JPH10226532A - Glass composition for magnetic disk substrate and magnetic disk substrate - Google Patents

Glass composition for magnetic disk substrate and magnetic disk substrate

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JPH10226532A
JPH10226532A JP35720396A JP35720396A JPH10226532A JP H10226532 A JPH10226532 A JP H10226532A JP 35720396 A JP35720396 A JP 35720396A JP 35720396 A JP35720396 A JP 35720396A JP H10226532 A JPH10226532 A JP H10226532A
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JP
Japan
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glass
weight
magnetic disk
disk substrate
composition
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Application number
JP35720396A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Taguchi
智之 田口
Hideki Kawai
秀樹 河合
Toru Obara
融 小原
Ikuo Kuriyama
育夫 栗山
Hajime Wakabayashi
肇 若林
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Yamamura Glass KK
Original Assignee
Yamamura Glass KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a glass composition for magnetic disk substrate and a magnetic disk substrate capable of easily molding, easily grinding after the crystallization by heating and chemically strengthening by ion exchange after molding and grinding and excellent in chemical durability, mechanical strength, heat resistance, surface smoothness, surface flatness and small in the deterioration of magnetic film property. SOLUTION: The glass composition for magnetic disk substrate has a composition of by wt.%, 66-80 SiO2 , 5-15 Al2 O3 , 3-8.5 Li2 O, 0-3 Na2 O, 0-3 K2 O, 0.5-8 TiO2 , 3.5-8 ZrO2 , 0.5-3 P2 O5 , 0-2 Sb2 O3 and 0-2 Sb2 O3 as oxides and has a theoretical optical basicity of <=0.548. The magnetic disk substrate is strengthened by ion-exchanging after molding and grinding the composition. A main crystal phase formed by molding, heat-treating and grinding the composition in the magnetic disk substrate is Li2 O.2SiO2 or spodumene.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク基板
用ガラス組成物及び磁気ディスク基板に関する。さらに
詳しくは、本発明は、容易に成形することができ、ガラ
ス熱処理によって主結晶相としてLi2O・2SiO2
びスポジュメンの内の少なくとも1種を析出させた後に
も、容易に研磨加工することができ、あるいは成形、研
磨後、ガラスをイオン交換することにより化学強化で
き、優れた化学的耐久性、機械的強度、耐熱性、表面平
坦性、表面平滑性を有するコンピューターのハードディ
スクなどに適した磁気ディスク基板を作製するための磁
気ディスク基板用ガラス組成物及び該組成物から得られ
る磁気ディスク基板に関する。
The present invention relates to a glass composition for a magnetic disk substrate and a magnetic disk substrate. More specifically, the present invention can be easily formed and easily polished even after depositing at least one of Li 2 O.2SiO 2 and spodumene as a main crystal phase by glass heat treatment. Or can be chemically strengthened by ion exchange of glass after molding and polishing, suitable for computer hard disk etc. which has excellent chemical durability, mechanical strength, heat resistance, surface flatness, surface smoothness The present invention relates to a glass composition for a magnetic disk substrate for producing a magnetic disk substrate, and a magnetic disk substrate obtained from the composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスクは、主としてコンピュータ
ーなどの記録媒体として使用されている。従来、磁気デ
ィスク基板材料としてアルミニウム合金が使用されてい
るが、近年、磁気ディスクの小型化、薄型化、高記録密
度化の流れの中で、高平坦性、高平滑性への要望が高ま
っており、アルミニウム合金では対応しきれないため、
これに変わる磁気ディスク基板材料が必要になってい
る。磁気ディスク基板に必要な特性は、ディスク表面の
平坦性、平滑性や、ディスク基板の高強度、高硬度、化
学的耐久性、耐マイグレーション性、耐熱性などである
が、アルミニウム合金は強度、硬度が劣るため、ディス
クの厚みを厚くし、表面を硬化する必要がある。ディス
クの厚みを薄くすると、うねりが発生し平坦度が悪化す
るため、磁気ヘッドがディスクに衝突する回数が多くな
り、ディスクの塑性変形を招き、データ破壊が起こる。
従って、フライングハイト(磁気ヘッドと磁気ディスク
の隙間)を小さくすることができないため、記録密度が
上がらないという問題が生じる。また、磁性膜が白金系
になると、アルミニウム合金基板と磁性膜の間に電位が
発生し、電界腐食を引き起こすため、磁性膜が侵される
といった現象を引き起こす。これらのアルミニウム合金
の問題点を解決する基板材料として、磁気ディスク用ガ
ラス基板が開発されている。磁気ディスク用ガラス基板
は、大別するとイオン交換タイプと、結晶化ガラスタイ
プとの2つに分けられる。イオン交換タイプの磁気ディ
スク用ガラス基板は、一般的にガラス中に多量のアルカ
リ成分を有しており、アルカリ成分が基板表面に移動し
て磁気膜特性を悪化させる現象をしばしば引き起こす。
結晶化ガラスタイプの磁気ディスク用ガラス基板は、ア
ルミニウム合金基板やイオン交換タイプのガラス基板の
欠点を補うべく開発されたものであり、これまでに種々
のガラス組成物が提案されている。特開昭62−725
47号公報、特開平4−144938号公報、特開平6
−329440号公報、特開平7−157331号公報
などに提案されているLi2O−SiO2系結晶化ガラス
は、ガラス組成物中に多量のアルカリ成分を含んだもの
である。このようなガラス組成物は、析出結晶中にある
程度のアルカリ成分が取り込まれることによってアルカ
リイオンの移動を抑えるが、結晶でないマトリックスガ
ラス中にも相当量のアルカリ成分が残存するため、イオ
ン交換タイプと同様にアルカリマイグレーションにより
磁気膜特性を悪化させるおそれがあり、今後の薄膜化へ
の対応が困難である。特に、特開昭62−72547号
公報に提案されているLi2O・SiO2(リチウムメタ
シリケート)結晶は、化学的耐久性が非常に悪く、アル
カリマイグレーションにより磁気膜特性を悪化させるお
それがある。特開平6−329439号公報に提案され
ているLi2O−Al23−SiO2系結晶化ガラスは、
1550℃以上の高温溶融が必要であり、溶融、成形が
容易ではない。また、特開平7−247138号公報に
提案されているLi2O−Al23−SiO2系結晶化ガ
ラスは、ガラス組成中のSiO2成分が少ないため、化
学的耐久性が劣るという欠点がある。
2. Description of the Related Art Magnetic disks are mainly used as recording media for computers and the like. Conventionally, aluminum alloys have been used as magnetic disk substrate materials. In recent years, with the trend toward smaller, thinner, and higher recording densities of magnetic disks, there has been an increasing demand for high flatness and high smoothness. Since aluminum alloys cannot be used,
An alternative magnetic disk substrate material is needed. The characteristics required for a magnetic disk substrate include the flatness and smoothness of the disk surface and the high strength, high hardness, chemical durability, migration resistance, and heat resistance of the disk substrate. Therefore, it is necessary to increase the thickness of the disk and harden the surface. When the thickness of the disk is reduced, undulation occurs and the flatness deteriorates, so that the number of times the magnetic head collides with the disk increases, causing plastic deformation of the disk and data destruction.
Therefore, since the flying height (the gap between the magnetic head and the magnetic disk) cannot be reduced, there arises a problem that the recording density does not increase. Further, when the magnetic film is made of platinum, a potential is generated between the aluminum alloy substrate and the magnetic film to cause electric field corrosion, which causes a phenomenon that the magnetic film is attacked. Glass substrates for magnetic disks have been developed as substrate materials for solving the problems of these aluminum alloys. Glass substrates for magnetic disks are roughly classified into two types: an ion exchange type and a crystallized glass type. An ion exchange type glass substrate for a magnetic disk generally has a large amount of an alkali component in the glass, and the alkali component often migrates to the substrate surface, often causing a phenomenon of deteriorating the magnetic film characteristics.
Crystallized glass type glass substrates for magnetic disks have been developed to compensate for the disadvantages of aluminum alloy substrates and ion exchange type glass substrates, and various glass compositions have been proposed so far. JP-A-62-725
No. 47, JP-A-4-144938, JP-A-6
Li 2 O—SiO 2 -based crystallized glass proposed in JP-A-329440 and JP-A-7-157331 is a glass composition containing a large amount of an alkali component. Such a glass composition suppresses the movement of alkali ions by incorporating a certain amount of alkali components into the precipitated crystals, but since a considerable amount of alkali components remains even in the matrix glass that is not a crystal, the ion exchange type is used. Similarly, the properties of the magnetic film may be degraded by alkali migration, and it is difficult to cope with future thinning. In particular, Li 2 O · SiO 2 as proposed in JP-A-62-72547 (the lithium metasilicate) crystals, the chemical durability is very poor, which may worsen the magnetic film characteristics by the alkali migration . Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 -based crystallized glass proposed in JP-A-6-329439 is
Melting at a high temperature of 1550 ° C. or higher is required, and melting and molding are not easy. Further, the Li 2 O—Al 2 O 3 —SiO 2 -based crystallized glass proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-247138 has the disadvantage that the chemical durability is inferior because the SiO 2 component in the glass composition is small. There is.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、容易に成形
することができ、ガラスの熱処理による結晶化後、容易
に研磨加工することができ、あるいは成形、研磨後、ガ
ラスをイオン交換することにより化学強化でき、優れた
化学的耐久性、機械的強度、耐熱性、表面平滑性、表面
平坦性を有し、アルカリマイグレーションによる磁気膜
特性の劣化の少ない磁気ディスク基板を作製するための
磁気ディスク基板用ガラス組成物及び磁気ディスク基板
を提供することを目的としてなされたものである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is intended to easily form a glass, and to easily polish the glass after crystallization by heat treatment, or to ion-exchange the glass after forming and polishing. Magnetic disk for producing magnetic disk substrates that can be chemically strengthened, have excellent chemical durability, mechanical strength, heat resistance, surface smoothness, surface flatness, and have less deterioration of magnetic film characteristics due to alkali migration An object of the present invention is to provide a glass composition for a substrate and a magnetic disk substrate.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、ガラスの理論的
光学的塩基性度が0.548以下であり、イオン交換に
よる強化が可能であり、熱処理した場合は主結晶相とし
てLi2O・2SiO2及びスポジュメンの内の少なくと
も1種の結晶が析出する特定組成のガラス組成物が、容
易に成形、研磨加工することができ、しかも磁気ディス
ク基板としたときの化学的特性及び物理的特性に優れる
ことを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、(1)酸化物として、
SiO2:66〜80重量%、Al23:5〜15重量
%、Li2O:3〜8.5重量%、Na2O:0〜3重量
%、K2O:0〜3重量%、但し、Li2O+Na2O+
2O:3〜10重量%、TiO2:0.5〜8重量%、
ZrO2:3.5〜8重量%、P25:0.5〜3重量
%、Sb23:0〜2重量%、As23:0〜2重量%
の組成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下
であることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス組成
物、(2)酸化物として、SiO2:66〜75重量
%、Al23:5.5〜10重量%、Li2O:4〜8.
5重量%、Na2O:0〜2重量%、K2O:0〜2重量
%、但し、Li2O+Na2O+K2O:4〜9重量%、
TiO2:2〜6重量%、ZrO2:3.8〜6.5重量
%、P25:1〜2.5重量%、Sb23:0〜2重量
%、As23:0〜2重量%の組成を有し、理論的光学
的塩基性度が0.548以下であることを特徴とする磁
気ディスク基板用ガラス組成物、(3)酸化物として、
SiO2:66〜75重量%、Al23:5.5〜7.5
重量%、Li2O:5〜8.5重量%、Na2O:0〜2
重量%、K2O:0〜2重量%、但し、Li2O+Na2
O+K2O:5〜9重量%、TiO2:2〜4重量%、Z
rO2:4.1〜6重量%、P25:1〜2.5重量%、
Sb23:0〜1重量%、As23:0〜1重量%の組
成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下であ
ることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス組成物、
(4)第(1)項乃至第(3)項のいずれかに記載の磁気デ
ィスク基板用ガラス組成物を、成形、研磨後、350℃
から550℃の間の温度で、ガラス表面層のアルカリ金
属イオンを、イオン半径がより大きいアルカリ金属イオ
ンでイオン交換し、強化したことを特徴とする磁気ディ
スク基板、(5)第(1)項乃至第(3)項のいずれかに記
載の磁気ディスク基板用ガラス組成物を、成形、熱処
理、研磨して作製された、主結晶相がLi2O・2Si
2及びスポジュメンの内の少なくとも1種であること
を特徴とする磁気ディスク基板、(6)酸化物として、
SiO2:66〜80重量%、Al23:5.5〜10重
量%、Li2O:3〜8.5重量%、Na2O:0〜3重
量%、K2O:0〜3重量%、但し、Li2O+Na2
+K2O:3〜10重量%、TiO2:0.5〜8重量
%、ZrO2:3.5〜8重量%、P25:0.5〜3重
量%、Sb23:0〜2重量%、As23:0〜2重量
%の組成を有するガラス組成物を、成形、熱処理、研磨
して作製された、主結晶相がLi2O・2SiO2及びス
ポジュメンの内の少なくとも1種であることを特徴とす
る磁気ディスク基板、(7)結晶化度の合計が20容量
%以上である第(5)項又は第(6)項記載の磁気ディスク
基板、(8)粉末法によるガラスの水溶出試験で、重量
減少が6×10-7g/cm2・h以下である第(1)項乃至
第(3)項のいずれかに記載の磁気ディスク基板用ガラス
組成物、及び、(9)粉末法によるガラス又は結晶化ガ
ラスの水溶出試験で、重量減少が6×10-7g/cm2
h以下である第(4)項乃至第(7)項のいずれかに記載の
磁気ディスク基板、を提供するものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the glass has a theoretical optical basicity of 0.548 or less, and is strengthened by ion exchange. When heat-treated, a glass composition having a specific composition in which Li 2 O.2SiO 2 and at least one crystal of spodumene are precipitated as main crystal phases can be easily formed and polished. In addition, they have found that they have excellent chemical and physical characteristics when used as a magnetic disk substrate, and have completed the present invention based on this finding. That is, the present invention provides:
SiO 2: 66 to 80 wt%, Al 2 O 3: 5~15 wt%, Li 2 O: 3~8.5 wt%, Na 2 O: 0~3 wt%, K 2 O: 0~3 by weight %, Provided that Li 2 O + Na 2 O +
K 2 O: 3 to 10 wt%, TiO 2: 0.5 to 8 wt%,
ZrO 2: 3.5 to 8 wt%, P 2 O 5: 0.5~3 wt%, Sb 2 O 3: 0~2 wt%, As 2 O 3: 0~2 wt%
And a glass composition for a magnetic disk substrate having a theoretical optical basicity of 0.548 or less. (2) As an oxide, SiO 2 : 66 to 75% by weight, Al 2 O 3 : 5.5 to 10% by weight, Li 2 O: 4 to 8.
5 wt%, Na 2 O: 0 to 2 wt%, K 2 O: 0 to 2 wt%, however, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 4~9 wt%,
TiO 2: 2 to 6 wt%, ZrO 2: 3.8~6.5 wt%, P 2 O 5: 1~2.5 wt%, Sb 2 O 3: 0~2 wt%, As 2 O 3 : A glass composition for a magnetic disk substrate having a composition of 0 to 2% by weight and a theoretical optical basicity of 0.548 or less;
SiO 2 : 66 to 75% by weight, Al 2 O 3 : 5.5 to 7.5
Wt%, Li 2 O: 5~8.5 wt%, Na 2 O: 0~2
% By weight, K 2 O: 0 to 2% by weight, provided that Li 2 O + Na 2
O + K 2 O: 5~9 wt%, TiO 2: 2~4 wt%, Z
rO 2 : 4.1 to 6% by weight, P 2 O 5 : 1 to 2.5% by weight,
Sb 2 O 3: 0 to 1 wt%, As 2 O 3: has the composition 0-1% by weight, for a magnetic disk substrate theoretical optical basicity is equal to or is 0.548 or less Glass composition,
(4) After molding and polishing the glass composition for a magnetic disk substrate according to any one of (1) to (3),
(5) Item (1): a magnetic disk substrate characterized in that the alkali metal ions in the glass surface layer are ion-exchanged with alkali metal ions having a larger ionic radius at a temperature between 550 ° C. and 550 ° C. to strengthen the magnetic disk. The glass composition for a magnetic disk substrate according to any one of (1) to (3), formed by molding, heat-treating and polishing, wherein the main crystal phase is Li 2 O · 2Si.
A magnetic disk substrate characterized by being at least one of O 2 and spodumene; (6) as an oxide:
SiO 2: 66 to 80 wt%, Al 2 O 3: 5.5~10 wt%, Li 2 O: 3~8.5 wt%, Na 2 O: 0~3 wt%, K 2 O: 0~ 3% by weight, provided that Li 2 O + Na 2 O
+ K 2 O: 3~10 wt%, TiO 2: 0.5~8 wt%, ZrO 2: 3.5~8 wt%, P 2 O 5: 0.5~3 wt%, Sb 2 O 3: 0-2 wt%, As 2 O 3: a glass composition having a composition of 0-2 weight%, molding, heat treatment, and polished was prepared, the main crystal phase of Li 2 O · 2SiO 2 and spodumene (7) The magnetic disk substrate according to (5) or (6), wherein the total crystallinity is 20% by volume or more, (8) The glass composition for a magnetic disk substrate according to any one of items (1) to (3), wherein the glass composition has a weight loss of 6 × 10 −7 g / cm 2 · h or less in a water elution test of glass by a powder method. (9) In a water dissolution test of glass or crystallized glass by the powder method, the weight loss was 6 × 10 −7 g / cm 2.
h. The magnetic disk substrate according to any one of (4) to (7), wherein h is equal to or less than h.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の磁気ディスク基板用ガラ
ス組成物は、酸化物として、SiO2:66〜80重量
%、Al23:5〜15重量%、Li2O:3〜8.5重
量%、Na2O:0〜3重量%、K2O:0〜3重量%、
但し、Li2O+Na2O+K2O:3〜10重量%、T
iO2:0.5〜8重量%、ZrO2:3.5〜8重量%、
25:0.5〜3重量%、Sb23:0〜2重量%、
As23:0〜2重量%の組成を有し、理論的光学的塩
基性度が0.548以下である。本発明の磁気ディスク
基板用ガラス組成物は、必要に応じて、B23:0〜5
重量%、MgO:0〜8重量%、CaO:0〜5重量
%、SrO:0〜5重量%、BaO:0〜5重量%、Z
nO:0〜5重量%、PbO:0〜3重量%などの酸化
物を含有せしめることができる。本発明組成物におい
て、SiO2はガラス形成酸化物であり、ガラスを熱処
理する場合は、主結晶相であるLi2O・2SiO2及び
スポジュメン(Li2O・Al23・4SiO2)の構成
成分である。SiO2の含有量が66重量%未満である
と、ガラスの理論的光学的塩基性度を0.548以下に
することが困難になり、化学的耐久性が悪化する上に、
結晶化する場合は上記の結晶が析出し難くなるおそれが
ある。SiO2の含有量が80重量%を超えると、溶融
温度が上がりすぎて生産が困難になるおそれがある。S
iO2の含有量は、生産性を考慮すると、66〜75重
量%であることがより好ましい。本発明組成物におい
て、Al23はガラス中間酸化物であり、ガラスを熱処
理する場合は、主結晶相であるスポジュメンの構成成分
である。Al23の含有量が5重量%未満であると、化
学的耐久性が悪化する。Al23の含有量が15重量%
を超えると、溶融温度が高くなり生産が困難になるおそ
れがある。Al23の含有量は、化学的耐久性や生産性
を考慮すると、5.5〜10重量%であることがより好
ましく、5.5〜7.5重量%であることがさらに好まし
い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Magnetic disk glass composition for substrates of the present invention, as the oxide, SiO 2: 66 to 80 wt%, Al 2 O 3: 5~15 wt%, Li 2 O: 3~8 .5 wt%, Na 2 O: 0 to 3 wt%, K 2 O: 0 to 3 wt%,
However, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 3 to 10% by weight, T
iO 2 : 0.5 to 8% by weight, ZrO 2 : 3.5 to 8% by weight,
P 2 O 5 : 0.5 to 3% by weight, Sb 2 O 3 : 0 to 2% by weight,
As 2 O 3 : having a composition of 0 to 2% by weight and a theoretical optical basicity of 0.548 or less. The glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention may contain B 2 O 3 : 0 to 5 if necessary.
% By weight, MgO: 0 to 8% by weight, CaO: 0 to 5% by weight, SrO: 0 to 5% by weight, BaO: 0 to 5% by weight, Z
An oxide such as nO: 0 to 5% by weight and PbO: 0 to 3% by weight can be contained. In the composition of the present invention, SiO 2 is a glass-forming oxide, and when the glass is subjected to heat treatment, the main crystal phases of Li 2 O · 2SiO 2 and spodumene (Li 2 O · Al 2 O 3 .4SiO 2 ) are formed. It is a component. When the content of SiO 2 is less than 66% by weight, it is difficult to reduce the theoretical optical basicity of the glass to 0.548 or less, and the chemical durability deteriorates.
In the case of crystallization, the above crystals may not be easily precipitated. If the content of SiO 2 exceeds 80% by weight, the melting temperature may be too high and the production may be difficult. S
The content of iO 2 is more preferably 66 to 75% by weight in consideration of productivity. In the composition of the present invention, Al 2 O 3 is a glass intermediate oxide, and is a constituent component of spodumene which is a main crystal phase when glass is subjected to heat treatment. When the content of Al 2 O 3 is less than 5% by weight, the chemical durability deteriorates. Al 2 O 3 content of 15% by weight
If the melting point exceeds the above range, the melting temperature may increase, and production may be difficult. In consideration of chemical durability and productivity, the content of Al 2 O 3 is more preferably 5.5 to 10% by weight, and still more preferably 5.5 to 7.5% by weight.

