタンクへの供給管が、キャピラリーの上方にて第一のタンク内に開口している。 [0007] degassing apparatus of the fluid according to the present invention, preferably, the first tank, a deaeration promoting means has a capillary paved fine glass tube extending vertically in the tank middle, supply line from a storage source at the lower side of the capillary with opened, the supply pipe to the second tank is open to the first tank at the upper capillary.

【0008】本発明による流体の脱気装置は、好ましくは、前記第二のタンクが、減圧されている。 [0008] degassing apparatus of the fluid according to the present invention, preferably, the second tank, is depressurized.

【0009】本発明による流体の脱気装置は、好ましくは、前記第二のタンクが、その底部に撹拌手段を備えている。 [0009] degassing apparatus of the fluid according to the present invention, preferably, the second tank is provided with a stirring means at its bottom.

【0010】本発明による流体の脱気装置は、好ましくは、上記第一のタンクが、上下に延びる回転軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から外側に向かって下向きに傾斜して形成されており、第二のタンクへの供給管が、第一のタンクの底面付近にて第一のタンク内に開口している。 [0010] degassing apparatus of the fluid according to the present invention, preferably, the first tank, while being driven to rotate about a rotation axis extending vertically, inclined bottom surface from the center down towards the outside is formed, the supply pipe to the second tank is open to the first tank at a first tank near the bottom of the.

【0011】上記構成によれば、第一のタンク内に供給された流体は、脱気促進手段、例えばキャピラリー及び/又は第一のタンク自体の回転駆動によって、微小気泡が纒められて、第二のタンクに供給される。 With the above arrangement, the fluid supplied to the first tank, the degassing promoting means, for example by the rotation of the capillary and / or the first tank itself, with microbubbles is because gird, the It is supplied to the second tank. そして、第二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵されることによって、微小気泡よりやや大きくなった気泡が流体中から浮上することにより、脱気が行なわれる。 Then, in the second tank, by the fluid is temporarily stored, it bubbles slightly larger than microbubbles by flying from a fluid, degassing is performed.

【0012】上記第一のタンクが、脱気促進手段として、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷き詰めたキャピラリーを有しており、このキャピラリーの下方にて貯蔵源からの供給ラインが開口していると共に、第二のタンクへの供給管が、キャピラリーの上方にて第一のタンク内に開口している場合には、キャピラリーの下方にて導入された流体は、上方に向かって流れることにより、キャピラリーを構成する微細ガラス管中を通過して、キャピラリー上方から供給管を通って、第二のタンクに供給される。 [0012] The first tank, as degassing promoting means has a capillary paved vertically extending fine glass tube at the tank middle, the supply line from a storage source at the lower side of the capillary together are opened, the supply pipe to the second tank, when at the upper capillary opens into the first tank, the fluid introduced at the lower of the capillary, upward by flowing through the fine glass tube constituting the capillary, through the supply pipe from the capillary above, it is supplied to the second tank. ここで、流体がキャピラリーを構成する各微細ガラス管内を通過する際に、流体内の微小気泡が、微細ガラス管の内壁に付着し、互いに隣接する微小気泡同士が接触して、大きな気泡を形成する。 Here, when passing through the fine glass tube fluid constituting the capillary, micro bubbles in the fluid adheres to the inner wall of the fine glass tube, in contact with microbubbles adjacent to each other, forming large bubbles to. この大きな気泡は、微小気泡に比較して脱気しやすいという性質がある。 This large bubbles, there is a property that degassing is easy compared to the microbubbles. そして、大きな気泡は、流体の流れによってキャピラリー上方に達し、流体と共に、第二のタンクに供給される。 The large bubbles, reach the capillary upwardly by the flow of the fluid, with the fluid, it is supplied to the second tank.

【0013】ここで、上記第二のタンクが、減圧されている場合には、流体中の溶存気体が、気泡として浮上しやすく、容易に脱気されることになる。 [0013] Here, the second tank, if it is reduced pressure, dissolved gas in the fluid, likely to emerge as bubbles, will be readily degassed.

