JPH10260412A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素電極内に配置するスペーサー（ビーズ）
とスペーサーの周囲に発生する液晶の配向不良を防止す
るために簡便な手法により特定の部分にスペーサーを形
成する方法を提供すること。 【解決手段】 第１の基板１と第２の基板１１上のすく
なくとも一方にスペーサー６を形成する方法は、第１の
基板１の裏面に磁性パターン９を配置しスペーサー６を
散布する工程と、磁性パターン９を配置する状態で第２
の基板１１を形成する工程を有する液晶表示装置の製造
方法を採用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置の製造
方法に関し、第１の基板と第２の基板を所定の間隙を有
して張り合わせるために利用するスペーサーを形成する
方法に関するものである。とくに、液晶表示装置の表示
品質の均一性と改善のためにスペーサーを第１の基板ま
たは第２の基板のすくなくとも一方の基板上の所定の位
置に設けるための製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶パネルを用いた液晶表示装置
の表示容量は、大容量化の一途をたどっている。その液
晶表示装置の構造は、第１の基板上に設ける信号電極に
液晶画素の表示電極を直接に接続するパッシブマトリク
ス型と、信号電極と表示電極の間に非線形抵抗素子を有
するアクティブマトリクス型がある。さらに、第１の基
板上の表示電極と対向するように液晶を介して対向電極
を設け、複数の信号電極と複数の対向電極をマトリクス
状に配置し、信号電極と、対向電極に接続するデーター
電極に外部回路より所定の信号を印加する構造からな
る。

【０００３】そして、単純マトリクス構成（パッシブマ
トリクス型）の液晶表示装置にマルチプレクス駆動を用
いる手段は、高時分割化するに従ってコントラストの低
下または応答速度の低下が生じ、２００本程度の走査線
を有する場合では、充分なコントラストを得ることが難
しくなる。

【０００４】そこで、このような欠点を除去するため
に、個々の画素にスイッチング素子を設けるアクティブ
マトリクスの液晶表示パネルが採用されている。

【０００５】このアクティブマトリクスの液晶表示パネ
ルには、大別すると薄膜トランジスタを用いる三端子系
と、非線系抵抗素子を用いる二端子系とがある。これら
のうち構造や製造方法が簡単な点で、二端子系が優れて
いる。

【０００６】この二端子系のスイッチング素子として
は、ダイオード型や、バリスタ型や、薄膜ダイオード
（ＴＦＤ）型などが開発されている。

【０００７】このうちＴＦＤ型は、とくに構造が簡単
で、そのうえ製造工程が短いという特徴を備えている。

【０００８】液晶表示装置は、第１の基板上に設ける信
号電極と信号電極と一体構造の表示電極と、第２の基板
上に設ける対向電極と、これらの第１の基板と第２の基
板上に液晶を配向するための配向膜とを有し、第１の基
板と第２の基板を所定の間隙を有してシールを利用し張
り合わせて、第１の基板と第２の基板との間に液晶を封
入する構造を有する。そのため、第１の基板と第２の基
板とを所定の間隙にするために、たとえばプラスチック
材、またはガラス材からなるスペーサーが利用される。

【０００９】もっとも、一般的なスペーサーの形成方法
は、プラスチック材またはガラス材のビーズからなるス
ペーサー材を基板上に平均して散布する方法である。散
布の方法は、スペーサー材のみを散布する方法や、また
は溶剤とスペーサー材とを混合して利用し散布する方法
がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置の表示品
質は、第１の基板と第２の基板の間隙の分布により均一
性が左右される。さらにスペーサーの無い部分と、スペ
ーサーの部分とで透過率が異なる。たとえばスペーサー
が透過性であれば、黒の表示の時にスペーサーは白とな
り黒表示を劣化させる。また、スペーサーが非透過性で
あれば、白表示の時に黒となり、暗くなる。さらに、ス
ペーサーの分布により以上の影響に分布が発生するた
め、表示のムラとなる。

【００１１】さらに、スペーサーの周囲とスペーサーの
無い部分とで、液晶の配向状態が異なるため、スペーサ
ーの周囲も表示品質に影響することが実験で分かってい
る。

【００１２】そのため、スペーサーを所定の位置に設け
る方法は種々考案されている。たとえば電極と電極間の
電位に差を設けて、スペーサー材の電位との相互採用に
より電極間に選択的にスペーサー材を設ける。あるいは
感光性樹脂を利用し、フォトリソグラフィー法により所
定の位置に凸部を形成する方法や、開口部を有する金属
マスクを利用し、開口部に相当する部分に選択的にスペ
ーサー材を設ける方法などがある。

【００１３】しかし、電極と電極間の電位差によりスペ
ーサー材を選択的に形成する方法は電極の幅の広い場
合、スペーサー材の帯電性等により効果の差が大きく、
さらにスペーサー材の帯電能もスペーサー材の材質によ
り異なるため、スペーサー材の選定が必要になる。

【００１４】また感光性樹脂を利用し、凸部を設ける手
段では、感光性樹脂の凸部の均一性が問題となる。さら
に、凸部が一般的なパッシブマトリクス方式に利用して
いる表示モードでは、たとえばツイストネマチック（Ｔ
Ｎ）方式、またはスーパーツイストネマチック（ＳＴ
Ｎ）方式では、４μｍから７μｍ程度の高さが必要とな
る。そのため、感光性樹脂の膜厚の制御と、粘度との関
係により高さ分布が制御しにくい。

【００１５】ここで、上下の基板に分割して感光性樹脂
の凸部を設ける手段もあるが、凸部を設ける工程が２倍
となり、複雑になる。さらに、凸部を設ける工程によ
り、液晶の配向がみだれ均一な表示が難しくなる。ま
た、金属マスクの開口部を利用し、スペーサーを散布す
る方式では、スペーサーの個数の制御、または金属マス
クと基板との距離、または金属マスクの開口部の目詰ま
りなどによりスペーサーの位置による個数ばらつきが発
生する。

【００１６】〔発明の目的〕本発明の目的は、上記課題
を解決して、上記の液晶表示装置の表示品質を左右する
スペーサー材を所定の位置に簡単に設けるための製造方
法を提供し、液晶表示装置の表示品質の向上を行うため
のものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の液晶表示装置においては、下記記載の製造
方法を採用する。

【００１８】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
表示装置の第１の基板と第２の基板のすくなくとも一方
の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装
置の製造方法であって、第１の基板と第２の基板上のす
くなくとも一方にスペーサーを設ける工程は、磁場によ
り移動可能なスペーサーを第１の基板または第２の基板
上に設ける工程と、第１の基板または第２の基板の裏面
より磁場を印加しスペーサーを所定の位置に移動する工
程と、第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサー
の位置を固定する工程とを有することを特徴とする。