【0006】本発明組成物において、Li2Oは融剤と
しての役割を果たすと共に、ガラスをイオン交換し、強
化する場合は、アルカリ金属イオンの中で最も小さいイ
オンなので、ナトリウムやカリウムなどのイオン半径が
より大きいアルカリ金属イオンとイオン交換してガラス
を強化し得る成分であり、ガラスを熱処理する場合は、
主結晶相であるLi2O・2SiO2及びスポジュメンの
構成成分である。Li2Oの含有量が3重量%未満であ
ると、溶融温度が高くなりすぎる上に、イオン交換し、
強化する場合は、イオン交換し難く、特性が向上しない
おそれがある。また、ガラスを熱処理する場合は、Li
2O・2SiO2及びスポジュメン結晶が析出し難くなる
おそれがある。Li2Oの含有量が8.5重量%を超える
と、ガラスの理論的光学的塩基性度を0.548以下に
し難く、化学的耐久性及び耐マイグレーション性を悪化
させ、磁気膜特性に悪影響を与えるおそれがある。Li
2Oの含有量は、生産性、イオン交換量、化学的耐久性
や耐マイグレーション性を考慮すると、4〜8.5重量
%であることがより好ましく、5〜8.5重量%である
ことがさらに好ましい。本発明組成物において、Na2
O及びK2Oは融剤であり、組成物の溶融性を改良する
とともに、Na2Oはカリウムなどのナトリウムよりイ
オン半径がより大きいアルカリ金属イオンとイオン交換
してガラスを強化し得る成分である。磁気ディスク基板
の化学的耐久性、耐マイグレーション性を考慮すると、
Li2Oのみを単独で使用するよりも、これらのアルカ
リ成分をLi2Oと併用し、複数種のアルカリ成分を使
用することにより化学的耐久性の低下やアルカリマイグ
レーションを防ぐことが好ましい。Na2O又はK2Oの
含有量が3重量%を超えるか、あるいは、Li2O+N
2O+K2Oの合計の含有量が10重量%を超えると、
ガラスの理論的光学的塩基性度を0.548以下に保つ
ことが困難になり、磁気ディスク基板の化学的耐久性が
低下するとともに耐マイグレーション性も低下するおそ
れがある。Na2O及びK2Oのそれぞれの含有量は、化
学的耐久性、耐マイグレーション性やガラスの理論的光
学的塩基性度を考慮すると、2重量%以下であることが
より好ましい。また、Li2O+Na2O+K2Oの合計
量は4〜9重量%であることがより好ましく、5〜9重
量%であることがさらに好ましい。
In the composition of the present invention, Li 2 O functions as a flux, and when the glass is ion-exchanged and strengthened, it is the smallest ion among alkali metal ions. A component that can strengthen the glass by ion exchange with a larger alkali metal ion with a larger radius, and when heat-treating the glass,
It is a constituent component of Li 2 O · 2SiO 2 as a main crystal phase and spodumene. When the content of Li 2 O is less than 3% by weight, the melting temperature becomes too high and ion exchange is performed.
When strengthening, ion exchange is difficult, and there is a possibility that characteristics may not be improved. When the glass is heat-treated, Li
There is a possibility that 2 O · 2SiO 2 and spodumene crystal are hardly precipitated. When the content of Li 2 O exceeds 8.5% by weight, the theoretical optical basicity of the glass is hardly reduced to 0.548 or less, and the chemical durability and migration resistance are deteriorated, and the properties of the magnetic film are adversely affected. May be given. Li
The content of 2 O is preferably 4 to 8.5% by weight, more preferably 5 to 8.5% by weight in consideration of productivity, ion exchange amount, chemical durability and migration resistance. Is more preferred. In the composition of the present invention, Na 2
O and K 2 O are fluxes, and improve the meltability of the composition, and Na 2 O is a component capable of strengthening the glass by ion exchange with alkali metal ions having a larger ionic radius than sodium such as potassium. is there. Considering the chemical durability and migration resistance of the magnetic disk substrate,
Rather than using Li 2 O alone, it is preferable to use these alkali components in combination with Li 2 O and to prevent a decrease in chemical durability and alkali migration by using a plurality of types of alkali components. The content of Na 2 O or K 2 O exceeds 3% by weight, or Li 2 O + N
When the total content of a 2 O + K 2 O exceeds 10% by weight,
It is difficult to keep the theoretical optical basicity of the glass at 0.548 or less, and the chemical durability of the magnetic disk substrate may be reduced and the migration resistance may be reduced. The content of each of Na 2 O and K 2 O is more preferably 2% by weight or less in consideration of chemical durability, migration resistance, and theoretical optical basicity of glass. Further, more preferably the total amount of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is from 4 to 9 wt%, and yet more preferably 5-9 wt%.

