JPH10250075A - Method and unit for jetting recording liquid for printer head - Google Patents

Method and unit for jetting recording liquid for printer head

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JPH10250075A
JPH10250075A JP9321278A JP32127897A JPH10250075A JP H10250075 A JPH10250075 A JP H10250075A JP 9321278 A JP9321278 A JP 9321278A JP 32127897 A JP32127897 A JP 32127897A JP H10250075 A JPH10250075 A JP H10250075A
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shape memory
thin film
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recording liquid
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    • B41J2002/14346Ejection by pressure produced by thermal deformation of ink chamber, e.g. buckling

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance reliability and mass productivity by varying the pressure in a liquid chamber through deformation of a thin film shape-memory alloy taking place during phase variation process and jetting a recording liquid thereby enhancing the density of nozzle and the resolution while suppressing the jamming of nozzle through increase of ink jet pressure. SOLUTION: A space section 11 is formed vertically through a substrate 10 and the upper part thereof is covered with a thin film shape-memory alloy 12 which is then mounted, immediate thereon, with a channel plate 13 provided with a chamber 14 for containing a recording liquid 20. The channel plate 13 is provided, in the center thereof, with a main channel 15 for passing the recording liquid 20 and, on one side thereof, with a liquid injection port 17 communicating with the main channel 15 and a nozzle 19 corresponding to the liquid chamber 14 is made in a nozzle plate 18 provided above the channel plate 13. When a current is fed from a power supply section to electrodes coupled to the opposite ends of the thin film shape-memory alloy 12, heat is generated by its own resistance and the temperature is raised. Consequently, the shape-memory alloy 12 is flattened while being changed to mother phase and the pressure in the liquid chamber 14 is raised. When current supply is interrupted, it is reset to expanded state and the pressure is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

【0001】本発明はプリンタヘッドの記録液噴射装置
及びその方法に関するものであり、より詳しくは、薄膜
形状記憶合金が相変化する過程での変形により液室の圧
力を調節して記録液が噴射するようにすることにより、
小型化でき、製造工程が簡単になるプリンタヘッドの記
録液噴射装置及びその方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording liquid ejecting apparatus for a printer head and a method thereof. By doing so,
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recording liquid ejecting apparatus and method for a printer head which can be downsized and whose manufacturing process is simplified.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に広く用いられているプリンタヘッ
ドはDOD(ドロップ・アンド・デマンド)方式であ
る。このDOD方式は記録液の液滴を帯電させたり偏向
させたりする必要がなく、高圧も必要とせず、大気圧の
下ですぐに記録液の液滴を噴射して容易にプリントする
ことができるため、次第に利用されるようになってい
る。代表的な噴射原理は抵抗を用いる加熱式噴射方法と
圧電素子を用いる振動式噴射方法とがある。
2. Description of the Related Art A widely used printer head is a DOD (Drop and Demand) system. This DOD method does not need to charge or deflect the recording liquid droplets, does not require high pressure, and can easily print by ejecting the recording liquid droplets immediately under atmospheric pressure. Therefore, it is gradually being used. Typical ejection principles include a heating ejection method using a resistor and a vibration ejection method using a piezoelectric element.

【0003】図1は、加熱式噴射方法の原理を説明する
ためのものであり、記録液が内装されるチャンバーa1
があり、このチャンバーa1から被記録材に向いた噴射
口a2があり、この噴射口a2の反対側のチャンバーa
1底部には抵抗a3を埋設して、空気の膨張を起こすよ
うに構成している。したがって、抵抗加熱により膨張し
た気泡はチャンバーa1の内部の記録液を噴射口a2に
押し出し、記録液がその力で被記録材に向けて噴射す
る。
FIG. 1 is for explaining the principle of the heating type jetting method.
There is an ejection port a2 facing the recording material from the chamber a1, and a chamber a on the opposite side of the ejection port a2 is provided.
A resistor a3 is buried in one bottom portion to cause expansion of air. Therefore, the bubbles expanded by the resistance heating push the recording liquid inside the chamber a1 to the ejection port a2, and the recording liquid is ejected toward the recording material by the force.

【0004】図2は、圧電素子による振動式噴射方法の
原理を説明するためのものであり、同様に、記録液が内
装されているチャンバーb1があり、このチャンバーb
1から被記録材に向けた噴射口b2があり、噴射口の反
対側の底部には圧電素子を埋設して、振動を起こすよう
に構成している。
FIG. 2 is for explaining the principle of the vibration type ejection method using a piezoelectric element. Similarly, there is a chamber b1 in which a recording liquid is provided.
There is an ejection port b2 from 1 to the recording material, and a piezoelectric element is buried in the bottom opposite to the ejection port to generate vibration.

【0005】このように、チャンバーb1の底部で圧電
素子b3が振動すると、記録液は振動力により噴射口b
2に押し出され、記録液はその振動力によって被記録材
に噴射する。圧電素子の振動による噴射方法は熱を用い
ないので、記録液の選択幅が大きいという利点がある。
As described above, when the piezoelectric element b3 vibrates at the bottom of the chamber b1, the recording liquid is ejected by the ejection port b by vibrating force.
The recording liquid is ejected to the recording material by the vibration force. Since the ejection method using the vibration of the piezoelectric element does not use heat, there is an advantage that the selection range of the recording liquid is large.

【0006】また、従来のプリンタヘッドには、記録液
を吐出するため、形状記憶合金を使用する。特開昭57
−203177,特開昭63−57251,特開平4−
247680,特開平2−265752,特開平2−3
08466,特開平3−65349には、形状記憶合金
を使用したプリンタヘッドの実施形態を開示している。
従来の実施形態には、相変態温度が異なり、厚みが異な
った形状記憶合金が多数結合して曲げ変形するように構
成したもの、弾性部材と形状記憶合金との結合により曲
げ変形するように構成したもの等がある。
Further, a conventional printer head uses a shape memory alloy to discharge a recording liquid. JP 57
-203177, JP-A-63-57251, JP-A-4-
247680, JP-A-2-265752, JP-A-2-3
08466, JP-A-3-65349 discloses an embodiment of a printer head using a shape memory alloy.
The conventional embodiment has a configuration in which a large number of shape memory alloys having different phase transformation temperatures and different thicknesses are combined to bend and deformed, and are configured to be bent and deformed by a combination of an elastic member and a shape memory alloy. And others.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記加
熱式噴射方法は、記録液の加熱により化学的変化が起こ
り、このような記録液が噴射口a2の内面に付着して目
詰まりを起こすという問題があり、そして発熱抵抗器の
寿命が短く、水溶性記録液を使用しなければならないた
めに、文書の保存性が悪いという欠点がある。
However, the above-mentioned heating type jet method has a problem that a chemical change occurs due to heating of the recording liquid, and such recording liquid adheres to the inner surface of the ejection port a2 to cause clogging. However, there is a drawback that the life of the heating resistor is short, and the storage stability of the document is poor because a water-soluble recording liquid must be used.

【0008】また、前記圧電素子の振動による噴射方法
は、圧電素子の加工が難しく、特に圧電素子をチャンバ
ーb1の底部に付着させる作業が難しいため、量産性が
悪いという問題点がある。
[0008] In addition, the above-described injection method using the vibration of the piezoelectric element has a problem in that mass production is poor because the processing of the piezoelectric element is difficult, and particularly, the work of attaching the piezoelectric element to the bottom of the chamber b1 is difficult.

【0009】また、従来の形状記憶合金を用いたプリン
タヘッドは、ヘッドサイズの小型化が難しく、ノズルの
密集度および解像度が低く、製造が難しくて量産性が悪
いという問題点がある。また、使用した形状記憶合金は
薄膜ではなく、厚み50μm以上の厚膜であるため、加
熱時の電力消費が大きく、冷却時間が長いために動作周
波数が低く、印刷速度が遅い等の実用性に問題がある。
Further, the conventional printer head using a shape memory alloy has problems that it is difficult to reduce the size of the head, the density and resolution of the nozzles are low, the manufacturing is difficult, and the mass productivity is poor. In addition, the shape memory alloy used is not a thin film but a thick film with a thickness of 50 μm or more. Therefore, power consumption during heating is large, cooling time is long, operating frequency is low, and printing speed is slow. There's a problem.