【００１９】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
表示装置の第１の基板と第２の基板のすくなくとも一方
の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装
置の製造方法であって、第１の基板と第２の基板上のす
くなくとも一方にスペーサーを設ける工程は、第１の基
板、あるは第２の基板上に凸部を形成する工程と、磁場
により移動可能なスペーサーを第１の基板または第２の
基板上に設ける工程と、第１の基板または第２の基板の
裏面より磁場を印加しスペーサーを凸部上とその周辺に
移動する工程と、第１の基板と第２の基板とを押しつけ
スペーサーの位置を固定する工程とを有することを特徴
とする。

【００２０】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
表示装置の第１の基板と第２の基板のすくなくとも一方
の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装
置の製造方法であって、第１の基板と第２の基板上のす
くなくとも一方にスペーサーを設ける工程は、第１の基
板または第２の基板上の設ける電極に電圧を印加し、磁
場を発生させながら、磁場により移動可能なスペーサー
を第１の基板または第２の基板上に設け、所定の位置の
近傍にスペーサーを設ける工程と、第１の基板または第
２の基板の裏面より磁場を印加し所定の位置の近傍に位
置するスペーサーを所定の位置に移動する工程と、第１
の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置を固
定する工程とを有することを特徴とする。

【００２１】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
表示装置の第１の基板と第２の基板のすくなくとも一方
の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装
置の製造方法であって、第１の基板と第２の基板上のす
くなくとも一方にスペーサーを設ける工程は、磁場によ
り移動可能なスペーサーを第１の基板または第２の基板
上に設ける工程と、第１の基板または第２の基板の裏面
より磁場を印加しスペーサーを所定の位置に移動する工
程と、磁場により所定の位置に移動不能のスペーサーを
第の基板または第２の基板より除去する工程と、第１の
基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置を固定
する工程とを有することを特徴とする。

【００２２】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
表示装置の第１の基板と第２の基板のすくなくとも一方
の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装
置の製造方法であって、第１の基板と第２の基板のすく
なくとも一方にスペーサーを設ける工程は、磁場により
移動可能なスペーサーを開口部を有する非磁性体からな
る篩いよって所定の位置の近傍にスペーサーを散布する
工程と、第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を
印加しスペーサーを所定の位置に移動する工程と、第１
の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置を固
定する工程とを有することを特徴とする。

【００２３】本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶
表示装置の第１の基板と第２の基板のすくなくとも一方
の基板上にスペーサーを設ける工程を有する液晶表示装
置の製造方法であって、第１の基板と第２の基板上のす
くなくとも一方にスペーサーを設ける工程は、磁場によ
り移動可能なスペーサーを第１の基板または第２の基板
上に設ける工程と、磁性流体を封入する磁性体パターン
形成部と、磁性体パターン形成部の所定の位置とその他
の部分とで磁界の強度が異なる磁性流体の形態を外部磁
場または誘導電界により形成する工程と、第１の基板ま
たは第２の基板の裏面より磁性流体を封入する磁性体パ
ターン形成部により磁場を印加しスペーサーを所定の位
置に移動する工程と、第１の基板と第２の基板とを押し
つけスペーサーの位置を固定する工程とを有することを
特徴とする。

【００２４】本発明の液晶表示装置の製造方法に利用す
るスペーサーは、磁性体または磁化能力を有する金属材
料、または金属材料の周囲に絶縁膜を有する構成からな
ることを特徴とする。

【００２５】本発明の液晶表示装置の製造方法に用いる
磁性膜は、液晶表示装置を構成する光遮蔽膜であり、非
表示領域を遮光するブラックマトリクスであることを特
徴とする。

【００２６】〔作用〕スペーサーに磁場により移動可能
なスペーサー材を利用し、さらに第１の基板または第２
の基板の裏面より所定の場所に磁場を印加し、スペーサ
ーを所定の位置に移動させることにより、目的とする部
分にスペーサーを形成することができる。これとともに
第１の基板と第２の基板とをシール材により加圧および
固定し、スペーサーの位置を固定することにより、磁場
により所定の位置に移動したスペーサーの位置を外部か
らの磁場を除去した後にも固定することができる。

【００２７】さらに、第１の基板または第２の基板上に
凸部を形成し、この凸部上にスペーサーを設ける。この
ことにより液晶表示装置の完成時の第１の基板と第２の
基板との間隙より小さいスペーサーを使用することが可
能となり、スペーサーの凝集等により表示品質の低下を
防止することができる。さらに、凸部の一部に凹部を設
け、スペーサーを磁場により凹部に移動することによ
り、液晶表示装置の完成体後に外力によるスペーサーの
移動を効率よく防止することができる。

【００２８】さらに、スペーサーを磁場により所定の位
置、たとえば表示電極の周囲の非表示領域の光の漏れを
防止し、表示品質の向上を行うブラックマトリクス上に
設ける場合に、磁場を印加した状態にて、たとえばエア
ーを吹き付けることにより不必要なスペーサーを効率よ
く除去することができる。

【００２９】さらに、スペーサーを所定の位置に開口部
を有する篩いを利用し、篩いの開口部よりスペーサーを
第１の基板または第２の基板上にスペーサーを散布する
工程と、磁場によりスペーサーを所定の位置に移動する
工程を併用することにより規則性よくスペーサーを所定
の位置に形成できる。

【００３０】さらに、第１の基板または第２の基板上に
磁性膜を形成し、磁化性を有するスペーサーを利用する
ことにより、外部磁場を利用することなく、所定の位置
にスペーサーを形成することができる。

【００３１】さらに、外部磁場によりスペーサーを移動
するために持ちいる外部磁場は、液晶表示装置の設計
値、たとえば第１の電極または第２の電極の幅により磁
場を発生する部分のパターンが異なるため、磁性流体を
利用する。磁性流体を上基板と下基板との間に設け、外
部磁場により磁性流体の配向性を変化させて磁界の強度
を可変することが可能な磁性流体パターン形成部を利用
する。磁性流体パターン形成部を利用することにより複
雑なパターンはもちろん色々なパターンの液晶表示装置
に対して対応が可能となる。

【００３２】さらに、磁性体と混合する界面活性剤を低
温で高粘度化する材料を利用することにより安定に磁性
流体パターン形成部を利用することができる。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下に本発明の液晶表示装置の製
造方法を実施するための最良の形態を、図面を使用して
説明する。

【００３４】〔第１の実施形態：図１ないし図４〕はじ
めに本発明の第１の実施形態における液晶表示装置の製
造工程を図面に基づいて説明する。図１と図２と図３と
図４とを用いて説明する。図１は本発明の実施形態を示
す液晶表示装置の一部を拡大する平面図である。図２か
ら図４は本発明の図１に示すＡ−Ａ線における断面の工
程順に示す断面図である。以下、図１と図２と図３と図
４とを交互に参照して、本発明の第１の実施形態の製造
方法を説明する。