【0014】さらに、上記第二のタンクが、その底部に撹拌手段を備えている場合には、撹拌手段の撹拌によって、流体中の溶存気体が、より一層気泡として浮上しやすくなり、容易に脱気されることになる。 Furthermore, the second tank, if provided with a stirring means at its bottom, by agitation of the stirring means, gas dissolved in the fluid, likely to emerge as more bubbles easily removed It will be care. この場合、撹拌手段は、第二のタンクの底部の領域の流体のみを撹拌すればよいことから、撹拌手段が小型に構成されることになり、第二のタンク自体も小型に構成されることになる。 In this case, agitation means, since only the fluid in the region of the bottom of the second tank may be stirred, will be stirring means is configured in a small, second tank itself be configured in a small become.

【0015】また、上記第一のタンクが、上下に延びる回転軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から外側に向かって下向きに傾斜して形成されており、第二のタンクへの供給管が、底面付近にて第一のタンク内に開口している場合には、第一のタンクの回動によって、 Further, the first tank, while being rotated about an axis of rotation extending vertically, the bottom surface is formed to be inclined downward from the center toward the outside, to the second tank If the supply pipe opens into the first tank in the vicinity bottom, by the rotation of the first tank,
流体中の気泡は、軽いことから、遠心分離によって、タンクの回転軸付近に集まり、また流体は、遠心力を受けて、外側に集まることになる。 Bubbles in the fluid, light since, by centrifugation, gather around the rotation axis of the tank, the fluid is also subjected to centrifugal force, so that gather on the outside. そして、第一のタンクの底面が外側に向かって傾斜していることから、気泡がタンクの外側付近に流れるようなことはなく、流体のみが供給管を通って、第二のタンクに供給される。 Then, since the bottom surface of the first tank is inclined toward the outside, air bubbles never flowing around the outside of the tank, only the fluid through the supply pipe is supplied to the second tank that.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態を図1乃至図4を参照しながら、詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 4 a preferred embodiment of the present invention will be described in detail. 尚、 still,
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、 Embodiments described below are preferred specific examples of the present invention, various technically preferable limitations are imposed,
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。 The scope of the present invention, unless there are descriptions specifically limiting the invention in the following description, the invention is not limited to these embodiments.

【0017】図1は、本発明による流体の脱気装置の第一の実施形態を示している。 [0017] Figure 1 shows a first embodiment of a degassing apparatus of a fluid according to the invention. 図1において、脱気装置1 In FIG. 1, degassing device 1
0は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用される現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像装置(共に図示せず)への供給ライン11中に配設されている。 0, for degassing the developing solution used in the development of the resist upon, for example, a semiconductor manufacturing, are arranged in the feed line 11 from the developer tank to the developing device (both not shown) . 脱気装置10は、供給ライン11中に順次に設けられた二つのタンク、即ち第一のタンク12及び第二のタンク20を含んでいる。 Degassing device 10 includes two tank is sequentially provided in the feed line 11, i.e. the first tank 12 and second tank 20.

【0018】第一のタンク12は、図示の場合、全体が円筒状に形成されており、上端が開放している。 The first tank 12, in the illustrated case, the whole is formed in a cylindrical shape and open at the upper end. そして、第一のタンク12は、その上下方向の中段位置にて、第一のタンク12内を上下に仕切るように配設されたキャピラリー13を備えている。 The first tank 12 is provided at its vertical middle position, the capillary 13 disposed so as to divide the first tank 12 vertically.

【0019】さらに、第一のタンク12は、キャピラリー13の下方にて、現像液タンクからの供給ライン11 Furthermore, the first tank 12, at the lower of the capillary 13, the supply line 11 from the developing tank
が開口していると共に、キャピラリー13の上方にて、 There together is open at the upper capillary 13,
第二のタンク20への供給管14が開口している。 Supply tube 14 to the second tank 20 is open.