【0007】本発明組成物において、TiO2、ZrO2
及びP25は、結晶化促進剤としての役割を果たす。さ
らに、TiO2は融剤としての役割や、レーザーテクス
チャーを行う場合には、敏感にレーザー光と反応して磁
気ディスク基板表面の構造変化を誘起する重要な成分と
しての役割も果たす。TiO2の含有量が0.5重量%未
満であると、結晶化促進剤としての効果、融剤としての
効果及びレーザー反応成分としての効果が乏しく、ま
た、TiO2の含有量が8重量%を超えると、ガラス成
形時に失透しやすくなるおそれがある。TiO2の含有
量は、結晶化促進剤としての効果、融剤としての効果、
レーザー反応成分としての効果及び失透性を考慮する
と、2〜6重量%であることがより好ましく、2〜4重
量%であることがさらに好ましい。ZrO2は化学的耐
久性を顕著に向上させる働きも有するが、ZrO2の含
有量が3.5重量%未満であると、化学的耐久性の向上
が認められないおそれがある。ZrO2の含有量が8重
量%を超えると、ガラス中に溶けきれず、未溶融物とな
るおそれがある。ZrO2の含有量は、結晶化促進剤と
しての効果、化学的耐久性や溶融性を考慮すると、3.
8〜6.5重量%であることがより好ましく、4.1〜6
重量%であることがさらに好ましい。P25は融剤とし
ての働き、特にZrO2の難溶融性を著しく改善する働
きもあるが、P25の含有量が0.5重量%未満である
と、結晶化促進剤としての効果及びZrO2の難溶融性
の改善効果が乏しく、また、P25の含有量が3重量%
を超えると溶融ルツボの腐食量が増大するおそれがあ
る。P25の含有量は、結晶化促進剤としての効果、融
剤としての効果、特にZrO2の難溶融性の改善効果及
びルツボの腐食性を考慮すると、1〜2.5重量%であ
ることがより好ましい。本発明組成物において、Sb2
3及びAs23は、ガラス溶融時の清澄剤としての役
割を果たす。Sb23若しくはAs23を単独で用いる
場合、又は併用する場合の含有量が0.1重量%未満で
あると、清澄剤としての作用に乏しくなるおそれがある
が、2重量%以下で十分清澄効果を発揮する。As23
は清澄剤としてSb23と併用又は単独で用いることが
できるが、環境の点からは使用しないことが好ましい。
Sb23+As23の合計量は、清澄効果を考慮すると
0.2〜1重量%であることがより好ましい。
In the composition of the present invention, TiO 2 , ZrO 2
And P 2 O 5 serve as a crystallization promoter. Further, TiO 2 also plays a role as a flux, or as an important component that induces a structural change on the surface of the magnetic disk substrate by reacting sensitively with laser light when performing laser texturing. When the content of TiO 2 is less than 0.5% by weight, the effect as a crystallization accelerator, the effect as a flux, and the effect as a laser reaction component are poor, and the content of TiO 2 is 8% by weight. If it exceeds 300, the glass may be easily devitrified during molding. The content of TiO 2 is determined as an effect as a crystallization accelerator, an effect as a flux,
In consideration of the effect as a laser reaction component and devitrification, the content is more preferably 2 to 6% by weight, and still more preferably 2 to 4% by weight. ZrO 2 also has a function of significantly improving the chemical durability, but if the content of ZrO 2 is less than 3.5% by weight, there is a possibility that the improvement of the chemical durability may not be recognized. If the content of ZrO 2 exceeds 8% by weight, it may not be completely melted in glass and may be unmelted. Considering the effect as a crystallization accelerator, chemical durability and meltability, the content of ZrO 2 is 3.
More preferably, the content is 8 to 6.5% by weight.
More preferably, it is% by weight. P 2 O 5 has a function as a flux, and particularly has a function to remarkably improve the refractory property of ZrO 2. However, if the content of P 2 O 5 is less than 0.5% by weight, it may act as a crystallization accelerator. And the effect of improving the refractory property of ZrO 2 are poor, and the content of P 2 O 5 is 3% by weight.
If it exceeds 300, the amount of corrosion of the molten crucible may increase. The content of P 2 O 5 is from 1 to 2.5% by weight in consideration of the effect as a crystallization accelerator and the effect as a flux, particularly the effect of improving the hard-melting property of ZrO 2 and the corrosiveness of a crucible. More preferably, there is. In the composition of the present invention, Sb 2
O 3 and As 2 O 3 serve as fining agents when the glass is melted. If the content of Sb 2 O 3 or As 2 O 3 alone or in combination is less than 0.1% by weight, the effect as a fining agent may be poor, but 2% by weight or less. With sufficient clarification effect. As 2 O 3
Can be used in combination with Sb 2 O 3 as a fining agent or alone, but it is preferable not to use it from an environmental point of view.
The total amount of Sb 2 O 3 + As 2 O 3 is more preferably 0.2 to 1% by weight in consideration of the fining effect.

【0008】本発明組成物に必要に応じて含有せしめる
ことができるB23、ZnO及びPbOは、融剤として
の働きを有する。B23の含有量が5重量%を超える
と、化学的耐久性を悪化させ、熱処理する場合は結晶化
を抑制するおそれがある。B23の含有量は、3.5重
量%以下であることがより好ましい。ZnOは化学的耐
久性を向上させる働きを有するが、ZnOの含有量が5
重量%を超えると、熱処理する場合は析出結晶量が少な
くなるおそれがある。ZnOの含有量は、4.5重量%
以下であることがより好ましい。PbOは融剤として顕
著な働きがあるが、環境の点からは使用しないことが好
ましい。PbOを使用する場合は、その含有量が3重量
%を超えると、化学的耐久性を悪化させ、また、熱処理
する場合は析出結晶量が少なくなるおそれがある。Pb
Oの含有量は、1.5重量%以下であることがより好ま
しい。本発明組成物に必要に応じて含有せしめることが
できるMgO、CaO、SrO及びBaOは、ガラス修
飾酸化物であり、作業温度幅を広げる働きがある。特
に、MgOは化学的耐久性を向上させる働きを有する。
MgOの含有量が8重量%を超えるか、又はCaO、S
rO若しくはBaOの含有量が5重量%を超えると、ガ
ラスが安定になりすぎて析出結晶量が少なくなるおそれ
がある。析出結晶量を考慮すると、MgOの含有量は5
重量%以下であることがより好ましく、CaO、Sr
O、BaOの含有量は、それぞれ3重量%以下であるこ
とがより好ましい。また、磁気ディスク基板のテクスチ
ャーには、ひとつの方法としてレーザー光などを使用す
る場合がある。その場合は、使用する光の波長に吸収を
有するCo、Mn、V、Cr、Cu、Au、Ag、P
t、Mo、Ni、Fe、Te、Ce、Se、Nd、P
r、Sm、Er、Sなどの元素又はこれらの元素を含む
化合物を、磁気ディスクとしての特性に悪影響を与えな
い範囲で、ガラス組成中に含有させることができる。
[0008] B 2 O 3 , ZnO and PbO, which can be added to the composition of the present invention as required, have a function as a flux. If the content of B 2 O 3 exceeds 5% by weight, chemical durability may be deteriorated, and crystallization may be suppressed when heat treatment is performed. More preferably, the content of B 2 O 3 is 3.5% by weight or less. ZnO has a function of improving chemical durability, but the content of ZnO is 5%.
If the amount is more than 10% by weight, the amount of precipitated crystals may be reduced when heat treatment is performed. The content of ZnO is 4.5% by weight
It is more preferred that: Although PbO has a remarkable function as a flux, it is preferable not to use it from an environmental point of view. When PbO is used, if its content exceeds 3% by weight, chemical durability may be deteriorated, and if heat treatment is performed, the amount of precipitated crystals may be reduced. Pb
The content of O is more preferably 1.5% by weight or less. MgO, CaO, SrO, and BaO, which can be added to the composition of the present invention as required, are glass-modified oxides and have a function of widening the working temperature range. In particular, MgO has a function of improving chemical durability.
MgO content of more than 8% by weight or CaO, S
If the content of rO or BaO exceeds 5% by weight, the glass may become too stable and the amount of precipitated crystals may decrease. Considering the amount of precipitated crystals, the content of MgO is 5
% By weight or less, and CaO, Sr
More preferably, the contents of O and BaO are each 3% by weight or less. In some cases, laser light or the like is used as a method for texture of the magnetic disk substrate. In that case, Co, Mn, V, Cr, Cu, Au, Ag, P having absorption at the wavelength of the light to be used.
t, Mo, Ni, Fe, Te, Ce, Se, Nd, P
Elements such as r, Sm, Er, and S or compounds containing these elements can be contained in the glass composition as long as the properties of the magnetic disk are not adversely affected.

【0009】本発明の磁気ディスク基板用ガラス組成物
は、理論的光学的塩基性度が0.548以下である。ガ
ラス組成物の理論的光学的塩基性度がこのように低い
と、ガラス中に少量のアルカリが含まれていても磁気デ
ィスク基板に必要かつ重要な特性である化学的耐久性に
優れており、信頼性の高い磁気ディスク基板を得ること
ができる。本発明において、磁気ディスク基板用ガラス
組成物の理論的光学的塩基性度は、0.544以下であ
ることがより好ましく、0.540以下であることがさ
らに好ましい。ガラスの理論的光学的塩基性度(The
oretical OpticalBasicity)
とは、J.A.DuffyとM.D.Ingramが、
1975年に、Journal of Inorgan
ic and Nuclear Chemistry、
第37巻、1203頁、及び、Physics and
Chemistry of Glasses、第16巻、
第6号、119頁に発表した論文に掲載されたものであ
り、ガラスの理論的光学的塩基性度Λは次式により計算
される。 Λ=Σ{(zi×ri)/2γi} …(1) 式中のziは各酸化物成分中のカチオンiの酸化数を、
iはガラス中の全酸素数に対する各酸化物成分中に存
在する、すなわちガラス中に存在するカチオンiの数
を、γiはカチオンiの塩基性度調整パラメーターを表
す。ここでγiはL.Paulingの電気陰性度χi
ら、次式により求めることができる。γi=1.36×
(χi−0.26)したがって、ガラスの理論的光学的塩
基性度Λは、次式により表される。 Λ=Σ{(zi×ri)/(2.72×χi−0.707)} …(2) 例として、SiO2:72.0モル%、Al23:3.6
モル%、Li2O:10.3モル%、K2O:1.0モル
%、TiO2:3.4モル%、ZrO2:2.1モル%、P
25:1.0モル%、MgO:3.0モル%、CaO:
2.1モル%、ZnO:1.5モル%の組成を有するガラ
スについて、Λを計算する。χiについては、「化学便
覧基礎編、改訂3版」(丸善、昭和59年発行)II−5
89頁に記載されているPaulingの電気陰性度の
値を用いる。ziの値は酸化物の構造より、χiの値はP
aulingの電気陰性度として、第1表のごとく求め
られる。
The glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention has a theoretical optical basicity of 0.548 or less. With such a low theoretical optical basicity of the glass composition, even if a small amount of alkali is contained in the glass, the magnetic disk substrate has excellent chemical durability, which is a necessary and important property, A highly reliable magnetic disk substrate can be obtained. In the present invention, the theoretical optical basicity of the glass composition for a magnetic disk substrate is more preferably 0.544 or less, further preferably 0.540 or less. Theoretical optical basicity of glass (The The
oretical OpticalBasicity)
And J. A. Duffy and M.E. D. Ingram,
In 1975, the Journal of Inorgan
ic and Nuclear Chemistry,
Vol. 37, p. 1203, and Physics and
Chemistry of Glasses, Volume 16,
No. 6, page 119, and the theoretical optical basicity ガ ラ ス of glass is calculated by the following equation. Lambda = sigma oxidation number of {(z i × r i) / 2γ i} ... (1) z i in equation cation i in each oxide component,
r i represents the number of cations i present in each oxide component relative to the total oxygen number in the glass, that is, γ i represents the basicity adjustment parameter of the cation i. Here, γ i is L. From Pauling's electronegativity χ i , it can be obtained by the following equation. γ i = 1.36 ×
i −0.26) Therefore, the theoretical optical basicity ガ ラ ス of glass is represented by the following equation. Lambda = sigma as {(z i × r i) / (2.72 × χ i -0.707)} ... (2) Example, SiO 2: 72.0 mol%, Al 2 O 3: 3.6
Mol%, Li 2 O: 10.3 mol%, K 2 O: 1.0 mol%, TiO 2: 3.4 mol%, ZrO 2: 2.1 mol%, P
2 O 5 : 1.0 mol%, MgO: 3.0 mol%, CaO:
ガ ラ ス is calculated for a glass having a composition of 2.1 mol% and ZnO: 1.5 mol%. χ For i , “Basic Chemical Handbook, Revised 3rd Edition” (Maruzen, 1984) II-5
The Pauling electronegativity value described on page 89 is used. The value of z i depends on the oxide structure, and the value of χ i is P
The electronegativity of the auling is determined as shown in Table 1.