【００３５】まず、図１に示すように、第１の基板１上
の第１の電極２と第２の基板１１上の第２の電極１４と
が対向し、画素電極部を構成する。

【００３６】この構造を形成するために、図２に示すよ
うに、ガラス基板からなる第１の基板１上には、第１の
電極２となる所定のスペース３を設けて形成するストラ
イプ状の第１の透明導電体４をパターン形成する。第１
の透明導電体４上には、ポリイミド樹脂からなる配向膜
５を形成する。配向膜５上は、たとえば布で擦り微小の
凹凸が形成されている。図２には配向膜５上の凹凸は省
略してある。

【００３７】つぎに図３に示すように、第１の基板１の
第１の電極２を設ける反対の面（裏面）側にゴム板８上
にフェライトをパター形成した磁性パターン９を配置す
る。

【００３８】さらに、芯にニッケル（Ｎｉ）からなる金
属ボールを有し、芯がニッケルの金属ボールの外周に有
機膜からなる絶縁膜を有するスペーサー６を有機溶媒、
たとえばエタノール溶液に分散させ第１の基板１の配向
膜５を形成した面（表面）上に散布する。磁性パターン
９の配置は、第１の電極２と第２の電極４との交点から
なる画素電極部の周囲に配置するため、画素電極部上に
スペーサー６を配置することを防止できる。

【００３９】つぎに図４に示すように、第１の基板１上
のスペーサー６を磁性パターン９により位置を固定して
いる状態にて、透明導電体１４からなる第２の電極１２
と配向膜１５とを有する第２の基板１１をスペーサー６
を介して貼り合わせる。

【００４０】第１の基板１と第２の基板１１とはシール
材（図示せず）により固定され、さらに第１の基板と第
２の基板１１との間に液晶１８を注入し封孔材（図示せ
ず）により密封する。また、第１の電極２と第２の電極
１２の交差部が画素電極部となる。第１の電極２と第２
の電極１２の電極間に所定の電圧を印加して画素電極部
の液晶１８の電圧−透過率変化を利用し、表示を行う。

【００４１】以上の処理工程において、ゴム板８上に設
ける磁性パターン９と第１の基板１上に設ける芯にニッ
ケルボールを有し、その周囲に絶縁膜を有するスペーサ
ー６を利用し、さらに第１の基板１の裏面に磁性パター
ン９を配置し、スペーサー６の位置を固定している状態
で第２の基板１１をスペーサー６を介して重ね合わせて
いる。

【００４２】このことによりスペーサー６の位置を固定
できると同時に、スペーサー６の位置を限定することが
容易に達成できる。さらに、スペーサー６自体に磁性を
有していないため、スペーサー６を散布する際にスペー
サーの相互による吸引または排他することがないため、
第１の基板１上に均一に散布することができる。そのた
め、スペーサー６の周囲に発生する液晶１８の配向不良
を表示に影響しない領域に設けることができるため、表
示品質の向上ができる。

【００４３】さらに、スペーサー６の個数の制御と位置
の制御ができるため、第１の基板１と第２の基板１１と
の間隙の均一性が改善でき、液晶表示装置の表示品質の
均一化ができる。

【００４４】〔第２の実施形態：図５ないし図９〕つぎ
に本発明の第２の実施形態における液晶表示装置の製造
工程を図面に基づいて説明する。図５と図６と図７と図
８と図９とを用いて説明する。

【００４５】以下に説明する第２の実施形態であって
は、第１の基板１上に設けるブラックマトリクス２１に
電流を印加し誘起磁場を発生させ、スペーサー６を所定
の位置に設けることを特徴とする。図５は本発明の第２
の実施形態を示す液晶表示装置の一部を拡大する平面図
である。さらに、図６は、第１の基板１を傾斜して示す
断面図であり、図７と図８と図９は、図５に示すＢ−Ｂ
線における断面図である。以下に図５と図６と図７と図
８と図９とを用いて本発明の第２の実施形態を説明す
る。また、第１の実施形態と同様な工程においては、第
１の実施形態の図面を参照し、第２の実施形態を説明す
る。

【００４６】まずはじめに第１の基板１上には、クロム
（Ｃｒ）膜を全面に設けてストライプ上にパターン形成
し、ブラックマトリクス２１を形成する。ブラックマト
リクス２１は、画素電極部の周囲の遮光に利用する。さ
らに、ブラックマトリクス２１上と第１の基板１上には
ポリイミド樹脂からなる層間絶縁膜１６を形成する。さ
らに、層間絶縁膜１６上には透明導電体４からなる第１
の電極２を形成する。

【００４７】図６に示すように、第１の電極２は表示領
域においてはストライプ状を有し、さらに第１の基板１
の両端においては、第１の電極２の交互の配線が相互に
接続され、一方が陽極１７であり、他方が陰極１９とな
る。ここで陽極１７と陰極１９間に電流を流すことこと
により、第１の電極２の周囲に誘起磁場が発生する。

【００４８】つぎに、図７に示すように、誘起磁場を発
生させた状態にて、芯に金属ボールを有し、周囲に絶縁
膜を被服するスペーサー６を散布する。以上によりブラ
ックマトリクス２１上、およびその周囲にスペーサー６
を選択的に散布することができる。

【００４９】この状態においても、スペーサー６を画素
電極部の周囲に選択的に設けることができるため、表示
品質に関してはかなりの改善が見られるが、この第２の
実施形態においては、さらに第１の基板１の裏面側より
ゴム板８と磁性パターン９とを利用しスペーサー６を再
調整する構成を採用する。

【００５０】つぎに、図８に示すように、第１の基板１
の裏面側よりゴム板８と磁性パターン９とを利用し、余
分のスペーサー６（２４）を吹き付けノズル２２と吹き
付けノズル２２からの加圧窒素（Ｎ２）または加圧空気
２３により除去する工程を採用する。

【００５１】スペーサー６の散布中に誘起磁場のみを利
用するだけでは第１の電極２の幅寸法が広く、第１の電
極２の中央部付近に散布されてくるスペーサー６をブラ
ックマトリクス２１上に誘導することが難しくなり、ど
うしても余分のスペーサー６（２４）がブラックマトリ
クス２１外に発生しやすくなる。そのため、第１の基板
１の裏面に磁性パターン９を配置し、所定の位置のスペ
ーサー６を吸着する状態にて加圧空気２３を第１の基板
１上の配向膜５に吹き付ける工程により余分のスペーサ
ー６（２４）を第１の基板から除去することができる。

【００５２】つぎに図９に示すように、第１の基板１上
のスペース６を磁性パターン９により位置を固定してい
る状態にて、透明導電体１４からなる第２の電極１２と
配向膜１５とを有する第２の基板１１をスペーサー６を
介して貼り合わせる。

【００５３】第１の基板１と第２の基板１１とはシール
材（図示せず）により固定され、さらに第１の基板と第
２の基板１１との間に液晶１８を注入し封孔材（図示せ
ず）により密封する。また、第１の電極２と第２の電極
１２の交差部が画素電極部となる。第１の電極２と第２
の電極１２の電極間に所定の電圧を印加して画素電極部
の液晶１８の電圧−透過率変化を利用し、表示を行う。

