JPH10245381A - 光学活性なホモノナクチン酸誘導体およびその製造方法 - Google Patents

光学活性なホモノナクチン酸誘導体およびその製造方法

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JPH10245381A
JPH10245381A JP9048901A JP4890197A JPH10245381A JP H10245381 A JPH10245381 A JP H10245381A JP 9048901 A JP9048901 A JP 9048901A JP 4890197 A JP4890197 A JP 4890197A JP H10245381 A JPH10245381 A JP H10245381A
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JP
Japan
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acid
compound
benzyloxy
epoxy
homononactic
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JP9048901A
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English (en)
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Hiromasa Kiyota
洋正 清田
Takayuki Oritani
隆之 折谷
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学活性なホモノナクチン酸を立体選択的に
製造するために有用な光学活性なホモノナクチン酸誘導
体およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は水酸基の保護基を表す)で示される光学
活性なホモノナクチン酸誘導体。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、光学活性なホモノ
ナクチン酸[(2R,3S,6R,8S)−3,6−エ
ポキシ−8−ヒドロキシ−2−メチルデカン酸]の合成
中間体として有用な、光学活性なホモノナクチン酸誘導
体の製造方法に関する。光学活性なホモノナクチン酸
は、それ自身、殺虫活性を有し、また、テトラナクチン
[Streptomyces aureus strain S-3466 の生産する抗生
物質;J. Antibiotics、24巻、6号、347頁および
同418頁(1971年)参照]の合成中間体としても
有用である。
【0002】
【従来の技術】従来、光学活性なホモノナクチン酸の製
造方法としては、2−リチオ−5−ビニルフランと
(S)−1,2−エポキシブタンをカップリングさせて
得られる(2´S)−2−(2´−アセトキシブチル)
−5−ビニルフランから多工程を経て、(2RS,3R
S,6RS,8S)−3,6−エポキシ−8−ヒドロキ
シ−2−メチルデカン酸メチルを得、このジアステレオ
マーの混合物を分離する方法が知られている[J. Chem.
Soc., Chem. Commun.、996頁(1986年)参
照]。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、光学活性なホモノナクチン酸[(2R,3
S,6R,8S)−3,6−エポキシ−8−ヒドロキシ
−2−メチルデカン酸]を立体選択的に得ることはでき
ず、ジアステレオマーの混合物が得られる。ジアステレ
オマーの混合物から目的とする光学活性なホモノナクチ
ン酸を分離することは困難であり、光学活性なホモノナ
クチン酸を立体選択的に製造できる方法が求められてい
たのが現状である しかして、本発明の目的は、光学活性なホモノナクチン
酸の合成中間体である光学活性なホモノナクチン酸誘導
体を、立体選択的に製造できる方法を提供することにあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、 一般式(1)
【0005】
【化4】
【0006】(式中、R1 は水酸基の保護基を表す)で
示されるホモノナクチン酸誘導体[以下、ホモノナクチ
ン酸誘導体(1)と略記する]、および 一般式(2)
【0007】
【化5】
【0008】(式中、R1 は前記定義のとおりであり、
2 は水酸基の保護基を表す)で示される化合物[以
下、化合物(2)と略記する]をヨードエーテル化反応
に付すことを特徴とするホモノナクチン酸誘導体(1)
の製造方法を提供することにより達成される。
【0009】
【発明の実施の形態】上記式中、R1 が表す水酸基の保
護基としては、ベンジル基、p−メトキシベンジル基、
3,4−ジメトキシベンジル基、アリル基、メトキシメ
チル基、メチルチオメチル基、ベンジルオキシメチル基
などが挙げられる。また、R2 が表す水酸基の保護基と
しては、t−ブチル基、2,6−ジクロロベンジル基、
t−ブチルジフェニルシリル基などが挙げられる。
【0010】次に、本発明のヨードエーテル化反応を説
明する。反応に使用されるヨウ化剤としては、ヨウ素、
N−ヨードコハク酸イミドなどが挙げられる。ヨウ化剤
の使用量は、化合物(2)1モルに対して1〜2モルの
範囲が好ましい。
【0011】かかる反応は、塩基の存在下に行う。塩基
としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素
リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウ
ムなどが挙げられる。塩基の使用量は、化合物(2)1
モルに対して2〜15モルの範囲が好ましい。
【0012】反応は、溶媒の存在下に行うことが好まし
く、かかる溶媒としては、アセトニトリル、プロピオニ
トリルなどのニトリル;テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル;クロロホ
ルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭素など
のハロゲン化炭化水素などが挙げられる。溶媒の使用量
は、化合物(2)に対して5〜20重量倍の範囲が好ま
しい。
【0013】このようにして得られたホモノナクチン酸
誘導体(1)の反応混合物からの単離・精製は常法にし
たがって行うことができる。例えば、反応液にチオ硫酸
ナトリウム水溶液を加え、ジエチルエーテルなどのエー
テル系溶媒により抽出し、抽出液を飽和塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、無水流酸マグネシウムなどを用いて乾
燥した後、固体を濾別して濾液を減圧下に濃縮し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーなどで精製する
ことにより行う。
【0014】本発明の製造方法において原料となる化合
物(2)のうち、R1 がベンジル基であり、R2 がt−
ブチル基である化合物[以下、化合物(2−1)と略記
する]は、例えば下記のスキームにしたがって製造する
ことができる。
【0015】
【化6】
【0016】(式中、Bnはベンジル基を表し、Etは
エチル基を表す) 出発原料として用いられる(2R,3R)−4−ベンジ
ルオキシ−1,2−イソプロピリデンジオキシ−3−メ
チルブタン(3)は、公知の方法[Tetrahedron 、49
巻、10531頁(1993年)参照]に従って容易に
製造できる。
【0017】次に、(2R,3R)−4−ベンジルオキ