【0010】[0010]

【表1】 [Table 1]

【0011】次にriの値を求める。riの値を求めるた
めに、まずガラス中の全酸素数を計算する。全酸素数
は、ガラスを構成している各酸化物の酸素数の和とし
て、下記のごとく求められる。 各カチオンのriは、得られた全酸素数を1としたとき
の各カチオンの数として求めることができる。例えば、
SiO2については次式から求められる。 SiO2 :(0.720×1)/1.887=0.3816 各カチオンのriについて、上記のごとく計算した結果
を第2表に示す。
Next, the value of r i is determined. To determine the value of r i , first calculate the total oxygen number in the glass. The total oxygen number is determined as follows as the sum of the oxygen numbers of the respective oxides constituting the glass. R i of each cation, can be determined all the oxygen number obtained as the number of the cation when the 1. For example,
SiO 2 can be obtained from the following equation. SiO 2 : (0.720 × 1) /1.887=0.316 Table 2 shows the results of the above-described calculations for r i of each cation.

【0012】[0012]

【表2】 [Table 2]

【0013】第1表に示したzi、χiの値及び第2表に
示したriの値を理論的光学的塩基性度の式(2)に代
入して計算すると、上記のガラス組成物の理論的光学的
塩基性度は0.5337となる。本発明の磁気ディスク
基板用ガラス組成物は、ガラスを溶融、成形、研磨加工
後、例えば、NaNO3やKNO3などの溶融塩中にガラ
スを浸漬するなど公知の方法により、イオン交換し、強
化を行うことができる。処理温度は、NaNO3やKN
3などの融点よりも高い約350℃から、ガラス組成
物のガラス転移温度よりも低い約550℃の間の温度で
行う。また、イオン交換処理時間は、10時間以上とす
ることが好ましい。イオン交換処理により、ガラス表面
層のリチウムイオンが、イオン半径のより大きいナトリ
ウムイオンやカリウムイオンなどと交換され、また、ガ
ラス中にNa2Oが含まれている場合は、ナトリウムイ
オンが、イオン半径のより大きいカリウムイオンなどと
交換される。これらのイオン交換により、ガラス表面に
圧縮応力層が形成されるため、強度が高い強化ガラス磁
気ディスク基板を得ることができる。本発明の磁気ディ
スク基板用ガラス組成物は、熱処理することにより、主
結晶相としてLi2O・2SiO2及びスポジュメンの内
の少なくとも1種が析出する。Li2O・2SiO2結晶
は棒状であり、機械的強度の高い結晶であるが、結晶サ
イズが1μmを超えると研磨加工性が悪化するため、T
iO2、ZrO2、P25などの適度な結晶化促進剤の使
用及び適切な結晶化処理により、結晶サイズを1μm以
下にすることが好ましく、0.5μm以下にすることが
より好ましい。スポジュメン結晶は粒状結晶であり、T
iO2、ZrO2、P25などの結晶化促進剤の使用及び
適切な結晶化処理により、Li2O・2SiO2結晶と同
程度の微細な結晶を均一に得ることができる。今後の磁
気ディスクに要求される高記録密度化を達成するために
は、平滑度の極めて高い、ディスク基板の面精度が必要
になる。その場合は、Li2O・2SiO2結晶が主結晶
相で、スポジュメン結晶が析出しないことが好ましい。
Li2O・2SiO2結晶が主結晶相でありスポジュメン
結晶が析出しない場合には、結晶化処理前に比べ残存ガ
ラスマトリックス中のAl23成分比が高くなるため、
ガラス相の化学的耐久性が高くなる。その結果、結晶相
とマトリックスガラス相の化学的耐久性の差が少なくな
るため、両相の研磨スピードの差が小さく、Li2O・
2SiO2の微細結晶が析出した結晶化ガラスから、極
めて表面平滑度の高いディスク基板を得ることができ
る。一方、スポジュメン結晶が多量に析出する場合は、
結晶化処理前に比べ残存ガラスマトリックス中のAl2
3成分比が減少するため、ガラス相の化学的耐久性が
やや劣るとともに、スポジュメン結晶の化学的耐久性が
Li2O・2SiO2結晶よりも高いため、結晶相とマト
リックスガラス相の化学的耐久性の差が大きくなる。そ
の結果、両相の研磨スピードの差が若干大きくなり、研
磨と同時にテクスチャー形成が可能となる。従って、ス
ポジュメン結晶の量及びサイズ、スポジュメン結晶とL
2O・2SiO2結晶の比率を制御することにより、極
めて平滑な基板表面から用途に応じた所望のテクスチャ
ーを形成した基板表面まで、自由に得ることができる。
また、スポジュメン結晶とLi2O・2SiO2結晶の比
率を制御することにより、磁気ディスク基板の熱膨張係
数を80×10-7/℃〜110×10-7/℃の間で制御
することも可能である。Li2O・2SiO2結晶が最大
量の結晶相となるのは、最終の結晶化処理温度を約72
0℃以下にした場合であり、スポジュメン結晶が最大量
の結晶相となるのは、最終の結晶化処理温度を約730
℃以上した場合である。本発明の磁気ディスク基板にお
いては、主結晶相であるLi2O・2SiO2及びスポジ
ュメン結晶とその他の結晶の合計の結晶化度は、粉末X
線回折による検量線法で、20容量%以上であることが
好ましい。結晶化度の合計が20容量%未満であると、
磁気ディスク基板として満足のいく機械的強度が得られ
ないおそれがある。
By substituting the values of z i and χ i shown in Table 1 and the values of r i shown in Table 2 into the equation (2) for the theoretical optical basicity, the above glass is obtained. The theoretical optical basicity of the composition will be 0.5337. The glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention is obtained by melting, shaping, polishing, and then subjecting the glass to ion exchange and strengthening by a known method such as immersing the glass in a molten salt such as NaNO 3 or KNO 3. It can be performed. The processing temperature is NaNO 3 or KN
The process is performed at a temperature between about 350 ° C., which is higher than the melting point of O 3, and about 550 ° C., which is lower than the glass transition temperature of the glass composition. Further, the ion exchange treatment time is preferably set to 10 hours or more. By the ion exchange treatment, lithium ions in the glass surface layer are exchanged for sodium ions or potassium ions having a larger ionic radius, and when Na 2 O is contained in the glass, the sodium ions are changed to an ionic radius. It is exchanged for potassium ion etc. which is larger than. By these ion exchanges, a compressive stress layer is formed on the glass surface, so that a tempered glass magnetic disk substrate with high strength can be obtained. In the glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention, at least one of Li 2 O.2SiO 2 and spodumene is precipitated as a main crystal phase by heat treatment. The Li 2 O.2SiO 2 crystal is rod-shaped and has high mechanical strength. However, when the crystal size exceeds 1 μm, polishing workability deteriorates.
By using an appropriate crystallization accelerator such as iO 2 , ZrO 2 , P 2 O 5 and an appropriate crystallization treatment, the crystal size is preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less. Spodumene crystals are granular crystals, and T
By using a crystallization accelerator such as iO 2 , ZrO 2 , P 2 O 5 and an appropriate crystallization treatment, fine crystals of the same degree as Li 2 O · 2SiO 2 crystals can be uniformly obtained. In order to achieve the higher recording density required for magnetic disks in the future, it is necessary to provide a disk substrate with extremely high smoothness and surface accuracy. In this case, it is preferable that the Li 2 O.2SiO 2 crystal is the main crystal phase and no spodumene crystal is precipitated.
When the Li 2 O · 2SiO 2 crystal is the main crystal phase and no spodumene crystal is precipitated, the Al 2 O 3 component ratio in the residual glass matrix becomes higher than before the crystallization treatment.
The chemical durability of the glass phase increases. As a result, the difference in chemical durability between the crystal phase and the matrix glass phase is reduced, so that the difference in polishing speed between the two phases is small, and Li 2 O ·
From the crystallized glass on which fine crystals of 2SiO 2 are precipitated, a disk substrate with extremely high surface smoothness can be obtained. On the other hand, when spodumene crystals precipitate in large quantities,
Al 2 in the residual glass matrix compared to before the crystallization treatment
Since the O 3 component ratio is reduced, the chemical durability of the glass phase is slightly inferior, and the chemical durability of the spodumene crystal is higher than that of the Li 2 O · 2SiO 2 crystal. The difference in durability increases. As a result, the difference in polishing speed between the two phases is slightly increased, and texture formation can be performed simultaneously with polishing. Therefore, the amount and size of the spodumene crystal, the spodumene crystal and L
By controlling the ratio of i 2 O.2SiO 2 crystals, it is possible to obtain freely from a very smooth substrate surface to a substrate surface on which a desired texture according to the application is formed.
Further, by controlling the ratio of the spodumene crystal to the Li 2 O.2SiO 2 crystal, the thermal expansion coefficient of the magnetic disk substrate can be controlled between 80 × 10 −7 / ° C. and 110 × 10 −7 / ° C. It is possible. The maximum amount of the Li 2 O · 2SiO 2 crystal becomes the crystal phase because the final crystallization temperature is about 72 ° C.
When the temperature is set to 0 ° C. or lower, the spodumene crystal has the maximum amount of crystal phase because the final crystallization temperature is about 730.
C. or higher. In the magnetic disk substrate of the present invention, the total crystallinity of the main crystal phase, Li 2 O.2SiO 2, the spodumene crystal and the other crystals, is represented by powder X
It is preferably 20% by volume or more by a calibration curve method using linear diffraction. When the total crystallinity is less than 20% by volume,
There is a possibility that satisfactory mechanical strength cannot be obtained as a magnetic disk substrate.

【0014】本発明の磁気ディスク基板用ガラス組成物
は、熱処理した場合、主結晶相以外に副結晶相としてリ
チウム長石(Li2O・Al23・6SiO2)、α−ク
オーツ、β−クリストバライト(SiO2)などが析出
する場合があるが、これらの副結晶相の析出によって、
本発明組成物の特性は損なわれない。α−クォーツは、
約650℃から析出し始め、スポジュメン結晶が析出し
始めると結晶量が下がる挙動を示す。本発明の磁気ディ
スク基板用ガラス組成物は、粉末法によるガラスの水溶
出試験で、重量減少が6×10-7g/cm2・h以下であ
ることが好ましい。粉末法によるガラスの水溶出試験
で、重量減少が6×10-7g/cm2・h以下であれば、
ガラス中に少量のアルカリが含まれていても、磁気ディ
スク基板に必要かつ重要な特性である化学的耐久性に優
れ、信頼性の高い磁気ディスク基板を得ることができ
る。粉末法によるガラスの水溶出試験での重量減少は、
4×10-7g/cm2・h以下であることがより好まし
く、2×10-7g/cm2・h以下であることがさらに好
ましい。本発明の磁気ディスク基板は、粉末法によるガ
ラス又は結晶化ガラス(以下まとめて「ガラス」と記
す。)の水溶出試験で、重量減少が6×10-7g/cm2
・h以下であることが好ましい。粉末法によるガラスの
水溶出試験で、重量減少が6×10-7g/cm2・h以下
であれば、ガラス中に少量のアルカリが含まれていて
も、磁気ディスク基板に必要かつ重要な特性である化学
的耐久性に優れ、信頼性の高い磁気ディスク基板とな
る。粉末法によるガラスの水溶出試験での重量減少は、
4×10-7g/cm2・h以下であることがより好まし
く、2×10-7g/cm2・hであることがさらに好まし
い。
[0014] The magnetic disk glass composition for substrates of the present invention, when heated, lithium feldspar besides the main crystal phase as a secondary crystalline phase (Li 2 O · Al 2 O 3 · 6SiO 2), α- quartz, beta- Cristobalite (SiO 2 ) and the like may precipitate, but by the precipitation of these sub-crystal phases,
The properties of the composition according to the invention are not impaired. α-quartz is
It starts to precipitate at about 650 ° C., and when spodumene crystals start to precipitate, the amount of the crystals decreases. The glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention preferably has a weight loss of 6 × 10 −7 g / cm 2 · h or less in a water elution test of glass by a powder method. In a water elution test of glass by a powder method, if the weight loss is 6 × 10 −7 g / cm 2 · h or less,
Even if a small amount of alkali is contained in the glass, a highly reliable magnetic disk substrate having excellent chemical durability, which is a necessary and important characteristic of the magnetic disk substrate, can be obtained. Weight loss in water elution test of glass by the powder method,
It is more preferably 4 × 10 −7 g / cm 2 · h or less, and further preferably 2 × 10 −7 g / cm 2 · h or less. The magnetic disk substrate of the present invention has a weight loss of 6 × 10 −7 g / cm 2 in a water elution test of glass or crystallized glass (hereinafter collectively referred to as “glass”) by a powder method.
H is preferably equal to or less than h. In a water elution test of glass by a powder method, if the weight loss is 6 × 10 −7 g / cm 2 · h or less, even if a small amount of alkali is contained in the glass, it is necessary and important for the magnetic disk substrate. A magnetic disk substrate with excellent chemical durability, which is a characteristic, and high reliability. Weight loss in water elution test of glass by the powder method,
It is more preferably 4 × 10 −7 g / cm 2 · h or less, and further preferably 2 × 10 −7 g / cm 2 · h.