【0020】上記キャピラリー13は、図2に示すように、第二のタンク12の内壁を水平方向に埋め尽くすように、上下方向に延びる短い微細ガラス管13aを隙間なく並べることにより、構成されている。 [0020] The capillary 13, as shown in FIG. 2, so as to fill the inner wall of the second tank 12 in the horizontal direction, the short fine glass tube 13a extending vertically by arranging no gap, is configured there. この微細ガラス管13aは、脱気すべき流体(この場合、現像液)に対して反応しない組成のガラスから構成されており、その寸法が、例えばその外径1.0mm,内径0.7mm The fine glass tube 13a, the fluid (in this case, developer) to be degassed is composed of a glass composition which does not respond to, its dimensions, for example, an outer diameter 1.0 mm, inner diameter 0.7mm
で、長さ30.0mm程度に選定されている。 In, and is selected to be approximately the length 30.0 mm.

【0021】上記第二のタンク20は、図示の場合、全体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が絞られてキャップ21により密閉されている。 [0021] the second tank 20, in the illustrated, along with being formed on the whole is substantially cylindrical, is sealed by the cap 21 its upper end is squeezed. そして、第二のタンク20は、キャップ21を貫通する真空排気管22に接続された真空排気装置(図示せず)によって、 Then, the second tank 20, by the vacuum exhaust device (not shown) connected to the vacuum exhaust pipe 22 passing through the cap 21,
内部が減圧されるようになっている。 Internal is adapted to be vacuum. また、上記第二のタンク20は、その底部に、撹拌装置23を備えている。 Further, the second tank 20 has on its bottom, and a stirring device 23. この撹拌装置23は、図示の場合、スターラーであるが、同様の作用を発揮する小型の撹拌装置なら、その態様を問わず採用できる。 The stirring device 23, in the illustrated case is a stirrer, if a small stirring device which exhibits the same action can be adopted regardless of its aspects. これにより、第二のタンク2 Accordingly, the second tank 2
0も小型に構成されることになる。 0 is also to be configured compact.

【0022】さらに、第二のタンク20は、底部付近にて、第一のタンク12からの供給管14と、現像装置(図示せず)への供給ライン11が開口している。 Furthermore, the second tank 20, in the vicinity of the bottom, a supply pipe 14 from the first tank 12, the supply line 11 to the developing device (not shown) is opened.

【0023】本実施形態による流体の脱気装置10は、 The degassing device 10 of the fluid according to the present embodiment,
以上のように構成されており、供給ライン11を介して現像液タンク(図示せず)から現像液が、第一のタンク12内に供給されると、現像液は、第一のタンク12内にて、キャピラリー13の下方から、キャピラリー13 Is constructed as described above, the developer from the developer tank (not shown) via a supply line 11 and fed to the first tank 12, the developer is the first tank 12 at, from the lower side of the capillary 13, the capillary 13
を構成する各微細ガラス管13a内を通過して、キャピラリー13の上方に進む。 And it passes through the respective fine glass tube 13a constituting the proceeds to above the capillary 13. このとき、現像液中の溶存気体は、キャピラリー13の各微細ガラス管13aの内壁に微小気泡として付着することになる。 In this case, the dissolved gas in the liquid developer will be deposited as fine bubbles to the inner wall of the fine glass tube 13a of the capillary 13. そして、微細ガラス管13aの内壁に付着した微小気泡が徐々に増えてくると、互いに隣接する微小気泡が接触して、大きな気泡となり、流体の流れによって、キャピラリー13の上方に進むことになる。 When the fine bubbles adhered to the inner wall of the fine glass tube 13a comes gradually increasing, in contact with microbubbles adjacent to each other becomes large bubbles, the fluid flow will proceed over the capillary 13. これにより、現像液中の微小気泡は、キャピラリー13の作用によって、より大きな気泡となり、脱気が容易に行われるようになる。 Thus, microbubbles in the developer by the action of the capillary 13, becomes larger bubbles, so deaeration is facilitated. そして、キャピラリー13の上方に進んだ現像液は、供給管14を通って、第二のタンク20の底部付近に供給されることになる。 The developing solution advances above the capillary 13 through the feed pipe 14, is supplied to the vicinity of the bottom of the second tank 20.