シ−1,2−イソプロピリデンジオキシ−3−メチルブ
タン(3)のアセタール保護基を除去することにより、
(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−2−メチルブタ
ン−3,4−ジオール(4)を得る。かかる反応は、酸
触媒の存在下に行う。酸触媒としては、トルエンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸のピリジン塩、希塩酸、希硫
酸などが挙げられる。また、かかる反応は溶媒の存在下
に行われることが好ましく、溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、プロパノールなどのアルコール、水、
またはアルコールと水の混合溶媒などが挙げられる。
【0018】(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−2
−メチルブタン−3,4−ジオール(4)のジオール部
分の立体を保持したままエポキシ環に変換することによ
り、(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−3,4−エ
ポキシ−2−メチルブタン(5)を得る。かかる反応
は、例えば、(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−2
−メチルブタン−3,4−ジオール(4)を臭化水素−
酢酸溶液で処理して(2R,3R)−1−ベンジルオキ
シ−4−ブロモ−3−アセトキシ−2−メチルブタンと
し、次いでこれを塩基で処理することにより行う。ま
た、(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−2−メチル
ブタン−3,4−ジオール(4)をピリジン溶媒中、ト
ルエンスルホン酸クロリドで処理してトルエンスルホン
酸(2S,3S)−1−ベンジルオキシ−2−ヒソロキ
シ−3−メチルブチルとし、次いでこれを塩基で処理す
ることにより行うこともできる。塩基としては、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウムなどのアルカリ金属水酸化
物;水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物;ブ
チルリチウムなどの有機リチウム化合物;炭酸カリウム
などのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。かかる反
応は溶媒の存在下に行われることが好ましく、溶媒とし
ては、メタノール、エタノールなどのアルコール;テト
ラヒドロフランなどのエーテル;またはアルコールとエ
ーテルと水との混合溶媒が使用される。
【0019】(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−
3,4−エポキシ−2−メチルブタン(5)のエポキシ
環を開環してアリル基を導入することにより、(2R,
3S)−1−ベンジルオキシ−2−メチル−6−ヘプテ
ン−3−オール(6)を得る。アリル化剤としては、ハ
ロゲン化アリルマグネシウム、ハロゲン化アリルリチウ
ム、ジアリル銅リチウムなどが使用される。かかる反応
は、銅触媒の存在下に行われ、銅触媒としては、ハロゲ
ン化銅、ジリチウムテトラクロロ銅などが使用される。
また、かかる反応は溶媒の存在下に行われることが好ま
しく、溶媒としては、テトラヒドロフランなどのエーテ
ルなどが挙げられる。
【0020】(2R,3S)−1−ベンジルオキシ−2
−メチル−6−ヘプテン−3−オール(6)をイソブテ
ンと反応させることにより、(2R,3R)−1−ベン
ジルオキシ−3−t−ブトキシ−2−メチル−6−ヘプ
テン(7)を得る。かかる反応は、酸触媒の存在下で行
われ、酸触媒としては、アンバーリストH−15[Tetr
ahedron Lett、29巻、2951頁(1988年)参
照]などが挙げられる。また、反応は耐圧容器中で行う
ことが好ましい。
【0021】(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−3
−t−ブトキシ−2−メチル−6−ヘプテン(7)の二
重結合を切断することにより、(4S,5R)−6−ベ
ンジルオキシ−4−t−ブトキシ−2−メチルヘキサナ
ール(8)を得る。かかる反応は、塩化メチレン、クロ
ロホルムなどのハロゲン化炭化水素;メタノールなどの
アルコールなどの溶媒中で、トリフェニルホスフィン、
ジメチルスルフィドなどの還元剤を用いて(2R,3
R)−1−ベンジルオキシ−3−t−ブトキシ−2−メ
チル−6−ヘプテン(7)をオゾン分解することにより
行う。また、溶媒としてジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル;アセトンなどの
ケトン;水などを使用し、四酸化オスミウム−過ヨウ素
酸ナトリウムで処理することにより行ってもよい。
【0022】(4S,5R)−6−ベンジルオキシ−4
−t−ブトキシ−2−メチルヘキサナール(8)と2−
オキソブチルホスホン酸ジエチル(9)とを縮合させる
ことにより、化合物(2−1)を得る。2−オキソブチ
ルホスホン酸ジエチル(9)は公知の方法に従って製造
することができる[Bull. Chem. Soc. Jpn. 、35巻、
1498頁(1962年)参照]。
【0023】かかる反応は、塩基の存在下に行われ、塩
基としては水素化アルカリ金属、アルカリ金属アミド、
ブチルリチウム、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、
炭酸カリウムなどが使用される。また、反応は溶媒の存
在下に行うことが好ましく、溶媒としてはテトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテルなどのエーテルなどが挙げら
れる。塩基が炭酸カリウムの場合は、溶媒としてアルコ
ールを用いることが好ましい。
【0024】このようにして得られた化合物(2)の反
応混合物からの単離・精製は常法にしたがって行うこと
ができる。例えば、反応混合物を水にあけ、ジエチルエ
ーテルなどのエーテル系溶媒により抽出し、得られた抽
出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムなどを用いて乾燥した後、固体を濾別して濾
液を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーなどで精製することにより行う。また、化合
物(2)は、単離・精製することなく、本発明の製造方
法に用いてもよい。
【0025】本発明により製造されるホモノナクチン酸
誘導体(1)のうち、R1 がベンジル基である化合物
[以下、ホモノナクチン酸誘導体(1−1)と略記す
る]は、例えば下記のスキームにしたがって、光学活性
なホモノナクチン酸に変換することができる。
【0026】
【化7】
【0027】(式中、Bnはベンジル基を表し、TBS
はt−ブチルジメチルシリル基を表し、Meはメチル基
を表す) まず、ホモノナクチン酸誘導体(1−1)のカルボニル
基を還元することにより、(3R,4R,5R,8S,
9R)−10−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−4
−ヨード−9−メチルデカン−3−オール(11)を得
る。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化
リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウ
ムなどの金属水素化錯体を用いる。還元の立体選択性は
約1対1であり、ここで生成した(3S)−体は、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーなどの通常の分離操作
により(3R)−体と分離することができる。また、分
離せずに次の反応に付してもよい。
【0028】(3R,4R,5R,8S,9R)−10
−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−4−ヨード−9
−メチルデカン−3−オール(11)のヨード基を還元
的に除去することにより、(3R,5R,8S,9R)
−10−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−9−メチ
ルデカン−3−オール(12)を得る。還元剤として
は、水素トリブチルスズなどが使用される。反応開始剤
として、アゾビスイソブチロニトリルを使用してもよ
い。また、反応は溶媒の存在下に行うことが好ましく、
溶媒としてはトルエン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素
などが使用される。
【0029】また、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リ
チウムアルミニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム
などの金属水素化錯体を用いてホモノナクチン酸誘導体
(1−1)のカルボニル基の還元とヨード基の除去を同
時に行い、一段階の反応で(3R,5R,8S,9R)
−10−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−9−メチ
ルデカン−3−オール(12)を得ることもできる。
【0030】(3R,5R,8S,9R)−10−ベン
ジルオキシ−5,8−エポキシ−9−メチルデカン−3
−オール(12)の水酸基を保護することにより、(2
R,3S,6R,8R)−1−ベンジルオキシ−8−t
−ブチルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2
−メチルデカン(13)を得る。このとき8位の水酸基
の保護基は、t−ブチルジメチルシリル基のほかに、t
−ブチルジフェニルシリル基などの他のシリル基;エト
キシエチル基などのアセタール基;アセチル基などのエ
ステル系保護基であってもよい。
【0031】(2R,3S,6R,8R)−1−ベンジ
ルオキシ−8−t−ブチルジメチルシリルオキシ−3,
6−エポキシ−2−メチルデカン(13)を加水素分解
することにより、(2R,3S,6R,8R)−8−t
−ブチルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2
−メチルデカン−1−オール(14)を得る。かかる反
応は、金属触媒の存在下に行われ、金属触媒としては、
パラジウム、白金などの単体、酸化物、水酸化物を単独
またはセライトや活性炭に担持した物が挙げられる。溶
媒としては、テトラヒドロフランなどのエーテル;酢酸
エチルなどのエステル;メタノールなどのアルコール;
酢酸などが使用される。また、液体アンモニア中でアル
カリ金属、アルカリ土類金属により還元するバーチ条件
を用いてもよい。
【0032】(2R,3S,6R,8R)−8−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メ
チルデカン−1−オール(14)を酸化することによ
り、(2R,3S,6R,8R)−8−t−ブチルジメ
チルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカ
ナール(15)を得る。酸化剤としては、ジメチルスル
ホキシド、ニクロム酸ピリジニウム、塩化クロム酸ビリ
ジニウム、デスマーチン・ペルヨージナンなどが用いら
れる。酸化剤としてジメチルスルホキシドを使用する場
合には、活性化剤として無水酢酸、三酸化イオウ、二塩
化オキサリルなどを使用することが好ましい。
【0033】(2R,3S,6R,8R)−8−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メ
チルデカナール(15)を酸化することにより、(2
R,3S,6R,8R)−8−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカン酸(1
6)を得る。酸化剤としては、過マンガン酸塩、クロム
酸塩、酸化銀、亜ハロゲン酸塩、次亜ハロゲン酸塩など
が使用される。
【0034】(2R,3S,6R,8R)−8−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メ
チルデカン−1−オール(14)を、ジメチルホルムア
ミド中で二クロム酸のピリジン塩を酸化剤として用いて
酸化することにより、一段階の反応で(2R,3S,6
R,8R)−8−t−ブチルジメチルシリルオキシ−
3,6−エポキシ−2−メチルデカン酸(16)を得る
こともできる。
【0035】(2R,3S,6R,8R)−8−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メ
チルデカン酸(16)のt−ブチルジメチルシリル基を
除去することにより、光学活性なホモノナクチン酸(1
7)を得る。反応剤としては、フッ化水素酸、フッ化水
素酸・ピリジン、フッ化テトラブチルアンモニウム、塩
酸、トルエンスルホン酸などが使用される。
【0036】ホモノナクチン酸(17)をメチルエステ
ル化することにより、ホモノナクチン酸メチルエステル
(18)を得る。メチルエステル化反応としては、ジア
ゾメタンの存在下に行う方法、メタノールの存在下に、
塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸などを触媒として用い
る方法、水素化アルカリ金属、水素化アルカリ土類金
属、アルカリ金属メトキシド、アルカリ土類金属メトキ
シドなどの塩基を触媒として、ハロゲン化メチルを用い
る方法などが挙げられる。
【0037】このようにして得られた光学活性なホモノ
ナクチン酸(17)は、J. Chem. Soc., Chem. Commu
n.、996頁(1986年)記載の方法にしたがって、
テトラナクチンに変換することができる。
【0038】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はかかる実施例に限定されるものではな
い。
【0039】参考例1 (2R,3R)−1−ベンジル
オキシ−2−メチルブタン−3,4−ジオール(4)の
合成 (2R,3R)−4−ベンジルオキシ−1,2−イソプ
ロピリデンジオキシ−3−メチルブタン(3)3.42
g(13.7mmol)と触媒量のトルエンスルホン酸
のメタノール(30ml)溶液を40℃で5時間撹拌し
た。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて、
ジエチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせて、
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル120g、ヘキサン:
酢酸エチル=1:1)で精製し、無色油状物(2R,3
R)−1−ベンジルオキシ−2−メチルブタン−3,4
−ジオール(4)2.76g(13.1mmol、収率
95.6%)を得た。また(2R,3R)−4−ベンジ
ルオキシ−1,2−イソプロピリデンジオキシ−3−メ
チルブタン(3)0.13g(0.52mmol、3.