【0015】本発明でいう粉末法によるガラス又は結晶
化ガラス(以下まとめて「ガラス」と記す。)の水溶出
試験方法について説明する。まず、ガラスを乳鉢などで
粉砕する。粉砕されたガラス粉末を目の開きが1.70m
mと0.85mmの標準篩でふるい、1.70mmを通り0.8
5mmの上に残ったガラス粉末を試料とする。このガラス
粉末を、ジエチルエーテルの入ったビーカーに入れ、超
音波洗浄を2〜3分かけ、白濁した液を捨てる。ジエチ
ルエーテルを用いた超音波洗浄をもう1度繰り返したの
ち、メタノールを用いて超音波洗浄を2〜3分かけ、液
を捨てる。その後、ガラス粉末をビーカーに入れたまま
120℃で1時間乾燥し、デシケータ内で放冷する。洗
浄されたガラス粉末を、表面積が同一になるように、あ
らかじめ測定した比重と同数値のグラム数だけ秤取し、
70メッシュ(0.21mm)の白金製の籠に入れる。白
金製の籠に入れたままメタノールの入ったビーカーに浸
け、超音波洗浄を2〜3分かけた後、白金製の籠をビー
カーから引き出し、120℃で1時間乾燥し、デシケー
タ内で放冷する。放冷されたガラス粉末入りの白金製の
籠を、10-5g単位まで秤量する。次にテフロン製の容
器に秤量したガラス粉末入りの白金製の籠を入れ、次い
でイオン交換水100mlを入れ、テフロン製のふたで密
閉する。これをあらかじめ80℃にしておいた恒温器に
入れ、66時間放置して耐水試験をする。66時間後、
テフロン製の容器からガラス粉末の入った白金製の籠を
取り出し、メタノール中で2〜3分超音波洗浄する。超
音波洗浄後、120℃で1時間乾燥させ、デシケータ内
で放冷する。放冷されたガラス粉末入りの白金製の籠
を、10-5g単位まで秤量し、耐水試験前後の重量か
ら、重量減少を求める。重量減少と、あらかじめ比表面
積計を用いて測定した表面積の値から、1cm2、1時間
当たりの重量減少を計算する。また、1種類のガラスに
対し3回試験を繰り返し、その平均値をガラスの水溶出
試験の重量減少とする。
A method for testing water elution of glass or crystallized glass (hereinafter collectively referred to as "glass") by the powder method according to the present invention will be described. First, the glass is ground in a mortar or the like. The opening of the crushed glass powder is 1.70m
m and sieve with a standard sieve of 0.85 mm, pass through 1.70 mm and 0.8
The glass powder remaining on 5 mm is used as a sample. This glass powder is placed in a beaker containing diethyl ether, subjected to ultrasonic cleaning for 2 to 3 minutes, and the cloudy liquid is discarded. After repeating the ultrasonic cleaning using diethyl ether once more, the ultrasonic cleaning is performed for 2 to 3 minutes using methanol, and the liquid is discarded. Thereafter, the glass powder is dried in a beaker at 120 ° C. for 1 hour and allowed to cool in a desiccator. The washed glass powder is weighed by the same number of grams as the specific gravity measured in advance so that the surface area is the same,
Place in a 70 mesh (0.21 mm) platinum basket. Soak it in a beaker containing methanol while keeping it in a platinum basket, apply ultrasonic cleaning for 2 to 3 minutes, pull out the platinum basket from the beaker, dry at 120 ° C for 1 hour, and let cool in a desiccator I do. The cooled platinum basket containing glass powder is weighed to the unit of 10 -5 g. Next, a weighed platinum basket containing glass powder is put in a Teflon container, and then 100 ml of ion-exchanged water is put in, and the container is sealed with a Teflon lid. This is placed in a thermostat that has been previously heated to 80 ° C., and left for 66 hours to perform a water resistance test. 66 hours later,
The basket made of platinum containing the glass powder is taken out of the container made of Teflon and ultrasonically washed in methanol for 2-3 minutes. After the ultrasonic cleaning, the substrate is dried at 120 ° C. for 1 hour and allowed to cool in a desiccator. The cooled basket made of platinum containing glass powder is weighed to the unit of 10 -5 g, and the weight loss is determined from the weight before and after the water resistance test. From the weight loss and the surface area value previously measured using a specific surface area meter, the weight loss per 1 cm 2 per hour is calculated. The test is repeated three times for one type of glass, and the average value is regarded as the weight loss in the water elution test of the glass.

【0016】本発明の磁気ディスク基板は、本発明の磁
気ディスク基板用ガラス組成物を成形し、イオン交換し
て強化する場合は研磨後にイオン交換して作製し、また
結晶化の場合は熱処理後に研磨して作製した磁気ディス
ク基板である。ガラス組成物の成形方法には特に制限は
なく、例えば、原料をタンク窯で加熱して溶解、あるい
は直接通電することにより溶融し、プレス成形、あるい
は鋳込み−スライス成形などにより成形することができ
る。成形品の処理方法には特に制限はなく、例えば、熱
処理の場合は、はじめに比較的低温で熱処理して多数の
結晶核を発生せしめたのち、温度を上げて結晶を成長さ
せることが、微細な結晶を得る上で好ましい。処理を終
えた成形品の研磨方法には特に制限はなく、例えば、合
成ダイヤモンド、酸化ケイ素、炭化ケイ素、酸化アルミ
ニウム、酸化ジルコニウム、炭化ホウ素、c−BNなど
の合成砥粒や、天然ダイヤモンド、酸化セリウムなどの
天然砥粒を用いて、公知の方法により研磨することがで
きる。本発明の磁気ディスク基板用ガラス組成物を使用
することにより、イオン交換した場合も、また、熱処理
した場合も、高強度、高硬度で化学的耐久性、耐熱性に
優れた磁気ディスク基板を得ることができる。本発明組
成物は、理論的光学的塩基性度が0.548以下と低い
ため、高い化学的耐久性を達成することができ、また耐
マイグレーション性にも優れているため、磁気膜特性を
最善に保つことができる。
The magnetic disk substrate of the present invention is prepared by molding the glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention, polishing it for ion exchange and strengthening it by ion exchange, and crystallizing it for heat treatment after heat treatment. This is a magnetic disk substrate manufactured by polishing. The method for molding the glass composition is not particularly limited. For example, the raw material can be heated and melted in a tank kiln, or melted by directly energizing, and then molded by press molding or cast-slice molding. There is no particular limitation on the processing method of the molded article.For example, in the case of heat treatment, after heat treatment at a relatively low temperature to generate a large number of crystal nuclei and then increasing the temperature to grow the crystal, It is preferable for obtaining crystals. There is no particular limitation on the method of polishing the molded article after the treatment. For example, synthetic abrasive grains such as synthetic diamond, silicon oxide, silicon carbide, aluminum oxide, zirconium oxide, boron carbide, c-BN, natural diamond, and oxidized Polishing can be performed by a known method using natural abrasive grains such as cerium. By using the glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention, even when ion-exchanged or heat-treated, a magnetic disk substrate having high strength, high hardness, chemical durability, and excellent heat resistance can be obtained. be able to. Since the composition of the present invention has a low theoretical optical basicity of 0.548 or less, it can achieve high chemical durability, and has excellent migration resistance. Can be kept.

【0017】[0017]