【0024】第二のタンク20内に収容された現像液は、第二のタンク20の底部に設けられた撹拌装置23 The developer accommodated in the second tank 20, a stirring device provided at the bottom of the second tank 20 23
によって撹拌されることにより、現像液の液面に浮上することになる。 By being agitated by, it will be floating on the liquid surface of the developer. その際、第二のタンク20内が減圧されていることにより、現像液中の気泡は、より一層容易に浮上できることになる。 At that time, by the second tank 20 is depressurized, gas bubbles in the developer will be further be more easily floated. そして、第二のタンク20内の現像液は、一定時間だけ、上述した撹拌装置23による撹拌と真空排気管22からの真空排気による減圧によって脱気された後、供給ライン11を通って、現像装置に送出される。 Then, the developer in the second tank 20, a certain period of time, after being degassed by vacuum by evacuation from agitation and a vacuum exhaust pipe 22 by the stirring device 23 described above, through supply line 11, developing It is sent to the device.

【0025】図3は、本発明による流体の脱気装置の第二の実施形態を示している。 FIG. 3 shows a second embodiment of the degassing device of the fluid according to the invention. 図3において、脱気装置3 In FIG. 3, deaerator 3
0は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用される現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像装置への供給ライン11中に配設されている。 0, for example, for degassing the developing solution used in the development of the resist in a semiconductor manufacturing, are arranged from the developer tank in the supply line 11 to the developing device. 脱気装置30は、供給ライン11中に順次に設けられた二つのタンク、即ち第一のタンク31及び第二のタンク40を含んでいる。 Deaerator 30 includes two tank is sequentially provided in the feed line 11, i.e. the first tank 31 and second tank 40.

【0026】第一のタンク31は、図示の場合、全体が円筒状に形成されており、上端が開放している。 The first tank 31, in the illustrated case, the whole is formed in a cylindrical shape, an upper end is open. そして、第一のタンク31は、その全体が中心軸の周りに、 Then, the first tank 31, around its entirety the central axis,
駆動手段41によって、矢印で示すように、回転駆動されるようになっている。 The drive means 41, as indicated by an arrow, which is driven to rotate.

【0027】さらに、第一のタンク31は、現像液タンクからの供給ライン11が、開放端から底部付近にまで延びていると共に、底面31aが、中間から外側に向かって下方に傾斜して形成されており、最外縁付近の底面に、第二のタンク40への供給管32が開口している。 Furthermore, the first tank 31, the supply line 11 from the developer tank, with and extends from the open end to near the bottom, the bottom surface 31a is inclined downwardly from the intermediate outward formation It is, on the bottom near the outermost supply tube 32 to the second tank 40 is open.

【0028】上記底面31aは、好ましくは、図4に示すように、等角度間隔で半径方向に延びる突条部もしくはフィン31bを備えている。 [0028] The bottom surface 31a is preferably, as shown in FIG. 4, and a ridge or fin 31b extending radially at equal angular intervals.

【0029】上記第二のタンク40は、図示の場合、全体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が開放している。 [0029] the second tank 40, in the illustrated, along with being formed on the whole is substantially cylindrical, its upper end is open. そして、第二のタンク40は、第一のタンク31からの供給管32が、開放端から底部付近にまで延びていると共に、底面に、現像装置への供給ライン1 Then, the second tank 40, the supply pipe 32 from the first tank 31, with extends from the open end to near the bottom, on the bottom, the supply line 1 to the developing device
1が開口している。 1 is opened.