【００５４】以上の説明から明かなように、ブラックマ
トリクス２１をストライプ状に形成し、電流を流し誘起
磁場を発生させ、さらにスペーサー６を散布する工程を
採用する。この工程により、スペーサーをブラックマト
リクス２１上、およびブラックマトリクス２１の周囲に
配置することができる。

【００５５】また、基板上に形成するブラックマトリク
ス２１を利用しスペーサー６をブラックマトリクス上に
移動することが可能なため、自己整合的にスペーサー６
とブラックマトリクス２１とが配置できる。このため、
とくに複雑な工程の必要がない。

【００５６】また、スペーサー６を散布中または散布直
後に磁場を印加し、スペーサー６を所定の位置に移動す
ることにより、第１の基板１または第２の基板１１とス
ペーサー６との吸着力の弱い状態でスペーサー２１を移
動できる。このため、弱い磁場においても有効にスペー
サー６の移動が可能である。

【００５７】さらに、以上の工程においても充分効果が
得られるが、とくにたとえば第１の電極２の幅がスペー
サー６に比較し数倍程度大きい場合、あるいはブラック
マトリクス２１と第１の電極２との幅の比率がほぼ２以
上ある場合には、誘起磁場が弱くスペーサー６をブラッ
クマトリクス２１上まで誘導できない。このため第１の
基板１の裏面側に設ける磁性パターン９と吹き付けノズ
ル２２からの加圧空気２３を利用し余分のスペーサー６
（２４）を第１の基板１上より除去することにより非常
に精度よく、さらに均一にスペーサー６をブラックマト
リクス２１上に設けることができる。

【００５８】そのため、スペーサー６の個数の制御と位
置の制御ができるため、第１の基板１と第２の基板１１
との間隙の均一性が改善でき、液晶表示装置の表示品質
の均一化ができる。

【００５９】〔第３の実施形態：図１０〕つぎに本発明
の第３の実施形態における液晶表示装置の製造工程を図
面に基づいて説明する。

【００６０】以下に説明する第３の実施形態において
は、所定の位置にスペーサー６を設けることはもちろ
ん、さらに、スペーサー６を効率よく利用する方法を提
供する。図１０は本発明の第３の実施形態を示す液晶表
示装置の断面図である。第２の実施形態のＢ−Ｂ線に相
当する断面図であり、第１の実施形態と同様な工程にお
いては、第１の実施形態の図面を参照し、第３の実施形
態を説明する。

【００６１】まず第１の基板１上には、クロム（Ｃｒ）
膜を全面に設けて第１の電極２と第２の電極（図示せ
ず）との交差部からなる画素電極部を開口する形状にパ
ターン形成し、ブラックマトリクス２１とする。このブ
ラックマトリクス２１は、画素電極部の周囲の遮光に利
用する。

【００６２】さらに、ブラックマトリクス２１上と第１
の基板１上にはアクリル樹脂からなる層間絶縁膜１６を
形成する。さらに、層間絶縁膜１６上には透明導電体４
からなる第１の電極２を形成する。さらに、第１の基板
１上には液晶（図示せず）を規則的に配向するための配
向膜５を形成する。

【００６３】つぎに図１０に示すように、以上の工程に
より形成する第１の基板１上にスペーサー６を設ける。
第１の基板１の裏面にセラミックス板８とセラミックス
板８上に設ける磁性パターン９を配置する。

【００６４】セラミックス板８には凹凸が設けてあり、
凸部上に磁性パターン９が形成されている。この凸部上
に磁性パターン９を形成することによりセラミックス板
８上にゴミ等の突起物が付着することによる第１の基板
１へのゴミの転写や傷の発生を防止できるばかりでな
く、製造工程中にスペーサー６がセラミックス板８に付
着し、第１の基板１の裏面にスペーサー６が付着するた
め、凸部を設け、スペーサー６またはゴミを凹部に落と
し込む方法を採用した。

【００６５】さらに第１の基板１と平行するように設け
るスクリーン２５と、このスクリーン２５に設けるスク
リーン孔部２６を用いて、スペーサー６を第１の基板１
上に散布する。スクリーン孔部２６は、第１の基板１上
のブラックマトリクス２１の一部と対応する部分にのみ
形成されている。そのため、スペーサー６を必要とする
部分にのみスクリーン孔部２６を利用し散布することが
できる。

【００６６】またスペーサー６をスクリーン２５上にす
くなくとも１層以上並ぶ量を設け、スキージにて平坦化
処理を行い、スクリーン２５上のスペーサー６を均一に
配置する。スクリーン孔部２６の形状は、第１の基板１
に面する側を小さく、反対の側を大きくすり鉢状に形成
し、さらにスクリーン孔部２６の孔径はスペーサー６の
径とほぼ同等または１０％から４０％程度大きくする。

【００６７】さらに、スペーサー６の多数個の第１の基
板１への付着を防止するため、スクリーン２５を第１の
基板１から除去する際にはスペーサー６をスクリーン２
５上より除去する工程を採用する。除去する方法は、ス
ペーサー６を磁場により吸引する方法や、減圧吸引を利
用する方法を使用する。第１の基板１の裏面の磁性パタ
ーン９によりスペーサー６は吸着されているため、スク
リーン孔部２６のスペーサー６は第１の基板１上に維持
できる。

【００６８】以上の工程を採用することにより、不要な
スペーサーを散布する必要がないため、スペーサー６の
使用量を非常に節約することができる。さらに、スクリ
ーン孔部２６のみを利用する場合に比較し、第１の基板
１の裏面に磁性パターン９を有しているため、スペーサ
ー６を強制的に引き出す効果があるため、スクリーン孔
部２６の目詰まりの防止または目詰まりが発生した場合
においてもスペーサー６をスクリーン孔部２６より強制
的に吸い出すことができるため均一にスペーサー６を供
給することができる。

【００６９】以上説明した本発明の第３の実施形態にお
いても、第１または第２の実施形態と同様に、第１の基
板１上のスペース６を磁性パターン９により位置を固定
している状態にて、透明導電体からなる第２の電極を有
する第２の基板をスペーサー６を介して貼り合わせる。
第１の基板１と第２の基板とはシール材（図示せず）に
より固定され、さらに第１の基板１と第２の基板との間
に液晶を注入し封孔材（図示せず）により密封する。

【００７０】また、第１の電極２と第２の電極の交差部
が画素電極部となる。第１の電極２と第２の電極の電極
間に所定の電圧を印加して画素電極部の液晶の電圧−透
過率変化を利用し表示を行う。

【００７１】以上の説明から明かなように、スクリーン
２５によるスペーサー６の有効利用と、磁性パターン９
により、スクリーン２５に設けるスクリーン孔部２６の
目詰まりの防止、またはスペーサー６を所定の位置に設
ける効果がある。このため、非常に経済的である。