【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。なお、実施例及び比較例におい
て使用した原料は、SiO2、Al(OH)3、Li2
3、Na2CO3、K2CO3、TiO2、ZrO2、Al
PO4、Sb23、As23、H3BO3、Mg(OH)2
CaCO3、SrCO3、BaCO3、ZnO及びPbO
である。また、実施例及び比較例において、結晶相、結
晶化度、抗折強度及び算術平均粗さRaは、下記の方法
により測定した。 (1)結晶相 得られた研磨成形体を、X線回折装置を用いて測定し
た。 (2)結晶化度 はじめに、求めようとする結晶相の検量線を作成した。
例えば、スポジュメン結晶の場合は、スポジュメンの組
成であるLi2O:Al23:SiO2=1:1:4とな
るように、Li2CO3、Al(OH)3及びSiO2を秤量
し、イソプロピルアルコールを加えて24時間湿式混合
した。その後、イソプロピルアルコールを除去し、X線
回折ピーク強度の増加がなくなるまで焼結してスポジュ
メン結晶を作製した。このスポジュメン結晶を粉砕し、
結晶が析出していない母ガラス粉末と種々の割合で混合
して、X線回折でのメインピーク4本についてピーク強
度を測定し、検量線を作成した。ガラスを溶融、成形、
熱処理、研磨後、結晶化度測定サンプルとした。測定サ
ンプルをX線回折で測定し、あらかじめ作成した検量線
から結晶化度を求めた。 (3)抗折強度 ガラス成形体を熱処理したのちJIS R 1601に準
じて加工し、又は、JIS R 1601に準じて加工し
たのちイオン交換処理し、3点曲げにより抗折強度を測
定した。 (4)算術平均粗さRa 得られた研磨成形体を、原子間力顕微鏡(Digita
l Instruments社製)を用いて表面観察を
行った。サンプル表面中で5カ所をランダムに選び、1
カ所当たり10μm×10μmの視野中でランダムに4
本の線を引き、それぞれのRaを算出した。これら合計
20カ所の平均を、算術平均粗さRaとした。 実施例1 ガラス組成が、SiO2:70.0重量%、Al23
6.0重量%、Li2O:8.0重量%、TiO2:2.5
重量%、ZrO2:4.0重量%、P25:1.8重量
%、Sb23:0.2重量%、B23:2.0重量%、C
aO:2.0重量%、BaO:1.5重量%及びZnO:
2.0重量%となるよう各成分原料を秤量、混合した。
このガラスの組成をモル%表示すると、SiO2:69.
87モル%、Al23:3.53モル%、Li2O:1
6.05モル%、TiO2:1.88モル%、ZrO2
1.95モル%、P25:0.76モル%、Sb23
0.04モル%、B23:1.72モル%、CaO:2.
14モル%、BaO:0.59モル%及びZnO:1.4
7モル%となり、このガラス組成物の理論的光学的塩基
性度は、0.5395である。混合した原料を電気炉中
の白金ルツボに投入して1,450℃で5時間溶融し、
均質になるよう撹拌したのち、50×50×5mmの板状
に成形し、除歪、冷却してガラス成形体を得た。このガ
ラス成形体を、600℃で3時間、続いて800℃で2
時間熱処理して、ガラス中に結晶を析出させた。さら
に、成形体の表面を平均粒径10μmの炭化ケイ素砥粒
を用いて30分間ラッピングし、さらに平均粒径1μm
の酸化セリウム砥粒で15分間ポリッシュして研磨成形
体を得た。この研磨成形体は、結晶相1がスポジュメン
であり、結晶相2はLi2O・2SiO2であり、結晶相
3はα−クオーツであった。結晶化度は、スポジュメン
が21容量%、Li2O・2SiO2が16容量%、α−
クオーツが14容量%であった。また、粉末法による結
晶化ガラスの水溶出試験における重量減少は4.1×1
-7g/cm2・hであり、抗折強度は270MPaであ
り、算術平均粗さRaは18.0Åであった。 実施例2〜7 実施例1と同様にして、組成に応じて1,400〜1,5
30℃で3〜24時間溶融して得たガラス組成物を成形
し、第3表に示す条件で熱処理して得られた結晶化ガラ
ス成形体を、実施例1と同様に研磨した。得られた研磨
成形体について、結晶相、結晶化度、粉末法による結晶
化ガラスの水溶出試験における重量減少、抗折強度及び
算術平均粗さRaを測定した。結果を第3表に示す。 実施例8 ガラス組成が、SiO2:70.0重量%、Al23
6.0重量%、Li2O:8.0重量%、TiO2:2.5
重量%、ZrO2:4.0重量%、P25:1.8重量
%、Sb23:0.2重量%、B23:2.0重量%、C
aO:2.0重量%、BaO:1.5重量%及びZnO:
2.0重量%となるよう各成分原料を秤量、混合した。
このガラスの組成をモル%表示すると、SiO2:69.
87モル%、Al23:3.53モル%、Li2O:1
6.05モル%、TiO2:1.88モル%、ZrO2
1.95モル%、P25:0.76モル%、Sb23
0.04モル%、B23:1.72モル%、CaO:2.
14モル%、BaO:0.59モル%及びZnO:1.4
7モル%となり、このガラス組成物の理論的光学的塩基
性度は、0.5395である。混合した原料を電気炉中
の白金ルツボに投入して1,450℃で5時間溶融し、
均質になるよう撹拌したのち、50×50×5mmの板状
に成形し、除歪、冷却してガラス成形体を得た。このガ
ラス成形体を、570℃で3時間、続いて670℃で2
時間熱処理して、ガラス中に結晶を析出させた。さら
に、成形体の表面を平均粒径10μmの炭化ケイ素砥粒
を用いて30分間ラッピングし、さらに平均粒径1μm
の酸化セリウム砥粒で15分間ポリッシュして研磨成形
体を得た。この研磨成形体は、結晶相1がLi2O・2
SiO2であり、結晶相2はα−クオーツであった。結
晶化度は、Li2O・2SiO2が20容量%、α−クオ
ーツが19容量%であった。また、粉末法による結晶化
ガラスの水溶出試験における重量減少は3.8×10-7
g/cm2・hであり、抗折強度は230MPaであり、
算術平均粗さRaは7.0Åであった。 実施例9〜15 実施例8と同様にして、組成に応じて1,400〜1,5
30℃で3〜24時間溶融して得たガラス組成物を成形
し、第3表に示す条件で熱処理して得られた結晶化ガラ
ス成形体を、実施例8と同様に研磨した。得られた研磨
成形体について、結晶相、結晶化度、粉末法による結晶
化ガラスの水溶出試験における重量減少、抗折強度及び
算術平均粗さRaを測定した。結果を第3表に示す。 実施例16 ガラス組成が、SiO2:70.0重量%、Al23
6.0重量%、Li2O:8.0重量%、TiO2:2.5
重量%、ZrO2:4.0重量%、P25:1.8重量
%、Sb23:0.2重量%、B23:2.0重量%、C
aO:2.0重量%、BaO:1.5重量%及びZnO:
2.0重量%となるよう各成分原料を秤量、混合した。
このガラスの組成をモル%表示すると、SiO2:69.
87モル%、Al23:3.53モル%、Li2O:1
6.05モル%、TiO2:1.88モル%、ZrO2
1.95モル%、P25:0.76モル%、Sb23
0.04モル%、B23:1.72モル%、CaO:2.
14モル%、BaO:0.59モル%及びZnO:1.4
7モル%となり、このガラス組成物の理論的光学的塩基
性度は、0.5395である。混合した原料を電気炉中
の白金ルツボに投入して1,450℃で5時間溶融し、
均質になるよう撹拌したのち、50×50×5mmの板状
に成形し、除歪、冷却してガラス成形体を得た。このガ
ラス成形体の表面を平均粒径10μmの炭化ケイ素砥粒
を用いて30分間ラッピングし、さらに平均粒径1μm
の酸化セリウム砥粒で15分間ポリッシュして研磨成形
体を得た。この研磨成形体を、450℃に保った溶融硝
酸ナトリウム浴に48時間浸漬して、ガラス表面層のリ
チウムイオンをナトリウムイオンでイオン交換し、研磨
成形体を化学強化した。この研磨成形体は、粉末法によ
るガラスの水溶出試験における重量減少は4.0×10
-7g/cm2・hであり、抗折強度は280MPaであ
り、算術平均粗さRaは6.5Åであった。 実施例17〜18 実施例16と同様にして、ガラス組成物を成形、研磨し
て得られた研磨成形体を、第3表に示す条件でイオン交
換し、化学強化した。得られた研磨成形体について、粉
末法によるガラスの水溶出試験における重量減少、抗折
強度及び算術平均粗さRaを測定した。結果を第3表に
示す。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. The raw materials used in Examples and Comparative Examples were SiO 2 , Al (OH) 3 , Li 2 C
O 3 , Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , TiO 2 , ZrO 2 , Al
PO 4 , Sb 2 O 3 , As 2 O 3 , H 3 BO 3 , Mg (OH) 2 ,
CaCO 3 , SrCO 3 , BaCO 3 , ZnO and PbO
It is. In Examples and Comparative Examples, the crystal phase, crystallinity, bending strength, and arithmetic average roughness Ra were measured by the following methods. (1) Crystal phase The obtained polished compact was measured using an X-ray diffractometer. (2) Crystallinity First, a calibration curve of the crystal phase to be obtained was prepared.
For example, in the case of a spodumene crystal, Li 2 CO 3 , Al (OH) 3 and SiO 2 are weighed so that the composition of the spodumene is Li 2 O: Al 2 O 3 : SiO 2 = 1: 1: 4. Then, isopropyl alcohol was added and wet-mixed for 24 hours. Thereafter, isopropyl alcohol was removed, and sintering was performed until the increase in the X-ray diffraction peak intensity disappeared to produce a spodumene crystal. Crush this spodumene crystal,
The powder was mixed with mother glass powder in which no crystal was precipitated at various ratios, peak intensities were measured for four main peaks in X-ray diffraction, and a calibration curve was prepared. Melting and forming glass,
After heat treatment and polishing, a crystallinity measurement sample was obtained. The measurement sample was measured by X-ray diffraction, and the crystallinity was determined from a calibration curve created in advance. (3) Bending strength The glass molded body was heat-treated and processed according to JIS R 1601, or processed according to JIS R 1601, followed by ion exchange treatment, and the bending strength was measured by three-point bending. (4) Arithmetic Mean Roughness Ra The obtained polished molded body was subjected to an atomic force microscope (Digita).
1 Instruments (manufactured by Instruments). Randomly select 5 locations on the sample surface
4 randomly in a 10 μm × 10 μm field of view
This line was drawn and each Ra was calculated. The average of the total 20 locations was defined as the arithmetic average roughness Ra. Example 1 Glass composition: SiO 2 : 70.0% by weight, Al 2 O 3 :
6.0 wt%, Li 2 O: 8.0 wt%, TiO 2: 2.5
Wt%, ZrO 2: 4.0 wt%, P 2 O 5: 1.8 wt%, Sb 2 O 3: 0.2 wt%, B 2 O 3: 2.0 wt%, C
aO: 2.0% by weight, BaO: 1.5% by weight and ZnO:
Each component raw material was weighed and mixed so as to be 2.0% by weight.
When the composition of this glass is represented by mol%, SiO 2 : 69.
87 mol%, Al 2 O 3 : 3.53 mol%, Li 2 O: 1
6.05 mol%, TiO 2: 1.88 mol%, ZrO 2:
1.95 mol%, P 2 O 5: 0.76 mole%, Sb 2 O 3:
0.04 mol%, B 2 O 3: 1.72 mol%, CaO: 2.
14 mol%, BaO: 0.59 mol% and ZnO: 1.4
The glass composition has a theoretical optical basicity of 0.5395. The mixed raw materials are put into a platinum crucible in an electric furnace and melted at 1,450 ° C. for 5 hours,
After stirring to homogeneity, the mixture was formed into a plate of 50 × 50 × 5 mm, strain-reduced and cooled to obtain a glass molded body. This glass compact is heated at 600 ° C. for 3 hours, and then at 800 ° C. for 2 hours.
Heat treatment was performed for a time to precipitate crystals in the glass. Further, the surface of the molded body was wrapped for 30 minutes using silicon carbide abrasive grains having an average particle size of 10 μm, and further, an average particle size of 1 μm
Polished with cerium oxide abrasive grains for 15 minutes to obtain a polished molded body. In this polished compact, the crystal phase 1 was spodumene, the crystal phase 2 was Li 2 O.2SiO 2 , and the crystal phase 3 was α-quartz. The crystallinity was as follows: 21% by volume of spodumene, 16% by volume of Li 2 O · 2SiO 2 , α-
Quartz was 14% by volume. The weight loss in the water elution test of the crystallized glass by the powder method was 4.1 × 1.
It was 0 -7 g / cm 2 · h, the transverse rupture strength was 270 MPa, and the arithmetic average roughness Ra was 18.0 °. Examples 2 to 7 In the same manner as in Example 1, depending on the composition, 1,400 to 1,5
A glass composition obtained by melting at 30 ° C. for 3 to 24 hours was molded, and a crystallized glass molded body obtained by heat treatment under the conditions shown in Table 3 was polished in the same manner as in Example 1. With respect to the obtained polished molded body, the crystal phase, the degree of crystallinity, the weight loss, the bending strength and the arithmetic average roughness Ra in the water elution test of the crystallized glass by a powder method were measured. The results are shown in Table 3. Example 8 The glass composition was SiO 2 : 70.0% by weight, Al 2 O 3 :
6.0 wt%, Li 2 O: 8.0 wt%, TiO 2: 2.5
Wt%, ZrO 2: 4.0 wt%, P 2 O 5: 1.8 wt%, Sb 2 O 3: 0.2 wt%, B 2 O 3: 2.0 wt%, C
aO: 2.0% by weight, BaO: 1.5% by weight and ZnO:
Each component raw material was weighed and mixed so as to be 2.0% by weight.
When the composition of this glass is represented by mol%, SiO 2 : 69.
87 mol%, Al 2 O 3 : 3.53 mol%, Li 2 O: 1
6.05 mol%, TiO 2: 1.88 mol%, ZrO 2:
1.95 mol%, P 2 O 5: 0.76 mole%, Sb 2 O 3:
0.04 mol%, B 2 O 3: 1.72 mol%, CaO: 2.
14 mol%, BaO: 0.59 mol% and ZnO: 1.4
The glass composition has a theoretical optical basicity of 0.5395. The mixed raw materials are put into a platinum crucible in an electric furnace and melted at 1,450 ° C. for 5 hours,
After stirring to homogeneity, the mixture was formed into a plate of 50 × 50 × 5 mm, strain-reduced and cooled to obtain a glass molded body. The glass compact is kept at 570 ° C. for 3 hours, and then at 670 ° C. for 2 hours.
Heat treatment was performed for a time to precipitate crystals in the glass. Further, the surface of the molded body was wrapped for 30 minutes using silicon carbide abrasive grains having an average particle size of 10 μm, and further, an average particle size of 1 μm
Polished with cerium oxide abrasive grains for 15 minutes to obtain a polished molded body. In this polished compact, the crystal phase 1 was Li 2 O · 2
SiO 2 , and the crystal phase 2 was α-quartz. The crystallinity was 20% by volume of Li 2 O.2SiO 2 and 19% by volume of α-quartz. The weight loss in the water elution test of the crystallized glass by the powder method was 3.8 × 10 −7.
g / cm 2 · h, the transverse rupture strength is 230 MPa,
The arithmetic average roughness Ra was 7.0 °. Examples 9 to 15 As in Example 8, 1,400 to 1,5 depending on the composition.
A glass composition obtained by melting at 30 ° C. for 3 to 24 hours was molded, and a crystallized glass molded body obtained by heat treatment under the conditions shown in Table 3 was polished in the same manner as in Example 8. With respect to the obtained polished molded body, the crystal phase, the degree of crystallinity, the weight loss, the bending strength and the arithmetic average roughness Ra in the water elution test of the crystallized glass by a powder method were measured. The results are shown in Table 3. Example 16 Glass composition: SiO 2 : 70.0% by weight, Al 2 O 3 :
6.0 wt%, Li 2 O: 8.0 wt%, TiO 2: 2.5
Wt%, ZrO 2: 4.0 wt%, P 2 O 5: 1.8 wt%, Sb 2 O 3: 0.2 wt%, B 2 O 3: 2.0 wt%, C
aO: 2.0% by weight, BaO: 1.5% by weight and ZnO:
Each component raw material was weighed and mixed so as to be 2.0% by weight.
When the composition of this glass is represented by mol%, SiO 2 : 69.
87 mol%, Al 2 O 3 : 3.53 mol%, Li 2 O: 1
6.05 mol%, TiO 2: 1.88 mol%, ZrO 2:
1.95 mol%, P 2 O 5: 0.76 mole%, Sb 2 O 3:
0.04 mol%, B 2 O 3: 1.72 mol%, CaO: 2.
14 mol%, BaO: 0.59 mol% and ZnO: 1.4
The glass composition has a theoretical optical basicity of 0.5395. The mixed raw materials are put into a platinum crucible in an electric furnace and melted at 1,450 ° C. for 5 hours,
After stirring to homogeneity, the mixture was formed into a plate of 50 × 50 × 5 mm, strain-reduced and cooled to obtain a glass molded body. The surface of this glass molded body was wrapped for 30 minutes using silicon carbide abrasive grains having an average particle size of 10 μm, and further, an average particle size of 1 μm
Polished with cerium oxide abrasive grains for 15 minutes to obtain a polished molded body. The polished molded body was immersed in a molten sodium nitrate bath kept at 450 ° C. for 48 hours to exchange lithium ions in the glass surface layer with sodium ions, thereby chemically strengthening the polished molded body. This polished molded article had a weight loss of 4.0 × 10 in a water elution test of glass by a powder method.
-7 g / cm 2 · h, transverse rupture strength was 280 MPa, and arithmetic mean roughness Ra was 6.5 °. Examples 17 to 18 In the same manner as in Example 16, the polished molded body obtained by molding and polishing the glass composition was subjected to ion exchange under the conditions shown in Table 3 to chemically strengthen it. With respect to the obtained polished molded body, weight loss, bending strength and arithmetic average roughness Ra in a water elution test of glass by a powder method were measured. The results are shown in Table 3.