【0030】このような構成の流体の脱気装置30によれば、供給ライン11を介して現像液タンク(図示せず)から現像液が、第一のタンク31内に供給されると、現像液は、第一のタンク31の回転駆動によって、 According to the deaeration device 30 of the fluid in this structure, when the developer from the developer tank (not shown) via a supply line 11 is fed into the first tank 31, the developing liquor, by the rotation of the first tank 31,
底面に設けられた突条部31bにより撹拌されることになり、遠心力を受けることになる。 Would be stirred by the protruding portion 31b provided on the bottom surface, it will be subjected to centrifugal force. このとき、現像液中の溶存気体は、現像液に比較して軽いことから、微小気泡として、遠心分離され、回転軸付近に集まって、大きな気泡を形成することになる。 In this case, the dissolved gas in the developer, since the lighter compared to the developing solution, as microbubbles, are centrifuged, gathered around the rotation axis, will form large bubbles.

【0031】これに対して、遠心力を受けた現像液は、 [0031] On the other hand, the developer that has received the centrifugal force,
遠心力によって、第一のタンク31の外側に向かって移動する。 By centrifugal force, it moves toward the outside of the first tank 31. ここで、第一のタンク31の底面31aが外側に向かって低くなるように傾斜していることから、回転軸付近に集まった微小気泡が、この底面31aに沿って外側に移動するようなことはない。 Here, since the bottom surface 31a of the first tank 31 is inclined to become lower toward the outside, microbubbles gathered near the rotation axis, that such moves outward along the bottom surface 31a no. 従って、第一のタンク31内に導入された現像液は、第一のタンク31の回転駆動によって、ある程度微小気泡が除去された状態で、第一のタンク31の底面外側に開口する供給管32 Therefore, the developer introduced into the first tank 31, by the rotation of the first tank 31, in a state in which a certain degree microbubbles have been removed, the supply pipe opens outside the bottom of the first tank 31 32
を通って、第二のタンク40内に供給されることになる。 Through, it will be supplied to the second tank 40. 第二のタンク40内に進入した現像液は、一定時間だけ貯蔵されることにより、現像液内の溶存気体が現像液の表面に浮上して脱気された後、供給ライン11を通って、現像装置に送出される。 Developer enters the second tank 40, by being stored for a certain time, after which the dissolved gas in a developer solution is degassed by floating to the surface of the developer through the supply line 11, It is sent to the developing device. かくして、現像液の脱気が行われることになる。 Thus, so that the degassing of the developing solution is carried out.

【0032】このように、上述の実施形態によれば、第一のタンク内に供給された流体は、脱気促進手段、例えばキャピラリーあるいは第一のタンク自体の回転駆動によって、微小気泡が纒められて、第二のタンクに供給される。 [0032] Thus, according to the above-described embodiment, the fluid supplied to the first tank, the degassing promoting means, for example a capillary or by rotation driving of the first tank itself, because microbubbles dressed It is to be supplied to the second tank. そして、第二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵されることによって、微小気泡よりやや大きくなった気泡が流体中から浮上することにより、脱気が行なわれる。 Then, in the second tank, by the fluid is temporarily stored, it bubbles slightly larger than microbubbles by flying from a fluid, degassing is performed. これにより、流体中の溶存気体が、十分に且つ確実に脱気されることになる。 Thus, dissolved gas in the fluid will be sufficiently and reliably degassed. 従って、例えば半導体製造における半導体基板に塗布されたレジストの現像のための現像液の脱気を行なう場合、脱気が十分に且つ確実に行われることにより、現像不良の発生が抑制されることになり、半導体製造の歩留まりが向上することになる。 Thus, for example, when performing deaeration of the developing solution for the resist development which is applied to the semiconductor substrate in the semiconductor manufacturing, by degassing is sufficiently and reliably performed, and the occurrence of development failure is suppressed becomes, the yield of semiconductor manufacturing is improved.

【0033】尚、上述した実施形態においては、半導体製造におけるレジストの現像液を脱気するための脱気装置10,30について説明したが、これに限らず、気体の加圧によって給送される種々の流体の脱気のために、 [0033] In the embodiment described above has been described deaeration apparatus 10, 30 for degassing the resist developer in semiconductor manufacturing is not limited thereto, is fed by pressurization of gas for degassing of various fluids,
本発明が適用されることは明らかである。 It is clear that the present invention is applied.