【００７２】さらに、スペーサー６の個数の制御と位置
の制御ができるため、第１の基板１と第２の基板１１と
の間隙の均一性が改善でき、液晶表示装置の表示品質の
均一化ができる。

【００７３】〔第４の実施形態：図１１〕つぎに本発明
の第４の実施形態における液晶表示装置の製造工程を図
面に基づいて説明する。

【００７４】以下に説明する第４の実施形態において
は、所定の位置にスペーサー６を設けることはもちろ
ん、さらに、スペーサー６を第１の基板１上に固定する
方法を提供する。図１１は本発明の第４の実施形態を示
す液晶表示装置の断面図である。第１の実施形態のＡ−
Ａ線に相当する断面図であり、第１の実施形態と同様な
工程においては、第１の実施形態の図面を参照し、第４
の実施形態を説明する。

【００７５】まず第１の基板１上には、透明導電体４か
らなる第１の電極２を形成する。さらに、第１の基板１
上には液晶（図示せず）を規則的に配向するための配向
膜５を形成する。

【００７６】つぎに、図１１に示すように、以上の工程
により形成する第１の基板１上にスペーサー６を設け
る。第１の基板１の裏面に、ゴム板８とゴム板８上に設
ける磁性パターン９を配置する。ゴム板８には凹凸が設
けてあり、凸部上に磁性パターン９が形成されている。

【００７７】この凸部上に磁性パターン９を形成するこ
とによりゴム板８上にゴミなどの突起物が付着すること
による第１の基板１へのゴミの転写や傷の発生を防止で
きるばかりでなく、製造工程中にスペーサー６がゴム板
８に付着し、第１の基板１の裏面にスペーサー６が付着
する。このため、凸部を設け、スペーサー６またはゴミ
を凹部に落とし込む方法を採用した。

【００７８】さらに、ゴム性にすることにより小さなゴ
ミをゴムの内部に吸収できると同時に、第１の基板１の
裏面の凹凸に対して自己整合するため、第１の基板１に
押し当てても第１の基板１を変形することがないため有
効である。

【００７９】この第４の実施形態に利用するスペーサー
６は、芯となる磁化性金属の表面に感光性有機絶縁膜２
７を形成している。図１１に示すように、スペーサー６
を第１の基板１上の所定の位置に磁性パターン９を利用
し形成する工程を行った後に、第１の基板１の表面側よ
り光を照射し、スペーサー６を構成する感光性有機絶縁
膜２７を溶融し、変形感光性有機絶縁膜２８となり第１
の基板１上の配向膜５と接着する。この図１１には、光
源２９からの光照射前後のスペーサー６の状況を図示し
てある。

【００８０】以上説明した実施形態により、第２の基板
を第１の基板上に重ね合わせスペーサー６の位置を固定
する必要が無くなるため、工程の簡略化が可能となる。

【００８１】〔本発明で適用するスペーサー構造：図１
２〕ここで、本発明の実施形態に利用するスペーサー６
の構造を図面に基づいて簡単に説明する。図１２は、ス
ペーサー６の構造を示す断面図である。以下に図１２に
基づいて説明する。

【００８２】スペーサー６の芯はニッケル（Ｎｉ）金属
の真球ボールからなるスペーサー核３０を有する。この
作成方法は、液状の金属ニッケルを空気中にスペーサー
６の径よりわずかかに大きな径のノズルより噴霧し、ほ
ぼ形状を規定した後に、ボールミルによりほぼ目的の形
状に整え、さらに、絶縁性のミクロボールからなる絶縁
層３１をニッケル上にコーティングしてスペーサー６と
する。この絶縁層３１として感光性有機絶縁膜、または
マイクロカプセル内に感光性有機絶縁膜を密封する方法
もある。

【００８３】実際にスペーサー６として利用する場合に
は、スペーサー６の粒径の分布を小さくするため、遠心
分離器を利用する。別のスペーサー６の実施形態とし
て、陽極酸化性金属、たとえばタンタル（Ｔａ）、チタ
ン（Ｔｉ）と鉄（Ｆｅ）との合金を利用し、合金からな
るスペーサー核３０上に陽極酸化膜からなる絶縁層３１
を形成する方法がある。また、プラスチックからなるス
ペーサー核３０上に金属膜３１をメッキ法で形成し、磁
化性を設ける方法も利用できる。

【００８４】〔第５の実施形態：図１３および図１４〕
つぎに本発明の第５の実施形態における液晶表示装置の
製造工程を図面に基づいて説明する。第５の実施形態を
図１３と図１４とを用いて説明する。

【００８５】第５の実施形態においては、第１の基板１
上に設けるブラックマトリクス２１を非磁化性にするた
め有機感光性樹脂に顔料を混ぜて利用する有機ブラック
マトリクス２１を利用する方法を採用する。図１３は、
本発明の第５の実施形態を示す液晶表示装置の一部の拡
大する平面図である。さらに、図１４は、図１３に示す
Ｃ−Ｃ線における断面図である。以下に図１３と図１４
とを用いて発明の第５の実施形態を説明する。また、第
１の実施形態または第２の実施形態と同様な工程におい
ては、第１、または第２の実施形態の図面を参照し、第
５の実施形態を説明する。

【００８６】まず第１の基板１上には、有機感光性樹脂
に顔料を混ぜた有機ブラックマトリクス材料膜を全面に
設けて第１の電極２と第２の電極（図示せず）との交差
部からなる画素電極部と画素電極部の周囲に光照射用窓
３６を開口する形状にパターン形成し、有機ブラックマ
トリクス２１とする。ブラックマトリクス２１は、画素
電極部の周囲の遮光と磁化性の膜のパターン形成に利用
する。

【００８７】さらに、ブラックマトリクス２１上と第１
の基板１上にはアクリル樹脂からなる層間絶縁膜１６を
形成する。さらに、層間絶縁膜１６上には透明導電体４
からなる第１の電極２を形成する。さらに、第１の基板
１上には液晶（図示せず）を規則的に配向するための配
向膜５を形成する。

【００８８】つぎに図１４に示すように、以上の工程に
より形成する第１の基板１上に感光性樹脂に磁性体粒子
としてフェライト材からなる微粒子を混入し、印刷法を
利用し有機ブラックマトリクス２１の光照射窓３６の周
囲に磁化膜３２を形成する。さらに、有機ブラックマト
リクス２１の光照射窓３６を利用し、第１の基板の裏面
より光を照射し感光性樹脂を現像し、不要な部分の磁化
膜３２を除去する。

【００８９】印刷法によりほぼ必要な部分への磁化膜３
２の形成が可能なため、材料の節約が可能となり、さら
に、有機ブラックマトリクス２１の光照射窓３６による
自己整合的露光処理によりさらに精度よく磁化膜３２を
形成できる。