【0010】本発明は、上記のような従来の種々の問題
点を解決するために開発したものであり、本発明の目的
は、薄膜形状記憶合金の相変化過程で発生する変形によ
り液室の圧力を変化させて、記録液が噴射するようにす
ることにより、形状記憶合金の発生圧力が増大してノズ
ルの目詰まりが減少する。そして、薄膜の変形量が大き
いので、薄膜形状記憶合金を小型にしてノズルの密集度
を高めることで解像度を向上させ、半導体薄膜製造工程
を用いて基板に薄膜の形状記憶合金を蒸着して所望の変
位量を得ることができるので、量産性が向上したプリン
タヘッドの記録液噴射装置及びその方法を提供すること
にある。
The present invention has been developed in order to solve the above-mentioned various problems in the prior art. It is an object of the present invention to provide a thin film shape memory alloy having a liquid chamber formed by a deformation occurring during a phase change process. By changing the pressure to eject the recording liquid, the pressure at which the shape memory alloy is generated increases, and nozzle clogging is reduced. Since the amount of deformation of the thin film is large, the resolution is improved by reducing the size of the thin film shape memory alloy and increasing the density of the nozzles. Accordingly, an object of the present invention is to provide a recording liquid ejecting apparatus for a printer head and a method therefor, which can improve the mass productivity because the displacement amount can be obtained.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明によるプリンタヘッドの記録液噴射装置は、
温度変化によって形状変化する薄膜形状記憶合金と、前
記薄膜形状記憶合金の温度変化を発生させる電源供給部
と、前記薄膜形状記憶合金の一方の側に設置し、記録液
を貯蔵するための液室を形成しており、前記液室を取り
囲む壁面の一方の側に前記記録液が流入するように流路
を形成した流路板と、前記流路板上に設置して、前記薄
膜形状記憶合金が形状変化するとき、前記記録液が液滴
の形態で噴射されるように、前記流路板の液室面積より
小さい面積のノズルを形成したノズルプレートとを備え
ている。
In order to achieve the above object, a recording liquid ejecting apparatus for a printer head according to the present invention comprises:
A thin-film shape memory alloy whose shape changes according to a temperature change, a power supply unit for generating a temperature change of the thin-film shape memory alloy, and a liquid chamber installed on one side of the thin-film shape memory alloy for storing a recording liquid A flow path plate having a flow path formed so as to allow the recording liquid to flow into one side of a wall surrounding the liquid chamber; and a thin film shape memory alloy provided on the flow path plate. A nozzle plate formed with a nozzle having an area smaller than the area of the liquid chamber of the flow path plate so that the recording liquid is ejected in the form of droplets when the shape changes.

【0012】本発明は、既存の圧電素子を用いた方式及
び加熱による空気膨張を用いた方式と、既存の形状記憶
合金を用いた方式との両方の欠点を解決するため、半導
体薄膜製造工程を用いて、基板上に薄膜形状記憶合金を
形成し、基板の一部をエッチングして、薄膜形状記憶合
金が振動できる空間部を構成し、薄膜形状記憶合金の振
動により液滴を形成する記録液噴射装置を提供するもの
である。
The present invention solves the disadvantages of both the method using the existing piezoelectric element and the method using air expansion by heating, and the method using the existing shape memory alloy. A recording liquid that forms a thin film shape memory alloy on a substrate, etches a part of the substrate, forms a space where the thin film shape memory alloy can vibrate, and forms droplets by vibration of the thin film shape memory alloy An injection device is provided.

【0013】半導体製造工程を用いて、基板上に形状記
憶合金を蒸着してから、熱処理して薄膜形状記憶合金を
形成する。したがって、形状記憶合金は、母相状態で偏
平な形状になる。蒸着した薄膜形状記憶合金は、マルテ
ンサイトで残留圧縮応力を保持させることができ、蒸着
条件、熱処理温度及び時間などによって残留圧縮応力の
大きさを変化させることができる。基板の一部をエッチ
ングして空間部を形成すると、残留圧縮応力により、薄
膜形状記憶合金は座屈現象により曲げ変形する。薄膜形
状記憶合金を加熱すると、薄膜形状記憶合金は母相とな
って偏平な状態に変化しようとし、この際に、液室容積
が減少して記録液が噴射する。冷却時には残留圧縮応力
により曲げ変形が発生し、この際に記録液の再充填が行
われる。このような過程を繰り返して連続的な記録液の
噴射を行うのである。
[0013] Using a semiconductor manufacturing process, a shape memory alloy is deposited on a substrate and then heat-treated to form a thin film shape memory alloy. Therefore, the shape memory alloy has a flat shape in the matrix state. The deposited thin film shape memory alloy can maintain the residual compressive stress with martensite, and can change the magnitude of the residual compressive stress depending on the deposition conditions, heat treatment temperature, time, and the like. When a space is formed by etching a part of the substrate, the thin film shape memory alloy is bent and deformed by a buckling phenomenon due to residual compressive stress. When the thin film shape memory alloy is heated, the thin film shape memory alloy becomes a mother phase and tends to change to a flat state. At this time, the volume of the liquid chamber is reduced and the recording liquid is jetted. At the time of cooling, bending deformation occurs due to the residual compressive stress, and at this time, the recording liquid is refilled. Such a process is repeated to continuously eject the recording liquid.

【0014】本発明は、構造が簡単であり、半導体薄膜
製造工程と基板エッチングにより薄膜形状記憶合金を作
製し、残留圧縮応力を用いて記録液を噴射するのに必要
な薄膜形状記憶合金の変位が容易に得られるので量産性
が向上する。また、残留圧縮応力の大きさを変えて変形
量を容易に調節することができるので、大きな変位量が
得られ、薄膜形状記憶合金の面積を小さくすることがで
きる。したがって、ヘッドの小型化が可能であり、ノズ
ルの密集度を高めて高解像度を達成することができる。
The present invention has a simple structure, a thin film shape memory alloy is produced by a semiconductor thin film manufacturing process and substrate etching, and the displacement of the thin film shape memory alloy required for jetting a recording liquid using residual compressive stress. Can be easily obtained, thereby improving mass productivity. Further, since the amount of deformation can be easily adjusted by changing the magnitude of the residual compressive stress, a large amount of displacement can be obtained, and the area of the thin film shape memory alloy can be reduced. Therefore, the size of the head can be reduced, and high resolution can be achieved by increasing the density of the nozzles.

【0015】薄膜形状記憶合金を用いるため、加熱時の
電力消費が大幅に低減し、冷却時間も非常に短くなり、
また、記録液の噴射後に、残留圧縮応力により曲げ変形
の状態に復帰するときに、残留振動が発生しないので、
安定した記録液の噴射を行うことができる。したがっ
て、動作周波数の高周波化、すなわち印刷速度の向上を
図ることができる。
Since a thin film shape memory alloy is used, the power consumption during heating is greatly reduced, and the cooling time is very short.
In addition, when the recording liquid is ejected and returns to the state of bending deformation due to residual compressive stress, no residual vibration occurs, so that
Stable ejection of the recording liquid can be performed. Therefore, the operating frequency can be increased, that is, the printing speed can be improved.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図3は本発明の1実施形態による
噴射装置の分離斜視図であり、図4は本発明の1実施形
態の記録液の流れを示す斜視図である。本発明の噴射装
置は、解像度を高めるため、記録液20を噴射する多数
のノズル19が縦と横に配列して、記録液20を実質的
に噴射する薄膜形状記憶合金12がこの各ノズル19と
1対1に対応する。
FIG. 3 is an exploded perspective view of an ejection device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a perspective view showing a flow of a recording liquid according to one embodiment of the present invention. In the ejecting apparatus of the present invention, in order to increase the resolution, a large number of nozzles 19 for ejecting the recording liquid 20 are arranged vertically and horizontally, and the thin film shape memory alloy 12 for substantially ejecting the recording liquid 20 is used for each nozzle 19 And one-to-one.