【0018】[0018]

【表3】 [Table 3]

【0019】[0019]

【表4】 [Table 4]

【0020】[0020]

【表5】 [Table 5]

【0021】[0021]

【表6】 [Table 6]

【0022】[0022]

【表7】 [Table 7]

【0023】[0023]

【表8】 [Table 8]

【0024】実施例1〜7の、本発明のガラス組成物か
ら、成形、熱処理、研磨によって作製された研磨成形体
は、すべてスポジュメン結晶相を20容量%以上有し、
粉末法による結晶化ガラスの水溶出試験における重量減
少は4.6×10-7g/cm2・h以下であり、抗折強度は
200MPa以上であり、算術平均粗さRaは23.0Å
以下であって、磁気ディスク基板として好ましい特性を
備えている。実施例8〜14の、本発明のガラス組成物
から、成形、熱処理、研磨によって作製された研磨成形
体は、すべてLi2O・2SiO2結晶相を13容量%以
上有し、粉末法による結晶化ガラスの水溶出試験におけ
る重量減少は3.8×10-7g/cm2・h以下であり、抗
折強度は210MPa以上であり、算術平均粗さRaは
10.5Å以下であって、磁気ディスク基板として好ま
しい特性を備えている。また、実施例15の、本発明の
ガラス組成物から、成形、熱処理、研磨によって作製さ
れた研磨成形体は、理論的光学的塩基性度は0.548
を超えているが、Li2O・2SiO2結晶相を23容量
%有し、粉末法による結晶化ガラスの水溶出試験におけ
る重量減少は5.3×10-7g/cm2・hであり、抗折強
度は210MPaであり、算術平均粗さRaは7.3Åで
あって、磁気ディスク基板として好ましい特性を備えて
いる。さらに、実施例16〜18の、本発明のガラス組
成物から、成形、研磨、イオン交換強化によって作製さ
れた研磨成形体は、すべて粉末法によるガラスの水溶出
試験における重量減少は4.0×10-7g/cm2・h以下
であり、抗折強度は240MPa以上であり、算術平均
粗さRaは6.5Å以下であって、磁気ディスク基板とし
て好ましい特性を備えている。 比較例1 ガラス組成が、SiO2:82.0重量%、Al23
5.5重量%、Li2O:6.5重量%、TiO2:0.5
重量%、ZrO2:4.0重量%、P25:0.5重量
%、Sb23:0.2重量%及びMgO:0.8重量%と
なるよう各成分原料を秤量、混合した。このガラスの組
成をモル%表示すると、SiO2:80.32モル%、A
23:3.18モル%、Li2O:12.80モル%、
TiO2:0.37モル%、ZrO2:1.91モル%、P
25:0.21モル%、Sb23:0.04モル%及びM
gO:1.17モル%となり、このガラス組成物の理論
的光学的塩基性度は、0.5233である。混合した原
料を電気炉中の白金ルツボに投入して加熱したが、Si
2の量が多いために、1,550℃に達しても溶融しな
かった。 比較例2 ガラス組成が、SiO2:72.0重量%、Al23
3.0重量%、Li2O:10.5重量%、K2O:2.0
重量%、ZrO2:3.0重量%、P25:1.8重量
%、Sb23:0.2重量%、B23:3.5重量%、M
gO:2.0重量%及びBaO:2.0重量%となるよう
各成分原料を秤量、混合した。このガラスの組成をモル
%表示すると、SiO2:68.44モル%、Al23
1.68モル%、Li2O:20.08モル%、K2O:
1.21モル%、ZrO2:1.39モル%、P25:0.
72モル%、Sb23:0.04モル%、B23:2.8
7モル%、MgO:2.83モル%及びBaO:0.74
モル%となり、このガラス組成物の理論的光学的塩基性
度は、0.5494である。混合した原料を電気炉中の
白金ルツボに投入して1,450℃で5時間溶融し、均
質になるよう撹拌したのち、50×50×5mmの板状に
成形し、除歪、冷却してガラス成形体を得た。このガラ
ス成形体を、570℃で3時間、続いて780℃で2時
間熱処理して、ガラス中に結晶を析出させた。さらに、
成形体の表面を平均粒径10μmの炭化ケイ素砥粒を用
いて30分間ラッピングし、さらに平均粒径1μmの酸
化セリウム砥粒で15分間ポリッシュして研磨成形体を
得た。この研磨成形体は、Li2Oの量が多くAl23
の量が少ないために、理論的光学的塩基性度が大きく、
粉末法による結晶化ガラスの水溶出試験における重量減
少は6.5×10-7g/cm2・hとやや大きかった。 比較例3 ガラス組成が、SiO2:58.0重量%、Al23
7.0重量%、Li2O:7.0重量%、K2O:2.0重
量%、TiO2:2.0重量%、ZrO2:4.0重量%、
25:1.8重量%、Sb23:0.2重量%、B
23:4.0重量%、MgO:5.0重量%、BaO:
6.0重量%及びZnO:3.0重量%となるよう各成分
原料を秤量、混合した。このガラスの組成をモル%表示
すると、SiO2:59.67モル%、Al23:4.2
4モル%、Li2O:14.48モル%、K2O:1.31
モル%、TiO2:1.55モル%、ZrO2:2.01モ
ル%、P 25:0.78モル%、Sb23:0.04モル
%、B23:3.55モル%、MgO:7.67モル%、
BaO:2.42モル%及びZnO:2.28モル%とな
り、このガラス組成物の理論的光学的塩基性度は、0.
5564である。混合した原料を電気炉中の白金ルツボ
に投入して1,450℃で5時間溶融し、均質になるよ
う撹拌したのち、50×50×5mmの板状に成形し、除
歪、冷却してガラス成形体を得た。このガラス成形体の
表面を平均粒径10μmの炭化ケイ素砥粒を用いて30
分間ラッピングし、さらに平均粒径1μmの酸化セリウ
ム砥粒で15分間ポリッシュして研磨成形体を得た。こ
の研磨成形体を、360℃に保った溶融硝酸ナトリウム
浴に72時間浸漬して、ガラス表面層のリチウムイオン
をナトリウムイオンでイオン交換し、研磨成形体を化学
強化した。この研磨成形体は、粉末法によるガラスの水
溶出試験における重量減少は17.5×10-7g/cm2
hと大きかった。 比較例4 ガラス組成が、SiO2:66.0重量%、Al23:1
0.0重量%、Li2O:8.0重量%、TiO2:3.0
重量%、ZrO2:3.5重量%、P25:0.8重量
%、Sb23:0.2重量%、B23:1.0重量%及び
MgO:7.5重量%となるよう各成分原料を秤量、混
合した。このガラスの組成をモル%表示すると、SiO
2:63.23モル%、Al23:5.65モル%、Li2
O:15.42モル%、TiO2:2.16モル%、Zr
2:1.64モル%、P25:0.32モル%、Sb2
3:0.04モル%、B23:0.83モル%及びMg
O:10.71モル%となり、このガラス組成物の理論
的光学的塩基性度は、0.5544である。混合した原
料を電気炉中の白金ルツボに投入して1,450℃で5
時間溶融し、均質になるよう撹拌したのち、50×50
×5mmの板状に成形し、除歪、冷却してガラス成形体を
得た。このガラス成形体の表面を平均粒径10μmの炭
化ケイ素砥粒を用いて30分間ラッピングし、さらに平
均粒径1μmの酸化セリウム砥粒で15分間ポリッシュ
して研磨成形体を得た。この研磨成形体を、400℃に
保った溶融硝酸ナトリウム浴に72時間浸漬して、ガラ
ス表面層のリチウムイオンをナトリウムイオンでイオン
交換し、研磨成形体を化学強化した。この研磨成形体
は、粉末法によるガラスの水溶出試験における重量減少
は9.9×10-7g/cm2・hと大きかった。比較例1〜
4の結果を、まとめて第4表に示す。
The glass compositions of the present invention of Examples 1 to 7
Molded body produced by molding, heat treatment and polishing
All have a spodumene crystal phase of 20% by volume or more,
Weight loss in water dissolution test of crystallized glass by powder method
Small is 4.6 × 10-7g / cmTwo・ Below h, the bending strength is
200 MPa or more, and arithmetic average roughness Ra is 23.0 ..
The following are preferable characteristics for the magnetic disk substrate.
Have. Glass compositions of the present invention of Examples 8 to 14
, Polishing, molding, heat treatment, polishing
The body is all LiTwoO.2SiOTwo13% by volume or less of crystal phase
In the water dissolution test of crystallized glass by the powder method
Weight loss is 3.8 × 10-7g / cmTwoH or less,
The bending strength is 210 MPa or more, and the arithmetic average roughness Ra is
Less than 10.5
It has new characteristics. Further, in Example 15 of the present invention,
Made from glass composition by molding, heat treatment and polishing
The obtained polished molded product has a theoretical optical basicity of 0.548.
, But LiTwoO.2SiOTwo23 phases of crystal phase
% In water dissolution test of crystallized glass by powder method
Weight loss is 5.3 × 10-7g / cmTwo・ H is strong
The degree is 210 MPa and the arithmetic average roughness Ra is 7.3Å
And have the desirable characteristics as a magnetic disk substrate
I have. Furthermore, the glass set of the present invention of Examples 16 to 18
Manufactured by molding, polishing and ion exchange strengthening
All of the polished compacts are leached out of glass by the powder method.
Weight loss in test was 4.0 × 10-7g / cmTwo・ H or less
The transverse rupture strength is 240 MPa or more, and the arithmetic mean
The roughness Ra is 6.5 mm or less, and is used as a magnetic disk substrate.
And favorable characteristics. Comparative Example 1 The glass composition was SiOTwo: 82.0% by weight, AlTwoOThree:
5.5% by weight, LiTwoO: 6.5% by weight, TiOTwo: 0.5
Wt%, ZrOTwo: 4.0% by weight, PTwoOFive: 0.5 weight
%, SbTwoOThree: 0.2% by weight and MgO: 0.8% by weight
Raw materials of the respective components were weighed and mixed so as to be as possible. This glass pair
When the composition is expressed in mol%, SiOTwo: 80.32 mol%, A
lTwoOThree: 3.18 mol%, LiTwoO: 12.80 mol%,
TiOTwo: 0.37 mol%, ZrOTwo1.91 mol%, P
TwoOFive: 0.21 mol%, SbTwoOThree: 0.04 mol% and M
gO: 1.17 mol%, which is the theoretical value of this glass composition
The optical basicity is 0.5233. Mixed raw
Was charged into a platinum crucible in an electric furnace and heated.
OTwoDo not melt even when the temperature reaches 1,550 ° C.
won. Comparative Example 2 When the glass composition was SiOTwo: 72.0% by weight, AlTwoOThree:
3.0% by weight, LiTwoO: 10.5% by weight, KTwoO: 2.0
Wt%, ZrOTwo: 3.0% by weight, PTwoOFive: 1.8 weight
%, SbTwoOThree: 0.2% by weight, BTwoOThree: 3.5% by weight, M
gO: 2.0% by weight and BaO: 2.0% by weight.
Each component material was weighed and mixed. The composition of this glass
%, SiOTwo: 68.44 mol%, AlTwoOThree:
1.68 mol%, LiTwoO: 20.08 mol%, KTwoO:
1.21 mol%, ZrOTwo1.39 mol%, PTwoOFive: 0.
72 mol%, SbTwoOThree: 0.04 mol%, BTwoOThree: 2.8
7 mol%, MgO: 2.83 mol%, and BaO: 0.74
Mol%, the theoretical optical basicity of this glass composition
The degree is 0.5494. Mix the raw materials in an electric furnace
Pour into a platinum crucible and melt at 1,450 ° C for 5 hours.
After stirring to make it quality, it becomes 50 × 50 × 5mm plate
It was molded, strain-reduced, and cooled to obtain a glass molded body. This gala
Molded body at 570 ° C for 3 hours, then at 780 ° C for 2 hours
During the heat treatment, crystals were precipitated in the glass. further,
Use silicon carbide abrasive grains with an average particle size of 10 μm for the surface of the compact
And wrap it for 30 minutes.
Polished with cerium fluoride abrasive for 15 minutes
Obtained. This polished molded body is made of LiTwoAl with large amount of OTwoOThree
Is small, the theoretical optical basicity is large,
Weight loss in water dissolution test of crystallized glass by powder method
Small is 6.5 × 10-7g / cmTwo・ It was a little big with h. Comparative Example 3 The glass composition was SiOTwo: 58.0% by weight, AlTwoOThree:
7.0% by weight, LiTwoO: 7.0% by weight, KTwoO: 2.0 weight
%, TiOTwo: 2.0% by weight, ZrOTwo: 4.0% by weight,
PTwoOFive1.8% by weight, SbTwoOThree: 0.2% by weight, B
TwoOThree: 4.0% by weight, MgO: 5.0% by weight, BaO:
Each component to be 6.0% by weight and ZnO: 3.0% by weight.
The raw materials were weighed and mixed. Shows the composition of this glass in mol%
Then, SiOTwo: 59.67 mol%, AlTwoOThree: 4.2
4 mol%, LiTwoO: 14.48 mol%, KTwoO: 1.31
Mol%, TiOTwo1.55 mol%, ZrOTwo: 2.01 m
%, P TwoOFive: 0.78 mol%, SbTwoOThree: 0.04 mol
%, BTwoOThree: 3.55 mol%, MgO: 7.67 mol%,
BaO: 2.42 mol% and ZnO: 2.28 mol%
Thus, the theoretical optical basicity of the glass composition is 0.1.
5564. Platinum crucible in electric furnace
And melt at 1,450 ° C for 5 hours to make it homogeneous
After shaking, form into a 50 x 50 x 5 mm plate and remove
The glass molded body was obtained by straining and cooling. Of this glass compact
The surface was formed using silicon carbide abrasive grains having an average particle size of 10 μm.
Lapping for more than 1 minute
Polishing was carried out for 15 minutes with abrasive grains to obtain a polished molded body. This
Melted sodium nitrate kept at 360 ° C
Immersed in a bath for 72 hours to remove lithium ions from the glass surface layer
Is ion-exchanged with sodium ions, and the abrasive compact is chemically
Strengthened. This polished molded body is made of glass water by a powder method.
Weight loss in dissolution test is 17.5 × 10-7g / cmTwo
h was big. Comparative Example 4 The glass composition was SiOTwo: 66.0% by weight, AlTwoOThree: 1
0.0% by weight, LiTwoO: 8.0% by weight, TiOTwo: 3.0
Wt%, ZrOTwo: 3.5% by weight, PTwoOFive: 0.8 weight
%, SbTwoOThree: 0.2% by weight, BTwoOThree1.0% by weight and
MgO: Weigh and mix each ingredient material to 7.5 wt%.
I combined. When the composition of this glass is represented by mol%, SiO 2
Two: 63.23 mol%, AlTwoOThree: 5.65 mol%, LiTwo
O: 15.42 mol%, TiOTwo: 2.16 mol%, Zr
OTwo: 1.64 mol%, PTwoOFive: 0.32 mol%, SbTwoO
Three: 0.04 mol%, BTwoOThree: 0.83 mol% and Mg
O: 10.71 mol%, which is the theory of this glass composition
Optical basicity is 0.5544. Mixed raw
Into a platinum crucible in an electric furnace,
After melting for a time and stirring to make it homogeneous, 50 × 50
It is molded into a × 5 mm plate, strain-reduced and cooled to form a glass molded body.
Obtained. The surface of the glass molded body is made of
Lapping for 30 minutes using silicon carbide abrasive grains
Polished for 15 minutes with cerium oxide abrasive grains of uniform particle size 1μm
Thus, a polished molded body was obtained. This abrasive compact is heated to 400 ° C.
Immerse in the molten sodium nitrate bath for 72 hours
Lithium ions on the surface layer
It was replaced and the abrasive compact was chemically strengthened. This abrasive compact
Means weight loss in water dissolution test of glass by powder method
Is 9.9 × 10-7g / cmTwo・ It was big with h. Comparative Examples 1 to
The results of No. 4 are summarized in Table 4.