【００９０】つぎにスペーサー６を第１の基板１の表面
より散布することによって、有機ブラックマトリクス２
１上の磁化膜３２の周囲にスペーサー６が集中して形成
できる。さらに、不要なスペーサーが画素電極部に形成
された場合には、加圧空気または湿式洗浄を利用し不要
スペーサーを除去することができる。

【００９１】従来技術のスペーサー散布方法では、スペ
ーサーを散布した後に基板の洗浄、または加圧空気によ
る表面清浄処理はきわめて難しかったが、この実施形態
により可能となる。

【００９２】以上の説明から明かなように、スペーサー
６の位置を基板上に設ける磁化膜３２により固定するこ
とができる。さらに、スペーサー６を磁化膜３２で固定
することにより不要のスペーサーの除去と配向膜５の表
面の清浄化が可能となり、不純物の除去およびゴミの除
去が可能となる。

【００９３】さらに、スペーサー６自体に磁性を有して
いないため、スペーサー６自体を散布する際に相互に磁
界により吸引または排他することがないため、第１の基
板１上に均一に散布することができる。そのため、スペ
ーサー６の周囲に発生する液晶１８の配向不良を表示に
影響しない領域に設けることができるため、表示品質の
向上ができる。

【００９４】さらに、スペーサー６の個数の制御と位置
の制御ができるため、第１の基板１と第２の基板との間
隙の均一性が改善でき、液晶表示装置の表示品質の均一
化ができる。

【００９５】〔第６の実施形態：図１５および図１６〕
つぎに本発明の第６の実施形態における液晶表示装置の
製造工程を図面に基づいて説明する。第６の実施形態を
図１５と図１６とを用いて説明する。

【００９６】第６の実施形態においては、第１の基板１
上に設けるブラックマトリクス２１を非磁化性にするた
め有機感光性樹脂に顔料を混ぜて利用する有機ブラック
マトリクス２１を利用する方法を採用する。図１５と図
１６とは、本発明の第６の実施形態を示す液晶表示装置
の一部の拡大する断面図である。以下に図１５と図１６
とを用いて本発明の第６の実施形態を説明する。また、
第１の実施形態または第２の実施形態と同様な工程にお
いては、第１、または第２の実施形態の図面を参照し、
第６の実施形態を説明する。

【００９７】まずはじめに第１の基板１上には、有機感
光性樹脂に顔料を混ぜた有機ブラックマトリクス材料膜
を全面に設けて、第１の電極２と第２の電極との交差部
からなる画素電極部と画素電極部を開口する形状にパタ
ーン形成し、有機ブラックマトリクス２１とする。ブラ
ックマトリクス２１は、画素電極部の周囲の遮光を行
う。

【００９８】さらに第１の基板２上には、有機ブラック
マトリクス２１と有機ブラックマトリクス２１の一部と
重なり合い、しかも画素電極部に設けるカラーフイルタ
ーカラーフイルター３３とカラーフイルター３４とカラ
ーフイルター３５とを有し、カラーフイルター３３とカ
ラーフイルター３４とカラーフイルター３５とは、赤カ
ラーフイルター３３、緑カラーフィルター３４と青カラ
ーフィルター３５となる。

【００９９】さらに、有機ブラックマトリクス２１の一
部で、赤カラーフィルター３３、と緑カラーフイルター
３４、または青カラーフィルター３５とは、すくなくと
も２色以上が相互に重なり合う重なり部３７を形成す
る。また、重なり部３７の高さはほぼ均一とする。

【０１００】さらに、透明導電体４からなる第１の電極
２をパターン形成し、さらに液晶１８を規則的に配列す
るための配向膜５を形成する。配向膜５は、カラーフイ
ルター３３、３４の重なり部３７の厚さが、画素電極部
上のカラーフイルターより厚いため、配向性を重視し光
照射により配向を行う方法を採用した。

【０１０１】以上により形成する第１の基板１上にスペ
ーサー６を散布する工程において、第１の基板１の裏面
よりゴム板８上の磁性パターン９をカラーフィルターの
重なり部３７に相当する部分に軽く押し当て、第１の基
板１を介してカラーフィルターの重なり部３７に磁界を
印加することにより小さいスペーサー６をカラーフィル
ターの重なり部３７上に有効に吸着することが可能とな
る。

【０１０２】つぎに、図１６に示すように、第１の基板
１上のスペース６を磁性パターン９により位置を固定し
ている状態において、第２の電極１２と配向膜１５を有
する第２の基板１１をスペーサー６とカラーフイルター
の重なり部３７を介して貼り合わせる。第１の基板１と
第２の基板１１とは、シール材（図示せず）を使用する
ことよって固定させる。

【０１０３】さらに、第１の基板と第２の基板１１との
間に液晶１８を注入し封孔材（図示せず）により密封す
る。また、第１の電極２と第２の電極１２の交差部が画
素電極部となる。第１の電極２と第２の電極１２の電極
間に所定の電圧を印加して画素電極部の液晶１８の電圧
−透過率変化を利用し、表示を行う。

【０１０４】以上の工程により、ゴム板８上に設ける磁
性パターン９と第１の基板１上に設けるカラーフィルタ
ーの重なり部３７と、さらに第１の基板１の裏面に磁性
パターン９を配置し、スペーサー６の位置を固定してい
る状態で第２の基板１１をスペーサー６を介して重ね合
わせることによりスペーサー６の位置を固定できると同
時に、スペーサー６の位置を限定することが容易に達成
できる。

【０１０５】さらに、スペーサー６自体に磁性を有して
いない。このため、スペーサー６自体を散布する際に相
互に磁界により吸引、または排他することがないため、
第１の基板１上に均一に散布することができる。したが
って、スペーサー６の周囲に発生する液晶１８の配向不
良等を表示に影響しない領域に設けることができるた
め、液晶表示装置の表示品質の向上ができる。

【０１０６】さらにスペーサー６の粒径は、たとえばカ
ラーフィルター３３、３４の重なり部３７が、表示画素
部より凸部になるため、第１の電極２の間隙、および第
２の電極１２の間隙、および従来の第１の基板１と第２
の基板１１の間隙より非常に小さくすることが可能なた
め、金属ボールからなるスペーサー６の使用を可能とす
るため、スペーサー６の利用範囲を広げるかとが可能と
なり、非常に容易にスペーサー６を形成できる。

【０１０７】さらに、スペーサー６の粒径が小さいた
め、不要なスペーサー６が画素電極部に飛散しても表示
品質を低下することを防止できる。

【０１０８】さらに、スペーサー６の個数の制御と位置
の制御ができるため、第１の基板１と第２の基板１１と
の間隙の均一性が改善でき、液晶表示装置の表示品質の
均一化ができる。

【０１０９】またこの第６の実施形態においては、第２
の基板１１上には、第２の電極１２と配向膜１５とを形
成する基板１１を用いたが、第１の基板１のカラーフィ
ルターの重なり部３７に相当する部分に凸部を形成する
ことにより、さらに粒径の小さいスペーサー６の使用を
可能とする。