【0017】すなわち、基板10の前後に上下側方向に
貫通した空間部11を多数形成し、基板10の上部に結
合して各空間部11を塞ぐ薄膜形状記憶合金12を多数
備えている。基板10の上部を覆う流路板13を備え、
流路板13には該当薄膜形状記憶合金12の各直上部に
記録液20を収容する液室14を形成する。また、流路
板13の中央には記録液20が流れる主流路15を備
え、主流路15と該当液室14は流路16により相互に
連通している。また、基板10の一方の側には流路板1
3の一方の側の主流路15に連通する液注入口17を備
えており、記録液20が主流路15側に供給される。
That is, a large number of spaces 11 penetrating in the vertical direction are formed before and after the substrate 10, and a large number of thin film shape memory alloys 12 which are connected to the upper portion of the substrate 10 and close each space 11 are provided. A flow path plate 13 covering an upper portion of the substrate 10;
In the flow path plate 13, a liquid chamber 14 for storing the recording liquid 20 is formed immediately above each of the thin film shape memory alloys 12. A main channel 15 through which the recording liquid 20 flows is provided at the center of the channel plate 13, and the main channel 15 and the corresponding liquid chamber 14 communicate with each other through a channel 16. The flow path plate 1 is provided on one side of the substrate 10.
3 has a liquid inlet 17 communicating with the main flow path 15 on one side, and the recording liquid 20 is supplied to the main flow path 15 side.

【0018】また、流路板13の上部に結合するノズル
プレート18を備え、ノズルプレート18は流路板13
に形成した各液室14に対応するノズル19を多数形成
する。また、各ノズル19は該当液室14側に露出した
薄膜形状記憶合金12に対応し、この薄膜形状記憶合金
12が変形するとき、該当液室14の圧力が変化して記
録液20が液滴状態で各ノズル19を介して用紙に噴射
する。
Further, a nozzle plate 18 is provided on the upper part of the flow path plate 13, and the nozzle plate 18 is
A number of nozzles 19 corresponding to each of the liquid chambers 14 formed are formed. Further, each nozzle 19 corresponds to the thin film shape memory alloy 12 exposed to the corresponding liquid chamber 14, and when the thin film shape memory alloy 12 is deformed, the pressure of the corresponding liquid chamber 14 changes and the recording liquid 20 drops. In this state, the ink is ejected onto the paper through each nozzle 19.

【0019】薄膜形状記憶合金12は温度変化によって
連続的に相変化し、この過程で振動が起こって記録液2
0が各ノズル19を介して液滴の状態で噴射する。
The thin film shape memory alloy 12 undergoes a continuous phase change due to a temperature change.
0 is ejected through each nozzle 19 in the form of a droplet.

【0020】図6の(a)〜(d)は、本発明の1実施
形態による噴射装置の側断面図であり、1つの薄膜形状
記憶合金を抜粋したものである。薄膜形状記憶合金12
がノズル19の反対側に膨らんだ初期状態で設定温度以
上に加熱すると母相に変わりながら偏平になろうとす
る。この際に、液室14の内圧が増加して圧縮されるこ
とにより、記録液20がノズル19を介して噴射され
る。また、薄膜形状記憶合金12が設定温度以下に下が
ると、残留圧縮応力により曲げ変形状態に復元し、液室
14の内圧が低下して、ノズル19の毛細管現象と吸入
力により記録液20が液室14の内部に流入する。以
後、前記過程を連続的に繰り返して印刷する。
FIGS. 6A to 6D are side sectional views of an injection device according to one embodiment of the present invention, which are extracted from one thin film shape memory alloy. Thin film shape memory alloy 12
When heated above the set temperature in the initial state where it has expanded to the opposite side of the nozzle 19, it tends to become flat while changing to the parent phase. At this time, as the internal pressure of the liquid chamber 14 increases and is compressed, the recording liquid 20 is ejected through the nozzle 19. When the temperature of the thin film shape memory alloy 12 falls below the set temperature, the thin film shape memory alloy 12 is restored to the bending deformation state by the residual compressive stress, the internal pressure of the liquid chamber 14 is reduced, and the recording liquid 20 is changed by the capillary action of the nozzle 19 and the suction force. It flows into the interior of the chamber 14. Thereafter, the above process is continuously repeated for printing.

【0021】また、薄膜形状記憶合金12は、図5の
(a)に示すように、電源供給部21により加熱する。
すなわち、薄膜形状記憶合金12の両端に結合した電極
21aに電源供給部21から電流を流すと、薄膜記憶形
状合金12は自己抵抗により発熱して温度が上昇し母相
に変わりながら偏平になる。また、電源供給部21の電
流が遮断されると、薄膜形状記憶合金12は自然冷却し
ながら残留圧縮応力により元の膨らんだ状態に復元す
る。また、図5の(b)に示すように、電源供給部21
からの電流により加熱するヒーター21bを薄膜形状記
憶合金12の一方の側面に設けて薄膜形状記憶合金12
を加熱することができる。
The thin film shape memory alloy 12 is heated by a power supply 21 as shown in FIG.
That is, when a current flows from the power supply unit 21 to the electrodes 21a coupled to both ends of the thin film shape memory alloy 12, the thin film memory shape alloy 12 generates heat due to self-resistance, rises in temperature, and becomes flat while changing to a mother phase. Further, when the current of the power supply unit 21 is cut off, the thin film shape memory alloy 12 returns to its original expanded state due to residual compressive stress while cooling naturally. Also, as shown in FIG.
The heater 21b for heating by the current from the thin film shape memory alloy 12 is provided on one side surface of the thin film shape memory alloy 12.
Can be heated.

【0022】このような薄膜形状記憶合金12として
は、温度によって相変化して変形を起こす形状記憶合金
を使用することができ、材質はチタンとニッケルが主成
分であり、その厚みが約0.3μm〜5μm程度であ
る。また、形状記憶合金で構成した薄膜形状記憶合金1
2は製造方法によって方向性を有する。図8〜図9は本
発明による1方向薄膜形状記憶合金の製造方法を示す工
程図及びブロック図であり、図3〜図6は1方向薄膜形
状記憶合金を用いたものである。シリコンなどの材質で
構成した基板10に薄膜形状記憶合金12を蒸着する段
階100が得られる。蒸着には主にスパッタ法とレーザ
ーアブレーション法とが用いることができる。
As such a thin film shape memory alloy 12, a shape memory alloy which undergoes a phase change and is deformed by temperature can be used. The material is mainly composed of titanium and nickel, and the thickness thereof is about 0.1 mm. It is about 3 μm to 5 μm. Also, a thin film shape memory alloy 1 made of a shape memory alloy
2 has directionality depending on the manufacturing method. 8 and 9 are a process diagram and a block diagram showing a method of manufacturing a one-way thin film shape memory alloy according to the present invention, and FIGS. 3 and 6 show the use of a one-way thin film shape memory alloy. A step 100 of depositing a thin film shape memory alloy 12 on a substrate 10 made of a material such as silicon is obtained. For the vapor deposition, a sputtering method and a laser ablation method can be mainly used.

【0023】そして、一定温度で一定時間熱処理して結
晶化させると、母相から平板形態になる段階101が得
られる。以後、マルテンサイト終了温度(Mf)である
約40℃〜70℃に冷却すると、母相はマルテンサイト
になって残留圧縮応力が薄膜形状記憶合金12に存在す
る段階102が得られる。
Then, when the film is heat-treated at a certain temperature for a certain time to be crystallized, a stage 101 is formed from the mother phase to a plate-like shape. Thereafter, when the matrix is cooled to a martensite finish temperature (Mf) of about 40 ° C. to 70 ° C., the matrix becomes martensite and a step 102 in which residual compressive stress exists in the thin film shape memory alloy 12 is obtained.