8%)を回収した。
【0040】nD 23 1.5217 [α]D 22 −22.7°(c=1.01,CHC
3 ) IR ν max(film):3400cm-1 (br. s, O
H), 3100 (w, arom. C-H), 3075 (w, arom. C-H), 3040
(w, arom. C-H), 1500 (w, C=C), 740 (s, Ph), 700
(s, Ph)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 ):d=0.90
(d, 3H, J=6.8Hz, 3-Me), 1.91-2.11 (m, 1H), 2.37 (p
seudo t, 1H,J=6.4, 5.9Hz, OH), 3.47-3.74 (m, 6H),
4.54 (s, 2H, Ph-CH2), 7.25-7.40 (m, 5H, Ph) HREIMS m/z(M+ ): Calcd for C12183 : 210.125
6 found: 210.1263
【0041】参考例2 (2R,3R)−1−ベンジル
オキシ−3,4−エポキシ−2−メチルブタン(5)の
合成 アルゴン雰囲気下、−30℃で(2R,3R)−1−ベ
ンジルオキシ−2−メチルブタン−3,4−ジオール
(4)0.100g(0.476mmol)のジエチル
エーテル(3ml)溶液に30%臭化水素−酢酸溶液
0.381g(1.43mmol)を滴下し、混合物を
−30℃で30分、次いで−10℃で12時間撹拌し
た。反応液に水1mlと飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
15mlを加えて、ジエチルエーテルで抽出した。有機
層を合わせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和塩化
ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮して、無色油状物(2R,3R)−1−ベ
ンジルオキシ−4−ブロモ−3−アセトキシ−2−メチ
ルブタン150mg(0.478mmol、ca.10
0%)を得た。
【0042】nD 17.5 1.5155 [α]D 22 +29.9°(c=0.720,CHCl
3 ) IR ν max(film):3100cm-1 (w, arom. C
-H), 3075 (w, arom. C-H), 3040 (w, arom. C-H), 174
0 (s, C=O), 1500 (w, C=C), 1450 (m), 1370 (s), 124
0 (s), 1100 (br. s), 740 (s, Ph), 700 (s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=1.00
(d, 3H, J=7.3Hz, 2-Me), 2.05 (s, 3H, Ac), 2.19-2.3
1 (m, 1H, 2-H), 3.39 (dd, 1H, J=9.5, 5.1Hz, 1-H),
3.45 (dd, 1H, J=9.5, 5.1Hz, 1-H), 3.52 (dd, 1H, J=
11.4, 6.2Hz, 4-H), 3.67 (dd, 1H, J=11.4, 3.7Hz, 4-
H), 4.46 (d, 1H, J=11.9Hz, Ph-CH2). 4.51 (d, 1H, J
=11.9Hz, Ph-CH2), 5.05 (dt, 1H, J=3.7, 6.2Hz, 3-
H), 7.25-7.38 (m, 5H, Ph) HREIMS m/z(M+ ): Calcd for C14193 Br: 314.0
518 found: 314.0521
【0043】得られた(2R,3R)−1−ベンジルオ
キシ−4−ブロモ−3−アセトキシ−2−メチルブタン
150mg(0.476mmol)のテトラヒドロフラ
ン−メタノール溶液(混合比3:1、4ml)に、0℃
で1M 水酸化カリウム水溶液(1ml)を加え、0℃
で1時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで3回抽
出し、有機層を合わせて飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(3g、ベ
ンゼン:ジエチルエーテル=30:1)で精製し、無色
油状物(2R,3R)−1−ベンジルオキシ−3,4−
エポキシ−2−メチルブタン(5)を得た。
【0044】nD 22 1.5050 [α]D 22 +5.47°(c=0.603,CHCl
3 ) IR ν max(film):3100cm-1 (w, arom. C
-H), 3040 (w, arom. C-H), 1500 (w, C=C), 1450 (s),
1100 (s), 740 (s, Ph), 700 (s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=1.00
(d, 3H, J=7.0Hz, 2-Me), 1.66-1.77 (m, 1H, 2-H), 2.
55 (dd, 1H, J=4.8, 2.6Hz, 4-H), 2.75 (dd, 1H, J=4.
8, 4.2Hz, 4-H), 2.91 (ddd, 1H, J=6.8, 4.2, 2.6Hz,
3-H), 3.48 (dd, 1H, J=9.2, 5.9Hz, 1-H), 3.53 (dd,
1H, J=9.2, 5.5Hz, 1-H), 4.53 (s, 2H, Ph-CH2), 7.26
-7.39 (m, 5H, Ph) Anal.: Calcd for C12162 : C:74.97%; H:8.39% found: C:74.72%; H:8.14%
【0045】参考例3 (2R,3S)−1−ベンジル
オキシ−2−メチル−6−ヘプテン−3−オール(6)
の合成 アルゴン雰囲気下、−30℃でヨウ化銅(I)590m
g(3.10mmol)のジエチルエーテル懸濁液(5
ml)に臭化アリルマグネシウムのジエチルエーテル溶
液(1M、31ml、31mmol)を30分かけて滴
下した。反応液に(2R,3R)−1−ベンジルオキシ
−3,4−エポキシ−2−メチルブタン(5)2.98
g(15.5mmol)のジエチルエーテル溶液(30
ml)を30分かけて滴下し、−20℃で12時間撹拌
した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液にあけ、水
層をジエチルエーテルで3回抽出した。有機層を合わせ
て飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(100g、ヘキサン:酢酸エチル
=10:1)で精製し、無色油状物(2R,3S)−1
−ベンジルオキシ−2−メチル−6−ヘプテン−3−オ
ール(6)3.40g(14.5mmol、収率93.