【0034】 [0034]

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、小型に構成されると共に、流体の脱気が十分に行われるようにした、脱気装置を提供することができる。 As described above, according to the present invention, according to the present invention, together with small to constructed and so degassing fluid is sufficiently carried out, it is possible to provide a deaerator.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明による流体の脱気装置の第一の実施形態を示す概略斜視図である。 1 is a schematic perspective view showing a first embodiment of a degassing apparatus of a fluid according to the invention.

【図2】図1の流体の脱気装置における第一のタンク内のキャピラリーの構成を示す部分拡大斜視図である。 2 is a partially enlarged perspective view showing the configuration of a capillary of the first tank in the deaeration device in fluid Fig.

【図3】本発明による流体の脱気装置の第二の実施形態を示す概略斜視図である。 Figure 3 is a schematic perspective view showing a second embodiment of the degassing device of the fluid according to the invention.

【図4】図1の流体の脱気装置における第一のタンクの底部を示す部分拡大斜視図である。 4 is a partially enlarged perspective view showing the bottom of the first tank in the deaerator of the fluid in FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10・・・流体の脱気装置、11・・・流体の供給ライン、12・・・第一のタンク、13・・・キャピラリー、13a・・・微細ガラス管、14・・・供給管、2 10 ... degasser fluid, 11 ... fluid supply line, 12 ... first tank, 13 ... capillary, 13a ... fine glass tube, 14 ... supply pipe, 2
0・・・第二のタンク、21・・・キャップ、22・・ 0 ... the second tank, 21 ... cap, 22 ...
・真空排気管、23・・・撹拌装置、30・・・流体の脱気装置、31・・・第一のタンク、31a・・・底面、31b・・・突条部、32・・・供給管、40・・ Vacuum exhaust pipe, 23 ... stirrer, 30 ... degasser fluid, 31 ... first tank, 31a ... bottom, 31b ... projecting portion, 32 ... supply tube, 40 ...
・第二のタンク。 And second of the tank.

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 貯蔵源から加圧されて流体が圧送される供給ライン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二のタンクと、 前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備えていることを特徴とする流体の脱気装置。 And 1. A first tank and a second tank fluid pressurized from storage source was successively provided in the feed line to be pumped, and degassing promoting means provided in the first tank deaerator of fluid, characterized in that it comprises a.
  2. 【請求項2】 前記第一のタンクが、脱気促進手段として、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷き詰めたキャピラリーを有しており、 このキャピラリーの下方にて貯蔵源からの供給ラインが開口していると共に、第二のタンクへの供給管が、キャピラリーの上方にて第一のタンク内に開口していることを特徴とする請求項1に記載の流体の脱気装置。 Wherein said first tank, as degassing promoting means has a capillary paved fine glass tube extending vertically in the tank middle, supplied from a storage source at the lower side of the capillary with line is open, the supply pipe to the second tank, deaerator fluid according to claim 1, characterized in that open into the first tank at the upper capillary.
  3. 【請求項3】 前記第二のタンクが、減圧されていることを特徴とする請求項2に記載の流体の脱気装置。 Wherein said second tank, deaerator fluid according to claim 2, characterized in that it is depressurized.
  4. 【請求項4】 前記第二のタンクが、その底部に撹拌手段を備えていることを特徴とする請求項2に記載の流体の脱気装置。 Wherein said second tank, deaerator fluid according to claim 2, characterized in that it comprises a stirring means at its bottom.
  5. 【請求項5】 前記第一のタンクが、上下に延びる回転軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から外側に向かって下向きに傾斜して形成されており、 第二のタンクへの供給管が、第一のタンクの底面付近にて第一のタンク内に開口していることを特徴とする請求項1に記載の流体の脱気装置。 Wherein said first tank, while being rotated about an axis of rotation extending vertically, the bottom surface is formed to be inclined downward from the center toward the outside, to the second tank supply pipe, deaerator fluid according to claim 1, characterized in that open into the first tank at the bottom near the first tank.
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