【0024】また、薄膜形状記憶合金12をエッチング
すると、シリコンウェーハで構成した基板10に空間部
11が形成され、薄膜形状記憶合金12が外部に露出す
る段階103が得られ、以後、薄膜形状記憶合金12は
残留圧縮応力により下部(又は上部)側に曲げ変形し
て、図6の(a)のようになる段階104が得られる。
そして、マルテンサイトで曲げ変形した薄膜形状記憶合
金12を設定温度、つまり母相終了温度(Af)である
約50℃〜90℃に昇温すると母相に変形して図6の
(c)のように偏平となって記録液20が噴射される段
階105が得られる。また、薄膜形状記憶合金12を冷
却してマルテンサイトになるようにすると、残留圧縮応
力により曲げ変形し、記録液20が液室14の内部に補
充される段階106と、薄膜形状記憶合金12が温度変
化によって前記段階105,106を繰り返して印刷す
る段階107が得られる。
When the thin film shape memory alloy 12 is etched, a space portion 11 is formed in the substrate 10 made of a silicon wafer, and a step 103 in which the thin film shape memory alloy 12 is exposed to the outside is obtained. The alloy 12 is bent downward (or upward) by the residual compressive stress, and a step 104 as shown in FIG. 6A is obtained.
When the temperature of the thin-film shape memory alloy 12 bent and deformed by martensite is raised to a set temperature, that is, about 50 ° C. to 90 ° C., which is the parent phase end temperature (Af), the thin-film shape memory alloy 12 is transformed into a parent phase, Thus, the step 105 in which the recording liquid 20 is ejected in a flat state is obtained. Further, when the thin film shape memory alloy 12 is cooled to be martensite, the thin film shape memory alloy 12 is bent and deformed by the residual compressive stress, and the recording liquid 20 is refilled into the liquid chamber 14, and the thin film shape memory alloy 12 A step 107 for printing by repeating the steps 105 and 106 according to the temperature change is obtained.

【0025】図10及び図11は、本発明による2方向
薄膜形状記憶合金の製造方法を示す工程図及びブロック
図である。薄膜形状記憶合金12をチャンバー22の内
部で一定温度で一定時間熱処理して結晶化させると母相
になる段階200が得られる。以後、薄膜形状記憶合金
12をマルテンサイト終了温度(Mf)である約40℃
〜70℃に冷却すると、母相がマルテンサイトに変化す
る段階201が得られる。また、マルテンサイトに、塑
性滑りが起こらない範囲内で、外力を加えて変形させる
段階202が得られる。以後、薄膜形状記憶合金12を
母相終了温度(Af)である50℃〜90℃に加熱する
と母相となりながら偏平になる段階203が得られる。
FIGS. 10 and 11 are a process diagram and a block diagram showing a method for manufacturing a two-way thin film shape memory alloy according to the present invention. When the thin film shape memory alloy 12 is heat-treated at a certain temperature for a certain period of time in the chamber 22 and crystallized, a stage 200 to be a parent phase is obtained. Thereafter, the thin-film shape memory alloy 12 is heated to a martensite finish temperature (Mf) of about 40 ° C.
Upon cooling to 7070 ° C., a stage 201 is obtained in which the parent phase changes to martensite. In addition, a step 202 of applying an external force to deform the martensite within a range where plastic slip does not occur is obtained. Thereafter, when the thin-film shape memory alloy 12 is heated to 50 ° C. to 90 ° C., which is the parent phase end temperature (Af), a step 203 in which the thin film shape memory alloy becomes flat while becoming a parent phase is obtained.

【0026】また、前記の各段階201,202,20
3を数回繰り返して薄膜形状記憶合金12を学習させる
段階204が得られ、学習段階204で、薄膜形状記憶
合金12をマルテンサイト終了温度(Mf)に下げたと
き、外力がなくても変形が発生する段階205が得られ
る。そして、薄膜形状記憶合金12を母相終了温度(A
f)に加熱すると、薄膜形状記憶合金12が偏平になっ
て記録液20が噴射される段階206が得られる。ま
た、薄膜形状記憶合金12を冷却してマルテンサイトに
なると、自力により曲げ変形し、記録液20が液室14
の内部に補充される段階207と、薄膜形状記憶合金1
2が温度変化により前記段階206,207を繰り返
し、これらの過程で印刷する段階208が得られる。す
なわち、薄膜形状記憶合金12が温度変化による2方向
への往復運動を起こしながら記録液20を噴射する。ま
た、2方向性の薄膜形状記憶合金は、製造過程で外力を
加える程度によって曲げ変形量が決まるので、所望の変
位量を容易に得ることができる。
The above steps 201, 202, 20
3 is repeated several times to learn the thin-film shape memory alloy 12. In the learning step 204, when the thin-film shape memory alloy 12 is lowered to the martensite end temperature (Mf), deformation occurs even without external force. A step 205 is generated which occurs. Then, the thin film shape memory alloy 12 is heated to a matrix end temperature (A
When heated to f), a step 206 is obtained in which the thin film shape memory alloy 12 is flattened and the recording liquid 20 is jetted. Further, when the thin film shape memory alloy 12 is cooled to become martensite, it is bent and deformed by itself, and the recording liquid 20 is discharged into the liquid chamber 14.
207, which is replenished into the inside, and the thin film shape memory alloy 1
2 repeats the steps 206 and 207 according to the temperature change, and in these processes, a printing step 208 is obtained. That is, the recording liquid 20 is ejected while the thin film shape memory alloy 12 reciprocates in two directions due to a temperature change. Further, since the amount of bending deformation of a bidirectional thin film shape memory alloy is determined by the degree to which an external force is applied during the manufacturing process, a desired amount of displacement can be easily obtained.

【0027】2方向性を有する薄膜形状記憶合金12
は、本発明の1実施形態である図6の場合にも適用でき
る。例えば、基板10の一方の側に空間部11を形成し
た後、学習された薄膜形状記憶合金12を基板10に結
合する。この際に、薄膜形状記憶合金12が空間部11
を覆った状態で基板10の一方の側面に固定すると、温
度が変化するとき、薄膜形状記憶合金12が空間部11
を中心に変形して記録液20を噴射する。
Thin film shape memory alloy 12 having bidirectionality
Can be applied to the case of FIG. 6, which is one embodiment of the present invention. For example, after forming the space 11 on one side of the substrate 10, the learned thin film shape memory alloy 12 is bonded to the substrate 10. At this time, the thin film shape memory alloy 12 is
When the temperature is changed, the thin film shape memory alloy 12 is fixed to the space 11
And the recording liquid 20 is ejected.

【0028】また、本発明の薄膜形状記憶合金12は温
度差によって、母相で偏平になり、マルテンサイトで曲
げ変形するので、温度差を小さくするほど薄膜12の振
動数(動作周波数)が増加する。したがって、相変化温
度差を減らすため、チタンとニッケルの合金に銅を添加
することができる。このようにチタンとニッケル及び銅
を用いた形状記憶合金は相変化温度差を小さくすること
により、薄膜形状記憶合金12の振動数、つまり動作周
波数を高くして印刷速度を向上させることができる。
Further, the thin film shape memory alloy 12 of the present invention becomes flat in the parent phase and bends and deforms in martensite due to a temperature difference. Therefore, as the temperature difference becomes smaller, the frequency (operating frequency) of the thin film 12 increases. I do. Therefore, copper can be added to the alloy of titanium and nickel to reduce the phase change temperature difference. As described above, the shape memory alloy using titanium, nickel, and copper can increase the frequency, that is, the operating frequency of the thin film shape memory alloy 12 by increasing the phase change temperature difference, thereby improving the printing speed.