8%)を得た。
【0046】nD 22 1.5067 [α]D 22 −29.9°(c=1.04,CHC
3 ) IR ν max(film):3450cm-1 (br. s, O
H), 3075 (m, C=C-H), 3040 (m, arom. C-H), 1640 (m,
C=C), 1500 (w, C=C), 1450 (m), 1090 (br. s), 910
(s), 740 (s, Ph), 700 (s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.91
(d, 3H, J=7.0Hz, 2-Me), 1.50 (dddd, 1H, J=13.9, 9.
3, 9.3, 5.1Hz, 4-H), 1.59 (ddt, 1H, J=20.1, 9.3,
3.3Hz, 4-H), 1.85 (qtd, 1H, J=7.0, 7.0, 4.2Hz, 2-
H), 2.08-2.19 (m, 1H, 5-H), 2.22-2.33 (m, 1H, 5-
H), 3.31 (d, 1H, J=3.7Hz, OH), 3.47 (dd, 1H, J=9.
2, 7.3Hz, 1-H), 3.50-3.58 (m, 1H,3-H), 3.62 (dd, 1
H, J=9.2, 4.2Hz, 1-H), 4.51 (s, 2H, Ph-CH2), 4.96
(ddt,1H, J=10.3, 1.8, 1.1Hz, 7-H), 5.05 (ddt, 1H,
J=17.2, 1.8, 1.8Hz, 7-H),5.85 (ddt, 1H, J=17.2, 1
0.3, 6.6Hz, 6-H), 7.25-7.38 (m, 5H, Ph) HREIMS m/z(M+ ): Calcd for C15222 : 234.162
0 found: 234.1632
【0047】参考例4 (2R,3R)−1−ベンジル
オキシ−3−t−ブトキシ−2−メチル−6−ヘプテン
(7)の合成 耐圧ガラス製容器に入れた(2R,3S)−1−ベンジ
ルオキシ−2−メチル−6−ヘプテン−3−オール
(6)356mg(1.51mmol)とアンバーリス
トH−15(30mg)のヘキサン懸濁液(5ml)に
予め−78℃に冷却した液化イソブテン(ca.5m
l)を加え、固く蓋をして20℃で2日撹拌した。反応
液をセライトで濾過して濾液を減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(20g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=70:1)で精製し、(2R,3S)
−1−ベンジルオキシ−2−メチル−6−ヘプテン−3
−オール(6)43mg(0.184mmol、11.
2%)を回収し、無色油状物(2R,3R)−1−ベン
ジルオキシ−3−t−ブトキシ−2−メチル−6−ヘプ
テン(7)389mg(1.34mmol;収率88.
8%、回収を考慮すると定量的)を得た。
【0048】[α]D 22 −12.3°(c=1.0
0,CHCl3 ) IR ν max(film):3075cm-1 (w, C=C-H),
3040 (w, arom. C-H), 1640 (m, C=C), 1500 (w, C=
C), 1450 (m), 1360 (s), 1190 (s), 740 (s, Ph), 700
(s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.91
(d, 3H, J = 7.0Hz, 2-Me), 1.19 (s, 9H, t-Bu), 1.40
-1.51 (m, 1H,2-H), 1.97-2.22 (m, 2H, 5-H), 3.31 (d
d, 1H, J=9.2, 2.2Hz, 1-H), 3.40 (dd, 1H, J=9.2, 6.
6Hz, 1-H), 3.63 (dt, 1H, J=7.0, 4.5Hz, 3-H), 4.45
(d, 1H, J=12.2Hz, Ph-CH2), 4.52 (d, 1H, J=12.2Hz,
Ph-CH2), 4.90-4.96 (m, 1H, 7-H), 5.10 (ddt, 1H, J=
17.2, 1.8, 1.8Hz, 7-H), 5.82 (ddt, 1H, J=17.2, 10.
3, 6.6Hz, 6-H), 7.24-7.37 (m, 5H, Ph) Anal.: Calcd for C19302 : C:78.57%; H:10.41% found: C:78.67%; H:10.68%
【0049】参考例5 (4S,5R)−6−ベンジル
オキシ−4−t−ブトキシ−2−メチルヘキサナール
(8)の合成 (2R,3R)−1−ベンジルオキシ−3−t−ブトキ
シ−2−メチル−6−ヘプテン(7)0.500g
(1.72mmol)の水・ジオキサン溶液(1:1、
30ml)に炭酸水素ナトリウム7.2g(86mmo
l)、過ヨウ素酸ナトリウム3.68g(17.2mm
ol)および四酸化オスミウム5mgのt−ブチルアル
コール溶液(1ml)を加え、12時間撹拌した。反応
液に亜硫酸ナトリウム水溶液を加えてセライトで濾過し
た。濾液は有機層を分離し、水層を3回ジエチルエーテ
ルで抽出した。有機層を合わせて飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(20
g、ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製し、無色
油状物(4S,5R)−6−ベンジルオキシ−4−t−
ブトキシ−2−メチルヘキサナール(8)434mg
(1.49mmol、収率86.4%)を得た。
【0050】IR ν max(film):2720cm-1
(m, O=C-H), 1720 (m, C=O), 1500 (w, C=C), 1190
(s), 1090 (s),735 (s, Ph), 695 (s, Ph)1 H−NMR(300MHz,CDCl3 ):d=0.91
(d, 3H, J=6.9Hz, 5-Me), 1.18 (s, 9H, t-Bu), 1.6-1.