【０１１０】さらに、第２の基板１１の凸部は、たとえ
ばアクティブマトリクス型の基板の場合には、アクティ
ブ素子を構成する膜のすくなくとも一部を利用すること
により工程の負荷を大きくすることなく簡単に第２の基
板１１上に凸部を形成することができる。

【０１１１】〔第７の実施形態：図１７ないし図１９〕
つぎに本発明の第７の実施形態における液晶表示装置の
製造工程を図面に基づいて説明する。第７の実施形態を
図１７と図１８と図１９とを用いて説明する。

【０１１２】以下に説明する第７の実施形態において
は、第１の基板１の裏面よりスペーサー６に磁界を印加
する方法に磁界のパターン形成が可能な磁性流体４３を
利用するものである。図１７は磁性流体パターン形成部
の一部を拡大して示す平面図であり、図１８は、図１７
のＤ−Ｄ線における断面図である。図１９、は磁性流体
４３を利用する磁性体パターン形成部を液晶表示装置に
利用する場合の断面図である。以下に図１７と図１８と
図１９とを用いて本発明の第７の実施形態を説明する。
また、第１の実施形態または第２の実施形態と同様な工
程においては、第１、または第２の実施形態の図面を参
照し、第７の実施形態を説明する。

【０１１３】まずはじめに磁性流体パターン形成部の製
造方法を簡単に説明する。磁性流体４３は金属微粒子ま
たは金属酸化物微粒子（フェライト微粒子）等を界面活
性剤中に分散させて比重の大きい磁性体を溶媒中に均一
に分散させる溶液からなる。

【０１１４】磁性流体４３を磁性流体パターン形成部と
して利用する場合には、図１８に示すように、上基板４
１と下基板４２をギャップ材５０により所定の間隙を設
けるように対向させシール材（図示せず）により固定
し、上基板４１と下基板４２の間に磁性流体４３を封入
することにより形成できる。

【０１１５】また、所定の部分の磁性流体４３の磁界を
強くするために、外部磁場４５を下基板２の磁性流体４
３と反対の面（裏面）より印加し、さらに、目的の方向
（走引方向）４９に外部磁界４５を印加し続けることに
より磁性流体４３の磁界の配向状態の強い領域（オン領
域）４６と走引方向４９により徐々に配向が改善される
領域４７と外部磁場４５の印加されていない領域（オフ
領域）４８とが図１８に示すように形成できる。ここ
で、たとえば磁性流体４３に紫外線硬化型高分子樹脂を
混合しておくことにより、以上の状態を紫外線により固
定化することができる。

【０１１６】以上により形成した磁性流体パターン形成
部をスペーサー６の位置を特性するための領域に利用す
ることにより、微細なパターンにおいてもかなり自由に
磁界の発生部を形成することができる。

【０１１７】つぎに、図１９に示すように、第１の基板
１の裏面に配置する磁性流体パターン形成部の磁界のオ
ン領域４６とオフ領域４８の磁界の強弱を利用すること
により、スペーサー６の位置を固定している状態にて、
第２の電極１２と配向膜１５を有する第２の基板１１を
貼り合わせる。

【０１１８】第１の基板１と第２の基板１１とはシール
材（図示せず）により固定され、さらに第１の基板と第
２の基板１１との間に液晶１８を注入し封孔材（図示せ
ず）により密封する。また、第１の電極２と第２の電極
１２の交差部が画素電極部となる。第１の電極２と第２
の電極１２の電極間に所定の電圧を印加して画素電極部
の液晶１８の電圧−透過率変化を利用し、表示を行う。

【０１１９】以上の工程に示すように、磁性流体パター
ン形成部の配向の強弱すなわち、磁界のオン領域４６と
磁界のオフ領域４８を同一平面内に形成することができ
るため、第１の基板に対して磁性流体パターン形成部が
均一に接触するため、微細なパターンに適合する。さら
に、磁性流体パターン形成部のオン領域４６とオフ領域
４８を温度処理または磁界により可逆的に利用できるた
め、とくに大型化する液晶表示装置への応用では、磁界
の発生箇所の制御性と製造コストの面で有効である。

【０１２０】

【発明の効果】以上の説明から明かなように、本発明で
は磁性パターンを第１の基板の裏面に配置し、磁性パタ
ーンより磁界を印加し、所定の位置に簡単に磁化性のス
ペーサー６を配置することができる。そのため、スペー
サーの個数の制御と位置の制御ができるため、第１の基
板と第２の基板との間隙の均一性が改善でき、液晶表示
装置の表示品質の均一化ができる。

【０１２１】さらに、磁性パターンによりスペーサーを
第１の基板上に固定している状態で第１の基板と第２の
基板とを張り合わせることによりスペーサーの位置をさ
らに固定できる。そのため、とくにスペーサー、または
基板上に固定を行うための処理を必要としない。

【０１２２】さらに、第１の基板に発生する磁界により
スペーサーを吸着することにより、不要なスペーサーの
除去、または第１の基板上のゴミ等の汚染物の除去を可
能とし、液晶への汚染を有効的に防止できる。

【０１２３】さらに、スクリーンに設けるスクリーン孔
部を利用し、スペーサーを第１の基板の所定の位置に発
生する磁界を利用し散布することにより、スペーサーを
有効に利用することができる。さらに、従来に比較し、
磁界により強制的にスペーサーをスクリーン孔部により
吸引するため、スクリーン孔部の目詰まりを防止でき、
非常に再現性良くスペーサーを散布することができる。

【０１２４】さらに、ブラックマトリクスを非磁性体で
ある有機ブラックマトリクスとし、さらに、所定の位置
に開口部を設け、開口部と自己整合的に感光性樹脂に磁
性体を含む磁化膜を形成し、スペーサーを磁化膜により
吸着することにより、位置精度を非常に向上することが
できる。

【０１２５】さらに、第１の基板と第２の基板上に凸部
またはカラーフイルターの重なり部を形成し、さらに、
基板上に形成する凸部、または重なり部の位置に磁界を
発生させる工程を採用することにより、スペーサーの粒
径を非常に小さくすることが可能となり、磁界により有
効に吸着できる。さらに、スペーサーを認識し難くする
ことができるため、液晶表示装置の表示品質の向上が可
能となる。

【０１２６】さらに、磁界の発生部に磁性流体を利用す
る磁性流体パターン形成部を採用することにより、微細
な磁界の発生部分を大きな面積に同時に形成することが
できるため、大きな面積に短時間にスペーサーを目的と
する箇所の固定化することができる。さらに、磁性流体
に温度処理または磁界処理により再使用が可能となるた
め、非常に経済的になる。

【０１２７】本発明の実施形態においては、第１の基板
の裏面に磁性パターンを配置する工程を利用し説明した
が、第１の基板に限定するものではなく、第２の基板の
裏面に磁性パターンを配置しても、以上説明した本発明
の効果は得られる。