【0029】このように構成した、本発明の薄膜記憶形
状合金からの噴射の可否を計算することができる。
It is possible to calculate whether or not injection is possible from the thin film memory shape alloy of the present invention configured as described above.

【0030】薄膜形状記憶合金により発生するエネルギ
ー密度(Wmax)は最大10×106J/m3であり、薄
膜形状記憶合金の体積(V)は200μm×200μm
×1μmである場合、発生する液滴の直径が60μmだ
とすると、次のように薄膜形状記憶合金の噴射可否が決
定される。 U=US+UKS=πR2γ
The energy density (W max ) generated by the thin film shape memory alloy is up to 10 × 10 6 J / m 3 , and the volume (V) of the thin film shape memory alloy is 200 μm × 200 μm
In the case of × 1 μm, assuming that the diameter of the generated droplet is 60 μm, whether or not the thin film shape memory alloy can be ejected is determined as follows. U = U S + U K U S = πR 2 γ

【数1】 U=所望する記録液の液滴を発生させるために必要なエ
ネルギー US=記録液の表面エネルギー UK=記録液の運動エネルギー R=液滴の直径 V=記録液の速度 ρ=記録液の密度(1000kg/m3) γ=記録液の表面張力(0.073N/m)
(Equation 1) U = energy required to generate a desired droplet of the recording liquid U S = surface energy of the recording liquid U K = kinetic energy of the recording liquid R = diameter of the droplet V = velocity of the recording liquid ρ = of the recording liquid Density (1000 kg / m 3 ) γ = Surface tension of recording liquid (0.073 N / m)

【0031】所望の液滴の速度が10m/secだとす
ると、必要なエネルギー(U)は、 U=2.06×10-10+7.07×10-10=9.13
×10-10J 薄膜形状記憶合金により発生する最大エネルギー W
max=Wv・V (ただし、Wv:薄膜形状記憶合金の単位体積当たりに
発生することができるエネルギー J/m3、V:薄
膜形状記憶合金の体積) Wmax=(10×106)・(200×200×1) =4×10-7
If the speed of the desired droplet is 10 m / sec, the required energy (U) is: U = 2.06 × 10 −10 + 7.07 × 10 −10 = 9.13
× 10 -10 J Maximum energy generated by thin film shape memory alloy W
max = Wv · V ( Wv : energy that can be generated per unit volume of the thin film shape memory alloy J / m 3 , V: volume of the thin film shape memory alloy) W max = (10 × 10 6 )・ (200 × 200 × 1) = 4 × 10 -7 J

【0032】液滴の直径が100μmである場合、必要
エネルギーUは、3.85×10-9Jである。
When the diameter of the droplet is 100 μm, the required energy U is 3.85 × 10 −9 J.

【0033】したがって、Wmax》Uであるので、所望
の大きさの液滴を得ることができる。すなわち、薄膜形
状記憶合金は発生力が非常に大きいため、所望の記録液
の液滴を容易に得ることができる。
Therefore, since W max >> U, a droplet having a desired size can be obtained. That is, since the thin film shape memory alloy has an extremely large generating force, it is possible to easily obtain a desired recording liquid droplet.

【0034】また、本発明の1実施形態の加熱時間と消
費エネルギー及び残留圧縮応力による変位量を解析する
と次のようになる。薄膜形状記憶合金12に電流を流し
て、抵抗により熱が発生するようにし、その熱により相
変化が起こるようにして、25℃の薄膜形状記憶合金1
2を加熱して70℃、つまり母相になるまでの加熱時間
と消費エネルギーを求めると次のようになる。 薄膜形状記憶合金の材質 =TiNi 薄膜形状記憶合金の長さ(l) =400μm 薄膜形状記憶合金の密度(ρs) =6450kg/m3 温度変化量(ΔT) =70−25=45℃ 熱容量(Specific heat)(Cp) =230J/kg℃ 薄膜形状記憶合金の比抵抗(ρ) =80μ・cm 電流(I) =1.0A 薄膜形状記憶合金の幅(w) =300μm 薄膜形状記憶合金の高さ(t) =1.0μm 加熱時間(th
The displacement of the heating time, the consumed energy and the residual compressive stress according to the embodiment of the present invention are analyzed as follows. An electric current is applied to the thin-film shape memory alloy 12 so that heat is generated by resistance and a phase change is caused by the heat.
2 is heated to 70 ° C., that is, the heating time until the mother phase is obtained and the consumed energy are obtained as follows. Material of thin film shape memory alloy = TiNi Length of thin film shape memory alloy (l) = 400 µm Density (ρ s ) of thin film shape memory alloy = 6450 kg / m 3 Temperature change (ΔT) = 70-25 = 45 ° C Heat capacity ( Specific heat) (C p ) = 230 J / kg ° C. Specific resistance of thin film shape memory alloy (ρ) = 80 μ · cm Current (I) = 1.0 A Thin film shape memory alloy width (w) = 300 μm height (t) = 1.0μm heating time (t h)

【数2】 薄膜形状記憶合金の抵抗(R) =ρ(1/w・t)=1.1Ω 消費電力(I2R) =1.1watt 液滴を発生させるに必要なエネルギーは、 加熱時間×消費電力 =8.1μJ(Equation 2) Resistance (R) of thin film shape memory alloy = ρ (1 / w · t) = 1.1Ω Power consumption (I 2 R) = 1.1 watt The energy required to generate a droplet is heating time × power consumption = 8.1μJ

【0035】したがって、記録液20を噴射して液滴を
発生させるのに必要なエネルギーは、約8.1μJであ
り、従来の加熱方式の20μJより消費エネルギーが少
ない。
Therefore, the energy required for ejecting the recording liquid 20 to generate liquid droplets is about 8.1 μJ, which consumes less energy than the conventional heating method of 20 μJ.

【0036】図12は本発明の薄膜形状記憶合金の加熱
時間と温度との関係を示すグラフであり、実験のための
物性値を以下に示す。ただし、薄膜形状記憶合金12の
厚みは1μmであり、周囲温度は25℃である。
FIG. 12 is a graph showing the relationship between the heating time and the temperature of the thin film shape memory alloy of the present invention. The physical properties for the experiment are shown below. However, the thickness of the thin film shape memory alloy 12 is 1 μm, and the ambient temperature is 25 ° C.

【表1】 [Table 1]

【0037】周囲温度が25℃である場合、70℃まで
加熱して母相に変えた後、30℃まで冷える時間は約2
00μsec程度であり、これを振動数に換算すると約
5kHzとなる。したがって、プリンタヘッドの動作周
波数は5kHz程度である。しかし、変形が完全に終わ
る温度(マルテンサイト終了温度)は約45℃であるの
で、30℃に冷えるまで待つ必要がなく、その前に再加
熱して記録液20を噴射し続けることができるので、5
kHz以上に動作周波数を高めることができる。動作周
波数が高くなれば、印刷速度が向上する。
When the ambient temperature is 25 ° C., after heating to 70 ° C. to change into the parent phase, the time to cool to 30 ° C. is about 2 hours.
It is about 00 μsec, which is about 5 kHz when converted to a frequency. Therefore, the operating frequency of the printer head is about 5 kHz. However, since the temperature at which the deformation is completely completed (the martensite end temperature) is about 45 ° C., there is no need to wait until the temperature drops to 30 ° C., and before that, the recording liquid 20 can be reheated and the recording liquid 20 can be continuously jetted. , 5
The operating frequency can be increased to more than kHz. The higher the operating frequency, the higher the printing speed.