8 (m, 2H, 3-H), 2.07 (m, 1H, 5-H), 2.4-2.5 (m, 2H,
2-H), 3.34 (dd, 1H, J=9.2, 6.6Hz,6-H), 3.37 (dt,
1H, J=6.3, 9.2Hz, 6-H), 3.67 (dt, 1H, J=5.2, 6.3H
z, 4-H), 4.45 (d, 1H, J=12.2Hz, Ph-CH2), 4.52 (d,
1H, J=12.2Hz, Ph-CH2), 7.2-7.4 (m, 5H, Ph), 9.76
(t, 1H, J=1.8Hz, 1-H)
【0051】参考例6 (8S,9R)−10−ベンジ
ルオキシ−8−t−ブトキシ−9−メチル−4−デセン
−3−オン(2−1)の合成 アルゴン雰囲気下、0℃で水素化ナトリウム(60%オ
イル懸濁物、20mg、0.5mmol)のテトラヒド
ロフラン懸濁液(2ml)に2−オキソブチルホスホン
酸ジエチル(9)107mg(0.596mmol)を
滴下し、30分撹拌した。(4S,5R)−6−ベンジ
ルオキシ−4−t−ブトキシ−2−メチルヘキサナール
(8)121mg(0.414mmol)のテトラヒド
ロフラン溶液(1ml)を滴下し、室温で12時間撹拌
した。反応液は水にあけてジエチルエーテル抽出した。
有機層を合わせて飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(20g、ヘキサン:酢
酸エチル=10:1、3回)で精製し、無色油状物(8
S,9R)−10−ベンジルオキシ−8−t−ブトキシ
−9−メチル−4−デセン−3−オン(2−1)118
mg(0.341mmol、収率82.4%)を得た。
【0052】IR ν max(film):1720cm-1
(w), 1700 (m), 1675 (s, C=O), 1630 (s, C=C), 1190
(s), 740 (s, Ph), 700 (s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.90
(d, 3H, J=7.0Hz, 9-Me), 1.09 (t, 3H, J=7.5Hz, 1-
H), 1.19 (s, 9H, t-Bu), 1.45-1.55 (m, 2H, 7-H), 1.
97-2.22 (m, 2H, 5-H), 2.08 (m, 1H), 2.19 (m, 1H),
2.31 (m, 1H), 2.53 (q, 2H, J=7.5Hz, 2-H), 3.32 (d
d, 1H, J=9.2, 6.2Hz, 10-H), 3.37 (dd, 1H, J=9.2,
7.0Hz, 10-H), 3.66 (dt, 1H, J=6.6, 5.0Hz, 8-H), 4.
45 (d, 1H, J=12.1Hz, Ph-CH2), 4.52 (d, 1H, J=12.1H
z, Ph-CH2), 6.09 (dt, 1H, J=16.1, 1.5Hz, 4-H), 6.8
4 (dt, 1H, J=16.1, 6.8Hz, 5-H), 7.24-7.37 (m, 5H,
Ph)
【0053】実施例1 (4R,5R,8S,9R)−
10−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−4−ヨード
−9−メチルデカン−3−オン(1−1)の合成 0℃でヨウ素433mg(1.71mmol)と炭酸水
素ナトリウム1.44g(17.1mmol)のアセト
ニトリル懸濁液(3ml)に(8S,9R)−10−ベ
ンジルオキシ−8−t−ブトキシ−9−メチル−4−デ
セン−3−オン(2−1)118mg(0.341mm
ol)を滴下し、5℃で2日撹拌した。反応液は飽和チ
オ硫酸ナトリウム水溶液にあけて、ジエチルエーテルで
3回抽出した。有機層を合わせて飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(10
g、ヘキサン:酢酸エチル=15:1)で精製し、無色
油状物(4R,5R,8S,9R)−10−ベンジルオ
キシ−5,8−エポキシ−4−ヨード−9−メチルデカ
ン−3−オン(1−1)131mg(0.315mmo
l;92.4%)を得た。
【0054】IR ν max(film):3075cm-1
(w, C=C-H), 3040 (w, arom. C-H), 1710 (m, C=O), 1
100 (s), 1060 (s), 740 (s, Ph), 700 (s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.92
(d, 3H, J=6.6Hz, 2-Me), 1.10 (t, 3H, J=7.3Hz, 1-
H), 1.75 (m, 1H), 1.8-2.0 (m, 3H), 2.1 (m, 1H), 2.
71 (q, 2H, J=7.3Hz, 2-H), 3.31 (dd, 1H, J=7.0, 9.2
Hz, 10-H), 3.48 (dd, 1H, J=4.4, 9.2Hz, 10-H), 3.83
(m, 1H,8-H), 4.28 (m, 2H, 4 and 5-H), 4.47 (s, 2
H, Ph-CH2), 7.24-7.37 (m, 5H, Ph) HREIMS m/z(M−I+ ): Calcd for C18253 : 289.180
2 found: 289.1798
【0055】参考例7 (3R,5R,8S,9R)−
10−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−9−メチル
デカン−3−オール(12)の合成 (4R,5R,8S,9R)−10−ベンジルオキシ−
5,8−エポキシ−4−ヨード−9−メチルデカン−3
−オン(1−1)のエタノール溶液に20℃で臭化マグ
ネシウム・ジエチルエーテラートを加え、30分撹拌し
た。生じた溶液を−78℃に冷却し、水素化ホウ素ナト
リウムを加えて1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮した
残渣をジエチルエーテルで抽出し、さらに減圧濃縮して
(3RS,4R,5R,8S,9R)−10−ベンジル
オキシ−5,8−エポキシ−4−ヨード−9−メチルデ
カン−3−オール(11)の粗精製物を得た。アルゴン
雰囲気下、上記粗精製物のトルエン溶液(1ml)に水
素化トリブチルスズ49mg(0.17mmol)を加
え、4時間加熱還流した。反応液を20℃に冷却し、フ
ッ化カリウム2水和物160mg(1.7mmol)を
加えて3時間撹拌した。反応液をセライトで濾過して残
渣を分取用薄層シリカゲル(ヘキサン:酢酸エチル=
5:1)で精製し、無色油状物(3R,5R,8S,9
R)−10−ベンジルオキシ−5,8−エポキシ−9−
メチルデカン−3−オール(12)13mg(0.04
5mmol、収率39%)とその(3S)−体15mg
(0.051mmol、収率46%)を得た。
【0056】IR ν max(film):3420cm-1
(s, O-H), 1710 (m, C=O), 1100 (s), 1070 (s), 735
(s, Ph), 695(s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.94
(t, 3H, J=7.0Hz, 1-H), 0.95 (d, 3H, J=7.0Hz, 9-M
e), 1.4-1.65 (m, 4H), 1.66 (ddd, 1H, J=14.9, 7.3,
2.9Hz, 4-H),1.75 (ddd, 1H, J=14.9, 8.0, 4.0Hz, 4-
H), 1.85-2.0 (m, 3H),2.99 (br. s, 1H, OH), 3.38 (d
d, 1H, J=7.0, 9.2Hz, 10-H), 3.55 (dd, 1H, J=4.8,
9.2Hz, 10-H), 3.7-3.8 (br. s, 1H), 3.72 (dt, 1H, J
=7.7, 6.2Hz, 8-H), 4.11 (dq, 1H, J=4.0, 7.0Hz), 4.