【０１２８】さらに、本発明の実施形態は、各画素電極
部に非線形抵抗素子をもたない、いわゆるパッシブマト
リクス方式に関して説明を行ったが、各画素電極部に非
線形抵抗素子を有する場合アクティブマトリクス型にお
いても、以上説明した本発明の実施形態を適用すれば、
本発明の効果は得られる。

【０１２９】さらに、本発明の実施形態においては、液
晶としてツイストネマティック液晶等を利用したが、反
強誘電性液晶、または液晶自体に閾値特性をほとんど示
さない無閾値型反強誘電性液晶と本発明を組み合わせる
ことにより、液晶の配向状態と階調表示の均一性が重要
なため、表示画素部にスペーサー６を配置しないこと
は、表示品質の向上と均一性の両面で非常に効果がある
ことが実験でわかり、非常に有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態における液晶表示装
置の一部を拡大して示す平面図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態における液晶表示装
置の製造方法を示す断面図である。

【図３】本発明の第１の実施の形態における液晶表示装
置の製造方法を示す断面図である。

【図４】本発明の第１の実施の形態における液晶表示装
置の製造方法を示す断面図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態における液晶表示装
置の一部を拡大して示す平面図である。

【図６】本発明の第２の実施の形態における液晶表示装
置の一部を拡大して示す図面である。

【図７】本発明の第２の実施の形態における液晶表示装
置の製造方法を示す断面図である。

【図８】本発明の第２の実施の形態における液晶表示装
置の製造方法を示す断面図である。

【図９】本発明の第２の実施の形態における液晶表示装
置の製造方法を示す断面図である。

【図１０】本発明の第３の実施の形態における液晶表示
装置の製造方法の一部を示す断面図である。

【図１１】本発明の第４の実施の形態における液晶表示
装置の製造方法の一部を示す断面図である。

【図１２】本発明の実施形態に利用するスペーサーを示
す断面図である。

【図１３】本発明の第５の実施の形態における液晶表示
装置の一部を拡大して示す平面図である。

【図１４】本発明の第５の実施の形態における液晶表示
装置の製造方法を示す断面図である。

【図１５】本発明の第６の実施の形態における液晶表示
装置の製造方法を示す断面図である。

【図１６】本発明の第６の実施の形態における液晶表示
装置の製造方法を示す断面図である。

【図１７】本発明の第７の実施の形態に利用する磁性流
体パターン形成部の一部を拡大して示す平面図である。

【図１８】本発明の第７の実施の形態に利用する磁性流
体パターン形成部を示す断面図である。

【図１９】本発明の第７の実施の形態における液晶表示
装置の製造方法を示す断面図である。

【符号の説明】

１ 第１の基板 ２ 第１の電極 ３ スペース ５ 配向膜 ６ スペーサー １１ 第２の基板 １２ 第２の電極 １５ 配向膜 １８ 液晶 ２１ ブラックマトリクス ３２ 磁化膜 ３０ スペーサー核 ３１ 絶縁層 ３５ 重なり部 ４３ 磁性流体 ４５ 外部磁場 ４６ オン領域 ４８ オフ領域 ５０ ギャップ材

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 磁場により移動可能なスペーサーを第１の基板または第
   ２の基板上に設ける工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を印加しス
   ペーサーを所定の位置に移動する工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
2. 【請求項２】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 第１の基板または第２の基板上に凸部を形成する工程
   と、 磁場により移動可能なスペーサーを第１の基板または第
   ２の基板上に設ける工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を印加しス
   ペーサーを凸部上とその周辺に移動する工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
3. 【請求項３】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 第１の基板、あるは第２の基板上に凸部と凸部の一部に
   凹部とを形成する工程と、 磁場により移動可能なスペーサーを第１の基板または第
   ２の基板上に設ける工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を印加しス
   ペーサーを凸部の一部に設ける凹部上に移動する工程
   と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
4. 【請求項４】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 第１の基板または第２の基板上に設ける電極に電圧を印
   加し、磁場を発生させながら、磁場により移動可能なス
   ペーサーを第１の基板または第２の基板上に設け、所定
   の位置に近傍にスペーサーを設ける工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を印加し所
   定の位置の近傍に位置するスペーサーを所定の位置に移
   動する工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
5. 【請求項５】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 磁場により移動可能なスペーサーを第１の基板または第
   ２の基板上に設ける工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を印加しス
   ペーサーを所定の位置に移動する工程と、 磁場により所定の位置に移動不能のスペーサーを第の基
   板または第２の基板より除去する工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
6. 【請求項６】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 磁場により移動可能なスペーサーを開口部を有する非磁
   性体からなる篩いより所定の位置の近傍にスペーサーを
   散布する工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁場を印加しス
   ペーサーを所定の位置に移動する工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
7. 【請求項７】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 磁場により移動可能なスペーサーを第１の基板または第
   ２の基板上に設ける工程と、 磁性流体を封入する磁性体パターン形成部と、磁性体パ
   ターン形成部の所定の位置とその他の部分とで磁界の強
   度が異なる磁性流体の形態を外部磁場または誘導電界に
   より形成する工程と、 第１の基板または第２の基板の裏面より磁性流体を封入
   する磁性体パターン形成部により磁場を印加しスペーサ
   ーを所定の位置に移動する工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
8. 【請求項８】 液晶表示装置の第１の基板と第２の基板
   のすくなくとも一方の基板上にスペーサーを設ける工程
   を有する液晶表示装置の製造方法であって、 第１の基板と第２の基板上のすくなくとも一方にスペー
   サーを設ける工程は、 第１の基板または第２の基板上に設ける磁性膜を設ける
   工程と、 磁場により移動可能なスペーサーを第１の基板または第
   ２の基板上の磁性膜上に設ける工程と、 第１の基板と第２の基板とを押しつけスペーサーの位置
   を固定する工程とを有することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
9. 【請求項９】 磁性膜は液晶表示装置を構成する光遮蔽
   膜であり、非表示領域を遮光するブラックマトリクスで
   あることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の
   製造方法。
10. 【請求項１０】 スペーサーは磁性体または磁化能力を
    有する金属材料からなることを特徴とする請求項１ない
    し９のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 【請求項１１】 スペーサーは磁性体または磁化能力を
    有する金属材料からなる核の部分と、核の周囲に設ける
    絶縁膜とからなることを特徴とする請求項１ないし９の
    いずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
12. 【請求項１２】 スペーサーは磁性体または磁化能力を
    有する金属材料からなる核の部分と核の周囲に設ける絶
    縁膜とからなり、 スペーサーを所定の位置に工程する際に、磁場を印加し
    た状態であって、熱または光により絶縁膜の一部を溶解
    し、第１の基板または第２の基板上に固定することを特
    徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の液
    晶表示装置の製造方法。