【0038】また、薄膜形状記憶合金とその自体の残留
圧縮応力による変位量及び復元力を図13を参照して分
析すると次のようになる。 a=bであるとき a =200μm 薄膜形状記憶合金の材質 =TiNi 薄膜形状記憶合金のヤング率(Em) =30GPa 薄膜形状記憶合金に存在する残留圧縮応力 =30MPa ポアソン比(ν) =0.3 空間部11に露出した薄膜形状記憶合金の長さ =a 薄膜形状記憶合金の厚み =hm 空間部11に露出した薄膜形状記憶合金の幅 =b 薄膜形状記憶合金の臨界応力(Scr
The displacement and restoring force due to the residual compressive stress of the thin film shape memory alloy and itself are analyzed with reference to FIG. 13 as follows. When a = b a = 200 μm Material of thin film shape memory alloy = TiNi Young's modulus (E m ) of thin film shape memory alloy = 30 GPa Residual compressive stress existing in thin film shape memory alloy = 30 MPa Poisson's ratio (ν) = 0. 3 of thin film shape memory alloy exposed to the space portion 11 length = a thin film shape memory alloy thickness = h m space 11 in the exposed width of the thin-film shape memory alloy = b thin shape memory alloy of the critical stress (S cr)

【数3】 cr=3.6MPa 薄膜形状記憶合金の中心変位(δm):(Equation 3) S cr = 3.6 MPa Center displacement (δ m ) of thin film shape memory alloy:

【数4】 δs=6.2μm 薄膜形状記憶合金が座屈するときに発生する全体エネルギー(Um)は、(Equation 4) δ s = 6.2 μm The total energy (U m ) generated when the thin film shape memory alloy buckles is

【数5】 =2.8×10-10(Equation 5) = 2.8 × 10 -10 J

【0039】記録液を噴射した後、薄膜形状記憶合金が
座屈するときに発生する全体エネルギーは、薄膜形状記
憶合金の曲げ変形を発生させる復元力(P)に変わり、
復元力は次のようになる。 Um=P・ΔV 体積変化(ΔV)=(δs・α2)/4=6.2×10-143 復元力(P)=4.5kPa
After the recording liquid is sprayed, the total energy generated when the thin film shape memory alloy buckles changes into a restoring force (P) that causes bending deformation of the thin film shape memory alloy,
The restoring force is as follows. Um = P · ΔV Volume change (ΔV) = (δ s · α 2 ) /4=6.2×10 −14 m 3 Restoring force (P) = 4.5 kPa

【0040】薄膜形状記憶合金の座屈により発生した全
体積変化の1/2が噴射したと仮定すると、39μmの
液滴を形成する。薄膜形状記憶合金の厚みと大きさに対
する変位量は下表の通りであり、単位はμmである。
Assuming that one half of the total volume change caused by buckling of the thin film shape memory alloy has been ejected, a droplet of 39 μm is formed. The amount of displacement with respect to the thickness and size of the thin film shape memory alloy is as shown in the table below, and the unit is μm.

【表2】 [Table 2]

【0041】図14は本発明の他の実施形態による噴射
装置の断面図であり、図3と同じ構成要素には同一符号
を使用して本発明を説明する。本発明の他の実施形態
は、基板10の下部に流路板13とノズルプレート18
とを備えたものであり、1つの薄膜の結合状態を抜粋し
たものである。基板10に上下方向に貫通した空間部1
1を形成し、基板10の上部に結合して空間部11を覆
う薄膜形状記憶合金12を備えている。また、基板10
の下部を覆う流路板13を備え、流路板13には空間部
11に対応して記録液20を収容する液室14を形成す
る。
FIG. 14 is a sectional view of an injection device according to another embodiment of the present invention. The present invention will be described using the same reference numerals for the same components as those in FIG. In another embodiment of the present invention, the flow path plate 13 and the nozzle plate 18
This is an extract of the bonding state of one thin film. Space 1 penetrating vertically through substrate 10
1 is formed, and includes a thin film shape memory alloy 12 bonded to an upper portion of the substrate 10 and covering the space portion 11. The substrate 10
A liquid chamber 14 for accommodating the recording liquid 20 is formed in the flow path plate 13 corresponding to the space 11.

【0042】また、流路板13の下部に結合するノズル
プレート18を備え、ノズルプレート18には流路板1
3に形成した液室14に対応するノズル19を形成す
る。また、ノズル19は液室14側に露出した薄膜形状
記憶合金12に対応し、薄膜形状記憶合金12が変形す
るとき、液室14の圧力が変化して、記録液20が液滴
の状態としてノズル19を介して用紙に噴射する。
A nozzle plate 18 is provided at the lower portion of the flow path plate 13.
The nozzle 19 corresponding to the liquid chamber 14 formed in 3 is formed. The nozzle 19 corresponds to the thin film shape memory alloy 12 exposed on the liquid chamber 14 side. When the thin film shape memory alloy 12 is deformed, the pressure of the liquid chamber 14 changes and the recording liquid 20 is changed to a liquid state. The ink is ejected onto the sheet via the nozzle 19.

【0043】このように構成した本発明の他の実施形態
では、本発明の1実施形態と同様の薄膜形状記憶合金の
構造を有する。この際に、薄膜形状記憶合金12は製造
工程によって1方向性と2方向性を有し、温度変化によ
って相変化が起こって変形し、この過程で、液室14及
び空間部11に貯蔵された記録液20がノズル19を介
して液滴状態として用紙に噴射される。また、本発明の
他の実施形態は基板10に形成した空間部11に記録液
20を収容するものであり、液室15と流路16を基板
10に容易に形成することができる。
The other embodiment of the present invention configured as described above has a thin film shape memory alloy structure similar to that of the first embodiment of the present invention. At this time, the thin-film shape memory alloy 12 has one-way and two-way properties depending on the manufacturing process, undergoes a phase change due to a temperature change, and is deformed. In this process, the thin-film shape memory alloy 12 is stored in the liquid chamber 14 and the space 11. The recording liquid 20 is ejected to the sheet via the nozzle 19 in a droplet state. Further, in another embodiment of the present invention, the recording liquid 20 is stored in the space 11 formed in the substrate 10, and the liquid chamber 15 and the flow path 16 can be easily formed in the substrate 10.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
記録液を噴射させる薄膜形状記憶合金が、温度変化によ
って相変化が起こり、この過程で変形することにより記
録液が噴射する。また、薄膜形状記憶合金は変位量が大
きいため、基板に形成した各空間部と流路板に形成した
各液室を小さくすることができるので、プリンタヘッド
の全体のサイズが小さくなり、ノズルの密集度を高めて
高解像度の実現に有効である。また、発生する力が大き
いため、記録液を押し出す力が大きくなってノズルの目
詰まりが減少するので、信頼性が向上し、そして記録液
の液滴大きさを十分に小さくするので高画質化に有利で
ある。また、駆動電圧が10ボルト以下であるので駆動
回路の設計及び製作が容易である。既存の半導体工程と
エッチング工程を用いて、振動板の役目を果たす薄膜形
状記憶合金を、シリコン、ガラス、金属板及びポリマー
等で構成される基板上に容易に形成できるので、量産性
が向上して構造が簡素化できる等の効果がある。
As described above, according to the present invention,
The thin film shape memory alloy for injecting the recording liquid undergoes a phase change due to a temperature change, and is deformed in this process to eject the recording liquid. Further, since the thin film shape memory alloy has a large displacement, each space formed in the substrate and each liquid chamber formed in the flow path plate can be made smaller, so that the overall size of the printer head becomes smaller, and the size of the nozzle becomes smaller. This is effective for increasing the density and realizing high resolution. In addition, since the generated force is large, the force for pushing out the recording liquid is increased and the clogging of the nozzle is reduced, so that the reliability is improved, and the droplet size of the recording liquid is sufficiently reduced, so that the image quality is improved. Is advantageous. Further, since the drive voltage is 10 volts or less, the design and manufacture of the drive circuit are easy. Using existing semiconductor and etching processes, a thin film shape memory alloy that plays the role of a diaphragm can be easily formed on a substrate composed of silicon, glass, a metal plate, a polymer, etc., thus improving mass productivity. Thus, the structure can be simplified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 従来の加熱式噴射装置の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional heating type injection device.