50 (s, 2H, Ph-CH2), 7.2-7.4 (m, 5H, Ph)
【0057】参考例8 (2R,3S,6R,8R)−
1−ベンジルオキシ−8−t−ブチルジメチルシリルオ
キシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカン(13)の
合成 (3R,5R,8S,9R)−10−ベンジルオキシ−
5,8−エポキシ−9−メチルデカン−3−オール(1
2)とイミダゾールのジメチルホルムアミド溶液に塩化
t−ブチルジメチルシランを加え20℃で12時間撹拌
した。反応液を水にあけてジエチルエーテルで抽出し
た。有機層を濃縮して残渣を分取用薄層シリカゲル(ヘ
キサン:酢酸エチル=15:1)で精製し、無色油状物
(2R,3S,6R,8R)−1−ベンジルオキシ−8
−t−ブチルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ
−2−メチルデカン(13)12mg(0.030mm
ol、収率96%)を得た。
【0058】IR ν max(film):1250cm-1
(s), 1100 (s), 1070 (s), 840 (s), 775 (s), 735
(m, Ph), 695 (s, Ph)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.033
(s, 3H, CH3Si), 0.040 (s, 3H, CH3Si), 0.87 (t, 3H,
J=7.3Hz, 10-H), 0.88 (s, 9H, t-Bu), 0.95 (d, 3H,
J=7.0Hz, 2-Me), 1.4-2.0 (m, 9H), 3.36 (dd, 1H, J=
9.2, 7.7Hz, 1-H), 3.61 (dd, 1H, J=9.2, 4.8Hz, 1-
H), 3.65-3.75 (m, 2H), 3.89 (quint, 1H, J=6.6Hz, 8
-H), 4.51 (s, 2H, Ph-CH2), 7.2-7.35 (m, 5H, Ph)
【0059】参考例9 (2R,3S,6R,8R)−
8−t−ブチルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキ
シ−2−メチルデカン−1−オール(14)の合成 (2R,3S,6R,8R)−1−ベンジルオキシ−8
−t−ブチルジメチルシリルオキシ−3,6−エポキシ
−2−メチルデカン(13)12mg(0.030mm
ol)と5%パラジウム−活性炭のエタノール懸濁液
(0.5ml)を20℃で12時間撹拌した。反応液を
セライトで濾過して濾液を分取用薄層シリカゲル(ヘキ
サン:酢酸エチル=15:1)で精製し、無色油状物
(2R,3S,6R,8R)−8−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカン−
1−オール(14)9.5mg(0.030mmol、
定量的)を得た。
【0060】IR ν max(film):3450cm-1
(s, O-H), 1255 (s), 1045 (s), 840 (s), 775 (s)1 H−NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.038
(s, 3H, CH3Si), 0.044 (s, 3H, CH3Si), 0.81 (d, 3H,
J=7.0Hz, 2-Me), 0.87 (t, 3H, J=7.7Hz, 10-H), 0.88
(s, 9H, t-Bu), 1.4-1.65 (m, 5H),1.65-1.75 (m, 2
H), 1.78 (dd, 1H, J=11.6, 10.1Hz), 1.82 (dd, 1H, J
=11.6,9.0Hz), 1.9-2.5 (m, 2H), 3.5 (br. m, 1H, O
H), 3.55-3.65 (m, 3-H), 3.68(quint, 1H, J=5.5Hz),
3.97 (quint, 1H, J=6.6Hz)
【0061】参考例10 (2R,3S,6R,8R)
−8−t−ブチルジメチルシリルオキシ−3,6−エポ
キシ−2−メチルデカン酸(16)の合成 (2R,3S,6R,8R)−8−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカン−
1−オール(14)9.5mg(0.030mmol)
とデス・マーチンパーヨージナン14mg(0.038
mmol)の塩化メチレン溶液(0.5ml)を0℃で
3時間撹拌した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧濃縮
した。残渣を分取用薄層シリカゲル(クロロホルム:メ
タノール=60:1)で精製し、無色油状物(2R,3
S,6R,8R)−8−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−3,6−エポキシ−2−メチルデカナール(15)
の粗精製物を得た。該粗精製物、リン酸二水素ナトリウ
ムおよび2−メチル−2−ブテンの水−t−ブチルアル
コール溶液に20℃で亜塩素酸ナトリウムを加えて30
分撹拌した。反応液に希塩酸を加えて、ジエチルエーテ
ルで2回、酢酸エチルで2回抽出した。有機層を合わせ
て濃縮し、残渣を分取用薄層シリカゲル(クロロホル
ム:メタノール=20:1)で精製し、無色油状物(2
R,3S,6R,8R)−8−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカン酸(1
6)10mg(0.030mmol、定量的)を得た。
【0062】IR ν max(film):3600-240
0 cm-1 (s, O-H), 1715 (s, C=O), 1255 (s), 840 (s),
775 (s)1 H NMR(400MHz,CDCl3 ):d=0.035
(s, 3H, CH3Si), 0.044 (s, 3H, CH3Si), 0.875 (t, 3
H, J=7.7Hz, 10-H), 0.881 (s, 9H, t-Bu), 1.20 (d, 3
H, J=7.0Hz, 2-Me), 1.4-1.7 (m, 5H),1.84 (dt, 1H, J
=13.5, 6.0Hz), 2.0-2.1 (m, 2H), 2.51 (dq, 1H, J=7.