【0025】[0025]

【表9】 [Table 9]

【0026】[0026]

【表10】 [Table 10]

【0027】第4表の結果から、本発明の磁気ディスク
基板用ガラス組成物と異なる組成のガラス組成物を用い
た比較例1〜3においては、ガラスの溶融が不可能であ
ったり、あるいは、磁気ディスク基板の作製が可能であ
っても、熱処理によって結晶化させた後も水溶出試験に
おける重量減少を十分に小さくすることができず、ま
た、イオン交換によって水溶出試験における重量減少の
小さい磁気ディスク基板とすることができない。また、
比較例4の磁気ディスク基板用ガラス組成物は、本発明
の組成物の組成範囲内にはあるが、理論的光学的塩基性
度が大きいために、イオン交換強化した磁気ディスク基
板は、水溶出試験における重量減少が大きい。
From the results shown in Table 4, in Comparative Examples 1 to 3 in which a glass composition different from the glass composition for a magnetic disk substrate of the present invention was used, melting of the glass was impossible, or Even if a magnetic disk substrate can be manufactured, the weight loss in the water elution test cannot be reduced sufficiently even after crystallization by heat treatment, and the magnetic weight in the water elution test is small due to ion exchange. Cannot be a disk substrate. Also,
Although the glass composition for a magnetic disk substrate of Comparative Example 4 was within the composition range of the composition of the present invention, since the theoretical optical basicity was large, the magnetic disk substrate strengthened by ion exchange showed water elution. Large weight loss in test.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明のガラス組成物は、容易に成形す
ることができ、研磨加工後ガラス表面層のアルカリ金属
イオンをイオン半径がより大きいアルカリ金属イオンで
イオン交換し、ガラスを化学強化することにより、ある
いは、熱処理によって主結晶相をLi2O・2SiO2
び/又はスポジュメンとして結晶化したのち、研磨加工
することにより、優れた化学的耐久性、機械的強度、表
面平滑性、表面平坦性、耐熱性を有し、アルカリマイグ
レーションによる磁気膜特性の劣化の少ない磁気ディス
ク基板とすることができる。
The glass composition of the present invention can be easily formed, and after polishing, the alkali metal ions in the glass surface layer are exchanged with alkali metal ions having a larger ionic radius to chemically strengthen the glass. In addition, or by crystallizing the main crystal phase as Li 2 O.2SiO 2 and / or spodumene by heat treatment, and then polishing it, excellent chemical durability, mechanical strength, surface smoothness, surface flatness A magnetic disk substrate having heat resistance, heat resistance, and less deterioration of magnetic film characteristics due to alkali migration can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 栗山 育夫 兵庫県西宮市浜松原町2番21号 山村硝子 株式会社内 (72)発明者 若林 肇 兵庫県西宮市浜松原町2番21号 山村硝子 株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Ikuo Kuriyama 2-21 Hamamatsubara-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo Yamamura Glass Co., Ltd. (72) Inventor Hajime Wakabayashi 2-21 Hamamatsubara-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo Yamamura Glass Inside

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】酸化物として、 SiO2 :66〜80重量% Al23 :5〜15重量% Li2O :3〜8.5重量% Na2O :0〜3重量% K2O :0〜3重量% 但し、Li2O+Na2O+K2O:3〜10重量% TiO2 :0.5〜8重量% ZrO2 :3.5〜8重量% P25 :0.5〜3重量% Sb23 :0〜2重量% As23 :0〜2重量% の組成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下
であることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス組成
物。
1. A as oxide, SiO 2: 66 to 80 wt% Al 2 O 3: 5~15 wt% Li 2 O: 3~8.5 wt% Na 2 O: 0~3 wt% K 2 O : 0-3% by weight, however, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 3~10 wt% TiO 2: 0.5 to 8 wt% ZrO 2: 3.5 to 8 wt% P 2 O 5: 0.5 to 3 wt% Sb 2 O 3: 0-2 wt% as 2 O 3: has the composition 0-2% by weight, a magnetic disk theoretical optical basicity is equal to or is 0.548 or less Glass composition for substrates.
【請求項2】酸化物として、 SiO2 :66〜75重量% Al23 :5.5〜10重量% Li2O :4〜8.5重量% Na2O :0〜2重量% K2O :0〜2重量% 但し、Li2O+Na2O+K2O:4〜9重量% TiO2 :2〜6重量% ZrO2 :3.8〜6.5重量% P25 :1〜2.5重量% Sb23 :0〜2重量% As23 :0〜2重量% の組成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下
であることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス組成
物。
Wherein as the oxide, SiO 2: 66-75 wt% Al 2 O 3: 5.5~10 wt% Li 2 O: 4 to 8.5 wt% Na 2 O: 0 to 2 wt% K 2 O: 0 to 2 wt%, however, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 4~9 wt% TiO 2: 2 to 6 wt% ZrO 2: 3.8 to 6.5 wt% P 2 O 5: 1~ 2.5 wt% Sb 2 O 3: 0-2 wt% as 2 O 3: has the composition 0-2% by weight, the theoretical optical basicity is equal to or is 0.548 or less Glass composition for magnetic disk substrates.
【請求項3】酸化物として、 SiO2 :66〜75重量% Al23 :5.5〜7.5重量% Li2O :5〜8.5重量% Na2O :0〜2重量% K2O :0〜2重量% 但し、Li2O+Na2O+K2O:5〜9重量% TiO2 :2〜4重量% ZrO2 :4.1〜6重量% P25 :1〜2.5重量% Sb23 :0〜1重量% As23 :0〜1重量% の組成を有し、理論的光学的塩基性度が0.548以下
であることを特徴とする磁気ディスク基板用ガラス組成
物。
3. As oxides, SiO 2 : 66 to 75% by weight Al 2 O 3 : 5.5 to 7.5% by weight Li 2 O: 5 to 8.5% by weight Na 2 O: 0 to 2 % by weight % K 2 O: 0 to 2 wt%, however, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 5~9 wt% TiO 2: 2 to 4 wt% ZrO 2: 4.1 to 6 wt% P 2 O 5: 1~ 2.5 wt% Sb 2 O 3: 0 to 1 wt% as 2 O 3: has the composition 0-1% by weight, the theoretical optical basicity is equal to or is 0.548 or less Glass composition for magnetic disk substrates.
【請求項4】請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
磁気ディスク基板用ガラス組成物を、成形、研磨後、3
50℃から550℃の間の温度で、ガラス表面層のアル
カリ金属イオンを、イオン半径がより大きいアルカリ金
属イオンでイオン交換し、強化したことを特徴とする磁
気ディスク基板。
4. The glass composition for a magnetic disk substrate according to claim 1, which is molded and polished,
A magnetic disk substrate characterized in that alkali metal ions in a glass surface layer are ion-exchanged with alkali metal ions having a larger ionic radius at a temperature between 50 ° C. and 550 ° C. to strengthen the magnetic disk substrate.
【請求項5】請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
磁気ディスク基板用ガラス組成物を、成形、熱処理、研
磨して作製された、主結晶相がLi2O・2SiO2及び
スポジュメンの内の少なくとも1種であることを特徴と
する磁気ディスク基板。
5. A glass composition for a magnetic disk substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass composition is formed, heat-treated, and polished, and has a main crystal phase of Li 2 O.2SiO 2 and spodumene. A magnetic disk substrate, which is at least one of the following.
【請求項6】酸化物として、 SiO2 :66〜80重量% Al23 :5.5〜10重量% Li2O :3〜8.5重量% Na2O :0〜3重量% K2O :0〜3重量% 但し、Li2O+Na2O+K2O:3〜10重量% TiO2 :0.5〜8重量% ZrO2 :3.5〜8重量% P25 :0.5〜3重量% Sb23 :0〜2重量% As23 :0〜2重量% の組成を有するガラス組成物を、成形、熱処理、研磨し
て作製された、主結晶相がLi2O・2SiO2及びスポ
ジュメンの内の少なくとも1種であることを特徴とする
磁気ディスク基板。
6. As oxides, SiO 2 : 66 to 80% by weight Al 2 O 3 : 5.5 to 10% by weight Li 2 O: 3 to 8.5% by weight Na 2 O: 0 to 3% by weight K 2 O: 0 to 3 wt%, however, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O: 3~10 wt% TiO 2: 0.5 to 8 wt% ZrO 2: 3.5 to 8 wt% P 2 O 5: 0. 5-3 wt% Sb 2 O 3: 0-2 wt% As 2 O 3: a glass composition having a composition of 0-2 weight%, molding, heat treatment, and polished was prepared, the main crystal phase Li magnetic disk substrate characterized in that at least one of the 2 O · 2SiO 2 and spodumene.
【請求項7】結晶化度の合計が20容量%以上である請
求項5又は請求項6記載の磁気ディスク基板。
7. The magnetic disk substrate according to claim 5, wherein the total crystallinity is 20% by volume or more.
【請求項8】粉末法によるガラスの水溶出試験で、重量
減少が6×10-7g/cm2・h以下である請求項1乃至
請求項3のいずれかに記載の磁気ディスク基板用ガラス
組成物。
8. The glass for a magnetic disk substrate according to claim 1, wherein a weight loss of the glass in a water elution test by a powder method is not more than 6 × 10 −7 g / cm 2 · h. Composition.
【請求項9】粉末法によるガラス又は結晶化ガラスの水
溶出試験で、重量減少が6×10-7g/cm2・h以下で
ある請求項4乃至請求項7のいずれかに記載の磁気ディ
スク基板。
9. The magnetic material according to claim 4, wherein a weight loss is 6 × 10 −7 g / cm 2 · h or less in a water elution test of glass or crystallized glass by a powder method. Disk substrate.
JP35720396A 1995-12-28 1996-12-26 Glass composition for magnetic disk substrate and magnetic disk substrate Pending JPH10226532A (en)

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