【図2】 従来の圧電素子式噴射装置の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a conventional piezoelectric element type injection device.

【図3】 本発明の1実施形態による噴射装置の分離斜
視図である。
FIG. 3 is an exploded perspective view of an injection device according to an embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の1実施形態の記録液の流れを示す斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view illustrating a flow of a recording liquid according to an embodiment of the present invention.

【図5】 (a)と(b)は、本発明の1実施形態によ
る噴射装置の正断面図である。
5 (a) and 5 (b) are front sectional views of an injection device according to an embodiment of the present invention.

【図6】 (a),(b),(c),(d)は、本発明
の1実施形態による、噴射装置の動作過程を示す断面図
である。
6 (a), (b), (c) and (d) are cross-sectional views showing an operation process of the injection device according to one embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の薄膜形状記憶合金の相変化を示すグ
ラフである。
FIG. 7 is a graph showing a phase change of the thin film shape memory alloy of the present invention.

【図8】 本発明による1方向薄膜形状記憶合金の製造
方法を示す工程図である。
FIG. 8 is a process chart showing a method for producing a one-way thin film shape memory alloy according to the present invention.

【図9】 本発明による1方向薄膜形状記憶合金の製造
方法を示すブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram illustrating a method for manufacturing a one-way thin film shape memory alloy according to the present invention.

【図10】 本発明による2方向薄膜形状記憶合金の製
造方法を示す工程図である。
FIG. 10 is a process chart showing a method for producing a two-way thin film shape memory alloy according to the present invention.

【図11】 本発明による2方向薄膜形状記憶合金の製
造方法を示すブロック図である。
FIG. 11 is a block diagram illustrating a method for manufacturing a two-way thin film shape memory alloy according to the present invention.

【図12】 本発明の薄膜形状記憶合金の加熱時間と温
度との関係を示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing the relationship between the heating time and the temperature of the thin film shape memory alloy of the present invention.

【図13】 本発明の薄膜形状記憶合金の大きさを示す
断面図である。
FIG. 13 is a sectional view showing the size of the thin film shape memory alloy of the present invention.

【図14】 (a),(b),(c),(d)は、本発
明の他の実施形態による、噴射装置の動作過程を示す断
面図である。
FIGS. 14 (a), (b), (c) and (d) are cross-sectional views showing the operation process of an injection device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

a1,b1 チャンバー a2,b2 噴射口 a3 抵抗 b3 圧電素子 11 空間部 12 薄膜形状記憶合金 13 流路板 14 液室 15 主流路 16 流路 17 液注入口 18 ノズルプレート 19 ノズル 20 記録液 21 電源供給部 21a 電極 21b ヒーター a1, b1 chamber a2, b2 injection port a3 resistance b3 piezoelectric element 11 space section 12 thin film shape memory alloy 13 flow path plate 14 liquid chamber 15 main flow path 16 flow path 17 liquid injection port 18 nozzle plate 19 nozzle 20 recording liquid 21 power supply Part 21a electrode 21b heater