3, 7.3Hz, 9-H), 3.71 (tt, 1H, J=5.8, 5.8Hz, 8-H),
3.96 (dt, 1H, J=7.2, 7.2Hz,3-H), 2.51 (tt, 1H, J=
6.5, 6.5Hz, 6-H)
【0063】参考例11 (2R,3S,6R,8R)
−8−ヒドロキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカ
ン酸(ホモノナクチン酸)(17)の合成 (2R,3S,6R,8R)−8−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカン酸
(16)10mg(0.030mmol)をフッ化テト
ラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液(1
M、0.061ml、0.061mmol)に加えて0
℃で20分、次いで20℃で1日撹拌した。残渣を濃縮
して分取用薄層シリカゲル(クロロホルム:メタノール
=60:1)で精製し、無色油状物(2R,3S,6
R,8R)−8−ヒドロキシ−3,6−エポキシ−2−
メチルデカン酸(ホモノナクチン酸)(17)6.0m
g(0.028mmol、収率92%)を得た。
【0064】IR ν max(film):3700-240
0 cm-1 (br. m,OH and CO2H), 1720 (s, C=O), 1460
(m)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 ):δ=0.94
(t, 3H, J=7.3Hz, 10-H), 1.18 (d, 3H, J=6.8Hz, 2-M
e), 1.43-1.71(m, 6H), 2.04-3.30 (m, 5H), 3.70-3.85
(m, 1H), 3.90-4.05 (m, 1H), 4.15-4.30 (m, 1H)
【0065】参考例12 (2R,3S,6R,8R)
−8−ヒドロキシ−3,6−エポキシ−2−メチルデカ
ン酸メチル(ホモノナクチン酸メチル)(18)の合成 0℃で(2R,3S,6R,8R)−8−ヒドロキシ−
3,6−エポキシ−2−メチルデカン酸(ホモノナクチ
ン酸)(17)3.0mg(0.014mmol)のジ
エチルエーテル(1ml)懸濁液に、ジアゾメタンのジ
エチルエーテル溶液を黄色が残るまで加えた。室温で1
時間放置し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1、シ
リカゲル300mg)で精製し、(2R,3S,6R,
8R)−8−ヒドロキシ−3,6−エポキシ−2−メチ
ルデカン酸メチル(ホモノナクチン酸メチル)(18)
2.0mg(0.0090mmol、収率64%)を得
た。
【0066】IR ν max(film):3450cm-1
(br. s, OH), 1740 (s, C=O)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 ):δ=0.94
(t, 3H, J=7.3Hz, 10-H), 1.13 (d, 3H, J=7.1Hz, 2-M
e), 1.40-1.80 (m, 6H), 1.90-2.10 (m, 2H), 2.54 (d
q, 1H, J=8.3, 7.1Hz, 2-H), 2.79 (pseudo d, 1H, J=
4.6Hz, OH), 3.69-3.80 (m, 1H), 3.70 (s, 3H, OMe),
3.93-4.40 (m, 1H), 4.09-4.20 (m, 1H)
【0067】
【発明の効果】本発明によれば、光学活性なホモノナク
チン酸誘導体(1)を立体選択的に製造する方法が提供
される。
【手続補正書】
【提出日】平成9年3月6日
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 光学活性なホモノナクチン酸誘導体
およびその製造方法
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0001
【補正方法】変更
【補正内容】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、光学活性なホモノ
ナクチン酸[(2R,3S,6R,8S)−3,6−エ
ポキシ−8−ヒドロキシ−2−メチルデカン酸]の合成
中間体として有用な、光学活性なホモノナクチン酸誘導
およびその製造方法に関する。光学活性なホモノナク
チン酸は、それ自身、殺虫活性を有し、また、テトラナ
クチン[Streptomyces aureus strain S-3466 の生産す
る抗生物質;J. Antibiotics、24巻、6号、347頁
および同418頁(1971年)参照]の合成中間体と
しても有用である。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、光学活性なホモノナクチン酸[(2R,3
S,6R,8S)−3,6−エポキシ−8−ヒドロキシ
−2−メチルデカン酸]を立体選択的に得ることはでき
ず、ジアステレオマーの混合物が得られる。ジアステレ
オマーの混合物から目的とする光学活性なホモノナクチ
ン酸を分離することは困難であり、光学活性なホモノナ
クチン酸を立体選択的に製造できる方法が求められてい
たのが現状であるしかして、本発明の目的は、光学活
性なホモノナクチン酸を立体選択的に製造するために有
用な光学活性なホモノナクチン酸誘導体およびその製造
方法を提供することにある。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0067
【補正方法】変更
【補正内容】
【0067】
【発明の効果】本発明によれば、光学活性なホモノナク
チン酸を立体選択的に製造するために有用な光学活性な
ホモノナクチン酸誘導体(1)およびその製造方法が提
供される。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は水酸基の保護基を表す)で示されるホモ
    ノナクチン酸誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式(2) 【化2】 (式中、R1 およびR2 は水酸基の保護基を表す)で示
    される化合物をヨードエーテル化反応に付すことを特徴
    とする一般式(1) 【化3】 (式中、R1 は前記定義のとおりである)で示されるホ
    モノナクチン酸誘導体の製造方法。
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