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 温度変化によって形状が変化する薄膜形
状記憶合金(12)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)の温度変化を発生させる
電源供給部(21)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)の一方の側に設置し、記
録液(20)を貯蔵するための液室(14)を形成して
おり、前記液室(14)を取り囲む壁面の一方の側に前
記記録液(20)が流入するように流路(16)を形成
した流路板(13)と、 前記流路板(13)上に設置し、前記薄膜(12)が形
状変化するとき、前記記録液(20)が液滴の形態で噴
射されるように、前記流路板(13)の液室(14)面
積より小さい面積のノズル(19)を形成したノズルプ
レート(18)とを備えることを特徴とするプリンタヘ
ッドの記録液噴射装置。
1. A thin film shape memory alloy (12) whose shape changes according to a temperature change, a power supply unit (21) for generating a temperature change of the thin film shape memory alloy (12), and a thin film shape memory alloy (12). ) To form a liquid chamber (14) for storing the recording liquid (20), and the recording liquid (20) is provided on one side of a wall surrounding the liquid chamber (14). A flow path plate (13) having a flow path (16) formed therein so that the liquid flows into the recording liquid (20) when the thin film (12) changes shape. A nozzle plate (18) formed with a nozzle (19) having an area smaller than the area of the liquid chamber (14) of the flow path plate (13) so that the liquid is ejected in the form of droplets. Recording liquid ejection device for printer head.
【請求項2】 前記薄膜形状記憶合金(12)が、チタ
ンとニッケルとを主成分とする形状記憶合金であること
を特徴とする請求項1記載のプリンタヘッドの記録液噴
射装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein said thin film shape memory alloy is a shape memory alloy containing titanium and nickel as main components.
【請求項3】 前記薄膜形状記憶合金(12)が、相変
化温度差を小さくして動作周波数を高くするため、銅を
さらに添加した形状記憶合金であることを特徴とする請
求項2記載のプリンタヘッドの記録液噴射装置。
3. The shape memory alloy according to claim 2, wherein the thin film shape memory alloy is a shape memory alloy to which copper is further added in order to reduce the phase change temperature difference and increase the operating frequency. Recording liquid ejection device for printer head.
【請求項4】 前記薄膜形状記憶合金(12)が、0.
3μm〜5μmの厚みを有することを特徴とする請求項
1記載のプリンタヘッドの記録液噴射装置。
4. The method according to claim 1, wherein the thin film shape memory alloy (12) has a thickness of 0.1 mm.
2. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus has a thickness of 3 to 5 [mu] m.
【請求項5】 前記電源供給部(21)が、前記薄膜形
状記憶合金(12)の自己抵抗により発熱するように、
前記薄膜形状記憶合金(12)の両端に結合する電極
(21a)を備えることを特徴とする請求項1記載のプ
リンタヘッドの記録液噴射装置。
5. The power supply unit (21) generates heat by self-resistance of the thin film shape memory alloy (12).
The recording liquid ejecting apparatus according to claim 1, further comprising electrodes (21a) coupled to both ends of the thin film shape memory alloy (12).
【請求項6】 前記電源供給部(21)が、前記薄膜形
状記憶合金(12)の一方の側に形成し、前記電源供給
部(21)からの電流により加熱するヒーター(21
b)を備えることを特徴とする請求項1記載のプリンタ
ヘッドの記録液噴射装置。
6. A heater (21) formed on one side of the thin film shape memory alloy (12) and heated by an electric current from the power supply unit (21).
The recording liquid ejecting apparatus for a printer head according to claim 1, further comprising: b).
【請求項7】 前記薄膜形状記憶合金(12)の下に設
置して、前記薄膜形状記憶合金(12)が形状変化でき
る空間部(11)を形成した基板(10)を備えること
を特徴とする請求項1記載のプリンタヘッドの記録液噴
射装置。
7. A substrate (10) provided below the thin film shape memory alloy (12) and having a space (11) in which the thin film shape memory alloy (12) can change its shape. The recording liquid ejecting apparatus for a printer head according to claim 1.
【請求項8】 前記基板(10)がシリコン材質である
ことを特徴とする請求項7記載のプリンタヘッドの記録
液噴射装置。
8. The apparatus according to claim 7, wherein said substrate is made of a silicon material.
【請求項9】 前記薄膜形状記憶合金(12)が前記空
間部(11)に露出して実質的に形状変化する面積は、
その幅(b)が100μm〜500μmであり、その長
さ(a)が100μm〜300μmであることを特徴と
する請求項7記載のプリンタヘッドの記録液噴射装置。
9. The area where the thin film shape memory alloy (12) is exposed to the space (11) and substantially changes its shape is:
The recording liquid ejecting apparatus according to claim 7, wherein the width (b) is 100 m to 500 m and the length (a) is 100 m to 300 m.
【請求項10】 前記薄膜形状記憶合金(12)は、母
相終了温度に加熱して母相に変化すると平板の形態にな
って前記記録液(20)が前記ノズル(19)を介して
噴射され、マルテンサイト終了温度以下に冷却してマル
テンサイトに変化すると残留圧縮応力により曲げ変形し
て前記記録液(20)が前記液室(14)に補充される
ことを特徴とする請求項1記載のプリンタヘッドの記録
液噴射装置。
10. When the thin film shape memory alloy (12) is heated to the parent phase end temperature and changes to the parent phase, it forms a flat plate and the recording liquid (20) is jetted through the nozzle (19). The recording liquid (20) is replenished into the liquid chamber (14) by cooling to a martensite end temperature or lower and transforming into martensite, thereby bending and deforming due to residual compressive stress. Recording liquid ejecting device for printer head.
【請求項11】 前記母相終了温度が約50℃〜90℃
であり、前記マルテンサイト終了温度が約40℃〜70
℃であることを特徴とする請求項10記載のプリンタヘ
ッドの記録液噴射装置。
11. The mother phase end temperature is about 50 ° C. to 90 ° C.
And the martensite end temperature is about 40 ° C. to 70 ° C.
The recording liquid ejecting apparatus for a printer head according to claim 10, wherein the temperature is ℃.
【請求項12】 前記母相に加熱してからマルテンサイ
トに冷却するまでの時間が、約200μsec以下であ
り、動作周波数は5kHz以上であることを特徴とする
請求項10記載のプリンタヘッドの記録液噴射装置。
12. The recording of a printer head according to claim 10, wherein the time from heating to said matrix to cooling to martensite is about 200 μsec or less, and the operating frequency is 5 kHz or more. Liquid injection device.
【請求項13】 前記薄膜形状記憶合金(12)は、母
相終了温度に加熱して母相に変化すると平板の形態にな
って前記記録液(20)が前記ノズル(19)を介して
噴射され、マルテンサイト終了温度以下に冷却してマル
テンサイトに変化することを学習することにより曲げ変
形して前記記録液(20)が前記液室(14)に補充さ
れることを特徴とする請求項1記載のプリンタヘッドの
記録液噴射装置。
13. When the thin film shape memory alloy (12) is heated to the parent phase end temperature and changes to the parent phase, it becomes a flat plate and the recording liquid (20) is jetted through the nozzle (19). The recording liquid (20) is replenished into the liquid chamber (14) by bending deformation by learning that the recording liquid changes to martensite by cooling to a martensite end temperature or lower. 2. A recording liquid ejecting apparatus for a printer head according to claim 1.
【請求項14】 前記薄膜形状記憶合金(12)がマル
テンサイトであるとき、外力を数回加えて学習させた
後、マルテンサイト終了温度以下に冷却するとき、マル
テンサイトが特定方向に形成して所望の変位を有するよ
うにすることを特徴とする請求項13記載のプリンタヘ
ッドの記録液噴射装置。
14. When the thin-film shape memory alloy (12) is martensite, learning is performed by applying an external force several times, and then when the film is cooled to a martensite end temperature or lower, martensite is formed in a specific direction. 14. The apparatus according to claim 13, wherein the apparatus has a desired displacement.
【請求項15】 前記母相終了温度が約50℃〜90℃
であり、前記マルテンサイト終了温度が約40℃〜70
℃であることを特徴とする請求項13記載のプリンタヘ
ッドの記録液噴射装置。
15. The mother phase end temperature is about 50 ° C. to 90 ° C.
And the martensite end temperature is about 40 ° C. to 70 ° C.
14. The recording liquid ejecting apparatus for a printer head according to claim 13, wherein the temperature is ° C.
【請求項16】 前記母相に加熱してからマルテンサイ
トに冷却するまでの時間が、約200μsec以下であ
り、動作周波数は5kHz以上であることを特徴とする
請求項13記載のプリンタヘッドの記録液噴射装置。
16. The recording of a printer head according to claim 13, wherein the time from heating to said matrix to cooling to martensite is about 200 μsec or less, and an operation frequency is 5 kHz or more. Liquid injection device.
【請求項17】 基板(10)に薄膜形状記憶合金(1
2)を蒸着する段階(100)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)を熱処理して結晶化させ
て、母相で偏平な状態を記憶する段階(101)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)をマルテンサイトになる
ように冷却すると、残留圧縮応力を有する段階(10
2)と、 前記基板(10)をエッチングして、前記薄膜形状記憶
合金(12)の一部が露出するようにする段階(10
3)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)の露出部位が残留圧縮応
力により曲げ変形する段階(104)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)を加熱して母相になる
と、偏平になって記録液(20)を噴射する段階(10
5)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)を冷却してマルテンサイ
トになると残留圧縮応力により曲げ変形して、記録液
(20)が液室(14)の内部に補充される段階(10
6)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)の温度変化によって前記
段階(105),(106)を繰り返して印刷する段階
(107)とを備えることを特徴とするプリンタヘッド
の記録液噴射方法。
17. A thin film shape memory alloy (1) is formed on a substrate (10).
2) depositing (100); heat-treating and crystallizing the thin film shape memory alloy (12) to store a flat state in the mother phase (101); ) Is cooled to martensite and the step (10) having residual compressive stress
2) etching the substrate (10) to expose a portion of the thin film shape memory alloy (12);
3), a step (104) in which the exposed portion of the thin film shape memory alloy (12) is bent and deformed by residual compressive stress, and when the thin film shape memory alloy (12) is heated to become a parent phase, it becomes flat. Injecting the recording liquid (20) (10
5) When the thin film shape memory alloy (12) is cooled to be martensite, it is bent and deformed by residual compressive stress, and the recording liquid (20) is refilled into the liquid chamber (14) (10).
6) and a step (107) of repeating the steps (105) and (106) according to a temperature change of the thin film shape memory alloy (12) to perform printing (107).
【請求項18】 薄膜形状記憶合金(12)を蒸着した
後、結晶化するように熱処理する段階(200)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)がマルテンサイトになる
ように冷却する段階(201)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)に外力を加えて曲げ変形
させる段階(202)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)が母相で偏平になるよう
加熱する段階(203)と、 前記冷却、変形、加熱段階(201),(202),
(203)を数回繰り返して前記薄膜形状記憶合金(1
2)を学習させる段階(204)と、 前記学習段階(204)を経た前記薄膜形状記憶合金
(12)を冷却してマルテンサイトになると、自力によ
り曲げ変形する段階(205)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)が加熱して母相となる
と、偏平になって記録液(20)を噴射する段階(20
6)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)が冷却されてマルテンサ
イトになると、曲げ変形により記録液(20)が液室
(14)の内部に補充される段階(207)と、 前記薄膜形状記憶合金(12)の温度変化によって前記
段階(206),(207)を繰り返して印刷する段階
(208)とを備えることを特徴とするプリンタヘッド
の記録液噴射方法。
18. Depositing a thin film shape memory alloy (12) and then heat treating it to crystallize (200), and cooling the thin film shape memory alloy (12) to martensite (201) Applying an external force to the thin film shape memory alloy (12) to bend and deform (202); heating the thin film shape memory alloy (12) so that the thin film shape memory alloy (12) becomes flat in a parent phase (203); Cooling, deformation, heating steps (201), (202),
(203) was repeated several times to obtain the thin film shape memory alloy (1).
2) learning (204); cooling the thin film shape memory alloy (12) after the learning step (204) to become martensite; When the memory alloy (12) is heated and becomes a parent phase, the memory alloy (12) becomes flat and ejects the recording liquid (20) (20).
6), when the thin film shape memory alloy (12) is cooled to become martensite, the recording liquid (20) is replenished into the liquid chamber (14) by bending deformation (207); A step (208) of repeatedly performing the steps (206) and (207) according to a temperature change of the memory alloy (12), and printing (208).
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